專利名稱：用于曝光基板的曝光裝置以及曝光面板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光裝置，特別是涉及一種液晶面板制作工藝中的曝光裝置，其中光線可對(duì)于面板進(jìn)行雙面照射。
背景技術(shù)：
如圖1所示，在液晶面板的制作過程中，一面板10’放置于一現(xiàn)有承載機(jī)構(gòu)20’上?，F(xiàn)有承載機(jī)構(gòu)20’為不透光的材質(zhì)，例如鋁，所制成。面板10’是由二基板11’、12’與框膠(sealant)13’所組成，其中，基板11’可為彩色濾光片基板(Color Filter)，基板12’可為薄膜晶體管基板(TFT)。面板的組裝方式有兩種，一是先將上下基板11’、12’以框膠13’接合，框膠13’必須經(jīng)過光化學(xué)反應(yīng)才能硬化，一般采用一光源15’產(chǎn)生特定波長的紫外光(UV)進(jìn)行照射，使得感旋光性的框膠硬化，或是利用加熱方式使得熱固性框膠達(dá)到硬化。在此步驟中，以紫外光固化框膠13’后，便組成一空的液晶盒，再注入液晶16’于其中。另一方式是先在下基板12’周圍上一圈框膠13’，進(jìn)行液晶滴入制作工藝(one drop fill，ODF)滴入液晶16’，覆蓋上基板11’，再以紫外光固化框膠13’，以形成一液晶面板。
就生產(chǎn)設(shè)備流程與計(jì)算機(jī)整合制造系統(tǒng)(Computer integratedmanufacturing，CIM)系統(tǒng)而言，在其相關(guān)配置的限制下，無論是上述哪一種制作工藝，單一生產(chǎn)線僅能將紫外光固定照射CF面(或TFT面)。因此，為了使框膠完全固化，紫外光必須先照射基板11’而使框膠13’部分產(chǎn)生硬化，隨后再將面板翻轉(zhuǎn)180度，進(jìn)而再以紫外光照射另一基板12’。如此一來，除了增加制作工藝步驟及困難性、CIM系統(tǒng)的負(fù)擔(dān)之外，生產(chǎn)設(shè)備支出成本、生產(chǎn)成本也無法有效降低，增加生產(chǎn)時(shí)間，造成于生產(chǎn)在線無法充分運(yùn)用，如此將造成產(chǎn)品設(shè)計(jì)上的限制。
因此，如何有效解決基板制作工藝的問題，且有效提高基板生產(chǎn)率，使得生產(chǎn)線的工作效率達(dá)到最佳化，是目前必須積極解決的主要課題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種曝光裝置，提供雙面曝光設(shè)備，即，可對(duì)彩色濾光片(CF)面及薄膜晶體管(TFT)面同時(shí)進(jìn)行紫外線曝光，減少設(shè)備投資成本及無塵室使用空間，達(dá)到簡(jiǎn)化制作工藝的目的。
由于本發(fā)明曝光裝置設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單化且完全不會(huì)遮蔽紫外光，本發(fā)明的另一目的在于可加速讓框膠完全硬化，簡(jiǎn)化系統(tǒng)負(fù)擔(dān)，提高生產(chǎn)線的稼動(dòng)率、產(chǎn)能利用率、可負(fù)載能力(operation availability、utilization rate、workingratio)，進(jìn)而增加產(chǎn)出。
根據(jù)本發(fā)明，提供一種曝光裝置，其包括一承載機(jī)構(gòu)、一第一能量裝置及一第二能量裝置。承載機(jī)構(gòu)包括多個(gè)承載元件，用以承載基板。第一能量裝置與第二能量裝置分別設(shè)置于承載機(jī)構(gòu)的上方及下方。
在一較佳實(shí)施例中，承載元件為可透光的桿狀材料所制成。承載元件選自于石英棒材、合成石英條棒、玻璃基材條棒或其相互組合件所構(gòu)成的族群中的任一者。
在另一較佳實(shí)施例中，承載元件為線狀。承載元件選自于繩索、纜繩或其相互組合件所構(gòu)成的族群中的任一者。
本發(fā)明的曝光裝置還包括一框架，用以設(shè)置第一能量裝置、第二能量裝置與承載機(jī)構(gòu)。
為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一較佳實(shí)施例，并配合所附圖示，作詳細(xì)說明如下。


圖1為現(xiàn)有的承載機(jī)構(gòu)與基板的側(cè)視示意圖；圖2為本發(fā)明的曝光裝置的分解立體圖；圖3A為本發(fā)明的曝光裝置組合后的正視圖；圖3B為本發(fā)明的曝光裝置組合后的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
圖2為本發(fā)明的曝光裝置200的分解立體圖。圖3A為本發(fā)明的曝光裝置200組合后的正視圖。圖3B為本發(fā)明的曝光裝置200組合后的側(cè)視圖。以下請(qǐng)同時(shí)參考圖2、圖3A及圖3B。
本發(fā)明的曝光裝置200包括一多個(gè)承載元件22所組成的承載機(jī)構(gòu)、一第一能量裝置15a、一第二能量裝置15b及一框架20。第一能量裝置15a與第二能量裝置15b可為一產(chǎn)生紫外光的光源或熱能的裝置?？蚣?0包括一上層201、一中空中間層202、一下層203以及多個(gè)支柱24，中間層202位于上層201與下層203之間。
應(yīng)注意的是，為方便說明起見，在圖2中將框架20分解成為上層201、中空中間層202及下層203，在實(shí)際上應(yīng)為一體成形的中空的框架20。在本實(shí)施例中，第一能量裝置15a設(shè)置于上層201之上，第二能量裝置15b是以相對(duì)于第一能量裝置15a的方式而設(shè)置于框架20的下層203之上。
由圖2可知，多個(gè)承載元件22位于第一能量裝置15a與第二能量裝置15b之間的方式而設(shè)置于框架20的中空中間層202，且承載元件22之間互相平行。通過多個(gè)承載元件22以同時(shí)對(duì)于基板10進(jìn)行支撐。應(yīng)注意的是，本實(shí)施例的基板10與現(xiàn)有基板構(gòu)造相同，因此省略說明，但在本實(shí)施例中，當(dāng)基板10擺放在承載機(jī)構(gòu)20上時(shí)，基板10的上、下面并不限定為CF基板或TFT基板，即，通過具有雙面照射功能的曝光裝置200，可不限定基板10的擺放方向。
在相鄰的承載元件22之間具有一既定間隙h，此間隙h根據(jù)用于傳輸基板的機(jī)械手臂(未顯示)的尺寸而決定，一般間隙h大約為200毫米，可使得機(jī)械手臂(Robot)在承載機(jī)構(gòu)上順利取放液晶基板，不會(huì)被干擾到。第二能量裝置15b所產(chǎn)生的能量L可經(jīng)由間隙h從下方傳遞至基板10，再加上第一能量裝置15a從上方照射，使得能量L可同時(shí)照射在基板10的雙面上。
在本實(shí)施例中，承載元件22為可透光的桿狀材料所制成。因此，承載元件22不會(huì)影響能量L的傳遞。承載元件22可選自于石英棒材、合成石英條棒、玻璃基材條棒或其相互組合件所構(gòu)成的族群中的任一者。
在另一實(shí)施例中，承載元件22為線狀。即，承載元件22可選自于繩索、纜繩或其相互組合件所構(gòu)成的族群中的任一者。
綜上所述，通過本發(fā)明的雙面曝光設(shè)備而提供新的曝光面板的方法，包括以下步驟提供一面板或基板10后，將框膠附著于面板部份或整個(gè)周圍。通過一曝光制作工藝，即，利用上述曝光裝置200同時(shí)從面板10的上下兩面同時(shí)曝光面板10，以硬化框膠，此方法不僅可簡(jiǎn)化制作工藝，更可加快曝光制作工藝的速度。
由此本發(fā)明提供雙面曝光設(shè)備及曝光面板的方法，即，可由基板10的彩色濾光片(CF)面及薄膜晶體管(TFT)面同時(shí)進(jìn)行紫外光的曝光，減少CIM系統(tǒng)的投資成本、簡(jiǎn)化系統(tǒng)負(fù)擔(dān)及無塵室使用空間，且可簡(jiǎn)化ODF制作工藝中液晶滴下的復(fù)雜性，達(dá)到制作工藝簡(jiǎn)化的目的。由于本發(fā)明承載機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單化且完全不會(huì)遮蔽紫外光，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于可加速讓框膠完全硬化，簡(jiǎn)化系統(tǒng)負(fù)擔(dān)，提高生產(chǎn)線的稼動(dòng)率、產(chǎn)能利用率、可負(fù)載能力(operationavailability、utilization rate、working ratio)，進(jìn)而增加產(chǎn)出。
雖然結(jié)合以上較佳實(shí)施例揭露了本發(fā)明，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作一些的更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種用于曝光基板的曝光裝置，包括一承載機(jī)構(gòu)，包括多個(gè)承載元件，用以承載該基板；一第一能量裝置；以及一第二能量裝置，其中該第一能量裝置與該第二能量裝置分別設(shè)置于該承載機(jī)構(gòu)的上方及下方。
2.如權(quán)利要求1所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該各承載元件之間具有一既定間隙。
3.如權(quán)利要求1所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該各承載元件為可透光的材料所制成。
4.如權(quán)利要求1所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該各承載元件包括石英棒材、合成石英條棒、玻璃基材條棒或其組合。
5.如權(quán)利要求1所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該各承載元件為線狀。
6.如權(quán)利要求1所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該各承載元件包括繩索、纜繩或其組合。
7.如權(quán)利要求1所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該第一能量裝置與該第二能量裝置產(chǎn)生紫外光或熱能。
8.如權(quán)利要求1所述的用于曝光基板的曝光裝置，還包括一框架，用以設(shè)置該第一能量裝置、該第二能量裝置與該承載機(jī)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求8所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該框架包括一上層、一中空中間層及一下層，該中空中間層位于該上層與該下層之間。
10.如權(quán)利要求9所述的用于曝光基板的曝光裝置，其中該承載機(jī)構(gòu)、該第一能量裝置與該第二能量裝置分別設(shè)置于該中空中間層、該上層與該下層。
11.一種曝光面板的方法，包括以下步驟提供一面板；將一框膠附著于該面板部分或整個(gè)周圍；以及一曝光制作工藝，利用一曝光裝置從該面板的上下兩面同時(shí)曝光該面板，以硬化該框膠；其中該曝光裝置包括一承載機(jī)構(gòu)，包括多個(gè)承載元件，用以承載該面板；以及一第一能量裝置及一第二能量裝置，分別設(shè)置于該承載機(jī)構(gòu)的上方及下方。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于曝光基板的曝光裝置。曝光裝置包括一承載機(jī)構(gòu)、一第一能量裝置及一第二能量裝置。承載機(jī)構(gòu)包括多個(gè)承載元件，用以承載基板。第一能量裝置與第二能量裝置分別設(shè)置于承載機(jī)構(gòu)的上方及下方。
文檔編號(hào)G03F7/20GK1648729SQ20051005512
公開日2005年8月3日 申請(qǐng)日期2005年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月17日
發(fā)明者廖英智 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司