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彩膜基板及制造方法和液晶顯示裝置的制作方法

文檔序號:2732751閱讀:111來源:國知局
專利名稱:彩膜基板及制造方法和液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種彩膜基板及制造方法和液晶顯示裝置,尤其涉及一種包 括間隔設(shè)置的黑矩陣和彩色像素的彩膜基板及制造方法,和采用該彩膜基板 的液晶顯示裝置。
背景技術(shù)
目前,彩色液晶顯示裝置已經(jīng)越來越廣泛的應(yīng)用到人們的生活和生產(chǎn)之 中,其中,液晶顯示裝置的彩色顯示特性、視角特性是人們越來越關(guān)注的重 要顯示指標(biāo)。
在彩色顯示特性方面,現(xiàn)有液晶顯示裝置件釆用的一種技術(shù)手段是設(shè)置 樹脂材料制作的彩色濾光片來實現(xiàn)彩色顯示特性。彩色濾光片上的每一個彩
色像素對應(yīng)一種顏色,通常是紅、綠、藍三基色,當(dāng)背光源發(fā)出光譜范圍覆 蓋紅、藍、綠三種顏色的光線時,由于樹脂材料的濾光作用, 一個顏色的彩
色像素允許對應(yīng)顏色的光透過而吸收另外兩種顏色的光,從而實現(xiàn)液晶顯示 裝置的彩色顯示特征。該技術(shù)雖然實現(xiàn)了彩色顯示,但是其存在的問題是光
的利用率大副下降,原因是 一方面彩色濾光片的濾光作用使得背光源發(fā)出 的大部分光被吸收,光的利用效率不足1/3;另一方面,因為熒光燈類的背 光源均是通過紫外線激發(fā)燈管壁內(nèi)涂覆的熒光粉來發(fā)光的,白光二極管類的 背光源是通過二極管芯片所發(fā)出的短波長,即通過發(fā)出紫光或藍光激發(fā)燈管 壁內(nèi)涂覆的熒光粉來發(fā)光的,所以現(xiàn)有背光源都存在著因激發(fā)熒光材料發(fā)光 而導(dǎo)致的光能量損失現(xiàn)象。傳統(tǒng)彩色液晶顯示裝置至少存在兩次光能量損失, 因而會大幅度降低能量的利用效率,不僅導(dǎo)致液晶顯示裝置的亮度低,而且為保證顯示亮度而耗費的能量也較大。
在視角特性方面,液晶顯示裝置通常采用雙折射或旋光技術(shù)來實現(xiàn)對光 強度的控制,限于液晶分子顯像的工作原理,光線從背光源發(fā)出后,會依次 經(jīng)過下偏振片、液晶層和上偏振片,在液晶分子的偏轉(zhuǎn)作用下,導(dǎo)致不同角 度入射的光線間光程差不同,最終導(dǎo)致的后果是液晶顯示裝置的視角通常較 窄。所謂視角,即能正常觀測液晶顯示裝置屏幕上圖像亮度、對比度和色彩 的可視范圍。視角窄導(dǎo)致觀察者在較偏斜的角度觀看圖像時,圖像的對比度 和色彩會發(fā)生偏移。因此與主動發(fā)光型顯示器件相比,現(xiàn)有液晶顯示裝置的 視角特性比較差。為解決這一問題,現(xiàn)有技術(shù)開發(fā)了光學(xué)膜補償、多籌垂直
排列(MVA)、圖形控制的垂直排列(PVA)、平面驅(qū)動(IPS)、邊緣場驅(qū)動 (FFS)等多種模式來改善液晶顯示裝置的視角特性。但是上述技術(shù)只能減少 不同角度入射光線間的所通過路徑的差異,而不能完全消除,對視覺的改善 也很有限,且使液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)復(fù)雜,提高了工藝難度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種彩膜基板及制造方法和液晶顯示裝置,以實現(xiàn) 提高液晶顯示裝置的光利用效率,提高顯示亮度,降低能耗,同時避免不同 角度觀察時,圖像對比度和色彩偏移現(xiàn)象的發(fā)生,改善液晶顯示裝置的視角 特性。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的第一方面提供了一種彩膜基板,包括
基板;
黑矩陣,以矩陣排列形式設(shè)置在基板上;
彩色像素,間隔設(shè)置在黑矩陣之間,該彩色像素的材質(zhì)為熒光材料; 流平封裝層,覆蓋在該黑矩陣和彩色像素之上; 內(nèi)置偏振片,貼設(shè)在流平封裝層上。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的第二方面提供了一種彩膜基板的制造方法,
包括如下步驟
步驟1、在基板上形成矩陣排列形式的黑矩陣,并在黑矩陣之間形成熒 光材料的彩色像素;
步驟2、在完成步驟1的基板上形成流平封裝層; 步驟3、在完成步驟2的基板上形成內(nèi)置偏振片。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的第三方面體提供了一種采用本發(fā)明彩膜基板 的液晶顯示裝置,包括與該彩膜基板對盒設(shè)置的陣列基板、設(shè)置在彩膜基板 和陣列基板之間的液晶層、以及設(shè)置在陣列基板背離彩膜基板一側(cè)的背光源, 其中,該背光源發(fā)射的波長小于等于彩膜基板上彩色像素?zé)晒獠牧系氖芗ぐl(fā) 光臨界波長。
由以上技術(shù)方案可知,本發(fā)明在彩膜基板上以彩色熒光材料代替彩色樹 脂材料,熒光材料在短波長光源的激發(fā)下,可以直接發(fā)光,因而減少了樹脂 材料吸收光的能量損失,解決了現(xiàn)有技術(shù)中光利用效率低的問題。同時,本 發(fā)明因采用了彩膜基板主動發(fā)光的技術(shù)手段,使液晶顯示裝置達到了與主動 發(fā)光顯示裝置相當(dāng)?shù)囊暯翘匦?。因此,本發(fā)明的優(yōu)點在于
1、 液晶顯示裝置的彩色顯示方式以熒光材料的光激發(fā)式代替了現(xiàn)有的樹 脂材料光吸收式,能夠提高光能量利用效率達50%以上,因而能夠提高液晶 顯示裝置的顯示亮度,減少能量消耗;
2、 彩色光來源于液晶顯示裝置表面彩膜基板的熒光材料的發(fā)射,未經(jīng)過 液晶層,在不同角度觀察圖像時,對比度和色彩不會發(fā)生偏移,因此與陰極 射線管等主動發(fā)光型顯示器具有同等的視角特性,本發(fā)明在不依賴液晶顯示 模式和光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計的前提下改善了液晶顯示裝置的視角特性;
3、 將偏振片置于液晶顯示裝置彩膜基板的內(nèi)部,減少了液晶顯示裝置附 屬零部件的數(shù)量,使顯示裝置更加輕薄化;
4、 因為液晶顯示裝置中所采用的大多數(shù)光學(xué)材料的折射率、吸收率等參 數(shù)都依賴于光波長,所以在全波長范圍的背光源下,使液晶顯示裝置中的各
種光學(xué)材料達到最佳光學(xué)效果是十分困難的,本發(fā)明采用了單一波長或較窄 波長范圍的背光源,所以有利于光學(xué)材料的優(yōu)化設(shè)計。
下面通過具體實施例并結(jié)合附圖對本發(fā)明做進一步的詳細描述。


圖1為本發(fā)明彩膜基板具體實施例一的俯視結(jié)構(gòu)示意圖; 圖2為圖1中的A-A向剖面結(jié)構(gòu)示意圖; 圖3為本發(fā)明彩膜基板具體實施例二的剖面結(jié)構(gòu)示意圖; 圖4為本發(fā)明彩膜基板制造方法具體實施例一的流程圖; 圖5為本發(fā)明彩膜基板制造方法具體實施例二的流程圖; 圖6為本發(fā)明液晶顯示裝置具體實施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
彩膜基板實施例一
如圖1所示為彩膜基板具體實施例一的結(jié)構(gòu)示意圖,圖2為圖1中的A -A向剖面圖,該彩膜基板是可設(shè)置于液晶顯示裝置中用來實現(xiàn)彩色顯示性 能的功能部件,其具體結(jié)構(gòu)包括基板1;以矩陣排列形式設(shè)置在基板1上 的黑矩陣2;間隔設(shè)置在黑矩陣2之間的彩色像素3,通常設(shè)置紅、綠、藍三 基色的彩色像素3,該彩色像素3的材質(zhì)為熒光材料,可在一定波長光線的 激發(fā)下發(fā)出相應(yīng)顏色的光,根據(jù)熒光材料的不同,其受激發(fā)光所需的光線波 長也不相同,此處定義能夠激發(fā)熒光材料發(fā)光的最大波長為該熒光材料的受 激發(fā)光臨界波長;該彩膜基板還包括覆蓋在該黑矩陣2和彩色像素3之上的 流平封裝層4;以及貼設(shè)在流平封裝層4上的內(nèi)置偏振片5。
本實施例中的黑矩陣可以采用樹脂材料、金屬鉻或金屬鉻的氧化物制成, 也可以由上述材料任意組合疊放而形成黑矩陣,該黑矩陣以矩陣排列形式, 或稱網(wǎng)格形式設(shè)置在基板上。
本實施例中彩色像素的材質(zhì)具體可以為無機熒光材料,例如紅色焚光 材料可以為三價銪激活的釔鋁石榴石,藍色熒光材料可以為二價銪激活的氯 磷酸鍶/鉤,綠色焚光材料可以為鈰激活的釔鋁石榴石。該無機熒光材料可以 是在波長范圍為350nm至480nm的短波激發(fā)下可發(fā)光的材料。彩色像素的材 質(zhì)還可以為有機熒光材料,例如可以為一種或多種激光染料的組合,包括但 不限于羅丹明類、香豆素類、偶氮類、蒽醌類、周萘酮類、惡嗪類、吡咯 家撐類、二萘嵌苯類;或者三價稀土離子Sm3+、 Eu3+、 Tb3+、 Dy3+為中心金 屬離子p-二酮類、芳香酮類、雜環(huán)類二元和多元金屬配合物。
在本實施例中,當(dāng)熒光材料為無機熒光材料時,流平封裝層可以采用有 機材料制成,例如采用"JSR"抹式會社生產(chǎn)的 "OptmerSS"系列熱固化樹 脂。當(dāng)熒光材料為有機熒光材料時,流平封裝層可以采用氣密性好的有機聚 合物與無機薄膜相交疊形成的膜層,其中的無機薄膜的材質(zhì)可以為Si02或 SiNx。該流平封裝層覆蓋在彩色像素和黑矩陣之上,起到保護熒光材料的作 用,同時對于彩色像素和黑矩陣形成的表面也起到平整的作用。
本實施例中的內(nèi)置偏振片具體可以為金屬柵,也可以采用含有染料的有 機自組裝材料制成內(nèi)置偏振片,例如采用"Optiva"公司"TCFNo. 15"的有 機自組裝材料,或者還可以采用具有折射率各向異性的有機材料的多層交疊 膜層。內(nèi)置偏振片是光從液晶層射向熒光材料側(cè)的偏振裝置?,F(xiàn)有的液晶顯 示裝置是彩膜基板和陣列基板對盒設(shè)置的,液晶層設(shè)置在彩膜基板和陣列基 板之間,上、下偏振片設(shè)置在液晶層的兩側(cè),通常分別設(shè)置在彩膜基板和陣 列基板的外側(cè),而光線通過兩層偏振片最終射出液晶顯示裝置,使圖像正常 顯示?;谠撛?,因為本實施例彩膜基板是熒光材料受激發(fā)光的,發(fā)光位 置將位于液晶層的上側(cè),所以若偏振片仍設(shè)置在彩膜基板外層,那么從光源 側(cè)入射的光只經(jīng)過了陣列基板側(cè)的偏振片和液晶層,照射到熒光材料上,液 晶層無法起到調(diào)制光強的作用,且熒光材料所發(fā)出的光也不能維持入射光的 偏振特性,因而使圖像不能正常顯示。因此,本實施例中將一個偏振片設(shè)置 在彩膜基板內(nèi)部,使光源光線在到達熒光材料之前經(jīng)過了兩個偏振片和液晶 層。
本實施例的彩膜基板還可以進一步在內(nèi)置偏振片5上布設(shè)透明導(dǎo)電層6, 如圖2所示。該透明導(dǎo)電層6可以采用氧化銦錫或氧化鋅制成,相當(dāng)于現(xiàn)有 彩色液晶顯示裝置中的公用電極。
本實施例的彩膜基板在應(yīng)用到液晶顯示裝置中時,液晶顯示裝置相應(yīng)采 用能激發(fā)熒光材料的彩色像素發(fā)光的、發(fā)射短波長的光源作為背光源,工作 原理為背光源發(fā)出的短波光線傳輸?shù)讲誓せ宓牟噬袼厣蠒r,因為彩色 像素是無機或有機熒光材料制成的,所以熒光材料會受激發(fā)出相應(yīng)顏色的光, 從而實現(xiàn)液晶顯示裝置的彩色顯示特性。
本實施例的技術(shù)方案采用了彩色像素主動發(fā)光的方式實現(xiàn)彩色顯示效 果,避免了樹脂材料濾光片對光的吸收作用,光利用效率可提高達50%以上。 同時,彩色基板上彩色像素的主動發(fā)光方式避免了不同入射角度光線在液晶 層內(nèi)所經(jīng)歷的光程差不同,進而避免了圖像對比度和色彩隨觀察角度偏移現(xiàn) 象的發(fā)生,能夠改善液晶顯示裝置的視角特性,使其具有與主動發(fā)光型顯 示器相當(dāng)?shù)囊暯翘匦浴?br> 本發(fā)明的彩膜基板可以應(yīng)用于所有彩色液晶顯示裝置中,如薄膜晶體管 液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,以下簡稱 TFT-LCD )和彩色超4丑轉(zhuǎn)向列液晶顯示器(Super Twist Nematic Liquid Crystal Display,簡稱STN-LCD)。
彩膜基板實施例二
如圖3所示為本發(fā)明彩膜基板具體實施例二的剖面結(jié)構(gòu)示意圖,本實施 例與實施例一的結(jié)構(gòu)大致相同,區(qū)別在于組成黑矩陣2的網(wǎng)格線條之中, 每個線條的縱向截面形狀均為T型,黑矩陣2的T型截面凸出的邊緣覆蓋相 鄰的彩色像素3的邊緣。
該技術(shù)方案能夠防止熒光材料發(fā)出的光射向薄膜晶體管時對其造成的損 害,尤其對于非晶硅材料的薄膜晶體管來說,該措施的作用更為顯著。
彩膜基板制造方法實施例一
如圖4所示為本發(fā)明彩膜基板制造方法具體實施例一的流程圖,該方法 可用于制造本發(fā)明的彩膜基板,其包括如下步驟
步驟ll、在基板上依次涂覆紅、綠、藍三基色、漿狀的無機焚光材料, 并采用曝光和刻蝕工藝在無機焚光材料上形成矩陣排列形式的圖案作為彩色 像素,其中漿狀的無機熒光材料是由無機熒光粉添加感光膠制成的;
步驟12、在完成步驟11的基板上涂敷或沉積黑矩陣材料,通過曝光和 蝕刻工藝形成黑矩陣,黑矩陣間隔設(shè)置在彩色像素之間,較佳的實施方式是 使黑矩陣線條的縱向截面形狀為T型,令T型截面凸出的邊緣覆蓋相鄰的彩 色像素的邊緣,其中黑矩陣材料可以為樹脂、金屬鉻或金屬鉻的氧化物,或 者還可以任意組合地疊放沉積上述材料形成黑矩陣;
步驟13、在完成步驟12的基板上,以有機封裝材料形成流平封裝層, 對于有機封裝材料,具體可使用旋轉(zhuǎn)涂敷或刮刀涂敷(slit-coating),通 過熱固化工藝成型。
步驟14、在完成步驟13的基板上形成內(nèi)置偏振片;
步驟15、在完成步驟14的基板上可以進一步沉積透明導(dǎo)電材料形成透 明導(dǎo)電層,具體可以沉積氧化銦錫或氧化鋅材料,可以將該透明導(dǎo)電層作為 公共電極。
在本實施例的步驟14中形成內(nèi)置偏振片的方法可以有多種,其中一種具 體實施方式為在完成步驟13的基板上涂覆有機自組裝材料,采用熱固化或
光固化方法使有機自組裝材料固化成型作為內(nèi)置偏振片。
另一種具體實施方式
為在完成步驟13的基板上沉積金屬材料,采用曝
光和蝕刻工藝形成相應(yīng)的圖案以制成金屬柵式的內(nèi)置偏振片。
再一種具體實施方式
為在完成步驟13的基板上,即在流平封裝層上直
接貼附折射率各向異性的多層有機膜作為內(nèi)置偏振片。
本實施例的技術(shù)方案可用于制造本發(fā)明的彩膜基板,其制造工藝簡單, 對現(xiàn)有工藝流程的調(diào)整較小,易于推廣應(yīng)用。該方法所制造的彩膜基板在應(yīng) 用到液晶顯示裝置中時,能夠提高光的利用效率,改善液晶顯示裝置的視角性能。
彩膜基板制造方法實施例二
如圖5所示為本發(fā)明彩膜基板制造方法具體實施例二的流程圖,本實施 例可以用于制造本發(fā)明的彩膜基板,本實施例技術(shù)方案與實施例一的區(qū)別在
于步驟ll、步驟12和步驟13替換為^丸行步驟21、步驟22和步驟23:
步驟21、在基板上涂敷或沉積黑矩陣材料,通過曝光和蝕刻工藝形成以 矩陣形式排列的黑矩陣,黑矩陣的材料可以釆用樹脂、金屬鉻、金屬鉻的氧 化物,或者任意組合地疊放上述材料作為黑矩陣;
步驟22、在完成步驟21的基板上采用掩模蒸發(fā)有機熒光材料或噴墨打 印有機熒光材料的方法形成彩色像素,該彩色像素間隔設(shè)置在黑矩陣之間;
步驟23、在完成步驟22的基板上使用濺射、化學(xué)氣相沉積或蒸發(fā)的方 法順次布設(shè)有機聚合物與無機材料使其疊設(shè),形成無機和有機的疊層結(jié)構(gòu);
步驟24、在完成步驟23的基板上形成內(nèi)置偏振片;
步驟25、在完成步驟24的基板上形成透明導(dǎo)電層。
本實施例的彩膜基板制造方法中彩色像素和黑矩陣的制備工序與實施例 一不同,這取決與制備彩色像素的材料。采用無機熒光材料時,可以先形成 彩色像素,而后形成黑矩陣,并使黑矩陣覆蓋無機熒光材料的邊緣。采用有 機熒光材料時,需先設(shè)置黑矩陣,以保證彩色像素能夠填充到黑矩陣中而能 準確定位。
本實施例中制造內(nèi)置偏振片和透明導(dǎo)電層的方式與實施例 一 大致相同。 本實施例的技術(shù)方案所制造的彩膜基板在應(yīng)用到液晶顯示裝置中時,能
夠提高光的利用效率,改善液晶顯示裝置的視角性能。同時制造方法簡單、
易實現(xiàn)。
液晶顯示裝置實施例
如圖6所示為本發(fā)明液晶顯示裝置具體實施例的結(jié)構(gòu)示意圖,該液晶顯 示裝置包括對盒設(shè)置的彩膜基板10和陣列基板20,其中陣列基板20也稱薄 膜晶體管基板,該液晶顯示裝置還包括彩膜基板10和陣列基板20之間設(shè)置
的液晶層30,以及設(shè)置在陣列基板20背離彩膜基板10—側(cè)的背光源40,其 中,該彩膜基板10的結(jié)構(gòu)包括基板l;以矩陣形式設(shè)置在基板l上的黑矩 陣2;間隔設(shè)置在黑矩陣2之間的彩色像素3,包括紅、綠、藍三基色,該彩 色像素3的材質(zhì)為焚光材料,可在一定波長的光線激發(fā)下發(fā)出相應(yīng)顏色的光; 覆蓋在該黑矩陣2和彩色像素3之上的流平封裝層4;貼設(shè)在流平封裝層4 上的內(nèi)置偏振片5;在內(nèi)置偏振片5上還可以布設(shè)透明導(dǎo)電層6。
在本實施例中,對盒設(shè)置的彩膜基板和陣列基板之間具體為通過隔墊物 保持適當(dāng)?shù)拈g隙,在間隙中充入液晶材料形成液晶層。彩膜基板和陣列基板 的邊緣使用樹脂材料進行密封,并在陣列基板的外側(cè)貼附外置偏振片,從而 構(gòu)成液晶顯示屏。此液晶顯示屏配置相應(yīng)的驅(qū)動電路,并與短波長背光源組 裝在一起而形成本實施例的液晶顯示裝置。
在本實施例中,陣列基板和液晶層的結(jié)構(gòu)可以采用現(xiàn)有技術(shù),例如液晶 層的具體結(jié)構(gòu)可以設(shè)計為扭曲向列模式(TN)、垂直取向模式(VA)、平面 驅(qū)動模式UPS)、光學(xué)補償彎曲模式(OCB)或邊緣場驅(qū)動模式(FFS);薄 膜晶體管具體可以采用非晶硅技術(shù)、低溫多晶硅技術(shù)、有機半導(dǎo)體或硒化鎘 技術(shù)等。
在本實施例中,背光源采用能發(fā)出短波長的、沒有涂覆熒光粉的冷陰極 熒光燈管或發(fā)光二極管,其光線波長的取值范圍應(yīng)能夠激發(fā)彩膜基板上的彩 色像素?zé)晒獠牧习l(fā)光,波長應(yīng)小于或等于熒光材料受激發(fā)光臨界波長值,較 佳的取值范圍是350nm至480mn。背光源的設(shè)置位置可以有多種,如常用的、 設(shè)置在陣列基板兩側(cè)的側(cè)光式,如圖6所示,以導(dǎo)光板50和背光板60將背 光源40的光導(dǎo)入彩膜基板10。還可以采用直下式等方式。
在本實施例的液晶顯示裝置中,可以在導(dǎo)光板50的出光側(cè),即朝向陣列 基板20的一側(cè)設(shè)置擴散片70,如圖6所示,并進一步在擴散片70朝向陣列 基板20的上側(cè)設(shè)置偏振選擇透過薄膜80。
本實施例的液晶顯示裝置可以采用本發(fā)明彩膜基板的任一實施例,采用 該彩膜基板的液晶顯示裝置以熒光材料的光激發(fā)式代替了現(xiàn)有的樹脂材料光
吸收式,能夠提高光能量利用效率達5oy。以上,因而能夠提高液晶顯示裝置
的顯示亮度,減少能量消耗;本實施例的液晶顯示裝置的彩色光來源于彩膜 基板的熒光材料,避免了傳統(tǒng)液晶顯示器件的不同角度入射光在液晶層中傳 播所產(chǎn)生的光程差異,因此觀察者在不同角度觀看圖像時,對比度和色彩不 會發(fā)生偏移,與陰極射線管等主動發(fā)光型顯示器具有同等的視角特性,本實 施例在不依賴液晶顯示模式和光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計的前提下改善了液晶顯示裝置的 視角特性;將偏振片置于液晶顯示裝置彩膜基板的內(nèi)部,也能夠減少液晶顯 示裝置附屬零部件的數(shù)量,使顯示裝置更加輕薄化;背光源使用單一波長或 較窄的波長范圍,有利于光學(xué)材料的優(yōu)化設(shè)計。
最后應(yīng)說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對其 限制;盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員應(yīng)當(dāng)理解其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改,或 者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技
術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1、一種彩膜基板,其特征在于包括基板;黑矩陣,以矩陣排列形式設(shè)置在所述基板上;彩色像素,間隔設(shè)置在所述黑矩陣之間,所述彩色像素的材質(zhì)為熒光材料;流平封裝層,覆蓋在所述黑矩陣和彩色像素之上;內(nèi)置偏振片,貼設(shè)在所述流平封裝層上。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于所述流平封裝層為熱 固化樹脂材質(zhì)的膜層或有機聚合物與無機材料疊放的膜層。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于所述內(nèi)置偏振片的材 質(zhì)為金屬柵或含有染料的有機自組裝材料。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于還包括透明導(dǎo)電層, 貼設(shè)在所述內(nèi)置偏振片上。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板,其特征在于所述透明導(dǎo)電層的材 質(zhì)為氧化銦錫或氧化鋅。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于所述黑矩陣為樹脂、 金屬鉻、金屬鉻的氧化物中任一材質(zhì)或上述材質(zhì)任意組合疊放的膜層。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1 ~ 6所述的任一彩膜基板,其特征在于所述黑矩陣 的每個線條的縱向截面形狀為T型,所述黑矩陣T型截面凸出的邊緣覆蓋相 鄰的所述彩色像素的邊緣。
8、 一種彩膜基板制造方法,其特征在于包括步驟1、在基板上形成矩陣排列形式的黑矩陣,并在所述黑矩陣之間形成熒光材料的彩色像素;步驟2、在完成步驟1的所述基板上形成流平封裝層; 步驟3、在完成步驟2的所述基板上形成內(nèi)置偏振片。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,在步驟3 之后還包括步驟4、在完成步驟3的所述基板上沉積透明導(dǎo)電材料形成透明 導(dǎo)電層。
10、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步驟 1具體包括步驟lla、在基板上涂覆漿狀的無機焚光材料,通過曝光和刻蝕工藝形成 矩陣排列形式的彩色像素;步驟12a、在完成步驟lla的所述基板上形成黑矩陣,所述黑矩陣間隔設(shè) 置在所述彩色像素之間。
11、 根據(jù)權(quán)利要求10所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步 驟2具體為在完成步驟1的所述基板上涂覆有機封裝材料,并通過熱固化 工藝形成流平封裝層。
12、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步驟 1具體包括步驟llb、在基板上形成矩陣排列形式的黑矩陣;步驟12b、在完成步驟lib的所述基板上采用掩模蒸發(fā)有機熒光材料或噴墨打印有機熒光材料的方法形成彩色像素,所述彩色像素間隔設(shè)置在所述黑 矩陣之間。
13、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的彩膜基板制造方法,其特征在于,所述步 驟2具體為在完成步驟1的所述基板上采用濺射、化學(xué)汽相沉積或熱蒸發(fā) 的方法順次疊設(shè)有機聚合物與無機材料來形成流平封裝層。
14、 根據(jù)權(quán)利要求8 13所述的任一彩膜基板制造方法,其特征在于, 所述步驟3具體為在完成步驟2的所述基板上涂覆有機自組裝材料,采用 熱固化或光固化的方法固化成型所述有機自組裝材料來形成內(nèi)置偏振片。
15、 根據(jù)權(quán)利要求8-13所述的任一彩膜基板制造方法,其特征在于, 所述步驟3具體為在完成步驟2的所述基板上沉積金屬材料,采用曝光和蝕刻工藝形成金屬柵式內(nèi)置偏振片。
16、 根據(jù)權(quán)利要求8~13所述的任一彩膜基板制造方法,其特征在于, 所述步驟3具體為在完成步驟2的所述基板上貼附折射率各向異性的有機 膜來形成內(nèi)置式偏振片。
17、 一種采用權(quán)利要求1-7所述的任一彩膜基板的液晶顯示裝置,包 括與所述彩膜基板對盒設(shè)置的陣列基板、設(shè)置在所述彩膜基板和所述陣列基 板之間的液晶層、以及設(shè)置在所述陣列基板背離所述彩膜基板一側(cè)的背光源, 其特征在于所述背光源發(fā)射的波長小于等于所述彩膜基板上彩色像素?zé)晒?材料的受激發(fā)光臨界波長。
18、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的液晶顯示裝置,其特征在于所述背光源 發(fā)射的波長大于等于350納米且小于等于480納米。
19、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的液晶顯示裝置,其特征在于所述背光源 為燈管壁不涂覆熒光材料的冷陰極熒光燈管或發(fā)光二極管。
20、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的液晶顯示裝置,其特征在于所述背光源 和所述陣列基板之間設(shè)置有外置偏振片。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種彩膜基板及制造方法和液晶顯示裝置。該彩膜基板包括基板;設(shè)置在基板上的黑矩陣;間隔設(shè)置在黑矩陣之間、熒光材質(zhì)的彩色像素;覆蓋在黑矩陣和彩色像素上的流平封裝層;貼設(shè)在流平封裝層上的內(nèi)置偏振片。該制造方法包括在基板上形成黑矩陣,并在其間形成熒光材料的彩色像素;形成流平封裝層;形成內(nèi)置偏振片。該液晶顯示裝置采用本發(fā)明的彩膜基板,還包括陣列基板、液晶層和背光源,其中,背光源發(fā)射的波長小于等于彩膜基板上彩色像素?zé)晒獠牧系氖芗ぐl(fā)光臨界波長。本發(fā)明在彩膜基板上以彩色熒光材料代替彩色樹脂材料,改變了發(fā)光方式,減少了樹脂材料吸收光的能量損失,能提高光利用效率低,并且能改善液晶顯示裝置的視角特性。
文檔編號G02F1/1333GK101206330SQ20071017992
公開日2008年6月25日 申請日期2007年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月19日
發(fā)明者劉敬偉, 劉曉東, 剛 王, 王家恒, 邵喜斌 申請人:京東方科技集團股份有限公司
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