專利名稱：：包括可剝離邊界層的光學體的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及光學體和加工光學體的方法。
背景技術：
：光學薄膜被廣泛用于多種用途，這些光學薄膜包括單層聚合物光學薄膜、多層聚合物光學薄膜以及包括分散相和連續(xù)相的聚合物光學薄膜。聚合物光學薄膜的示例性應用包括顯示裝置，例如置于移動電話、個人數(shù)字助理(PDA)、計算機、電視機和其它裝置中的液晶顯示屏(LCD)。熟知的聚合物光學薄膜包括反射偏振薄膜，如可購自3M公司的VikuitiDualBrightnessEnhancementFilm(DBEF)和VikuitiDiffuseReflectivePolarizerFilm(DRPF)。其它熟知的聚合物光學薄膜包括反射片，如同樣可購自3M公司的VikuitiEnhancedSpecularReflector(ESR)。用作偏振片或反射鏡的多層聚合物光學薄膜通常包括一個或多個第一光學層以及一個或多個第二光學層。除了第一和第二光學層外，一些傳統(tǒng)的多層薄膜還包括一個或多個非光學層，例如位于光學層組之上或之間的一個或多個保護性邊界層。非光學層通常結合到多層聚合物光學薄膜中，從而使得將要被第一和第二光學層傳輸、偏振或反射的光的至少一部分也通過這些非光學層傳輸。這些非光學層可以保護光學層不受損壞，并有助于共擠加工和/或增強光學薄膜加工后的機械特性。因此，在這種傳統(tǒng)光學薄膜中，非光學層基本上不影響光學薄膜在所關注的波長區(qū)域中的反射特性，這一點通常是重要的。
發(fā)明內(nèi)容一方面，本發(fā)明涉及光學體，所述光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及設置在第一和第二光學薄膜之間的一個或多個可剝離邊界層?？蓜冸x邊界層的每個主表面設置為與光學薄膜或另一個可剝離邊界層相鄰。第一和第二光學薄膜中的至少一個可包括反射偏振片。另一方面，本發(fā)明涉及加工光學體的方法，所述方法包括提供光學體，所述光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及設置在第一和第二光學薄膜之間的至少一個可剝離邊界層。將光學體傳輸?shù)嚼靺^(qū)內(nèi)并拉伸以增大光學體的橫向尺寸，同時在縱向上將光學體的相對邊緣沿基本上叉開的路徑傳輸。在該示例性實施例中，將基本上叉開的路徑構造和布置成能夠提供在拉伸期間滿足以下關系式的縱向拉伸比(MDDR)、法向拉伸比(NDDR)和才黃向^立伸比(TDDR):MDDR=N腿=(T隱)—1/2。另一方面，本發(fā)明涉及加工光學體的方法，所述方法包括提供光學體，所述光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及設置在第一和第二光學薄膜之間的至少一個可剝離邊界層。將光學體在拉伸器中沿縱向傳輸，同時保持光學體的相對邊緣部分，并通過沿叉開的非線性路徑移動相對邊緣部分將光學體在拉伸器內(nèi)拉伸至超過4的拉伸比。在該示例性實施例中，在拉伸期間，在TDDR達到2.5后，單軸特性量值U的最小值在拉伸的最終時段為至少0.7,并且在拉伸結束時U小于1,其中U定義1/2為U=(1/MDDR-1)/(TDDR-1),其中MDDR是縱向拉伸比，TDDR是在叉開路徑之間所測的橫向拉伸比。另一方面，本發(fā)明涉及加工光學體的方法，所述方法包括提供光學體，所述光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及至少一個設置在第一和第二光學薄膜之間的可剝離邊界層。將光學體在拉伸器中沿縱向傳輸，同時保持光學體的相對邊緣部分，并通過沿叉開的非線性路徑移動相對邊緣部分來進行拉伸。在該示例性實施例中，在拉伸光學體期間，薄膜的縱向速度以大約人1/2的系數(shù)降低，其中X為橫向拉伸比。為了使本發(fā)明所屬
技術領域：
內(nèi)的普通技術人員更容易理解如何制造和使用本發(fā)明，下面將參考以下附圖詳細說明本發(fā)明的示例性實施例，其中圖1為根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例構造的光學體的示意性局部剖視圖2為根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例構造的光學體的示意性局部剖視圖3為根據(jù)本發(fā)明的另一實施例構造的光學體的示意性局部剖視圖4示出光學體的單軸拉伸；以及圖5為可用來加工根據(jù)本發(fā)明的光學體的設備的示意性俯視圖。具體實施例方式如上所述，本發(fā)明提供了包括一個或多個可剝離邊界層的光學體以及這種光學體的制造方法。根據(jù)本發(fā)明的原理，每個可剝離邊界層與至少一個光學薄膜相連。在一些示例性實施例中，使一個或多個可剝離邊界層為粗糙的，并且例如通過將一個或多個光學薄膜與粗糙可剝離邊界層共擠或定向或通過其它合適的方法，將表面紋理賦予所述一個或多個光學薄膜。基本上可按授予Hebrink等人的共同擁有的美國專利申請No.10/977,211中所述的粗糙可剝離表層相同的方法來構造和使用一個或多個粗糙可剝離邊界層，該專利申請于2004年10月29日提交且名稱為"OpticalBodiesandMethodsforMakingOpticalBodies(光學體以及制造光學體的方法)"，該專利申請公開的內(nèi)容在與本發(fā)明一致的范圍內(nèi)以引用的方式并入本文。在本發(fā)明的代表性實施例中，可剝離邊界層連接到一個或多個光學薄膜上，使得它們能夠在初始加工(例如拉伸)期間，或者在一些示例性實施例中也可在后續(xù)的存儲、搬運、包裝、運輸和/或轉換加工期間，保持附著在一個或多個光學薄膜上，但使用者在需要的時候可以將其剝離或移除。例如，可將可剝離邊界層移除，并且可以在拉伸光學體后不久或者在將一個或多個構成光學薄膜安裝到顯示裝置中之前不久分離光學薄膜。優(yōu)選地，在一個或多個可剝離邊界層與一個或多個光學薄膜分離時，無需施加過大的力，不會損壞光學薄膜，也不會使來自可剝離邊界層的大量顆粒殘余物污染光學薄膜。在其它示例性實施例中，本發(fā)明的光學體可在至少一個可剝離邊界層保持完好的情況下安裝到顯示裝置中。該特征使本發(fā)明的光學體的使用形式更加靈活?，F(xiàn)在參考圖1、圖2和圖3，附圖以簡化的示意圖形式示出了本發(fā)明的示例性實施例。圖1是光學體10的示意性局部剖視圖，光學體10包括第一光學薄膜20、第二光學薄膜30以及設置在第一和第二光學薄膜之間的至少一個可剝離邊界層18?？蓜冸x邊界層的第一表面可設置為與光學薄膜20相鄰，可剝離邊界層的第二表面可設置為與光學薄膜30相鄰。在其它示例性實施例中，可剝離邊界層可設置為與一個光學薄膜相鄰，并且通過附加層與另一光學薄膜隔開，該附加層可以是一個或多個附加的可剝離層，或者附加層可連接到相鄰的光學薄膜上。在需要的時候可以在光學薄膜20和30之間提供兩個可剝離邊界層，以便于例如使可剝離邊界層與相鄰光學薄膜20或30之間具有不同的附著力?？蛇x地，光學體10還包括一個或多個附加的可剝離邊界層18以及一個或多個外表層16，該邊界層18可設置在光學薄膜20和30的外表面上并且設置為僅與一個光學薄膜相鄰?？捎欣赜糜趫D1所示構造中的材料的一個例子如下(l)第一光學層12,其由55mol%(摩爾百分比)的二元酸(如萘二曱酸酯)和45mol。/。的二元酸(如對苯二甲酸二曱酯)制造，二醇中含有4moiy。的己二醇和96mol。/。的乙二醇；(2)第二光學層14,其由聚萘二曱酸乙二醇酯制造；(3)可剝離邊界層18,其由聚丙烯制造；以及(4)外表層16,其由75mol。/。的二元酸(如萘二曱酸酯)和25molo/。的二元酸(如對苯二甲酸二曱酯)制造，二醇中含有4mol。/。的己二醇和96mol。/。的乙二醇。包括兩個以上光學薄膜的示例性光學體還可以包括設置在第一光學薄膜20和第二光學薄膜30與此類附加光學薄膜之間或者設置在附加光學薄膜(未示出)之間的附加可剝離邊界層(未顯示)。例如，光學體10還可以包括設置為與第二光學薄膜相鄰的第三光學薄膜、以及設置在第二光學薄膜與第三光學薄膜之間的第二可剝離邊界層。其它示例性實施例可包括三層以上光學薄膜，如6層、10層或更多層。根據(jù)本發(fā)明構造的光學體中使用的光學薄膜的數(shù)量取決于所用設備和材料及其它相關因素。而且，當適于具體應用時，光學體10可包括任何其它的附加層。例如，光學薄膜20和30之一或兩者還可以包括一個或多個下表層，該下表層設置在光學薄膜與可剝離邊界層之間并形成光學薄膜的一部分。在一些示例性實施例中，光學薄膜20和30之一或兩者可以是或者可以包括多層聚合物光學薄膜，如多層反射偏振片。例如，一個或兩個光學薄膜可包括一個或多個第一光學層12和一個或多個第二光學層14。第一光學層12可以是單軸或雙軸定向的雙折射聚合物層。第二光學層14同樣可以是單軸或雙軸定向的雙折射聚合物層。在其它示例性實施例中，第二光學層14在定向后具有各向同性折射率，該折射率與第一光學層12的至少一個折射率不同。光學薄膜20和30之一或兩者可以是或者可以包括含有分散相和連續(xù)相的聚合物光學薄膜，如漫反射偏振片。在另一個示例性實施例中，一個或多個光學薄膜20和30可以是單層光學薄膜。圖2為根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例構造的光學體40的示意性局部剖視圖。光學體40包括第一光學薄膜50、第二光學薄膜60以及設置在第一光學薄膜50和第二光學薄膜60之間的可剝離邊界層48。在該示例性實施例中，可剝離邊界層48是包括連續(xù)相47和分散相49的粗糙可剝離邊界層?？赏ㄟ^在適當?shù)募庸るA段將顆粒共混到連續(xù)相47中或者將一種或多種不混溶材料混合到連續(xù)相47中來形成分散相49,然后優(yōu)選地進行相分離，并在可剝離邊界層材料和光學薄膜之間的界面上形成粗糙表面。對于一些應用，可能希望由一個或多個具有連續(xù)相和分散相的層來形成邊界層，其中連續(xù)相和分散相之間的界面足夠弱，從而導致在定向或以其它方式加工薄膜時形成空隙。這些空隙有助于在邊界層和相鄰光學薄膜之間形成粗糙界面。可通過小心操縱加工參數(shù)和拉伸比或者通過選擇性地使用增容劑來控制空隙的平均尺寸和縱橫比。圖2用概括而簡化的視圖示出了連續(xù)相47和分散相49，實際上，這兩相的外觀可能并非如此均勻和規(guī)則。例如，應當了解，圖2的示意圖包括如下實施例可剝離邊界層包括第一聚合物和基本上不溶于第一聚合物但不形成明顯分散區(qū)的第二聚合物。在一些示例性實施例中，可剝離邊界層48可包括分散相或/和連續(xù)相的多個亞相。可剝離邊界層48可用于將包括凹陷50a的表面紋理賦予設置為與可剝離邊界層48相鄰的光學薄膜50的表面中，以及將包括凹陷60a的表面紋理賦予設置為與可剝離邊界層48相鄰的光學薄膜60的表面中。因此，可在與可剝離邊界層共擠、層壓和/或后續(xù)的拉伸光學薄膜期間賦予表面紋理。光學體40還可以包括參考圖1所示或所述的任意數(shù)量的薄膜或?qū)?，并在適于具體應用時包括任何其它的附加層。圖3為根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例構造的光學體70的示意性局部剖視圖。光學體70包括第一光學薄膜80、第二光學薄膜90、含有連續(xù)相77和分散相79的可剝離邊界層78以及光滑可剝離邊界層75,該可剝離邊界層可與粗糙可剝離邊界層78—體地形成和移除。作為選擇，可與粗糙可剝離邊界層78分離地形成和/或移除光滑可剝離邊界層75。在一些示例性實施例中，光滑邊界層75可包括至少一種與連續(xù)相77相同的材料?？蓜冸x邊界層78可用于將包括凹陷75a的表面紋理賦予設置為與可剝離邊界層78相鄰的可剝離邊界層75的表面中，以及將包括凹陷90a的表面紋理賦予設置為與可剝離邊界層78相鄰的光學薄膜90的表面中。可在與可剝離邊界層共擠、層壓和/或后續(xù)的拉伸光學薄膜期間如此賦予表面紋理。在需要的時侯可以在例如光學薄膜80和90之間提供兩個粗糙可剝離層，其中使用不同數(shù)量的分散相將不同粗糙度賦予不同光學薄膜中。此外，光學體70可包括如圖1和圖2所示或所述的任意數(shù)量的薄膜或?qū)?，并在適于具體應用時包括任何其它的附加層。根據(jù)本發(fā)明構造的光學體中所包括的可剝離邊界層可具有可移除地連接到第一光學薄膜的第一主表面和可移除地連接到第二光學薄膜的第二主表面。然而，根據(jù)本發(fā)明構造的一些示例性光學體可包括至少一個如下邊界層，該邊界層具有可移除地連接到第一光學薄膜的第一主表面和永久性地連接到第二光學薄膜的第二主表面，通過材料選擇在邊界層和第二光學薄膜之間提供可接受的粘結，從而使得可剝離邊界層可以從第一光學薄膜上移除，但不會從第二光學薄膜上移除。在一些實施例中，光學薄膜之一可用作為滿足加工要求(共擠工序或薄膜處理和/或轉換)而增加的表層，可以在工序的某一點將該表層移除和丟棄。在另一個實施例中，邊界層可既附著到第一光學薄膜上又附著到第二光學薄膜上，并且在剝離時邊界層可分裂，從而在第一和第二光學薄膜上產(chǎn)生由邊界層材料構成的附加層。如上所述，獲得這些效果的一種方法是獲得由兩種或更多材料組成的多層材料邊界層。在一些此類示例性實施例中，材料選擇將包括對于相鄰光學薄膜具有更強或更弱附著力的材料。這些材料的選擇由相鄰光學薄膜的材料組成決定。圖l、圖2和圖3中所描述的光學薄膜和層可構造成具有與圖示不同的相對厚度?，F(xiàn)在將更詳細地說明本發(fā)明的其它方面。光學薄膜多種光學薄膜可適用于本發(fā)明的實施例。適用于本發(fā)明一些實施例的光學薄膜可包括例如DBEF和ESR等介電多層光學薄膜(完全由雙折射光學層構成，部分由雙折射光學層構成，或是全部由各向同性的光學層構成)，以及例如DRPF等可以表征為偏振片或反射鏡的連續(xù)相/分散相光學薄膜。適用于本發(fā)明實施例的光學薄膜可以是或可以包括例如填充BaS04的PET(聚對苯二曱酸乙二醇酯)等擴散微隙反射薄膜，或例如填充Ti02的PET等擴散"白色"反射薄膜。作為選擇，光學薄膜可以是由合適的光學上透明的各向同性或雙折射材料(如聚碳酸酯)構成的單層，并且可以包括或不包括體擴散器。本領域的普通技術人員將容易認識到，本文中所描述的結構、方法和技術可適于和應用于其它類型的合適光學薄膜。本文中具體提到的光學薄膜僅僅是示例性實例，并不旨在列舉所有適用于本發(fā)明示例性實施例的光學薄膜。更具體地講，適用于本發(fā)明實施例的示例性光學薄膜包括例如以下文獻中描述的多層反射薄膜，如美國專利No.5，882,774和No.6,352,761以及PCT/>開WO95/17303、W095/1769KW095/17692、W095/17699、W096/19347和W099/36262,這些文獻均以引用的方式并入本文。多層反射偏振光學薄膜和連續(xù)相/分散相反射偏振光學薄膜均依靠至少兩種不同材料(典型地為聚合物)之間的折射率差值以選擇性地反射至少一個偏振方向上的光。合適的漫反射偏振片包括如美國專利No.5,825,543中所述的連續(xù)相/分散相光學薄膜，以及如美國專利No.5,867,316中所述的漫反射光學薄膜，這兩篇文獻均以引用的方式并入本文。在共同擁有的與本發(fā)明同日4是交的名稱為"DiffuseReflectivePolarizingFilmsWithOrientablePolymerBlends(帶有可定向聚合物共混物的擴散偏轉膜)"的申請(3M檔案號為60758US002)中描述了適用于本發(fā)明一些實施例的其它包括分散相和連續(xù)相的材料和光學薄膜，該申請公開的內(nèi)容在與本發(fā)明一致的范圍內(nèi)以引用的方式并入本文。在一些實施例中，一個或多個光學薄膜是聚合物層的多層層疊件，該聚合物層的布魯斯特角(p偏振光的反射率變?yōu)榱愕慕嵌?很大或不存在。如本領域中的普通技術人員所知，多層光學薄膜可制成多層反射鏡或偏振片，其對P偏振光的反射率隨著入射角偏離法線而緩慢減少，或獨立于入射角，或隨著入射角偏離法線而增加。本文中使用多層反射光學薄膜來舉例說明光學薄膜結構以及本發(fā)明的光學薄膜的制造和使用方法。如上所述，本文描述的結構、方法和技術適于并可應用于其它類型的合適光學薄膜。例如，可通過將單軸或雙軸定向的雙折射的第一光學層和第二光學層交替層疊(如交錯)來制造合適的多層光學薄膜。在一些實施例中，第二光學層具有各向同性的折射率，該折射率與定向?qū)拥拿鎯?nèi)折射率大致相等。兩個不同光學層之間的界面形成光反射平面。在與兩個層的折射率大致相等的方向平行的平面內(nèi)偏振的光基本上透射。在與兩個層的折射率不同的方向平行的平面內(nèi)偏振的光至少被部分反射?？赏ㄟ^增加層數(shù)或通過增大第一層和第二層之間的折射率差值來增加反射率。具有多個層的薄膜可以包括具有不同光學厚度的層，以增大一定波長范圍內(nèi)薄膜的反射率。例如，薄膜可包括成對的層，(例如針對垂直入射光)單獨調(diào)整這些層以對特定波長的光獲得最佳反射效果。一般來講，適用于本發(fā)明某些實施例的多層光學薄膜具有約2至5000個光學層，典型地約25至2000個光學層，通常為約50至1500個光學層或約75至1000個光學層。一些示例性實施例包括約825個或更少、約600個或更少、約275個或更少、或者甚至約100個或更少的光學層。光學層的數(shù)量取決于應用。還應該認識到，雖然本文只描述了單個多層層疊件，但多層光學薄膜也可以由多個層疊件或不同類型的光學薄膜制造，其中不同類型的光學薄膜隨后組合以形成薄膜?？赏ㄟ^將單軸定向的第一光學層與具有各向同性折射率(與定向?qū)拥拿鎯?nèi)折射率大致相等)的第二光學層結合來制造反射偏振片。作為選擇，兩個光學層均由雙折射聚合物形成并且在拉伸過程中定向，使得在單個面內(nèi)方向上的折射率大致相等。兩個光學層之間的界面形成一種偏振態(tài)的光反射平面。在與兩個層的折射率大致相等的方向平行的平面內(nèi)偏振的光將被部分反射。對于具有第二光學層并且該第二光學層具有各向同性折射率或較低面內(nèi)雙折射率(例如在632.8nm下不超過約0.07)的偏振片，第二光學層的面內(nèi)折射率(nx與ny)與第一光學層的面內(nèi)折射率(如ny)大致相等。因此，第一光學層的面內(nèi)雙折射率可以指示多層光學薄膜的反射率。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通常面內(nèi)雙折射率越高，多層光學薄膜的反射性就越好。通常在632.8nm下，第一光學層經(jīng)過定向后的面內(nèi)雙折射(nx-ny)為約0.04或更高、約0.1或更高、約0.15或更高，優(yōu)選約0.2或更高，更優(yōu)選約0.3或更高。如果第一和第二光學層的面外折射率(nz)相等或接近相等，那么多層光學薄膜還具有更好的斜角反射率。相同或類似的設計考慮適用于含有分散和連續(xù)聚合物相的漫反射偏振片。可使用至少一種單軸雙折射材料來制造反射鏡，其中兩個折射率(通常沿x和y軸，或nx和ny)大致相等并且不同于第三個折射率(通常沿z軸，或nz)。x和y軸定義為面內(nèi)軸，因為它們代表多層薄膜內(nèi)給定層的平面，相應折射率nx和ny稱為面內(nèi)折射率。創(chuàng)建單軸雙折射系統(tǒng)的一種方法是將多層聚合物薄膜進行雙軸定向(沿兩個軸拉伸)。如果相鄰層具有不同的應力致雙折射，則多層薄膜的雙軸定向會使與兩個軸都平行的平面的相鄰層的折射率之間產(chǎn)生差值，從而導致兩個偏振平面的光都反射。當?shù)谝还鈱W層為單軸或雙軸定向的雙折射聚合物層時，通常將第一光學層的聚合物選擇為能夠在拉伸時形成較強的雙折射。取決于應用情況，可在薄膜平面內(nèi)的兩個垂直方向之間、一個或多個面內(nèi)方向與垂直于薄膜平面的方向之間或者以上方向的組合之間形成雙折射。第一聚合物應在拉伸后維持雙折射，以便將所需光學特性賦予成品薄膜。第二光學層可以是單軸或雙軸定向的雙折射聚合物層，或者第二光學層在定向后可具有與第一光層的至少一個折射率不同的各向同性折射率。在后一種情況下，第二層中的聚合物在拉伸時應形成很少的或不形成雙折射，或形成反向雙折射(正-負或負-正)，使得在成品薄膜中，薄膜平面的折射率與第一光學層聚合物的折射率之間的差值盡可能大。適于制作用于本發(fā)明示例性實施例的光學薄膜的材料包括各種聚合物，如聚酯、共聚酯和改性共聚酯。在本文中，應將"聚合物，，理解為包括均聚物和共聚物、以及可在可混溶的共混物中例如通過共擠或反應(包括例如酯交換反應)形成的聚合物或共聚物。術語"聚合物"和"共聚物"包括無規(guī)共聚物和嵌段共聚物?？捎糜诒景l(fā)明的光學薄膜中的示例性聚合物包括聚萘二曱酸乙二醇酯(PEN)。PEN常常被選擇用于第一光學層中。適合用于第一光學層中的其它聚合物包括例如2，6-聚萘二甲酸丁二醇酯(PBN)、聚對苯二曱酸乙二醇酯(PET)及其共聚物。在例如美國專利No.5，882，774、No.6,352,761和No.6,498,683以及美國專利申請No.09/229724、No.09/232332、No.09/399531和No.09/444756中描述了其它適合用于光學薄膜中特別是用于第一光學層中的材料，這些文獻以引用的方式并入本文。適用于第一光學層中的示例性coPEN是本征粘度(IV)為0.48dL/g的coPEN,其中羧酸酯亞單元衍生自90mol%的萘二曱酸二曱酯和10mo1%的對苯二甲酸二曱酯，二醇亞單元書f生自100mol。/。的乙二醇亞單元。另一種有用的聚合物是本征粘度為0.74dL/g的PET,其可購自EastmanChemicalCompany(Kingsport,TN)。應選擇適合用于第二光學層中的一種或多種聚合物，以使得在成品薄膜中，至少一個方向上的折射率與第一光學層在同一方向上的折射率顯著不同。此外，應當理解，第二聚合物的選擇不僅取決于所考慮的光學薄膜的預期應用，而且還取決于第一聚合物的選擇及加工條件。第二光學層可由多種聚合物制造，其中該聚合物的玻璃化轉變溫度與第一光學層的玻璃化轉變溫度相容并且折射率與第一聚合物的各向同性折射率相似。適合用于光學薄膜中并且特別是用于第二光學層中的其它聚合物(除上面所提到的COPEN聚合物之外)的例子包括由諸如乙烯基萘、苯乙烯、馬來酸酐、丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯等單體制造的乙烯基聚合物及共聚物。此類聚合物的例子包括聚丙烯酸酯、諸如聚(曱基丙烯酸曱酉旨)(P畫A)等聚曱基丙烯酸酯及全同立構或間同立構聚苯乙烯。其它聚合物包括縮聚物，如聚砜、聚酰胺、聚氨酯、聚酰胺酸和聚酰亞胺。此外，第二光學層可由諸如聚酯和聚碳酸酯等聚合物和共聚物形成。其它特別適合用于第二光學層中的示例性聚合物包括聚曱基丙烯酸曱酯(PMMA)的均聚物，如可以商品名CP71和CP80購自IneosAcrylicsInc.,Wilmington,DE;或玻璃化轉變溫度低于PMMA的聚曱基丙烯酸乙酯(PEMA)。附加的第二聚合物包括P畫A的共聚物(coPMMA),如由75wt%(重量百分比)的曱基丙烯酸曱酯(MMA)單體和25wt。/。的丙烯酸乙酯(EA)單體制備的coPMMA(可以商品名PerspexCP63購自IneosAcrylicsInc.);由薩A共聚單體單元和曱基丙烯酸正丁酯(nBMA)共聚單體單元制備的coPMMA;或PMMA和聚(偏二氟乙烯)(PVDF)的共混物，例如可以商品名Solef1008購自SolvayPolymersInc.,HoustonTX。其它特別適合用于第二光學層中的聚合物包括聚烯烴共聚物，如聚(乙烯-co-辛烯)(PE-P0)(以商品名Engage8200購自Dow-DupontElastomers);聚(丙烯-co-乙歸)(PPPE)(以商品名Z9470購自FinaOilandChemicalCo.，Dallas,TX);以及無規(guī)立構聚丙烯(aPP)和等規(guī)聚丙烯(iPP)的共聚物。光學薄膜還可例如在第二光學層中包括官能化聚烯烴，如線性低密度聚乙烯馬來酸酐接枝共聚物(LLDPE-g-MA)(可以商品名Bynel4105購自E.I.duPontdeNemours&Co.,Inc.,Wilmington，DE)。用于偏振片的示例性材料組合包括PEN/co-PEN、聚對苯二曱酸乙二醇酯(PET)/co-PEN、PEN/sPS、PEN/Eastar和PET/Eastar，其中"co-PEN"是指(上述)基于萘二羧酸的共聚物或共混物，并且Eastar是購自EastmanChemicalCo.的聚對苯二酸環(huán)己二曱酯。用于反射鏡的示例性材^F組合包4舌PET/coPMMA、PEN/PMMA或PEN/coPMMA、PET/ECDEL、PEN/ECDEL、PEN/sPS、PEN/THV、PEN/co-PET和PET/sPS,其中"co-PET"是指(上述)基于對苯二甲酸的共聚物或共混物，ECDEL是購自EastmanChemicalCo.的熱塑性聚酯，THV則是購自3M公司的含氟聚合物。P畫A是指聚曱基丙烯酸曱酯，PETG是指采用第二個二元醇(通常是環(huán)己烷二曱醇)的PET共聚物。sPS是指間同立構聚苯乙烯。非聚酯聚合物可用于制作偏振薄膜。例如，聚醚酰亞胺可與諸如PEN和coPEN等聚酯一起使用以制造多層反射鏡。還可使用其它聚酯/非聚酯組合，如聚對苯二曱酸乙二醇酯和聚乙烯(如可以商品名Engage8200購自DowChemicalCorp.，Midland,MI)。根據(jù)本發(fā)明構造的光學體中的光學薄膜通常較薄，但在其它示例性實施例中，光學薄膜可制成所需厚度。合適的薄膜可有不同厚度，但是通常薄膜厚度小于15密耳(約380微米)，典型地小于IO密耳(約250微米)，更典型地小于7密耳(約180微米)，有時小于5密耳、小于1.5密耳，或者甚至小于1密耳，如0.7密耳。在加工過程中，可通過擠出涂布或共擠方法使得在光學薄膜中包含尺寸穩(wěn)定的層。本發(fā)明中的光學薄膜也可包括任選的其它光學或非光學層，例如光學層組之間的一個或多個不可剝離的保護邊界層。非光學層可以是任何適于具體應用的合適材料，并且可以是或者可以包括至少一種用于光學薄膜剩余部分中的材料。在一些示例性實施例中，中間層或下表層可與光學薄膜一體形成或在光學薄膜的一個或多個外表面上形成。通常通過與光學薄膜共擠而形成一個或多個下表層，以便例如一體形成并粘結第一和第二光學層。一個或多個下表層可包括具有連續(xù)相和分散相的不混溶共混物，這也有助于形成表面粗糙度和霧度。下表層的分散相可以是聚合的或無機的，其中理想地是基本透明的光學薄膜，并且具有與連續(xù)相相同或相似的折射率。在這種透明光學薄膜的一些示例性實施例中，組成分散相和連續(xù)相的材料之間的折射率差值不超過約0.02。具有折射率匹配共混物的下表層的例子為包括SAN的連續(xù)相和包括PETG的分散相(可以商品名Eastar6763從EastmanChemical購得的共聚酯)。具有折射率不匹配共混物的下表層的例子為Xylex7200的連續(xù)相和聚苯乙烯的分散相?？蓜冸x邊界層可通過選擇包含在一個或多個可剝離邊界層中的材料來控制一個或多個可剝離邊界層與相鄰光學薄膜之間的界面附著性，從而使得對于具體應用，可剝離邊界層能夠在所需的時間段內(nèi)附著在光學薄膜上，但也可以在無需施加太大的力的情況下，或者在合適的實施例中在不會將邊界層的大量顆粒殘余遺留在相鄰光學薄膜上的情況下，在使用前將其從光學薄膜上干凈地剝離或移除。在本發(fā)明的一些示例性實施例中，具有與光學薄膜相連的可剝離邊界層的光學體中所包括的材料為基本透明或透光的，因此可使用標準檢查設備來檢查光學體的缺陷。這種示例性透明光學體通常具有可剝離邊界層，其中組分材料具有大致相等或十分相近的折射率。在這種透明光學體的一些示例性實施例中，組成可剝離邊界層的各種材料的折射率彼此差值不超過約0.02。在本發(fā)明的示例性光學體中，附著于光學薄膜的相鄰表面的邊界層可以構造成這樣，即使一個或多個可剝離邊界層對一層或多層光學薄膜的附著性可以表征為可剝離邊界層與相鄰光學薄膜之間的剝離力為約2g/in或更大。根據(jù)本發(fā)明構造的其它示例性光學體可表征為約4g/in、5g/in、10g/in、15g/in或更大的剝離力。在一些示例性實施例中，光學體可表征為高達約100g/in或甚至約120g/in的剝離力。在其它示例性實施例中，光學體可表征為約50g/in、35g/in、30g/in、25g/in或更小的剝離力。在一些示例性實施例中，附著力可以在2g/in至120g/in、4g/in至50g/in、5g/in至35g/in、10g/in至25g/in或15g/in至25g/in的范圍內(nèi)。在其它示例性實施例中，附著力還可在其它合適的范圍內(nèi)。取決于所用材料，某些應用中允許剝離力超過120g/in。在可剝離邊界層和相鄰光學薄膜之間的剝離力較大的一些示例性實施例中，可采用多種步驟來幫助從一個或多個光學薄膜上移除可剝離邊界層。例如，可對本發(fā)明的光學體進行熱定形、在移除過程中保持特定溫度、進行拉伸或/和允許老化，從而使其包含的任何潤滑劑到達薄膜或?qū)拥谋砻??？扇缦聹y量用于表征本發(fā)明示例性實施例的剝離力。具體地講，本測試方法提供了測量從光學薄膜(如多層薄膜、聚碳酸酯等)上移除可剝離邊界層所需的剝離力的程序。從具有附著于光學薄膜的可剝離邊界層的光學體上切割下測試條。測試條的寬度通常為約r',長度大于約6"?？蓪y試條進行預處理以產(chǎn)生環(huán)境老化特征(如熱、熱和濕、冷、熱沖擊)。通常，樣本在測試前應放置超過約24小時。然后，例如使用雙面膠帶(如購自3M的Scotch雙面膠帶)將l"的測試條施加在剛性板上，并且將板/測試條組件固定在剝離測試器臺板上的適當位置中。接著將可剝離邊界層的前緣從光學薄膜上分離，并將其夾在與剝離測試器的測力傳感器相連的夾具上。再將載有板/測試條組件的臺板以90英寸/分鐘的恒定速度從測力傳感器上移開，從而有效地從基底光學薄膜上以約180度角剝離可剝離邊界層。當臺板從夾具上移開時，從薄膜上剝離可剝離邊界層所需的力由測力傳感器檢測并由微處理器記錄下來。然后，在5秒的穩(wěn)態(tài)行程上(優(yōu)選地，忽略開始剝離時的初始震動)將剝離所需的力取平均值并記錄下來。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通過謹慎選擇用于制作可剝離邊界層的材料，并確保該材料與用于制作光學薄膜的至少某些材料特別是光學薄膜的外表面材料或某些示例性實施例中的下表層材料的相容性，能夠?qū)崿F(xiàn)這些及相關目標。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，為了在所需時間段內(nèi)保持附著在光學薄膜上，可剝離邊界層可包括足量的低結晶度或非晶形材料。在一些示例性實施例中，可剝離邊界層中可采用兩種或更多種具有不同附著力的不同材料以獲得所需的附著量。適合用于可剝離邊界層中的材料包括例如含氟聚合物，如可購自3M公司(St.Paul,MN)的聚偏氟乙烯(PVDF)、乙烯-四氟乙烯氟聚合物(ETFE)、聚四氟乙烯(PTFE)、PMMA(或coPMMA)和PVDF的共聚物，或者THV或PFA材料中的任一種。諸如Dynamar(可購自3M)或Glycolube(可購自位于FairLawnNJ的Lonza公司)等加工助劑可增強可剝離邊界層的脫膜特性。適合用于可剝離邊界層中的材料通常包括聚烯烴，如聚丙烯和改性聚丙烯。可使用脂肪族聚烯烴。聚丙烯的一種合適基團包括高密度聚丙烯，其對聚酯和丙烯酸材料具有非常低的附著性并常用于制造多層光學薄膜。也可以使用聚乙烯及其共聚物，包括共聚物、丙烯和乙烯。其它示例材料包括聚曱基戊烯；環(huán)烯烴共聚物，如可購自TiconaEngineeringPolymers(Florence,KY)的T叩as;烯烴與馬來酸酐、丙烯酸或曱基丙烯酸縮水甘油酯的共聚物；或者可購自杜邦^^司(Wilmington,DE)的Hytrel(熱塑性聚酯彈性體)或Bynel(改性乙烯-醋酸乙烯酯)材料中的任一種?？捎糜诒景l(fā)明的一些實施例中的間同立構和無規(guī)立構乙烯基芳族聚合物包括聚苯乙烯、聚烷基苯乙烯、聚苯乙烯卣化物、聚烷基苯乙烯、聚苯甲酸乙烯酯、及其氬化聚合物和混合物、或者包括這些結構單元的共聚物。聚烷基苯乙烯的實例包括聚曱基苯乙烯、聚乙基苯乙烯、聚丙基苯乙烯、聚丁基苯乙烯、聚苯基苯乙烯、聚乙烯基萘、聚乙烯基苯乙烯和聚苊。聚苯乙烯囟化物的實例包括聚氯苯乙烯、聚溴苯乙烯和聚氟苯乙烯。聚烷氧基苯乙烯的實例包括聚曱氧基苯乙烯和聚乙氧基苯乙烯。在這些實施例中，特別優(yōu)選的苯乙烯基團聚合物有聚苯乙烯、聚對曱基苯乙烯、聚間曱基苯乙烯、聚對叔丁基苯乙烯、聚對氯苯乙烯、聚間氯苯乙烯、聚對氟苯乙烯以及苯乙烯和對曱基苯乙烯的共聚物。此外，作為間同立構乙烯基芳族基團共聚物的共聚單體，除了上面說明的苯乙烯基團聚合物的單體外，烯烴單體(如乙烯、丙烯、丁烯、己烯或辛烯)、雙晞單體(如丁二烯、異戊二烯)、極性乙烯基單體(如環(huán)雙烯單體、曱基丙烯酸曱酯、馬來酸酐或丙烯腈)均可被提及。脂族共聚酯和脂族聚酰胺也是可用于可剝離邊界層的材料。對于聚酯聚合物和共聚物，可從以下材料中選擇二元酸對苯二曱酸、間苯二曱酸、鄰苯二曱酸、所有異構萘二曱酸(2，6-、1,2-、1,3-、1,4-、1，5-、1，6-、1，7-、1，8-、2，3-、2,4-、2，5-、2，7-和2，8-)、聯(lián)苯曱酸(如4,4'-聯(lián)苯二羧酸及其異構體、反式-4，4'-二苯乙烯二羧酸及其異構體、4，4'-二苯醚二曱酸及其異構體、4,4'-二苯砜二羧酸及其異構體、4，4'-二苯甲酮二曱酸及其異構體)、卣化芳族二羧酸(如2-氯對苯二曱酸和2,5-二氯對苯二曱酸)、其它取代芳族二羧酸(如叔丁基間苯二曱酸和磺酸鈉間苯二曱酸(sodiumsulfonatedisophthalicacid))、環(huán)烷族羧酸(如1,4-環(huán)己烷二甲酸及其異構體和2，6-萘烷二羧酸及其異構體)、二環(huán)或多環(huán)二羧酸(如各種異構降莰烷和降冰片烯二羧酸、金剛烷二羧酸以及二環(huán)辛烷二羧酸)、烷爛二羧酸(如癸二酸、己二酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、壬二酸和十二烷雙酸)以及任何稠環(huán)芳烴的異構二羧酸(如茚、蒽、苯蒽烯、苯嵌萘、藥及類似物質(zhì))。作為選擇，還可使用這些單體的烷基酯，如對苯二曱酸二甲酯。合適的二元醇共聚單體包括但不限于直鏈或支鏈的鏈烷二醇或二元醇(如乙二醇、諸如1，3-丙二醇等丙二醇、諸如1,4-丁二醇等丁二醇、諸如新戊基二醇等戊二醇、己二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇和更高級二元醇)、醚二醇(如二乙二醇、三乙二醇和聚乙二醇)、酯鏈二醇(如3-羥基-2，2-二曱基丙基-3-羥基-2，2-丙酸二曱酯、環(huán)烷二醇(如1,4-環(huán)己烷二曱醇及其異構體和1，4-環(huán)己二醇及其異構體)、二環(huán)或多環(huán)二元醇(如各種異構的三環(huán)癸烷二曱醇、降莰烷二曱醇、降冰片烯二曱醇和二環(huán)辛烷二曱醇)、芳香族二元醇(如1,4-苯二曱醇及其異構體、1，4-苯二酚及其異構體、雙酚(如雙酚A)、2，2'-二羥基聯(lián)苯及其異構體、4，4'-二羥基曱基聯(lián)苯及其異構體，以及1，3-雙(2-羥乙氧基)苯及其異構體)，以及更低級烷基醚或這些二元醇的二醚(如二曱基二醇或二乙基二醇)。在至少一個邊界層被設計為永久性附著在至少一個相鄰光學薄膜上的示例性實施例中，其組分材料對相鄰光學薄膜必須具有足夠的附著力。根據(jù)對光學薄膜的附著特性，或可選地根據(jù)對邊界層的另一構成層(多層邊界層的情況下)的附著特性來選擇材料。一些可用的材料包括上面所列的材料以及經(jīng)過改性后能夠附著在光學薄膜上的同類聚合物。在一些示例性實施例中，一個或多個可剝離邊界層可包括低熔點和低結晶度的聚丙烯及其共聚物、低熔點和低結晶度的聚乙烯及其共聚物、低熔點和低結晶度的聚酯及其共聚物、或它們的任意合適組合。這種低熔點有4至10個碳原子的oc-烯烴材料組成。術語"共聚物"不僅包括共聚物，而且也包括三元共聚物以及由四種或更多種組分聚合物組成的聚合物。合適的低熔點和低結晶度聚丙烯及其共聚物包括例如間同立構聚丙烯(如可購自TotalPetrochemicals,Inc.的Finaplas1571)--種在間同立構聚丙烯主鏈上的乙烯含量極低的無規(guī)共聚物，以及丙烯的無規(guī)共聚物(3口可購自Atofina,J見為TotalPetrochemicals,Inc.的PP8650或PP6671)。如果需要的話，所述丙烯與乙烯的共聚物也可與聚丙烯的均聚物擠出共混，以便提供具有更高熔點的可剝離邊界層。其它合適的低熔點和低結晶度聚乙烯與聚乙烯共聚物包括例如線性低密度聚乙烯及乙烯-乙烯醇共聚物。合適的聚丙烯包括例如丙烯與乙烯的無頭見共聚物(如可購自TotalPetrochemicals,Inc.的PP865Q)或乙烯辛烯共聚物(如可購自DowChemicalCompany的AffinityPT1451)。在本發(fā)明的一些實施例中，連續(xù)相包括非晶形聚烯烴，如非晶形聚丙烯、非晶形聚乙烯、非晶形聚酯、或者它們的任意組合，或者它們與其它材料的任意合適組合。在一些實施例中，可剝離邊界層的材料可包括成核劑如苯曱酸鈉以控制結晶速率。此外，可添加防靜電材料、防粘連材料、著色劑如顏料和染料、極化染料、滲移性潤滑劑、穩(wěn)定劑和其它加工助劑。此外或作為選擇，粗糙可剝離表層還可包括任何其它合適的材料。在一些示例性實施例中，可將遷移抗靜電劑用于可剝離邊界層中以降低邊界層對光學薄膜的附著性。粗糙可剝離邊界層在本發(fā)明的包括至少一個粗糙可剝離邊界層的示例性實施例中，一個或多個邊界層可包括上述任何材料或它們的任意組合。例如，連續(xù)相或第一和第二不混溶的聚合物之一可包括關于上述可剝離邊界層所提到的任何材料?？赏ㄟ^在分散相中混合或共混不同材料來調(diào)節(jié)粗糙可剝離邊界層的表面粗糙度，這些材料包括例如聚合物材料、無機材料或兩者。此外，可調(diào)節(jié)分散相與連續(xù)相的比率來控制表面粗糙度與附著力，該比率還取決于所使用的具體材料。因此，在包括粗糙可剝離邊界層的示例性實施例中，一種、兩種或更多種聚合物將作為連續(xù)相，而一種、兩種或更多種材料(可以是或不是聚合物)將提供分散相，該分散相具有合適的表面粗糙度以賦予表面紋理?？蛇x擇連續(xù)相的一種或多種聚合物以便使其對光學薄膜材料具有需要的附著性?？蓪⒕哂邢鄬Ω呓Y晶度的材料(如高密度聚乙烯(HDPE)或聚己酸內(nèi)酯)共混到粗糙可剝離邊界層中，以將粗糙的紋理賦予與該粗糙可剝離邊界層相鄰的光學薄膜表面中并影響附著能力。例如，HDPE可與用于改善附著能力的低結晶度聚(乙烯辛烯)(PE-P0)—起共混到低結晶度間同立構聚丙烯(sPP)中，以改善表面粗糙度。在分散相能夠結晶的情況下，可以通過在適當?shù)臄D出加工溫度、混合程度、驟冷以及通過添加成核劑(如芳族羧酸鹽(苯曱酸鈉)、二亞節(jié)基山梨醇(DBS)(如可購自Milliken&Company的Millad3988)、山梨醇二縮醛(如可購自CibaSpecialtyChemicals的Irgaclear澄清劑和購自MitsuiToatsuChemicals的NC-4澄清劑))來4吏該相結晶，從而提高一個或多個可剝離表層的粗糙度。其它成核劑包括有機磷酸鹽和其它無才幾材料，如可購自Asahi-Denka的ADKstabNA-11和NA-21磷酸酯以及可購自MUliken&Company的降冰片歸羧酸鹽HyperformHPN-68。在一些示例性實施例中，分散相包括顆粒如含無機材料的顆粒，所述顆粒可以從粗糙可剝離邊界層的表面突出，并在擠出、定向、層壓或拉伸光學體時將表面結構賦予光學薄膜。粗糙可剝離邊界層的分散相可以包括顆粒或者其它足夠大(如平均直徑為至少0.1微米)的粗糙材料，以便將表面紋理賦予光學薄膜的相鄰層的外表面中。分散相的凸起中至少相當大的一部分通常應大于照射光的波長，但是足夠小以致于肉眼無法分辨。這種顆?？梢园o機材料顆粒，如二氧化硅顆粒、滑石顆粒、苯曱酸鈉、碳酸鈣及它們的組合或任何其它合適的顆粒。作為選擇，分散相可由在合適條件下在連續(xù)相中為(或變得)基本不混溶的聚合物材料形成。分散相可由一種或者多種材料如無機材料、聚合物或二者形成，這些材料不同于連續(xù)相中的至少一種聚合物并且不混溶于其中，而分散聚合物相的結晶度通常高于連續(xù)相中一種或多種聚合物的結晶度。優(yōu)選的是，分散相與一種或多種連續(xù)相聚合物僅能機械混溶或不混溶。一種或多種分散相材料與一種或多種連續(xù)相材料可在合適的加工條件下實現(xiàn)相分離，并在連續(xù)基質(zhì)中，特別是在光學薄膜與粗糙可剝離表層之間的界面中，形成不同的相內(nèi)含物。特別適用于分散相的示例性聚合物包括苯乙烯丙烯腈、改性聚乙烯、聚碳酸酯和共聚酯共混物，e-己內(nèi)酯聚合物(如購自DowChemicalCompany的TONEP-787)、丙烯和乙烯的無規(guī)共聚物、其它聚丙烯共聚物、聚(乙烯辛烯)共聚物、抗靜電聚合物、高密度聚乙烯、中密度聚乙烯、線性低密度聚乙烯和聚曱基丙烯酸曱酯。分散相可包括任何其它合適的材料，如任何合適的結晶聚合物，而且可包括與光學薄膜中所用的一種或多種材料相同的材料。在一些示例性實施例中，一個或多個可剝離邊界層可包括至少3種材料，以便于控制可剝離層的附著力及提供更高的表面特征密度。在一些示例性實施例中，超過2個分散亞相可導致大小不同的粗糙特征或凸起或復合凸起，如"凸起上的凸起"構造，即在較大的凹面特征(凹陷)之間賦予較小的凹面特征(凹陷)，而在一些示例性實施例中，在較大的凹面特征(凹陷)內(nèi)賦予較小的凹面特征(凹陷)。這種結構可有利于在光學薄膜上形成霧度更高的表面。這些示例性實施例中使用的材料可購自如下所述的不同制造商PEN(購自3M/>司的.48IVPEN)、SAN(購自DowChemical的Tyril880)、sPP(購自Atofina,現(xiàn)為TotalPetrochemicals,Inc.的1571)、MDPE(購自Chevron-Philips的MarflexTR130)、Admer(購自MitsuiPetrochemicals,Inc.的SE810)、Xylex(購自GEPlasticsInc.的Xylex7200)、無規(guī)丙烯乙烯共聚物(購自Atofina,現(xiàn)為TotalPetrochemicals,Inc.的PP8650)、Pelestat300(購自TomenAmerica的Pelestat300)、Pelestat6321(購自TomenAmerica的Pelestat6321)、聚己內(nèi)酉旨(Tone787)、PMMA(購自Atofina,現(xiàn)為TotalPetrochemicals,Inc.的V044)、聚苯乙歸(購自DowChemicalCompany的Styron685)。材料相容性及方法可通過例如以供料塊方法共擠來制造本發(fā)明的光學體。在例如美國專利No.09/229,724、No.08/402，041、No.09/006，288和美國專利申請公開No.2001/0013668、美國專利No.6,352，761中描述了示例性的制造過程，這些文獻均以引用的方式并入本文。優(yōu)選地，光學體的材料，以及在一些示例性實施例中，第一光學層、第二光學層、任選的非光學層和可剝離邊界層的材料，被選擇為具有相似的流變學特性(如熔融粘度)，以便它們能夠共擠而不會出現(xiàn)流動不穩(wěn)定的情況?？赏ㄟ^在形成本發(fā)明的光學體時共擠一個或多個外表層來降低共擠時的剪切力效應?？梢赃x擇一個或多個外表層的材料，以便在任何加工步驟之后或之前能從光學體上移除這些層。光學體從供料塊歧管出來后可進入成形單元，如模具。作為選擇，在進入成形單元前聚合物流可分流以形成兩個或更多的流，這些流然后可通過層疊重新組合。該方法通常被稱為倍增。在例如美國專利No.5,094,788和No.5，094，793中描述了示例性的倍增器，這兩篇專利以引用的方式并入本文?？稍诠鈱W層或光學薄膜共擠期間或之后，例如在倍增之前，將可剝離邊界層添加到本發(fā)明的光學體中。在一些示例性實施例中，可在生產(chǎn)過程的不同階段添加不同的可剝離邊界層。在光學體從成形單元中排出后，可將其澆注到冷卻輥、澆注輪或澆注輥上。隨后，可將光學體拉延或拉伸來制造成品。取決于光學體中包括的光學薄膜的類型，拉延或拉伸可在一個、兩個或更多個步驟中完成。如果本發(fā)明的光學體中包括的一個或多個光學薄膜是反射偏振片，則可沿橫向(TD)單軸或基本單軸地拉伸光學體，并允許在縱向(MD)和法向(ND)上*>弛。在美國申請開No.2002/0190406、No.2002/0180107、No.2004/0099992和No.2004/0099993中描述了可用于拉延本發(fā)明的這種示例性實施例的合適方法和設備，這些文獻公開的內(nèi)容以引用的方式并入本文。以單軸或基本單軸的方式拉伸光學體本發(fā)明的方法可包括拉伸光學體，可參考對應于縱向(MD)、橫向(TD)和法向(ND)的三個相互正交的軸來描述。這些軸對應于圖4所示的光學體200的寬度(W)、長度(L)和厚度(T)。拉伸過程將光學體的區(qū)域200從初始構造240拉伸至最終構造260。縱向是薄膜經(jīng)過拉伸設備(如圖5所示的設備)行進的一般方向。橫向(TD)是薄膜平面內(nèi)的第二個軸，并與縱向(MD)正交。法向(ND)與縱向和橫向均正交，并且大致對應于聚合物薄膜的厚度方向。圖5示出本發(fā)明的拉伸設備和方法的一個實施例?？赏ㄟ^任何適當方法將光學體置于拉伸設備中。例如，光學體可制成巻或其它形式，然后將其置于拉伸設備中。又如，拉伸設備可構造成能從擠出機(例如，如果光學體是通過擠出制造并在擠出后用于拉伸)、涂布機(例如，如果光學體是通過涂敷制造，或在接收一個或多個涂層之后用于拉伸)、或?qū)訅簷C(例如，如果光學體是通過層壓制造或在接收一個或多個層壓層后用于拉伸)接收光學體。一般來講，將光學體140在區(qū)域130中提供給一個或多個夾持部件，這些夾持部件構造和布置為用來夾持光學體的相對邊緣，并沿限定預定路徑的相對軌道164傳輸光學體。夾持部件(未示出)通常在光學體的邊緣處或靠近邊緣處夾持光學體。光學體被夾持部件夾住的部分通常不適合在拉伸后使用，因此夾持部件的位置通常選擇成能夠?qū)Ρ∧ぬ峁┳阋栽试S拉伸的夾持力，同時控制拉伸過程中產(chǎn)生的廢料量。例如使鏈條沿軌道旋轉的輥162可以沿著軌道方向引導諸如夾子等夾持部件，其中夾持部件連接到鏈條上。輥連接到驅(qū)動機構上，該驅(qū)動機構可控制薄膜通過拉伸設備傳輸時的速度和方向。輥還可用來旋轉或控制帶式夾持部件的速度。再回到圖5，可選地，所述設備包括通常由爐子154或其它設備或結構圍住的預處理區(qū)132,以加熱光學體以備拉伸。預處理區(qū)可包括預熱區(qū)142、熱浸區(qū)144或兩者?？稍谥骼靺^(qū)134內(nèi)拉伸光學薄膜。通常，在主拉伸區(qū)134中，光學體被加熱或保持在溫度高于光學體聚合物的玻璃化轉變溫度的熱環(huán)境中。在主拉伸區(qū)134中，夾持部件通常沿叉開軌道行進，從而將光學體拉伸所需的量。主拉伸區(qū)和設備其它區(qū)域中的軌道可由多種結構和材料構成。在主拉伸區(qū)以外，軌道典型地為基本線性。相對的線性軌道可以是平行的，也可以布置為相互會聚或叉開。在主拉伸區(qū)中，軌道通常為叉開的。在拉伸設備的所有區(qū)域中，軌道可由一系列可任選地連接在一起的直線段或曲線段構成。作為選擇或者在特定多個區(qū)域或區(qū)域組內(nèi)，軌道可以作為單一連續(xù)構造形成。在至少一些實施例中，主拉伸區(qū)中的軌道連接到前面區(qū)域的軌道上，但是可與前面區(qū)域的軌道分開。如圖5所示，隨后的后處理區(qū)或移除區(qū)中的軌道1140、1141與主拉伸區(qū)的軌道通常是分開的。在一些實施例中，一個或多個且優(yōu)選地所有的軌道段的位置是可調(diào)節(jié)的(如可繞軸轉動)，以便可根據(jù)需要調(diào)整軌道的總體形狀。也可在各個區(qū)域中使用連續(xù)軌道。通常，光學體中由夾持部件夾持通過主拉伸區(qū)域的部分將被移除。為了在基本上整個拉伸過程中維持基本單軸拉伸(如圖5所示)，在橫向拉伸結束時，優(yōu)選地在切口點158處將快速叉開邊緣部分156從被拉伸的光學體148上切斷。可在158處進行切割，多余部分或不可用的部分156可被丟棄。從連續(xù)夾持機構釋放光學體邊緣的操作可以連續(xù)進行，但應優(yōu)選地執(zhí)行從離散夾持機構如拉幅夾釋放的操作，以便任何給定夾子下的所有材料可同時被釋放。該離散釋放機構可導致更大的應力擾動，這種擾動可被拉幅上游感覺到。為了有助于隔離取走裝置的操作，優(yōu)選的是在裝置中使用連續(xù)邊緣分離機構，如從受熱的被拉伸薄膜的中部對邊緣進行"熱"切。切口位置優(yōu)選位于足夠靠近"夾持線"的地方，如取走系統(tǒng)的夾持部件最先有效4妄觸的隔離取走點，以減少或最小化該點上游的應力擾動。如果在被取走系統(tǒng)夾持前切割薄膜，則會例如由于薄膜沿橫向"快速回縮"而導致取走操作不穩(wěn)定。因此，優(yōu)選地在夾持線處或其下游切割薄膜。切割是一個斷裂過程，因此在空間位置上通常會有微小但自然的變化。因此，優(yōu)選的是，在夾持線的稍微下游的位置進行切割，以防止在夾持線的上游出現(xiàn)任何短暫切割變形。如果從夾持線的下游較遠的位置切割薄膜，則取走點和邊界軌線之間的薄膜將繼續(xù)沿橫向拉伸。由于現(xiàn)在只有該部分的光學薄膜在拉伸，因此會相對于邊界軌線以放大的拉伸比進行拉伸，從而使進一步的應力擾動向上游傳播，例如，使不期望等級的縱向張力向上游傳播。切口優(yōu)選是可以移動且可重新定位的，以便它可隨著取走位置變化而改變，以適應可變最終橫向拉伸方向比或取走系統(tǒng)位置的調(diào)整。這類切割系統(tǒng)的優(yōu)點在于只需優(yōu)選沿縱向移動取走切口點158就可在維持拉伸外形的同時調(diào)節(jié)拉伸比。可使用多種切割技術，包括加熱刀片、熱金屬絲、激光、強IR輻射的聚焦光束或熱空氣的聚焦射流?？蛇x地，圖5所示的設備包括后處理區(qū)136。例如，光學體可在區(qū)域148中定形，并在區(qū)域150中驟冷。取走系統(tǒng)可用于將光學體從主拉伸區(qū)134中移除。在圖示的實施例中，該取走系統(tǒng)獨立于(即分離于或不直接連接至)將薄膜傳輸通過主拉伸區(qū)的軌道。取走系統(tǒng)可使用任何薄膜傳輸結構，如具有夾持部件(如相對設置的多組帶子或拉幅夾)的軌道1140和1141。在一些實施例中，可使用彼此成一定角度的軌道1140、1141實現(xiàn)橫向收縮控制。例如，取走系統(tǒng)的軌道可設置成沿緩慢會聚路徑(形成不超過約5°的角度)通過后處理區(qū)的至少一部分，從而使薄膜能夠隨著冷卻而產(chǎn)生一黃向收縮。在其它實施例中，兩個相對的4九道可以通常不超過約3。的角叉開，但是在一些實施例中該角度可以更大。這可用于增大主拉伸區(qū)中的薄膜的縱向張力，以便例如降低特性的不均勻性，如整個薄膜反射率的主軸的變化。在一些示例性實施例中，在將薄膜通過主拉伸區(qū)的軌道164傳輸時，取走系統(tǒng)的中心線相對薄膜的中心線傾斜。傾斜的取走系統(tǒng)、主拉伸區(qū)或此二者可用于提供如下薄膜該薄膜的特性的一個或多個主軸(如折射率軸或撕裂軸)相對于薄膜傾斜。在一些實施例中，可手動或利用計算機控制的驅(qū)動器或其它控制機構以機械方式或者以手動與機械相結合的方式調(diào)節(jié)取走系統(tǒng)相對于主拉伸區(qū)的角度。圖5的示例性方法還包括區(qū)域138中的移除部分。可選地，輥165可用來向前移動拉伸的薄膜152，但如果需要的話可省略該部件。也可形成另一個切口160，未用部分161可丟棄。離開取走系統(tǒng)的薄膜通常纏繞于輥上以備后用。作為選擇，在取走操作后可進行直接轉換加工。由相對的軌道定義的路徑影響薄膜在縱向、橫向和法向上的拉伸。可用一組拉伸比來描述拉伸(或拉延)轉變縱向拉伸比(MDDR)、橫向拉伸比(TDDR)和法向拉伸比(NDDR)。當參考薄膜進行確定時，特定拉伸比通常被定義為薄膜在所需方向(例如，橫向、縱向或法向)上的當前尺寸(如長度、寬度或厚度)與薄膜在同一方向上的初始尺寸(如長度、寬度或厚度)的比率。在拉伸過程中的任意給定點上，TDDR對應于邊界軌線的當前間距L與拉伸開始時邊界軌線的初始間距L。的比率。換句話講，TDDR=L/L。=入。一些可用的TDDR值包括約1.5至約7或更大。示例性的可用TDDR值包括約2、4、5和6。其它示例性的可用TDDR值在約4至約20、約4至約12、約4至約20、約4至約8以及約12至約20的范圍內(nèi)。如美國申請公開No.2002/0190406、No.2002/0180107、No.2004/0099992和No.2004/0099993中所述，假定材料密度恒定，伴隨橫向尺寸的增加，基本單軸拉伸會使得TDDR、MDDR和NDDR分別接近入、(X)—1/2和(X)—1/2。對于完全單軸定向薄膜，在整個拉伸過程中MDDR=腳R=(TDDR)-1/2。單軸特性量值的一種有用度量U可定義為—1u=MDDRTDDR1/2對于完全單軸拉伸，U在整個拉伸過程中為1。當U小于1時，拉伸狀態(tài)被看作"亞單軸"。當U大于1時，拉伸狀態(tài)被看作"超單軸"。U大于1的各個狀態(tài)代表不同程度的過松弛。這些過松弛狀態(tài)會產(chǎn)生從邊界邊緣的縱向壓縮?？筛鶕?jù)以下公式針對密度變化修正U,從而得出Uf:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula>在一些示例性實施例中，如圖5所示，薄膜受面內(nèi)拉伸(即邊界軌線和軌道共面)，但是非共面拉伸軌線也包括在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。在面內(nèi)邊界軌線中，完全單軸定向的結果是從面內(nèi)縱向中心線叉開的一對鏡像對稱的、面內(nèi)的拋物li線。只要中心點的速度沿著中心跡線在每個點從其初始速度按某一系數(shù)(系數(shù)恰好為相對邊界軌線上的相應相對點之間測得的瞬時TDDR倒數(shù)的平方根)降低，那么在整個拉伸過程中都會保持單軸拉伸。有多個因素可影響獲得單軸定向的能力，這些因素包括例如聚合物薄膜的厚度不均勻、拉伸期間聚合物薄膜的加熱不均勻、以及從設備幅下游區(qū)域施加的附加張力(如縱向張力)。然而，在許多情況下，沒有必要獲得完全的單軸定向。在本發(fā)明的一些示例性實施例中，任何U〉的值都是可用的。相反，可以限定在整個拉伸過程中或在拉伸的某一特定時段所維持的U的最小值或閾值或平均值。例如，在一些示例性實施例中，根據(jù)具體應用的需求和需要，可接受的U的最小值/閾值或平均值可以是0.2、0.5、0.7、0.75、0.8、0.85、0.9或0.95。在選定具體U值后，上述公式可提供MDDR與TDDR之間的具體關系，與其它相關考慮因素結合后便可為邊界軌線(其也包括U值接近1的拋物軌線)確定更寬的等級。至少在拉伸的最后時段表現(xiàn)出U值低于1的軌線在本文中稱為亞拋物軌線。上述軌線的等級僅僅是示例性的，不應理解為限制性的。許多軌線等級都被認為屬于本發(fā)明的范圍內(nèi)。主拉伸區(qū)可以包括兩個或更多個具有不同拉伸狀態(tài)的不同區(qū)域。例如，可在初始拉伸區(qū)選擇一條來自第一等級軌線的軌線，而在隨后的每個拉伸區(qū)選擇另一條來自相同的第一等級軌線或不同等級軌線的軌線。雖然本發(fā)明涵蓋了U的最小值大于0的所有邊界軌線，但是本發(fā)明的典型實施例包括所有基本單軸的邊界軌線，這些邊界軌線中U的最小值為約0.2，約0.5,優(yōu)選地為約0.7，更優(yōu)選地為約0.75，更優(yōu)選地為約0.8，甚至更優(yōu)選地為約0.85。在拉伸的最后時段可施加由臨界TDDR限定的U最小值約束，臨界TDDR優(yōu)選為約2.5,更優(yōu)選為約2.0,更優(yōu)選為約1.5。在一些實施例中，臨界TDDR可為4、5或更大。大于臨界TDDR時，某些材料如由可定向的雙折射聚酯構成的某些整體多層薄膜，由于例如結構變化(如應變誘導結晶)可開始失去彈性或快速回縮的能力。作為可接受的基本單軸應用的例子，當橫向為主單軸拉伸方向時，反射偏振片的斜角特性會受到縱向和法向折射率之間的差值的巨大影響。在一些應用中，縱向和法向具有0.08的折射率差值是可以接受的。在另一些應用中，0.04的差值是可以接受的。在更嚴格的應用中，0.02或更小的差值是優(yōu)選的。例如，在許多情況下，在包含聚萘二曱酸乙二醇酯(PEN)或PEN的共聚物的聚酯體系中，0.85的單軸特性量值足以使單軸橫向拉伸的薄膜在633nm下的縱向和法向之間的折射率差值為0.02或更小。對于一些聚酯體系，如聚對苯二曱酸乙二醇酯(PET),由于在非基本單軸拉伸薄膜中的固有折射率差值較小，因此較小的U值(0.80或甚至0.75)可能是可接受的。對于亞單軸拉伸，真正單軸特性的最終量值可用于根據(jù)以下公式估算y方向(縱向)與z方向(法向)之間折射率的匹配程度Anyz=Anyz(U=0)x(1-U)其中Anyz是對于某一U值在縱向(即y方向)和法向(即z方向)之間的折射率差值，而Anyz(U=0)則是除了MDDR在整個拉伸過程中保持為l之外同樣拉伸的薄膜中的該折射率差值。已發(fā)現(xiàn)此關系式可對用于多種光學薄膜中的聚酯體系(包括PEN、PET和PEN或PET的共聚物)進行合理的預測。在這些聚酯體系中，Anyz(U-0)通常為差值Anxy(U=0)的約二分之一或更多，Anxy(U=0)是兩個面內(nèi)方向即縱向(y軸)和橫向(x軸)之間的折射率差值。在633nm下，Anxy(U=0)的典型值最高為約0.26。在633nm下，Anyz(U=0)的典型值最高為約0.15。例如，90/10coPEN(即包含約90%的類PEN重復單元和10%的類PET重復單元的共聚酯)在633nm下在高延展狀態(tài)下具有約0.14的典型值。根據(jù)本發(fā)明中的方法已制造出包含此90/10coPEN的薄膜，在633nm下，根據(jù)實際薄膜拉伸比測出的U值為0.75、0.88和0.97，其相應的Anyz值為0.02、0.01和0.003。當在拉伸時段末尾U為亞單軸時，可使用其它多種邊界軌線。具體地講，可用的邊界軌線包括如下共面軌線，其中當TDDR達到2.5后，拉伸的最終時段的TDDR為至少5，U為至少0.7，并且在拉伸結束時，U小于1。其它可用的軌線包括如下共面和非共面軌線，其中當TDDR達到2.5后，拉伸的最終時^a的TDDR為至少7，U為至少0.7,并且在拉伸結束時，U小于1?？捎玫能壘€還包括如下共面和非共面軌線，其中當TDDR達到2.5后，^立伸的最終時段的TDDR為至少6.5，U為至少0.8,并且在拉伸結束時，U小于1。可用的軌線還包括如下共面和非共面軌線，其中當TDDR達到2.5后，拉伸的最終時^殳的TDDR為至少6，U為至少0.9，并且在拉伸結束時，U小于1?？捎玫能壘€還包括如下共面和非共面軌線，其中當TDDR達到2.5后，拉伸的最終時段的TDDR為至少7,U為至少0.85。一般來講，可使用多種方法來形成和加工本發(fā)明的光學體，這些方法包括擠出共混、共擠、薄膜澆注和驟冷、層壓和定向，如單軸和雙軸(平衡或不平衡)拉伸。如上所述，光學體可具有多種構造，因此根據(jù)最終光學體的構造和所需特性而采用不同的方法。因此，本發(fā)明提供了包括可剝離邊界層的光學體以及這種光學體的制造方法，因為可同時拉伸至少兩倍的產(chǎn)品，所述方法可顯著提高生產(chǎn)能力并降低勞動成本。因為每個轉換加工后的部件可生成薄膜產(chǎn)品的至少兩個部分，還可降低轉換加工成本。所得的光學體在運輸和搬運過程中可以保持完好，直到消費者準備使用薄膜。這使得光學薄膜的一個或多個表面得到相鄰邊界層的保護。雖然已經(jīng)結合本文中所具體描述的示例性實施例對本發(fā)明進行了說明，但是本領域的技術人員應該認識到，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，可進行形式上和細節(jié)上的修改。權利要求1.一種光學體，包括第一光學薄膜；第二光學薄膜；以及一個或多個可剝離邊界層，其設置在所述第一和第二光學薄膜之間，從而使得可剝離邊界層的每個主表面設置為與光學薄膜或另一個可剝離邊界層相鄰，其中所述第一和第二光學薄膜中的至少一個包括反射偏振片。2.根據(jù)權利要求l所述的光學體，其中，所述反射偏振片是包括分散聚合物相和連續(xù)聚合物相的漫反射偏振片。3.根據(jù)權利要求2所述的光學體，其中，所述反射偏振片的厚度不超過l密耳。4.根據(jù)權利要求2所述的光學體，其中，所述分散聚合物相和所述連續(xù)聚合物相中至少之一具有至少O.l的面內(nèi)雙折射率。5.根據(jù)權利要求l所述的光學體，還包括第三光學薄膜；以及至少一個附加可剝離邊界層，其設置于所述第三光學薄膜與所述第二光學薄膜之間。6.根據(jù)權利要求l所述的光學體，其中，所述反射偏振片是包括多個第一和第二光學層的多層反射偏振片。7.根據(jù)權利要求6所述的光學體，其中，所述反射偏振片具有不超過275個光學層。8.根據(jù)權利要求6所述的光學體，其中，所述第一和第二光學層中至少之一具有至少0.1的面內(nèi)雙折射率。9.根據(jù)權利要求l所述的光學體，其中，所述可剝離邊界層包括下述材料中至少之一含氟聚合物、聚丙烯、改性聚丙烯、脂肪族聚烯烴、聚乙烯、聚乙烯共聚物、聚曱基戊烯、環(huán)烯烴共聚物、間同立構聚合物、無規(guī)立構乙烯基芳族聚合物、聚苯乙烯以及苯乙烯的共聚物。10.根據(jù)權利要求l所述的光學體，還包括至少一個外表層。11.一種加工光學體的方法，包括提供光學體，所述光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及設置在所述第一和第二光學薄膜之間的至少一個可剝離邊界層；將所述光學體傳輸?shù)嚼靺^(qū)內(nèi)；拉伸所述光學體以增大所述光學體的橫向尺寸，同時在縱向上將所述光學體的相對邊緣沿基本上叉開的路徑傳輸，其中，所述基本上叉開的路徑構造和布置成能夠提供在拉伸期間近似滿足以下關系式的縱向拉伸比(MDDR)、法向4立伸比(NDDR)和4黃向拉伸比(TDDR):M腿=騰R=(T腿)-1/2。12.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，所述叉開路徑基本上為拋物線形。13.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，所述叉開路徑為基本拋物線形路徑的線性近似。14.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，所述叉開路徑是共面的。15.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，在拉伸的光學體中，所述第一和第二光學薄膜中至少之一包括反射偏振片。16.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，拉伸所述薄膜的步驟包括將所述光學體拉伸至超過4的拉伸比。心軸線對稱的17.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，i、/上匕己、丄*#nit/厶ih_7TBkA丄'、rr丄，V-cl、丄'、1,Ay丄*扭伸所迷溥|吳的步驟包4舌沿基本上關于所迷光學體叉開路徑移動所述相對邊緣部分。18.根據(jù)權利要求ll所述的方法，還包括將光學體從薄膜巻以連續(xù)方式提供給拉伸器。19.根據(jù)權利要求ll所述的方法，還包括共擠所述光學體，該操作與所述拉伸操作順序進行c20.根據(jù)權利要求19所述的方法，其中，共擠所述光學體包括倍增，并且在倍增之前添加至少一個邊界層。21.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，拉伸的薄膜包括至少一種如下材料其在與縱向?qū)拈L度方向以及厚度方向上的折射率基本上相同，但是與寬度方向上的折射率基本上不同。22.根據(jù)權利要求ll所述的方法，其中，單軸特征量值U的最小值為至少O.7,U定義為<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>23.—種加工光學體的方法，所述方法包括提供光學體，所述光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及設置在所述第一和第二光學薄膜之間的至少一個可剝離邊界層；將所述光學體在拉伸器中沿縱向傳輸，同時保持所述光學體的相對邊纟彖部分；以及通過沿叉開的非線性路徑移動所述相對邊緣部分將所述光學體在所述拉伸器內(nèi)拉伸至超過4的拉伸比，其中，在拉伸期間，在TDDR達到2.5后，單軸特性量值U的最小值在拉伸的最終時段為至少0.7，并且在拉伸結束時U小于1,其中U定義為<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>其中MDDR是縱向拉伸比，TDDR是在叉開路徑之間所測的橫向拉伸比。24.根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，所述單軸特征量值的最小值為至少O.8。25.根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，在TDDR達到2.0后，所述單軸特性量值U的最小值在拉伸的最終時段為至少0.8。26.根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，所述第一和第二光學薄膜中至少之一包括多層薄膜，所述多層薄膜具有多個不同聚合組合物的交替層。27.—種加工光學體的方法，所述方法包括提供光學體，所述光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及設置在所述第一和第二光學薄膜之間的至少一個可剝離邊界層；將所述光學體在拉伸器中沿縱向傳輸，同時保持所述光學體的相對邊》彖部分；以及通過沿叉開的非線性路徑移動所述相對邊緣部分，在所述拉伸器內(nèi)拉伸所述光學體，其中，在拉伸所述光學體期間，所述薄膜的縱向速度以大約X1/2的系數(shù)降低，其中X為橫向拉伸比。28.根據(jù)權利要求27所述的方法，其中，所述第一和第二光學薄膜中至少之一包括多層薄膜，所述多層薄膜具有多個不同聚合組合物的交替層。全文摘要本發(fā)明涉及光學體，該光學體包括第一光學薄膜、第二光學薄膜以及設置在第一和第二光學薄膜之間的一個或多個可剝離邊界層?？蓜冸x邊界層的每個主表面可設置為與光學薄膜或另一個可剝離邊界層相鄰。第一和第二光學薄膜中的至少一個可包括反射偏振片。本發(fā)明還涉及加工此類光學體的方法。文檔編號G02B5/30GK101180560SQ200680017735公開日2008年5月14日申請日期2006年4月5日優(yōu)先權日2005年4月6日發(fā)明者克里斯托弗·J·德克斯,卡爾·A·斯托弗,杰弗里·N·杰克遜,蒂莫西·J·埃布林克,馬丁·E·登克爾申請人:3M創(chuàng)新有限公司