專(zhuān)利名稱(chēng)：曝光方法及裝置、維護(hù)方法、以及組件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
國(guó)際y〉開(kāi)第99/49504號(hào)小冊(cè)子
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發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明第八形態(tài)提供一種使村底(P)啄光的曝光方法，其特 征在于包括在保持于襯底載臺(tái)的襯底上，通過(guò)液浸機(jī)構(gòu)(IO等)用液 體填滿啄光用光(EL)的光路空間；用上迷啄光用光經(jīng)由上述液體使上 述襯底曝光(SS1);及在不進(jìn)行上述襯底的曝光的期間，對(duì)上述液浸機(jī) 構(gòu)的上述液體供給口 (13、 14)及回收口 (23A - 23D)的至少 一方供給洗 凈用液體(1A)(SS2)。另外，附加于以上本發(fā)明的規(guī)定組件的帶括號(hào)符號(hào)，對(duì)應(yīng) 于表示本發(fā)明一種實(shí)施形態(tài)的附圖中的構(gòu)件，各符號(hào)只不過(guò)是為了容 易了解本發(fā)明，來(lái)例示本發(fā)明的組件，而并非將本發(fā)明限定于其實(shí)施 形態(tài)的結(jié)構(gòu)。在襯底載臺(tái)PST上的襯底保持具PH上設(shè)有反射鏡55B， 在與反射鏡55B相對(duì)的位置設(shè)有激光干涉儀56B。反射鏡55B實(shí)際上 如圖8 (A)所示，由X軸的反射鏡55BX及Y軸的反射鏡55BY構(gòu) 成，激光干涉儀56B也由X軸的激光干涉儀56BX及Y軸的激光干涉 儀56BY構(gòu)成?；氐綀Dl,襯底載臺(tái)PST上的襯底保持具PH(襯底P) 的二維方向位置及旋轉(zhuǎn)角，通過(guò)激光干涉儀56B實(shí)時(shí)計(jì)測(cè)，計(jì)測(cè)結(jié)果 輸出至控制裝置CONT?？刂蒲b置CONT依據(jù)其計(jì)測(cè)結(jié)果，驅(qū)動(dòng)襯底 載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD，來(lái)進(jìn)行被襯底載臺(tái)PST支撐的襯底P的移動(dòng)或 定位。另外，激光干涉儀56B也可計(jì)測(cè)襯底載臺(tái)PST的Z方向位置 及eX、 0Y方向的旋轉(zhuǎn)信息，其詳細(xì)內(nèi)容如^>開(kāi)于日本特表2001 -510577號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)的國(guó)際公開(kāi)第1999/28790號(hào)小冊(cè)子)。另外，也可 取代反射鏡55B，而使用如將襯底載臺(tái)PST或襯底保持具PH的側(cè)面 等實(shí)施鏡面加工而形成的反射面。
0033此外，在襯底保持具PH上，以包圍襯底P的環(huán)狀而"&有 平面的板部97。板部97的上面是與被襯底保持具PH保持的襯底P 的表面大致相同高度的平坦面。在本例中，該平坦面為疏液性。此處， 在襯底P的邊緣與板部97之間有O.l-lmm程度的間隙，不過(guò)在本例 中，因?yàn)橐r底P的抗蝕劑為疏液性，且液體l具有表面張力，所以液 體l幾乎不流入到其間隙，即使膝光襯底P周緣附近時(shí)，仍可在板部 97與投影光學(xué)系統(tǒng)PL之間保持液體1。另外，本例的流入板部97與 襯底P間隙的液體1，可通過(guò)圖5所示的吸引裝置50，而排出于襯底 保持具PH的外部(詳細(xì)于后述)。因此，襯底P的抗蝕劑(或上涂層) 也可不為疏液性。此外，本例是在襯底保持具PH上設(shè)有板部97，不過(guò)，也可將包圍襯底P的襯底保持具PH的上面實(shí)施疏液化處理，而 形成平坦面?；氐?br>
圖1，流路形成構(gòu)件30在其內(nèi)部具有連通于回收口 23A 23D(參照?qǐng)D3)的回收流路84(84A、 84B、 84C、 84D)。另外，回 收流路84B、84D(未圖示)是用于連通圖3的非掃描方向的回收口 23B、 23D與圖2的回收管22B、 22D的流路。回收流路84A 84D的另一端 部經(jīng)由圖2的回收管22A 22D分別連通于液體回收部21。在本例中， 流路形成構(gòu)件30構(gòu)成液體供給機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20的各個(gè)的一 部分。即，流路形成構(gòu)件30是本例的液浸機(jī)構(gòu)的一部分。另外，液浸 機(jī)構(gòu)的一部分，如至少流路形成構(gòu)件30也可吊掛支撐于保持投影光學(xué)系統(tǒng)PL的主框架(包含前述鏡筒平臺(tái))，也可設(shè)于與主框架不同的框架 構(gòu)件?；蚴牵缜八龅鯍熘瓮队肮鈱W(xué)系統(tǒng)PL的情況下，也可與 投影光學(xué)系統(tǒng)PL —體地吊掛支撐流路形成構(gòu)件30，也可在與投影光 學(xué)系統(tǒng)PL分開(kāi)而吊掛支撐的計(jì)測(cè)框架上設(shè)置流路形成構(gòu)件30。為后 者的情況下，也可不吊掛支撐投影光學(xué)系統(tǒng)PL。以下，參照?qǐng)D5及圖6，詳細(xì)說(shuō)明圖1中的襯底保持具PH 的結(jié)構(gòu)。圖1是吸附保持虛擬襯底CP狀態(tài)下的襯底保持具PH的側(cè) 剖面圖，圖6是圖5的重要部分放大圖。
如圖5所示，襯底保持具PH具備基部PHB;及形成于該基部 PHB上，吸附保持虛擬襯底CP(或啄光對(duì)象的襯底P,以下相同)的保 持部PH1。保持部PH1具備形成于基部PHB上，支撐虛擬襯底CP 的背面CPb，且上面46A為平坦的小圓錐狀的多數(shù)支撐部46;及形 成于基部PHB上，與虛擬襯底CP的背面CPb相對(duì)，包圍多數(shù)支撐 部46而設(shè)置的圓周狀的周壁部(邊緣部)42。保持部PH1配置于形成于 襯底保持具PH并收納虛擬襯底CP的凹部97a內(nèi)。另外，本例對(duì)應(yīng)于進(jìn)行經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL與液體1通 過(guò)曝光用光EL來(lái)曝光襯底P的液浸曝光，而使用曝光用光EL計(jì)測(cè) 時(shí)所使用的上述照度不均傳感器、照度監(jiān)視器、空間圖像計(jì)測(cè)器、波 面像差計(jì)測(cè)器等，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL及液體1而接收曝光用光EL。 因此，在板101的表面施有疏液涂層。此外，本例將上述多個(gè)計(jì)測(cè)器 的至少一個(gè)與基準(zhǔn)標(biāo)記作為計(jì)測(cè)用構(gòu)件而i殳于計(jì)測(cè)臺(tái)MTB，不過(guò)，計(jì)測(cè)用構(gòu)件的種類(lèi)及/或數(shù)量等不限于此。計(jì)測(cè)用構(gòu)件也可設(shè)置如計(jì)測(cè)投
影光學(xué)系統(tǒng)PL的透射率的透射率計(jì)測(cè)器及/或觀察前述液浸機(jī)構(gòu)8、 如流路形成構(gòu)件30(或光學(xué)元件2)等的計(jì)測(cè)器等。另外，上述計(jì)測(cè)器 也可僅將其一部分設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)MST，其余設(shè)于計(jì)測(cè)栽臺(tái)MST的外 部。此外，也可將與計(jì)測(cè)用構(gòu)件不同的構(gòu)件，如清掃流路形成構(gòu)件30、 光學(xué)元件2等的清掃構(gòu)件等搭載于計(jì)測(cè)載臺(tái)MST上。另外，也可將 計(jì)測(cè)用構(gòu)件及清掃構(gòu)件等設(shè)于計(jì)測(cè)載臺(tái)MST上。此時(shí)，計(jì)測(cè)載臺(tái)MST 如在更換襯底P時(shí)等，為了維持該的液浸區(qū)域AR2，通過(guò)與襯底栽臺(tái) PST更換，而與投影光學(xué)系統(tǒng)PL相對(duì)來(lái)配置。
如以上所述，本專(zhuān)利實(shí)施形態(tài)的曝光裝置EX、 EX，，以保 持規(guī)定機(jī)械性精度、電氣性精度及光學(xué)性精度，而組裝包含本專(zhuān)利申 請(qǐng)的范圍內(nèi)所列舉的各構(gòu)成要素的各種子系統(tǒng)來(lái)制造。為了確保這些 各種精度，而在該組裝的前后，就各種光學(xué)系統(tǒng)，進(jìn)行用于達(dá)成光學(xué)性精度的調(diào)整，就各種機(jī)械系統(tǒng)，進(jìn)行用于達(dá)成機(jī)械性精度的調(diào)整， 就各種電氣系統(tǒng)，進(jìn)行用于達(dá)成電氣性精度的調(diào)整。自各種子系統(tǒng)對(duì)
曝光裝置的組裝步驟，包含各種子系統(tǒng)相互的機(jī)械性連接、電氣電 路的配線連接及氣壓管路的配管連接等。在從各種子系統(tǒng)對(duì)曝光裝置 組裝步驟之前，當(dāng)然有各子系統(tǒng)各個(gè)的組裝步驟。在各種子系統(tǒng)對(duì)啄 光裝置的組裝步驟結(jié)束后，進(jìn)行綜合調(diào)整，來(lái)確保整個(gè)膝光裝置的各 種精度。另外，曝光裝置的制造，必須在管理溫度及潔凈度等的潔凈 室中進(jìn)行。
[0143就公開(kāi)于本專(zhuān)利說(shuō)明書(shū)的各種美國(guó)專(zhuān)利及美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公 開(kāi)文件，除特別援用表示之外，在指定國(guó)或選擇國(guó)的法令容許的范圍 內(nèi)，也援用這些公開(kāi)作為本文的一部分。
[0144采用本發(fā)明的爆光方法及組件制造方法時(shí)，由于液浸區(qū)域 的液體中的雜質(zhì)量減少，因此，制造的組件的良率提高。所以，本發(fā) 明在包含我國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的精密機(jī)器產(chǎn)業(yè)的發(fā)展上一定有顯著貢 獻(xiàn)。
權(quán)利要求
1.一種使襯底曝光的曝光方法，其特征在于包括在保持于襯底載臺(tái)的上述襯底上形成液浸區(qū)域，用曝光用光經(jīng)由上述液浸區(qū)域的液體來(lái)使上述襯底曝光；及在不進(jìn)行上述襯底的曝光的期間，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)，以洗凈上述襯底載臺(tái)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的膝光方法，其特征在于 使用規(guī)定的洗凈用液體形成上述液浸區(qū)域。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于 上述襯底載臺(tái)具有保持部，保持上述襯底；及平坦面，配置在上述保持部的周?chē)遗c用上述保持部保持的襯 底的表面大致平行，上述洗凈時(shí)，在上述平坦面上形成上迷液浸區(qū)域的至少一部分的 狀態(tài)下，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光方法，其特征在于 在上述洗凈時(shí)，上述保持部保持平板狀的虛擬襯底。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于 在上述洗凈時(shí)，保持上述襯底載臺(tái)的上述襯底的保持部，其周?chē)钠教姑媾c上面被大致平行的虛擬襯底覆蓋。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光方法，其特征在于 相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底栽臺(tái)以使上述液浸區(qū)域的至少一部分實(shí)質(zhì)上僅在上述虛擬襯底上移動(dòng)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4至6中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于 上述虛擬襯底的至少上面為疏液性，且在上述上面形成有多個(gè)親液性的槽部。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任一項(xiàng)所述的啄光方法，其特征在于 相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)以便在上述洗凈時(shí)在上述襯底載臺(tái)上的上述液浸區(qū)域的移動(dòng)范圍的至少一部分與上述曝光時(shí) 不同。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于 相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)以使垂直于上述膝光用光的光軸的方向的速度及加速度的至少一方比在上述襯底曝光時(shí)大。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)所述的瀑光方法，其特征在于 相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)以使平行于上述爆光用光的光軸的方向的速度及行程的至少一方比在上述襯底曝光時(shí)大。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在與上述襯底栽臺(tái)可獨(dú)立地移動(dòng)的計(jì)測(cè)載臺(tái)上形成上述液浸區(qū) 域，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述計(jì)測(cè)載臺(tái)以洗凈上述計(jì)測(cè)載臺(tái)。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于 為了洗凈上述襯底載臺(tái)及上述計(jì)測(cè)載臺(tái)，使上述襯底栽臺(tái)與上述計(jì)測(cè)載臺(tái)接近，在上述襯底載臺(tái)與上述計(jì)測(cè)載臺(tái)的邊界部形成上述液 浸區(qū)域，使上述襯底載臺(tái)與上述計(jì)測(cè)栽臺(tái)在沿著邊界線的方向上，以 反相位相對(duì)地振動(dòng)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1至12中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)，沿著進(jìn)行上述襯底的曝光時(shí)的上述襯底載臺(tái)的移 動(dòng)軌跡以外的軌跡，相對(duì)上述液浸區(qū)域移動(dòng)上述襯底載臺(tái)。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的膝光方法，其特征在于 在上述洗凈時(shí)，沿著上述襯底對(duì)準(zhǔn)時(shí)或在上述襯底啄光前后移動(dòng)上述襯底載臺(tái)時(shí)的軌跡移動(dòng)上述襯底載臺(tái)。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1至14中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)回收上述液浸區(qū)域的液體。
16. 根據(jù)權(quán)利要求1至15中的任一項(xiàng)所述的膝光方法，其特征在于上述膝光用光經(jīng)由光學(xué)構(gòu)件及上述液體而照射于上述襯底， 以液體填滿上述襯底與上述光學(xué)構(gòu)件間的上述膝光用光的光路空間，而在上述襯底載臺(tái)上形成包含上述曝光用光的照射區(qū)域的局部的液浸區(qū)域。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的膝光方法，其特征在于使用用于進(jìn)行對(duì)上述液浸區(qū)域供給及回收液體的至少一方的液 浸構(gòu)件，在上述襯底載臺(tái)的洗凈時(shí)，也進(jìn)行上述液浸構(gòu)件的洗凈。
18. 根據(jù)權(quán)利要求1至17中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在不進(jìn)行上述襯底的曝光的期間，對(duì)上述液浸區(qū)域供給洗凈用液體。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的曝光方法，其特征在于 上述洗凈用液體是在上述啄光時(shí)所形成的液浸區(qū)域的液體中混入規(guī)定溶劑而構(gòu)成的洗凈用液體，或是與上述液體不同的液體。
20. 根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的膝光方法，其特征在于 上述洗凈用液體經(jīng)由供給上述液體的液體供給機(jī)構(gòu)供給至上述液浸區(qū)域。
21. 根據(jù)權(quán)利要求1至20中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)，以虛擬襯底覆蓋上述襯底載臺(tái)的保持上述襯底的 保持部，并且在上述襯底載臺(tái)側(cè)回收液體。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的曝光方法，其特征在于 回收在上述襯底載臺(tái)經(jīng)由上述虛擬襯底與其周?chē)教姑娴拈g隙而流入的液體o
23. 根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的曝光方法，其特征在于 上述虛擬襯底的上面為疏液性，且與上述平坦面大致為同一面高。
24. 根據(jù)權(quán)利要求1至23中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)將上述曝光用光照射于上述襯底載臺(tái)側(cè)。
25. 根據(jù)權(quán)利要求1至24中的任一項(xiàng)所述的膝光方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)使上述襯底載臺(tái)在與上述瀑光用光的光軸平行的方向上振動(dòng)。
26. 根據(jù)權(quán)利要求1至25中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)以超音波使上述液浸區(qū)域的液體振動(dòng)。
27. —種經(jīng)由光學(xué)構(gòu)件及液體用爆光用光使襯底曝光的膝光方 法，其特征在于包括將與液體接觸的可動(dòng)構(gòu)件與上述光學(xué)構(gòu)件對(duì)向配置；及將形成于上述光學(xué)構(gòu)件與上述可動(dòng)構(gòu)件之間的洗凈用液體的液 浸區(qū)域與上述可動(dòng)構(gòu)件相對(duì)移動(dòng)，以洗凈上述可動(dòng)構(gòu)件。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27所述的啄光方法，其特征在于 上述洗凈用液體，與上述曝光時(shí)形成于上述光學(xué)構(gòu)件與上述襯底間的液浸區(qū)域的液體相同。
29. 根據(jù)權(quán)利要求27項(xiàng)或第28所述的曝光方法，其特征在于 上述可動(dòng)構(gòu)件包含保持上述襯底的襯底載臺(tái)、及/或與上述襯底栽臺(tái)可獨(dú)立移動(dòng)的計(jì)測(cè)載臺(tái)。
30. 根據(jù)權(quán)利要求27至29中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述洗凈動(dòng)作與上述膝光動(dòng)作中，使上述可動(dòng)構(gòu)件的移動(dòng)軌跡 的至少一部分不同。
31. —種經(jīng)由液體用曝光用光使襯底曝光的曝光裝置，其特征在 于包括襯底載臺(tái)，保持上述襯底；液浸機(jī)構(gòu)，對(duì)上述襯底上供給液體以形成液浸區(qū)域；及控制裝置，在不進(jìn)行上述襯底的曝光的期間，為了洗凈上述襯底 載臺(tái)而相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)。
32. 根據(jù)權(quán)利要求31所述的膝光裝置，其特征在于 上述襯底載臺(tái)具有保持部，保持上述襯底；及平坦面，配置于上述保持部的周?chē)?，且與用上述保持部保持的襯 底的表面大致平行，上述控制裝置，在上述平坦面上形成上述液浸區(qū)域的至少一部分 的狀態(tài)下，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)。
33. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的曝光裝置，其特征在于 在上述洗凈時(shí)，以平板狀的虛擬襯底覆蓋上述保持部。
34. 根據(jù)權(quán)利要求33所述的曝光裝置，其特征在于 上述虛擬襯底的至少上面為疏液性，且在上述上面形成有多個(gè)親液性的槽部。
35. 根據(jù)權(quán)利要求31至34中的任一項(xiàng)所述的膝光裝置，其特征在于上述控制裝置具有第一模式，進(jìn)行上述襯底的曝光；及第二模式，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)以使垂直于上 述啄光用光的光軸的方向的速度及加速度的至少一方比在上述第一模 式時(shí)大。
36. 根據(jù)權(quán)利要求35所述的曝光裝置，其特征在于 上述控制裝置具有第三模式，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)以使平行于上述膝光用光的光軸的方向的速度及行程的至少一方比在上述第一模式 時(shí)大。
37. 根據(jù)權(quán)利要求31至36中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在 于包括計(jì)測(cè)載臺(tái)，與上述襯底載臺(tái)獨(dú)立地移動(dòng)，上述控制裝置在不進(jìn)行上述襯底的膝光的期間，在上述計(jì)測(cè)載臺(tái) 上形成液浸區(qū)域，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述計(jì)測(cè)載臺(tái)，來(lái)執(zhí)行上 述計(jì)測(cè)載臺(tái)的洗凈。
38. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的曝光裝置，其特征在于 上述控制裝置為了洗凈上述襯底載臺(tái)及上述計(jì)測(cè)載臺(tái)，而使上述襯底載臺(tái)與上述計(jì)測(cè)載臺(tái)接近，在上述襯底載臺(tái)與上迷計(jì)測(cè)載臺(tái)的邊 界部形成上述液浸區(qū)域，使上述襯底載臺(tái)與上述計(jì)測(cè)栽臺(tái)在沿著邊界 線的方向上，以反相位相對(duì)地振動(dòng)。
39. 根據(jù)權(quán)利要求31至38中的任一項(xiàng)所述的膝光裝置，其特征在于上述液浸機(jī)構(gòu)包含 液體供給機(jī)構(gòu)，供給上述液體；及 液體回收機(jī)構(gòu)，回收上述供給的液體。
40. 根據(jù)權(quán)利要求39所述的曝光裝置，其特征在于 上述液浸機(jī)構(gòu)包含用于進(jìn)行對(duì)上述液浸區(qū)域供給及回收液體的至少一方的液浸構(gòu)件；在上述襯底載臺(tái)洗凈時(shí)，也進(jìn)行上述液浸構(gòu)件的洗凈。
41. 根據(jù)權(quán)利要求31至40中的任一項(xiàng)所述的啄光裝置，其特征在于上述液浸機(jī)構(gòu)具有第一液體供給機(jī)構(gòu)，供給上迷液體；及 第二液體供給機(jī)構(gòu)，供給包含規(guī)定溶劑的洗凈用的液體， 在上述洗凈時(shí)，上述第二液體供給機(jī)構(gòu)對(duì)上述襯底載臺(tái)上供給上 述洗凈用液體。
42. 根據(jù)權(quán)利要求41所述的曝光裝置，其特征在于 上述第二液體供給機(jī)構(gòu)具有混入機(jī)構(gòu)，在自上述第一液體供給機(jī)構(gòu)供給的液體中混入上述規(guī) 定的溶劑，上述洗凈用液體在上述曝光時(shí)形成的液浸區(qū)域的液體中混入上 述規(guī)定的溶劑。
43. 根據(jù)權(quán)利要求31至42中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述襯底載臺(tái)具有保持上述襯底的保持部，在上述洗凈時(shí)，可將用于覆蓋上述保持部的平板狀的虛擬村底與 上述襯底更換。
44. 根據(jù)權(quán)利要求31至43中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于在上述洗凈時(shí)，上述襯底載臺(tái)以虛擬襯底覆蓋保持上述襯底的保持部；且包括回收部，其至少一部分設(shè)于上述襯底載臺(tái)，而回收經(jīng)由上述虛擬 襯底與其周?chē)钠教姑娴拈g隙而流入的液體。
45. 根據(jù)權(quán)利要求43或44所述的曝光裝置，其特征在于 上述虛擬襯底的上面為疏液性，且與上述平坦面大致為同一面。
46. 根據(jù)權(quán)利要求31至45中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述控制裝置在上述洗凈動(dòng)作中使上述曝光用光發(fā)光。
47. 根據(jù)權(quán)利要求31至46中的任一項(xiàng)所述的膝光裝置，其特征在于上述襯底載臺(tái)具有 保持部，保持上述襯底； 平坦面，設(shè)于上述保持部的周?chē)?；?可在與上述膝光用光的光軸平行的方向上移動(dòng)的臺(tái)， 上述控制裝置在上述洗凈動(dòng)作中，使上述臺(tái)在與上述光軸平行的 方向上振動(dòng)。
48. 根據(jù)權(quán)利要求31至47中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在 于包括振子，在上述洗凈時(shí)，用超音波使上述液浸區(qū)域的液體振動(dòng)。
49. 一種經(jīng)由光學(xué)構(gòu)件及液體用曝光用光使襯底曝光的曝光裝 置，其特征在于包括可動(dòng)構(gòu)件，與上述光學(xué)構(gòu)件相對(duì)配置，且與上迷液體接觸； 液浸機(jī)構(gòu)，在上述光學(xué)構(gòu)件與上述可動(dòng)構(gòu)件之間形成洗凈用液體 的液浸區(qū)域；及控制裝置，為了洗凈上述可動(dòng)構(gòu)件，而相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與 上述可動(dòng)構(gòu)件。
50. 根據(jù)權(quán)利要求49所述的曝光裝置，其特征在于 上述洗凈用液體與上述瀑光時(shí)形成于上述光學(xué)構(gòu)件與上述襯底間的液浸區(qū)域的液體相同。
51，根據(jù)權(quán)利要求49或50所述的曝光裝置，其特征在于 上述可動(dòng)構(gòu)件包含 保持上述襯底的襯底載臺(tái)；及/或 與上述襯底載臺(tái)可獨(dú)立移動(dòng)的計(jì)測(cè)載臺(tái)。
52. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的曝光裝置，其特征在于 在上述襯底載臺(tái)洗凈時(shí)，上述襯底載臺(tái)用保持上述襯底的保持部來(lái)保持覆蓋構(gòu)件。
53. 根據(jù)權(quán)利要求49至52中的任一項(xiàng)所迷的膝光裝置，其特征在于上述控制裝置在上述洗凈動(dòng)作與上述瀑光動(dòng)作時(shí)使上述可動(dòng)構(gòu) 件的移動(dòng)軌跡的至少一部分不同。
54. 根據(jù)權(quán)利要求49至53中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述控制裝置在不進(jìn)行上述襯底的瀑光的期間，執(zhí)行上述洗凈動(dòng)作。
55. —種曝光裝置的維護(hù)方法，上述啄光裝置在保持于襯底載臺(tái) 的襯底上形成液浸區(qū)域，用曝光用光經(jīng)由上述液浸區(qū)域的液體使上述 襯底曝光，所述維護(hù)方法的特征在于與進(jìn)行對(duì)上述液浸區(qū)域供給及回收液體的至少其中 一方的液浸 構(gòu)件對(duì)向配置上述襯底栽臺(tái)；及在不進(jìn)行上述襯底的膝光的期間，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述 襯底載臺(tái)，來(lái)洗凈上述液浸構(gòu)件及上述襯底栽臺(tái)的至少一方。
56.根據(jù)權(quán)利要求55所述的維護(hù)方法，其特征在于:上述襯底載臺(tái)具有 保持部，保持上述襯底；及平坦面，配置于上述保持部的周?chē)遗c用上述保持部保持的襯 底的表面大致平行，在上述洗凈時(shí)，在上述平坦面上形成上述液浸區(qū)域的至少一部分 的狀態(tài)下，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)。
57，根據(jù)權(quán)利要求56所述的維護(hù)方法，其特征在于 在上述洗凈時(shí)，上述保持部保持平板狀的虛擬襯底。
58. 根據(jù)權(quán)利要求55至57中的任一項(xiàng)所述的維護(hù)方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)以使垂直 于上述曝光用光的光軸的方向的速度及加速度的至少一方比在上述襯 底膝光時(shí)大。
59. 根據(jù)權(quán)利要求55至58中的任一項(xiàng)所述的維護(hù)方法，其特征在于在上述洗凈時(shí)，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與上述襯底載臺(tái)以使平行 于上述啄光用光的光軸的方向的速度及行程的至少一方比在上述襯底 膝光時(shí)大。
60. 根據(jù)權(quán)利要求55至59中的任一項(xiàng)所述的維護(hù)方法，其特征在于上述曝光裝置具備與上述襯底栽臺(tái)可獨(dú)立移動(dòng)的計(jì)測(cè)載臺(tái)， 在上述計(jì)測(cè)載臺(tái)上形成上述液浸區(qū)域，相對(duì)移動(dòng)上述液浸區(qū)域與 上述計(jì)測(cè)載臺(tái)，以洗凈上述計(jì)測(cè)載臺(tái)。
61. 根據(jù)權(quán)利要求60所述的維護(hù)方法，其特征在于為了洗凈上述襯底栽臺(tái)及上述計(jì)測(cè)載臺(tái)，而使上述襯底載臺(tái)與上 述計(jì)測(cè)載臺(tái)接近，在上述襯底載臺(tái)與上述計(jì)測(cè)載臺(tái)的邊界部形成上述 液浸區(qū)域，使上述襯底載臺(tái)與上述計(jì)測(cè)載臺(tái)在沿著邊界線的方向上， 以反相位相對(duì)地振動(dòng)。
62. 根據(jù)權(quán)利要求55至61中的任一項(xiàng)所述的維護(hù)方法，其特征在于上述膝光裝置具備液體回收機(jī)構(gòu)，回收上述液浸區(qū)域的液體， 所述維護(hù)方法包含在上述洗凈時(shí)回收上述液浸區(qū)域的液體。
63. 根據(jù)權(quán)利要求55至62中的任一項(xiàng)所述的維護(hù)方法，其特征在于在不進(jìn)行上述襯底的瀑光的期間，對(duì)上述液浸區(qū)域供給洗凈用液體。
64. 根據(jù)權(quán)利要求63所述的維護(hù)方法，其特征在于 上述洗凈用液體在上述膝光時(shí)所形成的液浸區(qū)域的液體中混入規(guī)定溶劑而構(gòu)成的洗凈用的液體，或是與上述液體不同的液體。
65. —種曝光裝置的維護(hù)方法，上述曝光裝置經(jīng)由光學(xué)構(gòu)件及液 體用曝光用光使襯底曝光，所述維護(hù)方法的特征在于包括將與上述液體接觸的可動(dòng)構(gòu)件與上述光學(xué)構(gòu)件對(duì)向配置；及 將形成于上述光學(xué)構(gòu)件與上述可動(dòng)構(gòu)件之間的洗凈用液體的液 浸區(qū)域與上述可動(dòng)構(gòu)件相對(duì)移動(dòng)，以洗凈上述可動(dòng)構(gòu)件。
66. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的維護(hù)方法，其特征在于 上述洗凈用液體與上述啄光時(shí)形成于上述光學(xué)構(gòu)件與上述襯底間的液浸區(qū)域的液體相同。
67. 根據(jù)權(quán)利要求65或66所述的維護(hù)方法，其特征在于 上述可動(dòng)構(gòu)件包含 保持上述襯底的襯底載臺(tái)；及/或 與上述襯底載臺(tái)可獨(dú)立移動(dòng)的計(jì)測(cè)載臺(tái)。
68. 根據(jù)權(quán)利要求67所述的維護(hù)方法，其特征在于 在上述襯底載臺(tái)洗凈時(shí)，上述襯底載臺(tái)用覆蓋構(gòu)件覆蓋上述襯底栽臺(tái)的保持上述襯底的保持部。
69. 根據(jù)權(quán)利要求65至68中的任一項(xiàng)所述的維護(hù)方法，其特征在于在上述洗凈動(dòng)作與上述膝光動(dòng)作時(shí)使上述可動(dòng)構(gòu)件的移動(dòng)軌跡 的至少一部分不同。
70. 根據(jù)權(quán)利要求65至69中的任一項(xiàng)所述的維護(hù)方法，其特征在于在不進(jìn)行上述襯底的曝光的期間執(zhí)行上述洗凈動(dòng)作。
71. —種使襯底曝光的啄光方法，其特征在于包括 在保持于襯底載臺(tái)的襯底上，用液體填滿曝光用光的光路空間； 用上述曝光用光經(jīng)由上述液體使上述襯底曝光；及 在不進(jìn)行上迷襯底的曝光的期間，對(duì)上述襯底載臺(tái)供給用超音波振動(dòng)的洗凈用液體。
72. —種使襯底啄光的曝光方法，其特征在于包括 在保持于襯底載臺(tái)的襯底上，通過(guò)液浸機(jī)構(gòu)用液體填滿曝光用光的光路空間；用上述曝光用光經(jīng)由上述液體使上述襯底曝光；及 在不進(jìn)行上述襯底的曝光的期間，對(duì)上述液浸機(jī)構(gòu)的上述液體供 給口及回收口的至少一方供給洗凈用液體。
73. 根據(jù)權(quán)利要求72所述的曝光方法，其特征在于 上述洗凈用液體用超音波振動(dòng)。
74. 根據(jù)權(quán)利要求72或73所述的曝光方法，其特征在于 在通過(guò)上述洗凈用液體洗凈上述襯底載臺(tái)時(shí)，移動(dòng)上述襯底載臺(tái)。
75. —種經(jīng)由液體用膝光用光使襯底上的多個(gè)區(qū)域曝光的曝光方 法，其特征在于包括一邊使保持上述襯底的可動(dòng)體在第一路徑移動(dòng)， 一邊經(jīng)由上述液 體而對(duì)上述多個(gè)區(qū)域的每個(gè)區(qū)域曝光；及通過(guò)使保持虛擬襯底的可動(dòng)體在與上述第一路徑不同的第二路 徑移動(dòng)，而用上述液體或洗凈液洗凈上述可動(dòng)體。
76. 根據(jù)權(quán)利要求75所迷的曝光方法，其特征在于 上述第二路徑被決定成在上述曝光時(shí)上述液體接觸的上述可動(dòng)體上的區(qū)域會(huì)被上述液體或洗凈液洗凈。
77. 根據(jù)權(quán)利要求75或76所述的曝光方法，其特征在于 上述第二路徑包含上述第 一路徑的至少 一部分的路徑。
78. 根據(jù)權(quán)利要求75至77中的任一項(xiàng)所述的膝光方法，其特征在于用上述液體或洗凈液洗凈上述可動(dòng)體時(shí)，上述曝光用光不照射于 虛擬襯底。
79. 根據(jù)權(quán)利要求75至78中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述液體或洗凈液被實(shí)質(zhì)地維持于比上述襯底全面積小且比上 述襯底上的一個(gè)區(qū)域大的區(qū)域內(nèi)。
80. —種組件制造方法，其特征在于包括使用權(quán)利要求1至30、權(quán)利要求71至79中的任一項(xiàng)所述的曝光 方法使襯底膝光；顯影膝光后的襯底；及 加工顯影后的襯底。
81. —種使村底曝光的曝光裝置，其特征在于包括 液浸機(jī)構(gòu)，在保持于襯底載臺(tái)的襯底上，以液體填滿膝光用光的光路空間；超音波振子，設(shè)于上述液浸機(jī)構(gòu)的上述液體供給口的附近；及 控制裝置，控制上述超音波振子，以便在不進(jìn)行上述襯底的曝光的期間，對(duì)上述襯底載臺(tái)上供給通過(guò)上述超音波振子的超音波而振動(dòng)的洗凈用液體。
82. —種使村底啄光的膝光裝置，其特征在于包括 液浸機(jī)構(gòu)，包含在保持于襯底栽臺(tái)的襯底上供給液體至曝光用光的光路空間的第 一液體供給機(jī)構(gòu)；第二液體供給機(jī)構(gòu)，設(shè)于上述襯底載臺(tái)側(cè)，用于供給洗凈用液體；超音波振子，用超音波使上述洗凈用液體振動(dòng)；及控制裝置，控制上述超音波振子，以在不進(jìn)行上述襯底的啄光的期間，對(duì)上述液浸機(jī)構(gòu)的供給口及回收口的至少 一方供給通過(guò)上述超音波振子的超音波而振動(dòng)的洗凈用液體。
83. —種經(jīng)由液體使襯底曝光的詠光裝置，其特征在于包括 液浸機(jī)構(gòu)，在保持于襯底載臺(tái)的襯底上用液體填滿曝光用光的光路空間；及在不進(jìn)行上述襯底的啄光的期間，對(duì)上述液浸機(jī)構(gòu)的上述液體供 給口及回收口的至少一方供給洗凈用液體的裝置。
84. 根據(jù)權(quán)利要求83所述的曝光裝置，其特征在于包括 用超音波振動(dòng)上述洗凈用液體的超音波振子。
85. 根據(jù)權(quán)利要求83或84所述的曝光裝置，其特征在于包括 控制裝置，在利用上述洗凈用液體洗凈上述襯底載臺(tái)時(shí)，移動(dòng)上述襯底載臺(tái)。
86. —種經(jīng)由光學(xué)構(gòu)件及液體用膝光用光使村底曝光的瀑光裝 置，其特征在于包括可動(dòng)構(gòu)件，與上述光學(xué)構(gòu)件對(duì)向配置；及洗凈裝置，具有設(shè)于上述可動(dòng)構(gòu)件的振子，用通過(guò)上述振子而振 動(dòng)的洗凈用液體洗凈與上述液體接觸的構(gòu)件。
87. 根據(jù)權(quán)利要求86所述的曝光裝置，其特征在于 上述洗凈用液體包含上述液體。
88. 根據(jù)權(quán)利要求86或87所述的曝光裝置，其特征在于包括 用于形成上述液體的液浸區(qū)域的液浸構(gòu)件， 與上述液體接觸的構(gòu)件至少包含上述液浸構(gòu)件。
89. —種組件制造方法，其特征在于包括使用權(quán)利要求31至54及權(quán)利要求81至88中的任一項(xiàng)所述的膝 光裝置使襯底曝光；顯影曝光后的襯底；及 加工顯影后的襯底。
全文摘要
本發(fā)明的曝光方法是在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)纫苿?dòng)的襯底載臺(tái)PST上的襯底保持具PH上保持襯底P，使用從液體供給機(jī)構(gòu)(10)供給的液體(1)，在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)刃纬梢航^(qū)域AR2，而以曝光用光EL經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL與液浸區(qū)域AR2來(lái)曝光襯底P。在不進(jìn)行襯底P的曝光的期間，將液浸區(qū)域AR2與襯底載臺(tái)PST相對(duì)移動(dòng)，來(lái)洗凈襯底保持具PH上部，并且將液浸區(qū)域AR2與計(jì)測(cè)載臺(tái)MST相對(duì)移動(dòng)，來(lái)洗凈計(jì)測(cè)載臺(tái)MST上部?？墒褂孟磧粢鹤鳛橄磧魰r(shí)形成液浸區(qū)域AR2的液體。用液浸法進(jìn)行曝光時(shí)，可抑制雜質(zhì)混入液體中，并以高生產(chǎn)率執(zhí)行高解像度的液浸曝光。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101410948SQ20078001103
公開(kāi)日2009年4月15日 申請(qǐng)日期2007年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月18日
發(fā)明者中野勝志 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康