專利名稱：動態(tài)運動體介質的制作方法
技術領域：
0001本發(fā)明的實施方式一般涉及光調制裝置，特別地，涉及按
衍射和/或干涉原理運行并可被分類為透射或反射裝置的光調制裝置。
背景技術：
0002美國專利第6,392， 785號中所示電泳裝置屬于微膠囊位移 型以及旋轉或重新定向型的類別。在前者中，充滿透明微殼流體內包含 的帶電亞微粒子可在電場的影響下物理移位。根據流體的顏色和顆粒的 顏色，觀看包含一排稠密微殼的薄片的觀察者可以看到從暗態(tài)到亮態(tài)的 亮度的變化。在后者中，顯微球上的永久雙極電荷可在所施場的電場下 旋轉。如果粒子一側為黑，另一側為白，該裝置的外觀也隨所施電壓變 化。
0003在這兩種情形中，顆粒的大小，所要求位移的長度，以及 支撐流體介質的粘度都對驅動裝置要求的相對高的電壓(約30V—100V) 有貢獻。此外，將顏色引入到得到的介質成本高，因為這通常要求添加 高價格彩色膜。由于前述原因，速度也是一個問題。
0004基于"液體粉末"的另一個類似的方法提供類似的操作模 式。類似于位移式電泳方法，該裝置依靠在兩個透明電極之間物理置換 的相反亮度的相反充電的粒子。結果是亮度的改變。該變化在高速時發(fā) 生，因為沒有液體介質，顆粒移動通過空氣，可實現100微秒的響應時 間。由于電極之間所要求的大尺寸導致的80V — 150V的高電壓和高成本 的顏色都限制該裝置的能力。
0005美國專利第6,215，920號描述了一種光學調制器，其基本光
學原理是總內反射。三直角錐反射器通過利用三直角錐反射器壁處的總 內反射(TIR)將入射光反射回光源。與壁體接觸的顆粒可破壞或減弱TIR，
因此顯著減小反射率和該結構的總反射。該方法雖然提供了非常高的固
5有反射率，但不包括顏色選擇裝置。該設計由于驅動電極定位之間的平 衡而進一步被復雜化，該平衡要么減小反射率(如果位于壁體上)要么 增加電壓(如果位于三直角錐反射器的入射面上)。

發(fā)明內容
0006按照本發(fā)明的一個方面，提供了用于調制光的裝置，其包
括調制光的固定幾何形狀部件，所述部件提供至少一個共形表面或保
角表面(conformal surface);和可移位從而與共形表面一致的多個運 動體(motile)，當這些運動體與共形表面一致時固定幾何形狀部件對入 射光的光學響應與當這些運動體與共形表面不一致時固定幾何形狀部件 對入射光的光學響應不同。
0007按照本發(fā)明的另一個方面，提供了用于調制光的裝置，其 包括限定空腔的壁狀結構的光調制部件，所述壁狀結構具有上壁體和 下壁體，上壁體和下壁體之間的間隔是固定的；位于光調制部件內的多 個可移動顆粒，和使這些可移動顆粒從非激活狀態(tài)移動到激活狀態(tài)的位 移機構，其中這些可移動顆粒與上壁體及下壁體中至少一個一致，當這 些可移動顆粒處于激活狀態(tài)時光調制部件對入射光的光學響應與當這些 可移動顆粒處于非激活狀態(tài)時光調制部件對入射光的光學響應不同。
0008按照本發(fā)明的另一個實施例，提供了調制光的裝置，其包 括多個納米級顆?；蚣{米級顆粒；限定這些納米級顆粒在位移力影響 下符合的表面的共形結構；和施加位移力給納米級顆粒的位移機構；其 中當所述納米級顆粒符合共形結構時，納米級顆粒改變共形結構的光學 特性。
0009本發(fā)明的其他方面通過下面的詳細說明是顯然的。


0010圖l顯示說明位移型電泳調制器的現有技術的例子。0011圖2顯示說明基于TIR的具有可移動顆粒的調制器的現有 技術的例子。
0012圖3顯示說明基于衍射的調制器的現有技術的一個例子。
0013圖4示出按照本發(fā)明實施例的基于運動體的空腔，其利用衍射。
0014圖5示出按照本發(fā)明實施例的基于運動體的多功能空腔， 其利用反射。
0015圖6示出按照本發(fā)明實施例的基于運動體的光子晶體調制器。
0016圖7示出基于干涉的空腔的光學行為。
0017圖8示出按照本發(fā)明實施例的基于運動體的空腔，其利用干涉。
0018圖9示出按照本發(fā)明實施例的基于運動體的多色空腔，其 利用干涉。
0019圖10示出按照本發(fā)明實施例的制造序列的一個實施例。
具體實施例方式
0020在下面的說明中，為了解釋的目的，給出多種具體細節(jié)以 便提供對本發(fā)明的透徹理解。然而，對本領域技術人員來說顯然，本發(fā) 明可無需這些具體細節(jié)實施。在其他情形中， 一些結構和裝置在方框圖 中示出僅是為了避免模糊本發(fā)明。
0021本說明書中"一個實施例"或"實施例"意味著結合該實 施例描述的特定的特征特征，結構或特性包括在本發(fā)明至少一個實施例 中。本說明書多處出現的"在一個實施例中"無需都指同一實施例，也 可不指獨立的或可與其他實施例互換的實施例。而且，描述的多種特征 部件可由某些而非其他實施例展示。類似地，描述的多種要求可以是某 些而非其他實施例的要求。
0022參考圖l，其示出電泳調制器的一個變體。電壓源10施加 電場至電極ll和12。該電場作用于荷電的顆粒組或基團14和15，顆粒 組14和15分別荷正電荷負電，且包含在透明微殼13中，該顆粒組懸置 在微殼13中的流體中。根據流體的光學透射率和顆粒的顏色，觀察者16 將看到取決于所施加電壓的不同顏色。例如，如果流體是透明的，且荷 負電顆粒是黑色，同時荷正電顆粒是白色，則微殼在所示狀態(tài)顯黑色。0023參考圖2，三直角錐反射器以從壁體29反射的光25和從壁 體離開懸掛的顆粒21示出。對于顆粒21，經施加電壓24它們與壁體23 接觸。TIR消失，且光26不被反射。
0024參考圖3，其示出通稱為光柵光閥的結構。光閥300是以未 驅動的狀態(tài)示出的，其中光柵指306懸置在反射基底302的上方。這些 光柵指306是反射性的。光柵指306和反射基底302之間的間隔308使 光柵用作入射光310的反射鏡，產生損失最小的反射光312。施加在反射 基底302和交替光柵指306之間的電壓使一半光柵指被牽引到與反射基 底302接觸的狀態(tài)。光閥320示出得到的配置，其用作反射衍射光柵， 示出以根據顏色變換的角度反射的散射316。
0025參考圖4，其示出衍射模式運動體調制器。類似于圖3中的 光閥，通過施加電壓可實現相似的光學行為，但沒有圖案化和控制光柵 指特性的復雜性。透明導體402具有類似于光柵指306的尺寸，但是透 明的。因此透明導體402在當施加電壓406時對入射光沒有影響。當電 壓404施加在透明電極402和反射電極410之間時，運動體404遷移， 對齊并吸附到電極402，從而按照光柵尺寸以衍射方式形成作用于入射光 408的光柵。
0026參考圖5，其示出基于更概括化的運動體(motile)的調制 器。按照本發(fā)明的實施例，如果材料和材料表面的光學特性可通過可移 動材料的位移或運動體場改變，則任意兩維或三維模板，空腔，或周期 結構可具有動態(tài)光學行為。在本發(fā)明的一個實施例中，具有物理形式或 可用微觀或亞微觀模型精確定義的任意光學中性的結構用作固定的幾何 形狀部件或模板，其為運動體顆粒提供共形表面(conformal surface)。 因此施加電壓產生模板形式的運動體殼。運動體殼是按照模板幾何形狀 和運動體介質的光學特性以及材料特性對光作用的臨時結構?？赡艿难b 置包括可配置的光子晶體，可再配置反射性，折射性，衍射性光學裝置， 和可再配置的亞波長結構。圖5中調制器包括拋物線部件508，和楔形部 件510。借助所施加的電壓，入射光通過這些部件而不會有影響。合適的 位移機構使運動體場遷移并符合這些光學部件的表面或與這些光學部件 的表面一致，因此改變它們的光學特性。該位移機構可采用靜電，磁，熱，或聲學位移機構的形式。在靜電位移機構的情形中，可施加電壓504 從而引起運動體或運動物的遷移。運動體的遷移使得部件508變?yōu)閽佄?線反射鏡，且部件510變?yōu)樾ㄐ畏瓷溏R，每個都以適當方式作用于入射 光。
0027參考圖6，其示出另一個基于運動體的調制器，其包括可以 通過批量復制技術，如壓印(embossing),微壓印，沖壓，電鑄，熱成 型，印刷，和注塑成型形成的形成物(form)和結構(structure)600。 這些形成物和結構600自身可以是亞微米尺寸的。借助適當的設計，這 些形成物和結構600能夠以干涉和/或衍射方式作用于光，這與光子晶體 的不同。在所施加的電壓600下通過合適運動體的靜電位移對形成物和 結構600的特性的改變可以以有利方式改變形成物和結構600的光學行 為，因此允許對入射到該結構上的光602的改向和/或更改。可形成任意 類似于結構600的結構從而改變頻率、相位、振幅和入射光的出射角中 的一個或一個以上參數，且按照上述技術如果材料和尺寸特性適當定義， 其還可以被再配置。膜或形成物可以是任何形狀或形態(tài)，只要其與相對 膜(counter —film)之間的尺寸可定義并保持。這包括平整的，彎曲的， 圓柱形的，或纖維狀的，和球形的。許多其他配置也是可能的，且僅由 定義模具和產生并包括合適的運動體材料的能力來限制。
0028基于以上所述，本發(fā)明的實施例包括從靜止或非激活狀態(tài) 到激活狀態(tài)移動運動體，其中這些運動體符合由一種上述結構提供的共 形表面，所述結構用作模板。位移是通過包括靜電位移機構的位移機構 實現的。在一個實施例中，運動體在非激活狀態(tài)下是隨機取向的。在一 個實施例中，只要這些運動體開始在位移機構作用下移動，使用這些運 動體的調制器的光學特性就開始改變。
0029參考圖7，其示出干涉空腔的三種工作模式?？涨?00被示 意地示為部件組，其包括透明基底702，吸收半透明膜(如損耗金屬)704， 和絕緣體/間隔器(如金屬氧化物)706，氣隙708，和可移動反射鏡(也 就是金屬)710。入射到空腔上的光714產生駐波712，其峰值位于氣隙 708內且因此不衰減。特殊頻率的光被反射，其中頻率由氣隙的大小決定。 膜704含諸如金屬的材料，金屬是高度吸收的。當可移動反射鏡710與絕緣體/間隔器接觸時，如調制器720所示，駐波722的峰值偏移。絕緣 體/間隔器的適當設計使峰值駐留于感生吸收器726，導致衰減，并消除 反射光。
0030在空腔730中，絕緣體/間隔器718被放大，以便當可移動 反射鏡742接觸時，如空腔740所示，駐波峰值不位于損耗金屬內。因 此，無需從反射模式切換到吸收模式，空腔在反射一種顏色，和反射另 一種顏色之間切換。
0031所示空腔760沒有絕緣體/間隔器。在未驅動狀態(tài)，選擇空 腔的尺寸以便駐波峰762位于高耗損金屬764內。因此不反射光。當可 移動反射鏡722與感生吸收器774接觸時，如空腔770所示，空腔用作 反射鏡。因此，多數光被反射且損耗最小。
0032運動體調制器在圖8中示出。其示出類似于圖7中所示的 空腔結構。在調制器對800中，電壓802和804施加在電極814/818和 損耗金屬810之間。這些部件被圖案化并沉積在膜806和808上。膜之 間的間隔使得入射到空腔上的光經干涉作用。空腔可含有機或無機成分 的流體，類似成分的凝膠，或可由氣體或真空構成。運動體(motile) 814和816是納米級結構的集合，它們的幾何形狀范圍從三維顆粒到平面 二維和板狀。對于涉及可見光范圍內光的干涉應用中，顆粒如運動體， 它們的尺寸應小于100nm，較小的尺寸減小散射作用。對于兩維運動體， 厚度較不重要，但表面粗糙度必須小于100 nm。運動體可以是導電的， 半導電的，或絕緣的。這些運動體可以攜帶固定的電荷，或可以獲得電 荷。因為運動體從任意環(huán)繞結構和壁體上機械地去耦，它們在所施加的 電場作用下自由移動，雖然包括磁性的，熱的，或聲學的致動裝置的其 他機構也是可能的。因此，空腔的光學特性可以通過定位運動體而控制。
0033在圖8所述的情形中，運動體是金屬的，優(yōu)選是高反射性 金屬，如鋁或銀。借助所施加的電壓802，如果空腔尺寸相當，則可實現 如圖7中空腔700所示的光學作用。類似地施加電壓804，可仿效圖7中 空腔所示的光學作用。運動體調制器820和840經配置來分別仿效空腔 730/740和760/770的行為。調制器820包括較厚的間隔器822，以便相 關的駐波總保持不衰減。調制器840不含間隔器，且空腔尺寸適于在施加電壓842時實現暗態(tài)，在施加電壓844時實現白態(tài)?？涨唤Y構是相同 的，但被移動的是運動體場，而不是可移動反射鏡。
0034在這樣的空腔中，運動體的行為受它們的成分影響。對于 金屬運動體，在它們運動到與相反電極接觸之前會受到吸引力，從而相 反電極使運動體帶上該電極的極性并不再被拉動。絕緣運動體也有類似 的現象，雖然由于它們是絕緣的，因此它們帶上相反極性的電荷的過程 需要時間更長。因此，選擇不同導電率的顆粒提供了操縱運動體電動行 為并因此操縱調制器的動態(tài)光學行為的方法。類似地，對于具有固有電 荷的運動體，荷電水平對結構的行為有影響。在某些情形中，結合合適 材料的運動體施加一定的電壓或電壓序列，可以動態(tài)地操縱運動體內的 電荷。這增加了操縱行為的另一種方法。 一種或以種以上這些技術的組 合可使得能夠實現電一流滯后(electro-fluidic hysteresis)。允許電 壓開關閾值的建立并促進用一次一行(line-at-a-time)技術尋址，該 技術對于設計和利用被配置作為可尋址陣列的裝置是公知的。
0035參考圖9，三種顏色運動體調制器像素是以三種不同的空腔 間隙902， 904，和906示出的。根據應用對顏色的要求，具有一個空腔 或三個以上空腔的像素是可能的。膜材料900可以是任意數目的材料， 其易于用壓印，沖壓，微復制形成。這些材料包括塑料，如聚碳酸酯， PMMA，聚酰亞胺，或熱塑性塑料。也可以使用金屬箔，雖然它們可能要 求特殊表面處理以便特征部件絕緣。對于沖壓或壓印，合適的模具用精 細加工工具定義，從而限定空腔的深度和電極井或通道的橫向尺寸。然 后，可使用許多本領域公知的沖壓或壓印工藝中的一種。要特別強調補 償固化過程中的收縮，以便實現適當的垂直空腔尺寸。
0036如果膜900是導電的，如是箔片的情形，可不要求公共電 極908。相對膜910是平整的，且支撐其他部件，如尋址電極912，對于 干涉模式裝置可包括損耗金屬和可能的絕緣體間隔器(或用于衍射，反 射或光子晶體行為的其它的結構)。相對膜910應是透明材料，如前面提 到的塑料或玻璃?？商鎿Q地，膜906可以是透明的，而相對膜不是透明 的，或兩個膜都是透明的。在所有情形中，至少一個膜必須是透明的， 且該膜必須是支持光學活性薄膜(即，損耗金屬和/或絕緣體)的膜。
ii0037相對膜910的暴露表面也可以具有刻蝕或沖壓的圖案從而 增強其光學特性。這些可以是散射體，透鏡，或光柵等結構。諸如觀察 角，對比度或反差，和入射性(irridesence)等特性可以通過適當的處 理進行改變。相對膜910的內表面也可包括以圖5中所示結構508和510 形式的拓撲形狀。進一步，當運動體被驅動并符合相對膜910的結構特 征時，可實現對光學性能的改變或改性。
0038從制造的觀點看，基于動態(tài)運動體調制介質是有利的，因 為它們可實現電泳型介質結構制造的簡單性和降低成本。這部分源于它 們易于結合可利用的批量制造的納米粉末狀運動體，通過借助固定的空 腔結構，這些空腔結構的尺寸可用成本有效的沖壓，壓印，或微復制技 術等等進行限定。
0039納米粉末可從越來越多廣大的制造商得到，包括康涅狄格 州Farmington的Inframet Advanced Material公司，禾口密蘇里St. Louis 的Sigma-Rldrich公司。后者的一個標準產品是銀納米粉末，其顆粒直 徑為70納米量級。
0040參考圖10，其示出一個實施例的制造順序。在步驟1，顆 粒材料的納米粉末是根據所需光學，物理，和尺寸特性選擇的。在步驟2， 該納米粉末與液體聚合物溶質(solute)混合，該液體聚合物溶質可以 是光可限定的或光不可限定的。在一個實施例中，溶質成分是有機的。 混合物的比率是由得到的裝置中每單位容積所需的納米粉末量確定的。 在步驟3，得到的混合物施加到經壓印的膜，例如通過印刷。然后，用固 化工藝驅除大量溶劑。步驟4依賴于任一已知的將有機材料轉化為氣體 副產品的低溫技術。這樣的低溫技術包括氧化等離子體刻蝕和UV臭氧清 洗等等。這些技術允許得到的運動體聚集從而駐留在它們被"印刷"的 位置，而不會產生利用濕法溶解工藝導致的再定位。步驟5說明具有相 對膜的膜包封，相對膜被處理或加工供所需的應用。
0041噴墨或其他印刷技術也可用來有效地沉積和圖案化運動體 聚集體或團粒。這些可懸置在溶劑中并鄉(xiāng)墨一樣地被印刷在膜上的所需 位置?？商鎿Q地，相關技術也涉及通過印刷，噴墨或其他方法布置運動 體聚集體。在一個實施例中，光敏預聚物和納米粉末的混合物可印刷在
12所選位置。該混合物的適當組成或成份并隨后暴露至UV源可導致光增強 分層。結果是運動體聚集體懸置在聚合膠囊中。該技術在下面的文章中
被描述為應用到LC材料"Injet Printed LCDs" J. P. A. Vogels， et al， Proceedings of the llLh International Display Workshops, Niigatta， Japan, 2004。
0042電極，反射鏡，和間隔器可用傳統(tǒng)沉積技術(如濺射或電 鍍)和圖案化技術(如微光刻和印刷技術)容易地沉積和圖案化。同時， 可以避免制造MEMS結構的某些挑戰(zhàn)或難題。這些挑戰(zhàn)包括在可移動部件 中的應力控制，用高度一致沉積的犧牲材料進行的尺寸控制，和與結合 這些和其他步驟關聯的工藝問題。與MEMS裝置相比，對絕緣材料的性能
要求包括完整性，連續(xù)性，擊穿電壓和漏電流都可以放松。這是因為這 些運動體不是連續(xù)電耦合的。因此，可移動和永久耦合的部件和空腔結
構之間短路的問題(如在常規(guī)的MEMS方法中的問題)得以避免。
0043這樣的調制器可以大陣列在塑料或其他材料的柔性片上制 造。然后該片可施加或實質固定到任何表面上，由此，其可用于電改變 該表面的外觀，或動態(tài)兩維介質形式的描繪信息。根據材料，該膜也是 柔性的，且因此適用于膜或"動態(tài)反射運動體介質"可應用的彎曲或任 意表面處，其應用它們的過程中可以是彎曲的或不是彎曲的。
0044應用包括所有種類的視覺上可察覺的介質，其范圍包括罐 (頭)，瓶子，和其他消費類商品上的標簽。傳遞任何種類圖形化的、文 本的、或視覺傳輸的印記、概念、畫面或信息的用于產品、商品、部件 和其包裹上的包裝。由織物或其他柔性材料制造的衣物或商品。具有用 于裝飾性的、信息性的功能或混合功能之一的任何產品如產品外套和 外殼、壁體、家具、珠寶、沖浪板、滑雪板。被使用者和/或其他人看到 的電子產品外套或其部分。車輛，如摩托車、卡車、汽車。建筑物內壁/ 外壁和其他永久或本永久的結構。
0045設計來操縱光和其他電磁輻射的光子材料是可能的。反射 與頻率間隔中的行為可再配置的頻率敏感反射鏡，用在大樓中能量有效 的玻璃的涂層，或反差和亮度受控的太陽鏡是可能的。
0046從小到大的動態(tài)介質范圍從時鐘，書籍和雜質，TV大小的到亭子，布告板，和除此之外的等等。外觀被視為重要特征的任何類型 的任意部件或產品，或消費商品的表面可以用運動體介質膜進行處理或 涂敷，且以受控的方式改變護修飾其外觀。
0047雖然參考特定示例性實施例對本發(fā)明進行了描述，顯然可 對這些實施例做出多種修改和變化，而這不偏離在權利要求中給出的本 發(fā)明較寬范圍。因此，說明書和附圖被當作說明性的而非限制性的。
權利要求
1.一種用于調制光的裝置，其包括固定幾何形狀部件，其調制光，所述部件提供至少一個共形表面；以及多個運動體，這些運動體可位移從而符合共形表面，當所述運動體符合所述共形表面時所述固定幾何形狀部件對入射光的光學響應與當所述運動體不符合所述共形表面時所述固定幾何形狀部件對入射光的光學響應不同。
2. 如權利要求l所述的裝置，其中所述共形表面是平面。
3. 如權利要求2所述的裝置，其中所述共形表面由分離的平面元件 提供，這些元件是線性間隔開的。
4. 如權利要求3所述的裝置，其中當所述運動體符合由所述分離的 平面元件提供的所述共形表面時，所述裝置用作衍射光柵。
5. 如權利要求1所述的裝置，其中所述共形表面是三維的。
6. 如權利要求5所述的裝置，其中所述共形表面由分離的桿狀元件 提供。
7. 如權利要求6所述的裝置，其中由所述分離的桿狀元件提供的所 述共形表面與所述運動體結合對入射光產生衍射和干涉效果。
8. 如權利要求l所述的裝置，其中所述固定幾何形狀部件包括限定 空腔的壁體結構，其中該結構的壁體之一形成所述共形表面。
9. 如權利要求8所述的裝置，包括以線性構型設置的三個所述壁體結構，每個都有不同大小并在所述運動體符合所述共形表面時對入射光 產生不同的光學響應。
10. 如權利要求1所述的裝置，其中所述固定幾何形狀部件是用批量復制技術制造的。
11. 如權利要求IO所述的裝置，其中所述批量復制技術選自壓印， 微壓印，沖壓，電鑄，熱成型，印刷，和注塑成型。
12. 如權利要求13所述的裝置，其中所述位移機構施加靜電力來使所述運動體移位。
13. 如權利要求1所述的裝置，進一步包括位移機構，其向所述共形 表面位移運動體。
14. 如權利要求13所述的裝置，其中位移機構選自磁性、熱、聲學位移機構。
15. —種調制光的裝置，其包括壁體結構形式的光調制部件，其限定空腔，所述壁體結構具有上壁 體和下壁體，和被固定的上壁體和下壁體之間的間隔；多個可移動顆粒，所述多個可移動顆粒位于所述光調制部件內；和位移機構，其使所述可移動顆粒從非激活狀態(tài)移動到激活狀態(tài)，其 中所述可移動顆粒符合上壁體和下壁體至少之一，當所述可移動顆粒處 于所述非激活狀態(tài)時所述光調制部件對入射光的光學響應與當所述可移 動顆粒處于所述激活狀態(tài)時所述光調制部件對入射光的光學響應不同。
16. 如權利要求15所述的裝置，包括三個所述光調制部件，其以線 性配置設置，其中每個光調制部件在所述上壁體和所述下壁體之間具有 不同間隔。
17. 如權利要求15所述的裝置，其中所述光調制顆粒包括納米級顆粒。
18. 如權利要求17所述的裝置，其中所述位移機構施加靜電力至可移動顆粒從而使其產生位移。
19. 一種調制光的裝置，其包括-多個納米級顆粒；共形結構，其限定在位移力作用下納米級顆粒符合的表面；以及 位移機構，其施加位移力至所述納米級顆粒；其中所述納米級顆粒 在符合共形結構時改變所述共形結構的光學特性。
20. 如權利要求19所述的裝置，其中所述共形結構是通過復制技術 制造的。
21. 如權利要求20所述的裝置，其中所述批量復制技術選自壓印， 微壓印，沖壓，電鑄，熱成型，印刷和注塑成型。
全文摘要
在一個實施例中，本發(fā)明提供了一種調制光的裝置。該裝置包括固定幾何形狀部件從而調制光，所述部件提供至少一個共形表面，以及可移位從而符合共形表面的多個運動體，當運動體符合共形表面時固定幾何形狀部件對入射光的光學響應與當運動體不符合共形表面時固定幾何形狀部件對入射光的光學響應不同。
文檔編號G02B26/00GK101495899SQ200680017574
公開日2009年7月29日 申請日期2006年3月28日 優(yōu)先權日2005年3月31日
發(fā)明者馬克·邁爾斯 申請人:馬克邁爾斯咨詢有限公司