專利名稱：電光裝置用基板及其制造方法、電光裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電光裝置用基板、電光裝置用基板的制造方法、電光裝置、電光裝置的制造方法和電子設(shè)備，特別是適合于構(gòu)成半透過(guò)反射型的電光裝置時(shí)的反射膜的結(jié)構(gòu)和制造方法。
背景技術(shù)：
通常，半透過(guò)反射型的電光裝置隨著近年來(lái)的便攜式電子設(shè)備的發(fā)展越來(lái)越多地被使用。例如，以作為電光裝置的一種的液晶顯示裝置為例進(jìn)行說(shuō)明，半透過(guò)反射型的液晶顯示體已應(yīng)用于便攜電話或便攜式信息終端等。半透過(guò)反射型的液晶顯示裝置可以通過(guò)點(diǎn)亮后照燈(背光)而和透過(guò)型的液晶顯示裝置一樣進(jìn)行透過(guò)型顯示，另外，即使不使用后照燈時(shí)，通過(guò)反射膜反射外光也可以和反射型的液晶顯示裝置一樣進(jìn)行反射型顯示，所以，可以根據(jù)環(huán)境來(lái)選擇使用透過(guò)型顯示和反射型顯示，另外，通過(guò)利用反射型顯示可以降低功耗。
雖然上述半透過(guò)反射型的液晶顯示裝置被構(gòu)成為用反射膜反射外光，可以利用該反射光觀看顯示，但是，如果反射膜的反射面是例如鏡面狀態(tài)時(shí)，則將發(fā)生由照明引起的眩光或背景的映入，從而成為使可視性惡化的原因。因此，通常采用通過(guò)設(shè)為具有細(xì)微的表面凹凸形狀(粗糙面)的光散射性的反射面來(lái)確保顯示的明亮度并防止照明引起的眩光或背景的映入的方法。作為形成具有上述那樣的光散射性的反射面的反射膜的方法，已知的方法是在基板上形成由具有表面凹凸形狀的樹脂等構(gòu)成的基底層，通過(guò)在該基底層上形成反射膜而形成反映基底層的表面凹凸形狀的光散射性的反射面。
在上述那樣的半透過(guò)反射型的液晶顯示裝置中，如圖18和圖19所示，在構(gòu)成液晶面板的一方的基板上通過(guò)涂布感光性樹脂并進(jìn)行曝光和顯影，在具有表面凹凸形狀的基底層112上，對(duì)每個(gè)像素形成基底開口部112a。在該基底層112之上，形成由金屬薄膜等構(gòu)成的反射膜113。此外，在與基底開口部112a平面看重疊的部分構(gòu)成不形成反射膜113的透過(guò)開口部113a。按照該結(jié)構(gòu)，從圖中未示出的后照燈照射的光在每個(gè)像素區(qū)域通過(guò)透過(guò)開口部113a和基底開口部112a而成為構(gòu)成透過(guò)型顯示的顯示光，另外，外光入射到液晶面板內(nèi)由各像素區(qū)域的反射膜113R、113G、113B反射而成為構(gòu)成反射型顯示的顯示光。
但是，在上述以往的半透過(guò)反射型的液晶顯示裝置中，通過(guò)每個(gè)像素區(qū)域中除去基底層112的基底開口部112a形成為窗狀，在進(jìn)行基底層112的顯影時(shí)，有時(shí)會(huì)發(fā)生位于相鄰的基底開口部112a之間的構(gòu)成橋狀的樹脂部分從基板上剝離的現(xiàn)象。特別是由于重視透過(guò)顯示而使各像素區(qū)域的透過(guò)開口部113a的開口率大時(shí)，上述橋狀的樹脂部分的寬度將減小，所以，基底層112就更容易剝離。另外，如圖18和圖19所示，各像素區(qū)域具有縱長(zhǎng)的矩形形狀(長(zhǎng)方形)時(shí)，如果形成大的透過(guò)開口部113a，則如圖18所示的樹脂部分113X那樣，在與像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向正交的方向上相鄰的基底開口部112a之間的樹脂部分的寬度會(huì)更窄，所以，該部分就更容易從基板上剝離。
如上所述，在進(jìn)行基底層112的顯影時(shí)上述樹脂部分一旦從基板上剝離時(shí)，即使它再次附著到基板上，基底層112也將發(fā)生形狀不良，所以，反射膜的形狀也會(huì)不良，從而產(chǎn)品的合格率(成品率)降低。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明就是為了解決上述問(wèn)題而提案的，目的旨在通過(guò)變更基底層的圖形形狀而使基底層難于剝離、由此抑制反射膜不良的發(fā)生，從而提高產(chǎn)品的合格率。
本發(fā)明的電光裝置用基板的特征在于，具有配置在基板上的基底層；在上述基底層上疊層配置的反射膜；在包含上述反射膜和上述基底層的區(qū)域形成的多個(gè)像素區(qū)域；在上述每個(gè)像素區(qū)域設(shè)置的不形成上述反射膜的透過(guò)開口部和在與該透過(guò)開口部平面看重疊的位置配置的并且遍及相鄰的上述像素區(qū)域之間不形成上述基底層的基底開口部。
按照本發(fā)明，通過(guò)在相鄰的像素區(qū)域之間基底開口部相互連續(xù)，在相鄰的像素區(qū)域間不存在配置于基底開口部間的橋狀的基底層的部分，所以，基底層難于剝離，從而可以抑制不良的發(fā)生。
這里，在相鄰的像素區(qū)域間基底開口部相互連續(xù)，包含至少每相鄰的2個(gè)像素區(qū)域一體地構(gòu)成1個(gè)基底開口部的情況。因此，雖然包含跨過(guò)3個(gè)或以上的像素區(qū)域一體地構(gòu)成1個(gè)基底開口部的情況，但不限于此。
在本發(fā)明中，上述基底開口部最好構(gòu)成為沿上述像素區(qū)域的指定的排列方向連續(xù)的縫隙狀。這樣，通過(guò)將基底開口部構(gòu)成為沿指定的排列方向連續(xù)的縫隙狀，可以將基底開口部的開口邊緣形成簡(jiǎn)單的形狀，所以，基底層更難于從該開口邊緣剝離。
這時(shí)，從基底層的剝離更難的角度考慮，基底開口部的開口邊緣最好在上述指定的排列方向上形成為直線狀。另外，在電光裝置用基板上，從將基底層的圖形形狀采用更簡(jiǎn)單的形狀考慮，優(yōu)選地，遍及排列在上述指定的排列方向的所有的像素區(qū)域，上述縫隙狀的透過(guò)開口部和基底開口部一體地(連續(xù)地)形成。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，各個(gè)上述像素區(qū)域具有長(zhǎng)方形的形狀，將其長(zhǎng)度方向?qū)?zhǔn)指定方向而排列，上述縫隙狀的基底開口部的上述指定的排列方向是與上述像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向交叉的方向。這樣，通過(guò)將基底開口部在與像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向不同的方向上形成為連續(xù)的縫隙狀，可以確保與相鄰的像素列的其他基底開口部之間的間隔較寬，所以，可以進(jìn)一步降低基底層的剝離。
這里，上述指定的排列方向優(yōu)選地是與像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向正交的方向。這樣，通過(guò)像素區(qū)域的基底開口部的位置在像素區(qū)域間基本上為同一位置，所以，可以降低與基底開口部平面看重疊地形成的透過(guò)開口部的位置的偏差對(duì)顯示品質(zhì)的影響。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述基底層具有表面凹凸形狀，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形狀的光散射性的反射面。這樣，在反射膜上就可以容易地形成光散射性的反射面，同時(shí)，利用光散射性的反射面可以實(shí)現(xiàn)可視性優(yōu)異的反射型顯示。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，在上述基底層中上述基底開口部的開口邊緣部分，不形成上述表面凹凸形狀。這樣，通過(guò)在基底層的開口邊緣部分不形成表面凹凸形狀，可以確保基底層的開口邊緣部分的緊密性(粘著力)和強(qiáng)度，所以，基底層更難剝離。
反射膜在上述基底層中上述基底開口部的開口邊緣部分的側(cè)面上形成，基底層的側(cè)面由反射膜所覆蓋，所以，在反射膜形成之后可以降低基底層和反射膜的剝離現(xiàn)象。
其次，本發(fā)明的電光裝置用基板的制造方法是在基板上形成相互疊層配置的反射膜和基底層并排列了包含上述反射膜和上述基底層的一部分的多個(gè)像素區(qū)域的電光裝置用基板的制造方法，其特征在于，包括以在每個(gè)像素區(qū)域存在不形成上述基底層的基底開口部并且在相鄰的上述像素區(qū)域間使上述基底開口部連續(xù)的方式，形成上述基底層的工序；以及以不形成上述反射膜的透過(guò)開口部位于與上述基底開口部平面看重疊的位置上的方式，形成上述反射膜的工序。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，在形成上述基底層的工序中，通過(guò)使用指定的掩模對(duì)感光性樹脂進(jìn)行曝光、顯影而形成具有上述表面凹凸形狀的上述基底層。這樣，就可以很容易地根據(jù)曝光強(qiáng)度和曝光圖形而形成表面凹凸形狀，另外，同時(shí)可以根據(jù)曝光強(qiáng)度和曝光圖形而形成基底開口部。
這時(shí)，優(yōu)選地，在基底層中基底開口部的開口邊緣部分的側(cè)面上也形成反射膜。這樣，由于基底層的側(cè)面由反射膜所覆蓋，所以，可以降低反射膜形成后基底層和反射膜的剝離不良。
其次，本發(fā)明的電光裝置的特征在于，具有電光層；與上述電光層相對(duì)配置的反射膜；在上述反射膜的上述電光層的相反側(cè)配置的基底層；在包含上述電光層和上述反射膜的區(qū)域形成的多個(gè)像素區(qū)域；在上述每個(gè)像素區(qū)域設(shè)置的不形成上述反射膜的透過(guò)開口部；以及配置在與該透過(guò)開口部平面看重疊的位置上并且遍及相鄰的上述像素區(qū)域間不形成上述基底層的基底開口部。
按照本發(fā)明，通過(guò)在相鄰的像素區(qū)域間基底開口部相互連續(xù)，在相鄰的像素區(qū)域間不存在配置在基底開口部間的橋狀的基底層的部分，所以，基底層難于剝離，于是，可以抑制不良現(xiàn)象的發(fā)生。因此，可以提高電光裝置的合格率，從而可以制造成本更低且可靠性高的電光裝置。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地上述基底開口部沿上述像素區(qū)域的指定的排列方向形成相互連續(xù)的縫隙狀。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述像素區(qū)域具有長(zhǎng)方形的形狀，以將其長(zhǎng)度方向?qū)?zhǔn)指定方向的姿勢(shì)排列，上述指定的排列方向是與上述像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向交叉的方向。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述基底層具有表面凹凸形狀，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形狀的光散射性的反射面。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，在上述基底層中上述開口部的開口邊緣部分不形成上述表面凹凸形狀。
其次，本發(fā)明的電光裝置的制造方法是具有電光層、配置在該電光層的背后的反射膜和在該反射膜的上述電光層的相反側(cè)相鄰配置的基底層的、由包含上述電光層和上述反射膜的多個(gè)像素區(qū)域排列而成的電光裝置的制造方法，其特征在于，包括形成具有表面凹凸形狀的基底層的工序，上述基底層位于上述每個(gè)像素區(qū)域并且具有在每個(gè)相鄰的上述像素區(qū)域連續(xù)的基底開口；以及形成上述反射膜的工序，上述反射膜在與上述基底開口部平面看重疊的位置具有透過(guò)開口部，并且在上述基底層的表面上具有反映上述表面凹凸形狀的光散射性的反射面。
在本發(fā)明中，優(yōu)選地，在形成上述基底層的工序中，通過(guò)使用指定的掩模對(duì)感光性樹脂進(jìn)行曝光和顯影而形成具有上述表面凹凸形狀的上述基底層。
其次，本發(fā)明的電子設(shè)備的特征在于，具有上述任意一項(xiàng)所述的電光裝置和該電光裝置的控制單元。作為電子設(shè)備，可以是便攜電話、便攜式信息終端、電子表等便攜式電子設(shè)備或電視、監(jiān)視器、計(jì)算機(jī)、座鐘等民用電子設(shè)備等。


圖1是表示實(shí)施例1的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)的放大縱剖面圖。
圖2是表示實(shí)施例1的電光裝置用基板的反射膜的圖形的放大平面圖。
圖3是表示實(shí)施例1的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
圖4是表示實(shí)施例2的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
圖5是表示實(shí)施例3的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
圖6是表示實(shí)施例4的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
圖7是表示實(shí)施例5的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
圖8是表示實(shí)施例6的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
圖9是表示實(shí)施例7的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖(a)、放大剖面圖(b)和不同的結(jié)構(gòu)例的放大剖面圖(c)。
圖10是表示電光裝置用基板的制造方法的工序剖面圖(a)-(d)。
圖11是表示電光裝置用基板的制造方法的工序剖面圖(a)-(e)。
圖12是實(shí)施例1的液晶顯示裝置的液晶面板的概略立體圖。
圖13是實(shí)施例1的液晶面板的概略縱剖面圖。
圖14是實(shí)施例8的液晶顯示裝置的概略縱剖面圖。
圖15是實(shí)施例8的液晶顯示裝置的放大部分剖面圖(a)和放大部分平面圖(b)。
圖16是實(shí)施例9的電子設(shè)備的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖17是實(shí)施例9的電子設(shè)備的概略立體圖。
圖18是表示以往的液晶顯示裝置的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
圖19是表示以往的其他液晶顯示裝置的像素內(nèi)的圖形的放大平面圖。
符號(hào)說(shuō)明200…液晶顯示裝置、210…電光裝置用基板、211…第1基板、212…基底層、212a…基底開口部、212b…開口邊緣部分、213…反射膜、213a…透過(guò)開口部、214…著色層、220…對(duì)置基板、230…密封材料具體實(shí)施方式
下面，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例。以下說(shuō)明的各實(shí)施例只不過(guò)是展示本發(fā)明的結(jié)構(gòu)例，在不脫離本發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更。
實(shí)施例1.
圖12是表示本發(fā)明的電光裝置的實(shí)施例1的液晶顯示裝置200的面板結(jié)構(gòu)的概略立體圖，圖13是示意性地表示該面板結(jié)構(gòu)的概略縱剖面圖，圖1是更詳細(xì)地表示該液晶顯示裝置200的與圖13正交的剖面的放大部分縱剖面圖。
如圖12所示，液晶顯示裝置200是以由玻璃板或合成樹脂板等構(gòu)成的透明的第1基板211為基體的電光裝置用基板210和以與其相對(duì)的同樣的第2基板221為基體的對(duì)置基板220通過(guò)密封部件230相互粘貼、并在液晶232從注入口230a注入到密封部件230的內(nèi)側(cè)之后用封裝部件231進(jìn)行密封而構(gòu)成單元結(jié)構(gòu)(盒結(jié)構(gòu))。
在電光裝置用基板210中，在第1基板211的內(nèi)面(與第2基板221相對(duì)的表面)上利用濺射法等形成多個(gè)并列的條帶狀的透明電極216，在對(duì)置基板220中，在第2基板221的內(nèi)面上利用同樣的方法形成多個(gè)并列的條帶狀的透明電極222。另外，上述透明電極216與布線218A導(dǎo)電連接，上述透明電極222與布線228導(dǎo)電連接。透明電極216與透明電極222相互正交，在該交叉區(qū)域構(gòu)成排列為矩陣狀的大量的像素，這些像素排列構(gòu)成液晶顯示區(qū)域A。
第1基板211具有比第2基板221的外形更向外側(cè)伸出的基板伸出部210T，在該基板伸出部210T上，形成上述布線218A、通過(guò)由密封部件230的一部分構(gòu)成的上下導(dǎo)通部與上述布線228導(dǎo)電連接的布線218B、和由獨(dú)立地形成的多個(gè)布線圖形構(gòu)成的輸入端子部219。另外，在基板伸出部210T上，以與這些布線218A、218B和輸入端子部219導(dǎo)電連接的方式裝配內(nèi)置液晶驅(qū)動(dòng)電路等的半導(dǎo)體IC261。另外，在基板伸出部210T的端部，以與上述輸入端子部219導(dǎo)電連接的方式裝配撓性布線基板263。
在液晶顯示裝置200中，如圖13和圖1所示，在第1基板211的外面，配置了相位差板(1/4波長(zhǎng)板)240和偏振板241，在第2基板221的外面，配置了相位差板(1/4波長(zhǎng)板)250和偏振板251。
如圖13和圖1所示，在電光裝置用基板210中，在第1基板211的表面形成透明的基底層212。在像素區(qū)域設(shè)置有不形成基底層212的基底開口部212a。另外，在該基底層212之上形成反射膜213。這里，在每個(gè)上述像素區(qū)域設(shè)置不形成反射膜213的透過(guò)開口部213a。該透過(guò)開口部213a在與上述基底開口部212a平面看重疊的區(qū)域形成。
在反射膜213上形成著色層214，進(jìn)而再在其上形成由透明樹脂等構(gòu)成的表面保護(hù)層(覆蓋層)215。由該著色層214和表面保護(hù)層215構(gòu)成濾色器。表面保護(hù)層215是為了使濾色器的表面實(shí)現(xiàn)平坦化同時(shí)防止有機(jī)物質(zhì)從著色層214侵入液晶而使液晶劣化而設(shè)置的。
著色層214通常是將顏料或染料等著色材料分散到透明樹脂中而呈指定的色調(diào)。作為著色層的色調(diào)的一例，作為原色系濾色器，有由R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的3色的組合構(gòu)成的色調(diào)，但是，不限定如此，可以由補(bǔ)色系的其他各種色調(diào)形成。通常，在基板表面上涂布由包含顏料或染料等著色材料的感光性樹脂構(gòu)成的著色抗蝕劑，利用光刻法除去不需要的部分，便可形成具有指定的彩色圖形的著色層。
在此，在形成多個(gè)色調(diào)的著色層時(shí)，返復(fù)執(zhí)行上述工序。
作為著色層的排列圖形，在本實(shí)施例中，采用了條帶狀排列，但是，除了條帶狀排列外，也可以采用三角形排列或斜鑲嵌排列等各種圖形形狀。另外，在上述RGB的各著色層的周圍，作為著色層的一部分，可以形成用于進(jìn)行像素間區(qū)域的遮光的遮光膜214BM(黑矩陣或黑掩模)。
在表面保護(hù)層215之上，利用濺射法形成由ITO(銦錫氧化物)等的透明導(dǎo)電體構(gòu)成的透明電極216。透明電極216形成為在與圖13的紙面正交的方向(與圖1的紙面平行的方向)上延伸的帶狀，多個(gè)透明電極216相互并列地構(gòu)成為條帶狀。在透明電極216之上形成由聚酰亞胺樹脂等構(gòu)成的取向膜217。
另一方面，在上述液晶顯示裝置200中，對(duì)于與上述電光裝置用基板210相對(duì)的對(duì)置基板220，在由玻璃等構(gòu)成的第2基板221上形成與上述相同的透明電極222，并在其上形成由S1O2或TiO2等構(gòu)成的硬質(zhì)保護(hù)膜223。此外，再在其上疊層與上述相同的取向膜224。
如圖1所示，在液晶顯示裝置200中使用后照燈270。該后照燈270具有圖中未示出的光源(例如，發(fā)光二極管等)、導(dǎo)入從該光源發(fā)生的光在內(nèi)部傳播并從一方的表面射出的導(dǎo)光板272、和配置在導(dǎo)光板272的背后的反射片273。另外，在后照燈270與上述面板結(jié)構(gòu)之間配置擴(kuò)散板281。
在本實(shí)施例中，雖然在電光裝置用基板210內(nèi)構(gòu)成濾色器，但是，也可以在對(duì)置基板220構(gòu)成濾色器。另外，構(gòu)成濾色器的各著色層214在各像素區(qū)域可以分別構(gòu)成位于透過(guò)開口部213a上的部分和位于反射膜213上的部分，另外，著色層214可以不在反射膜213上的一部分形成。
圖2是上述電光裝置用基板210的反射膜213的平面圖。這里，著色層214用單點(diǎn)劃線表示，另外，基底層212以從反射層213伸出的部分的狀態(tài)表示。在本實(shí)施例中，基底層212和反射膜213構(gòu)成基本上相等的平面形狀，以基本上相互一致的形式疊層。另外，由上述濾色器的著色層214R、214G、214B分別形成1個(gè)像素區(qū)域D，在圖示的例子中，配置有3色的著色層214R、214G、214B的像素區(qū)域D相鄰，構(gòu)成1個(gè)像素P。
在像素區(qū)域D中，基底開口部212a和透過(guò)開口部213a以橫貫(橫斷)像素區(qū)域D的方式構(gòu)成，在相鄰的像素區(qū)域D間相互連續(xù)。更具體而言，基底開口部212a和透過(guò)開口部213a遍及(跨過(guò))在像素區(qū)域D的短邊方向(圖示的左右方向)排列的多個(gè)像素區(qū)域D構(gòu)成連續(xù)的縫隙狀。另外，基底層212和反射膜213的開口邊緣部構(gòu)成為直線狀。這樣，基底開口部212a和透過(guò)開口部213a就形成為在長(zhǎng)度方向具有相等的寬度的帶狀。
圖3是將本實(shí)施例的1個(gè)像素P內(nèi)的結(jié)構(gòu)放大展示的放大部分平面圖?；组_口部212a遍及(跨過(guò))多個(gè)像素區(qū)域D而連續(xù)地構(gòu)成，所以，在像素區(qū)域D間(即像素區(qū)域DR與DG、DG與DB、DB與DR)不形成以往存在的夾在開口部中間的橋狀的部分。這里，在本發(fā)明中，透過(guò)開口部213a在相鄰的像素區(qū)域D間可以連續(xù)也可以不連續(xù)，但是，在本實(shí)施例中，透過(guò)開口部213a以具有與基底開口部212a平面看基本上一致的形狀的方式構(gòu)成。
(制造方法)下面，參照?qǐng)D10和圖11說(shuō)明上述液晶顯示裝置的電光裝置用基板210的制造方法。
開始，如圖10(a)所示，在由玻璃或塑料等構(gòu)成的基板211的表面，利用旋轉(zhuǎn)涂敷法或滾動(dòng)涂敷法等涂布感光性樹脂212A。在本實(shí)施例中，感光性樹脂212A是光溶解型等的正片型的感光性樹脂，例如，最好是丙烯酸系樹脂。當(dāng)然，也可以使用光硬化型等負(fù)片型的感光性樹脂。
其次，如圖10(b)所示，上述感光性樹脂212A使用掩模102進(jìn)行曝光。這里，掩模102是在玻璃等透明基板102A的表面形成由Cr等薄膜等構(gòu)成的遮光層102B而構(gòu)成的。在掩模102中，未被遮光層102B所覆蓋的部分是光透過(guò)部102x，被遮光層102B所覆蓋的部分成為光遮蔽部102y。透過(guò)光透過(guò)部102x的光照射到感光性樹脂212A上。這時(shí)，通過(guò)進(jìn)行在掩模102與感光性樹脂212A之間設(shè)定約30～250μm左右的曝光間隙G的貼近曝光，通過(guò)掩模102的圖形的光適度地衍射，可以平面看光滑地增減對(duì)感光性樹脂212A的曝光強(qiáng)度。該曝光工序，也可以通過(guò)使用步進(jìn)式曝光器的步進(jìn)曝光進(jìn)行。
其次，通過(guò)利用指定的顯影液對(duì)上述感光性樹脂212A進(jìn)行顯影，如圖10(c)所示，在與上述掩模102的光透過(guò)部102x對(duì)應(yīng)的區(qū)域和與光遮蔽部102y對(duì)應(yīng)的區(qū)域之間形成凹凸?fàn)畹呐_(tái)階。并且，在顯影工序中，從感光性樹脂212A的表面除去與該曝光強(qiáng)度分布相應(yīng)的量的樹脂。這樣，如圖所示，就可以得到具有比較平緩的表面凹凸形狀212s的基底層212。
其次，在上述結(jié)構(gòu)的基底層212的表面上，形成鋁、銀、銀合金(APC合金等)、鉻等金屬的薄膜，作為反射膜213。反射膜213通過(guò)在成為其基底面的基底層212的表面形成表面凹凸形狀212s，具有了光散射性的反射面213s，該反射面213s具有反映該表面凹凸形狀212s的凹凸形狀。
其次，如圖11(a)所示，在反射膜213的表面上，利用通常的光刻法形成由抗蝕劑等構(gòu)成的掩模213A。掩模213A在不需要反射膜213的區(qū)域設(shè)置了開口213Ax。并且，通過(guò)使用該掩模213A進(jìn)行蝕刻，如圖11(b)所示，形成具有透過(guò)開口部213a的反射膜213。并且，進(jìn)而使用掩模213A或者將反射膜213作為掩模通過(guò)曝光和顯影處理而除去基底層212的一部分，如圖11(c)所示，形成基底開口部212a。這樣，通過(guò)在基底層212形成基底開口部212a，通過(guò)反射膜213的透過(guò)開口部213a的透過(guò)光就通不過(guò)基底層212，所以，可以避免基底層212的輕微的著色或基底層212的表面凹凸形狀212s引起的散射作用或折射作用對(duì)透過(guò)光的影響。然后，通過(guò)形成濾色器和透明電極等，就可以形成上述電光裝置用基板210。
如圖11(d)所示，也可以在形成反射膜213之前在基底層212上形成基底開口部212a取代上述工序。即，在圖10(b)所示的曝光工序，通過(guò)對(duì)成為基底開口部212a的區(qū)域進(jìn)行強(qiáng)曝光，在顯影時(shí)與表面凹凸形狀212s一起形成基底開口部212a。并且，在此之后，如圖11(e)所示，進(jìn)行反射膜213的成膜并進(jìn)而通過(guò)蝕刻處理等而形成透過(guò)開口部213a，由此，可以和上述一樣完成電光裝置用基板210。
在本實(shí)施例中，進(jìn)行在基底層212形成基底開口部212a的顯影時(shí)，可以防止以往成為問(wèn)題的基底層212從第1基板211上剝離的現(xiàn)象。如圖3所示，這是由于在相鄰的像素區(qū)域D間通過(guò)使基底開口部212a連續(xù)，不是像以往那樣在開口部間形成橋狀的樹脂部分的緣故。即，如果由顯影液溶解的部分的寬度減小，通過(guò)顯影液進(jìn)入基底層212與第1基板211之間，該部分與第1基板211的緊密粘接力容易喪失，從而容易剝離。如果發(fā)生了該剝離，即使該部分再次附著到第1基板211上，基底層212自然不必說(shuō)，反射膜213等上層也將發(fā)生形狀不良。這樣，在本實(shí)施例中，在基底層212上不形成具有窄的寬度的橋狀部分，所以，難于發(fā)生基底層212的剝離，因此，可以降低產(chǎn)品的不良率，從而可以構(gòu)成成本低、可靠性高的電光裝置。
在本實(shí)施例中，在與構(gòu)成為長(zhǎng)方形狀的像素區(qū)域D的長(zhǎng)度方向(長(zhǎng)邊方向)正交的短邊方向上，基底開口部212a連續(xù)地構(gòu)成縫隙狀，基底開口部212a的形狀簡(jiǎn)單，所以，可以進(jìn)一步降低基底層212的剝離。特別是基底層212的基底開口部212a的開口邊緣部分構(gòu)成為直線狀，基底開口部212a的輪廓線短，所以，可以進(jìn)一步降低基底層212的剝離的發(fā)生概率。
各像素區(qū)域D的開口率(透過(guò)開口部的面積比)可以通過(guò)調(diào)節(jié)基底開口部212a和透過(guò)開口部213a的寬度(圖示的上下寬度)而適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。
實(shí)施例2.
下面，參照?qǐng)D4說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例2。在本實(shí)施例中，除了圖示的基底層212、基底開口部212a、反射膜213、透過(guò)開口部213a的平面形狀以外，與上述實(shí)施例1完全相同，所以，省略其說(shuō)明。
在本實(shí)施例中，基底層212和反射膜213從像素區(qū)域D的一方的邊緣(圖示下方的邊緣)分離地形成，基底開口部212a和透過(guò)開口部213a沿像素區(qū)域D的上述一方的邊緣形成。這樣，可以僅在像素區(qū)域D的1列形成1個(gè)基底層212和反射膜213，所以，可以采用簡(jiǎn)單的形成圖形。
基底開口部212a在相鄰的像素區(qū)域D間連續(xù)、在像素區(qū)域D的短邊方向構(gòu)成連續(xù)的縫隙狀、基底層212的基底開口部212a的開口邊緣部分構(gòu)成為直線狀等都和上述實(shí)施例1一樣。
實(shí)施例3.
下面，參照?qǐng)D5說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例3。在本實(shí)施例中，除了圖示的基底層212、基底開口部212a、反射膜213、透過(guò)開口部213a的平面形狀以外，與上述實(shí)施例1完全相同，所以，省略其說(shuō)明。
在本實(shí)施例中，基底層212和反射膜213從像素區(qū)域D的相互相對(duì)的一對(duì)邊緣(圖示的上下邊緣)分離地形成，一對(duì)基底開口部212a和透過(guò)開口部213a沿像素區(qū)域D的上述一對(duì)邊緣形成。這樣，可以僅在像素區(qū)域D的1列形成1個(gè)基底層212和反射膜213，所以，可以采用簡(jiǎn)單的形成圖形。
基底開口部212a在相鄰的像素區(qū)域D間連續(xù)、在像素區(qū)域D的短邊方向構(gòu)成連續(xù)的縫隙狀、基底層212的基底開口部212a的開口邊緣部分構(gòu)成為直線狀等都和上述實(shí)施例1一樣。
實(shí)施例4.
下面，參照?qǐng)D6說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例4。在本實(shí)施例中，除了圖示的基底層212、基底開口部212a、反射膜213、透過(guò)開口部213a的平面形狀以外，與上述實(shí)施例1完全相同，所以，省略其說(shuō)明。
在本實(shí)施例中，和實(shí)施例3一樣，基底層212和反射膜213從像素區(qū)域D的相互對(duì)應(yīng)的一對(duì)邊緣(圖示的上下邊緣)分離地形成，一對(duì)基底開口部212a和透過(guò)開口部213a沿像素區(qū)域D的上述一對(duì)邊緣形成。
但是，本實(shí)施例在像素區(qū)域DR、DG、DB中透過(guò)開口部213a的開口率相互不同，結(jié)果，透過(guò)開口部213a的開口邊緣在像素區(qū)域間就偏離像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向(圖示的上下方向)，所以，基底開口部212a的開口邊緣在像素區(qū)域間也偏離成臺(tái)階狀。這是因?yàn)?，在?gòu)成濾色器時(shí)為了不改變具有不同的色相的著色層的濾色器素材而實(shí)現(xiàn)顯示色的最佳化或透過(guò)型顯示與反射型顯示的平衡的最佳化，必須在像素區(qū)域間改變透過(guò)開口部213a的開口率。
在本實(shí)施例中，為了改變透過(guò)開口部213a的開口率，在相鄰的像素區(qū)域間基底開口部212a的開口邊緣偏離成臺(tái)階狀，但是，通過(guò)將開口邊緣構(gòu)成曲線狀，在相鄰的像素區(qū)域間開口邊緣可以平滑地連接在一起。
實(shí)施例5.
下面，參照?qǐng)D7說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例5。在本實(shí)施例中，除了圖示的基底層212、基底開口部212a、反射膜213、透過(guò)開口部213a的平面形狀以外，與上述實(shí)施例1完全相同，所以，省略其說(shuō)明。
在本實(shí)施例中，在圖示的左右方向(像素區(qū)域的短邊方向)相鄰的像素區(qū)域DR與DG、DB與DR形成連續(xù)的基底開口部212a和透過(guò)開口部213a。這時(shí)，基底開口部212a僅跨越2個(gè)像素區(qū)域地形成。這樣，即使遍及3個(gè)以上的像素區(qū)域基底開口部212a不連續(xù)，在相鄰的像素區(qū)域間也不會(huì)殘留以往那樣的細(xì)(窄)的橋狀的基底層的部分，所以，和上述一樣，可以防止基底層212的剝離。但是，這時(shí)最好構(gòu)成開口圖形使得相鄰的基底開口部212a的距離盡可能大。
實(shí)施例6.
下面，參照?qǐng)D8說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例6。在本實(shí)施例中，除了圖示的基底層212、基底開口部212a、反射膜213、透過(guò)開口部213a的平面形狀以外，與上述實(shí)施例1完全相同，所以，省略其說(shuō)明。
在本實(shí)施例中，和實(shí)施例5一樣，在圖示的左右方向(像素區(qū)域的短邊方向)設(shè)置僅跨越相鄰的2個(gè)像素區(qū)域間的1個(gè)基底開口部212a和透過(guò)開口部213a，但是，不同的是在各像素區(qū)域設(shè)置了其他基底開口部212a和透過(guò)開口部213a。另外，該其他基底開口部212a和透過(guò)開口部213a在與上述1個(gè)基底開口部212a和透過(guò)開口部213a連續(xù)的像素區(qū)域不同的像素區(qū)域連續(xù)。
實(shí)施例7.
下面，參照?qǐng)D9說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例2。在本實(shí)施例中，除了圖示的基底層212、基底開口部212a、反射膜213、透過(guò)開口部213a的平面形狀以外，與上述實(shí)施例1完全相同，所以，省略其說(shuō)明。
本實(shí)施例的基底層212、反射膜213、基底開口部212a和透過(guò)開口部213a的各自的圖形形狀與實(shí)施例1基本上相同。但是，在本實(shí)施例中，與實(shí)施例1不同的是，在基底層212的基底開口部212a的開口邊緣部分212b不形成在其他部分形成的表面凹凸形狀，開口邊緣部分212b基本上具有平坦的表面。因此，在其上形成的反射膜213，其透過(guò)開口部213a的開口邊緣部分213b的反射面不具有光散射性，基本上成為鏡面狀態(tài)。
這樣，在基底層212的圖案形成時(shí)(例如，如果是上述制造方法，就是在進(jìn)行顯影時(shí))對(duì)開口邊緣部分212b的圖案形成處理的作用小，所以，顯影液等處理液就難于滲入基底層212與第1基板211之間，因此可以防止開口邊緣部分212b的緊密性(粘著力)降低和強(qiáng)度的劣化等，從而基底層212更難剝離。
另外，如圖9(c)所示，在形成基底開口部212a之后，通過(guò)形成反射膜213(例如，通過(guò)進(jìn)行圖11(d)和(e)所示的工序)，可以使反射膜213的一部分213c將基底層212的基底開口部212a的側(cè)面212c覆蓋。如果這樣，由于各種處理液等難于滲入第1基板211與基底層212之間或基底層212與反射膜213之間，基底層212相對(duì)于第1基板211的緊密性(粘著力)或反射膜213相對(duì)于基底層212的緊密性(粘著力)就難于被降低，所以，可以防止在反射膜213的形成之后的工序中基底層212或反射膜213的剝離。
本實(shí)施例所述的結(jié)構(gòu)，同樣可以適用于前面說(shuō)明的實(shí)施例2至實(shí)施例6。
實(shí)施例8.電光裝置下面，參照?qǐng)D14和圖15說(shuō)明具有與上述不同的結(jié)構(gòu)的其他電光裝置的結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例的電光裝置是具有電光裝置用基板310的有源矩陣型的液晶顯示裝置300。該液晶顯示裝置300是將電光裝置用基板310和與其相對(duì)的對(duì)置基板320通過(guò)密封部件330相互粘貼并將液晶32封入兩基板間而構(gòu)成的。在本實(shí)施例中，與上述實(shí)施例1不同的是，濾色器不是在電光裝置用基板310上形成而是在對(duì)置基板320上形成。
在電光裝置用基板310中，在基板311的內(nèi)面上，如圖14所示，和上述基底層一樣，形成具有表面凹凸形狀的基底層312和在其上兼作反射膜的像素電極315，并再在其上形成取向膜316。另外，在電光裝置用基板310的內(nèi)面上，以在相互交叉(正交)的方向上延伸的方式分別形成多個(gè)圖15中由虛線所示的掃描線313和圖14與圖15中表示剖面的數(shù)據(jù)線314。
在像素電極315的下層，如圖15所示，構(gòu)成TFT(薄膜晶體管)310T。在該TFT310T中，形成具有溝道區(qū)域310c、源極區(qū)域310s和漏極區(qū)域310d的半導(dǎo)體層，溝道區(qū)域310c以絕緣膜介于中間、與和上述掃描線313導(dǎo)電連接的柵極310g相對(duì)配置，源極區(qū)域310s與上述數(shù)據(jù)線314導(dǎo)電連接，漏極區(qū)域310d與上述像素電極315導(dǎo)電連接。TFT310T不限于具有逆參差(reverse stager)結(jié)構(gòu)的圖示的結(jié)構(gòu)，也可以具有柵電極配置在溝道層之上的結(jié)構(gòu)，另外，也可以采用眾所周知的LDD(Light Doped Drain，輕摻雜漏)結(jié)構(gòu)。
如圖14所示，在對(duì)置基板320中，在基板321的內(nèi)面上形成由ITO等透明導(dǎo)體構(gòu)成的對(duì)置電極322，并在其上形成將適當(dāng)?shù)闹珜?23形成為指定的排列形式的與實(shí)施例1一樣的濾色器，進(jìn)而再在其上形成取向膜324。
如圖15所示，在各像素區(qū)域設(shè)置了不形成像素電極315的像素間區(qū)域，在該像素間區(qū)域也不形成基底層312。另外，在像素區(qū)域設(shè)置基底開口部312a，該基底開口部312a構(gòu)成為在與圖的紙面正交的方向上延伸的縫隙狀。本實(shí)施例在相鄰的像素區(qū)域間不形成基底層312的基底開口部312a連續(xù)。即，在與圖的紙面正交的方向上相鄰的像素區(qū)域間基底開口部312a連續(xù)。更具體而言，基底開口部312a在與圖15(a)的紙面正交的方向(圖15(b)的上下方向)上橫貫(橫斷)像素電極315。另外，在與基底開口部312a平面看重疊的位置，形成有不形成反射膜315的透過(guò)開口部315a。因此，在本實(shí)施例中，和上述各實(shí)施例一樣，可以防止基底層312的剝離。但是，透過(guò)開口部315a不完全橫貫像素電極315，像素電極315通過(guò)像素聯(lián)絡(luò)部315b成為一體地連接的狀態(tài)。
在這樣構(gòu)成的液晶顯示裝置300中，在由掃描線313選擇的像素中，由數(shù)據(jù)線314供給的電位被供給像素電極315，液晶332的取向狀態(tài)根據(jù)在像素電極315與對(duì)置電極322之間形成的電場(chǎng)而變化，形成所希望的圖像。
但是，作為有源矩陣型的液晶顯示裝置，如上所述，不限于將TFT作為開關(guān)元件使用的方式，對(duì)于將TFD(薄膜二極管)作為開關(guān)元件使用的方式，同樣也可以應(yīng)用本發(fā)明。
本發(fā)明的上述電光裝置不僅是圖示例的液晶顯示裝置，而且在場(chǎng)致發(fā)光裝置、有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光裝置、等離子體顯示裝置、電泳顯示裝置、使用電子發(fā)射元件的裝置(Field Emission Display和Surface-ConductionElectron-Emitter Display等)等各種電光裝置中同樣也可以應(yīng)用本發(fā)明。
實(shí)施例9.電子設(shè)備最后，參照?qǐng)D16和圖17說(shuō)明本發(fā)明的電子設(shè)備的實(shí)施例。在本實(shí)施例中，說(shuō)明作為顯示單元具備上述電光裝置(液晶顯示裝置200)的電子設(shè)備。圖16是表示本實(shí)施例的電子設(shè)備中的液晶顯示裝置200的控制系統(tǒng)(顯示控制系統(tǒng))的全體結(jié)構(gòu)的概略結(jié)構(gòu)圖。這里所示的電子設(shè)備具有包含顯示信息輸出源291、顯示信息處理電路292、電源電路293、定時(shí)發(fā)生器294和光源控制電路295的顯示控制電路290。另外，在和上述相同的液晶顯示裝置200中，設(shè)置了驅(qū)動(dòng)具有上述結(jié)構(gòu)的液晶面板220P的驅(qū)動(dòng)電路220D。該驅(qū)動(dòng)電路220D如上所述由直接安裝在液晶面板220P上的電子部件(半導(dǎo)體IC261)構(gòu)成。該驅(qū)動(dòng)電路220D除了上述形式外，可以由在面板表面上形成的電路圖形或裝配在與液晶面板導(dǎo)電連接的電路基板上的半導(dǎo)體IC芯片或電路圖形等構(gòu)成。
顯示信息輸出源291具有由ROM(只讀存儲(chǔ)器)或RAM(隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)等構(gòu)成的存儲(chǔ)器、由磁記錄盤或光記錄盤等構(gòu)成的存儲(chǔ)單元和調(diào)諧輸出數(shù)字圖像信號(hào)的調(diào)諧電路，根據(jù)由定時(shí)發(fā)生器294生成的各種時(shí)鐘信號(hào)以指定格式的圖像信號(hào)等的形式將顯示信息供給顯示信息處理電路292。
顯示信息處理電路292具有串—并變換電路、放大·反相電路、旋轉(zhuǎn)電路、伽馬修正電路、箝位電路等眾所周知的各種電路，進(jìn)行輸入的顯示信息的處理，將該圖像信息與時(shí)鐘信號(hào)CLK一起供給驅(qū)動(dòng)電路220D。驅(qū)動(dòng)電路220D包含掃描線驅(qū)動(dòng)電路、信號(hào)線驅(qū)動(dòng)電路和檢查電路。另外，電源電路293分別將指定的電壓供給上述各結(jié)構(gòu)要素。
光源控制電路295根據(jù)從外部導(dǎo)入的控制信號(hào)將從電源電路293供給的電力供給照明裝置100的光源部110。從光源部110發(fā)出的光入射到導(dǎo)光板120，從導(dǎo)光板120照射到液晶面板220P上。該光源控制電路295根據(jù)上述控制信號(hào)控制光源部110的各光源的點(diǎn)亮和熄滅。另外，也可以控制各光源的亮度。
圖17表示作為本發(fā)明的電子設(shè)備的1個(gè)實(shí)施例的便攜電話的外觀。電子設(shè)備2000具有操作部2001和顯示部2002，電路基板2100配置在顯示部2002的內(nèi)部。上述液晶顯示裝置200裝配在電路基板2100上。并且，在顯示部2002的表面，可以觀看上述液晶面板220P。
權(quán)利要求
1.一種電光裝置用基板，其特征在于，具有配置在基板上的基底層；在上述基底層上疊層配置的反射膜；在包含上述反射膜和上述基底層的區(qū)域形成的多個(gè)像素區(qū)域；在每個(gè)上述像素區(qū)域設(shè)置的不形成上述反射膜的透過(guò)開口部；以及在與該透過(guò)開口部平面看重疊的位置配置的、并且遍及相鄰的上述像素區(qū)域之間不形成上述基底層的基底開口部。
2.按權(quán)利要求1所述的電光裝置用基板，其特征在于上述基底開口部構(gòu)成為沿上述像素區(qū)域的指定的排列方向連續(xù)的縫隙狀。
3.按權(quán)利要求2所述的電光裝置用基板，其特征在于各個(gè)上述像素區(qū)域具有長(zhǎng)方形的形狀，將其長(zhǎng)度方向?qū)?zhǔn)指定方向而排列，上述縫隙狀的基底開口部的上述指定的排列方向是與上述像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向交叉的方向。
4.按權(quán)利要求1所述的電光裝置用基板，其特征在于上述基底層具有表面凹凸形狀，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形狀的光散射性的發(fā)射面。
5.按權(quán)利要求4所述的電光裝置用基板，其特征在于在上述基底層的上述基底開口部的開口邊緣部分不形成上述表面凹凸形狀。
6.一種電光裝置用基板的制造方法，是在基板上形成相互疊層配置的反射膜和基底層并排列了包含上述反射膜和上述基底層的多個(gè)像素區(qū)域的電光裝置用基板的制造方法，其特征在于，包括以使每個(gè)像素區(qū)域存在不形成上述基底層的基底開口部并且遍及相鄰的上述像素區(qū)域間使上述基底開口部連續(xù)的方式形成上述基底層的工序；以及以使不形成上述反射膜的透過(guò)開口部位于與上述基底開口部平面看重疊的位置上的方式，形成上述反射膜的工序。
7.按權(quán)利要求6所述的電光裝置用基板的制造方法，其特征在于在形成上述基底層的工序中，通過(guò)使用指定的掩模對(duì)感光性樹脂進(jìn)行曝光和顯影，形成具有上述表面凹凸形狀的上述基底層。
8.一種電光裝置，其特征在于，具有電光層；與上述電光層相對(duì)配置的反射膜；在上述反射膜與上述電光層相反一側(cè)配置的基底層；在包含上述電光層和上述反射膜的區(qū)域形成的多個(gè)像素區(qū)域；在每個(gè)上述像素區(qū)域設(shè)置的不形成上述反射膜的透過(guò)開口部；以及配置在與該透過(guò)開口部平面看重疊的位置上并且遍及相鄰的上述像素區(qū)域間不形成上述基底層的基底開口部。
9.按權(quán)利要求8所述的電光裝置，其特征在于上述基底開口部構(gòu)成為沿上述像素區(qū)域的指定的排列方向相互連續(xù)的縫隙狀。
10.按權(quán)利要求9所述的電光裝置，其特征在于各個(gè)上述像素區(qū)域具有長(zhǎng)方形的形狀，將其長(zhǎng)度方向?qū)?zhǔn)指定方向而排列，上述縫隙狀的基底開口部的上述指定的排列方向是與上述像素區(qū)域的長(zhǎng)度方向交叉的方向。
11.按權(quán)利要求8所述的電光裝置，其特征在于上述基底層具有表面凹凸形狀，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形狀的光散射性的發(fā)射面。
12.按權(quán)利要求11所述的電光裝置，其特征在于在上述基底層的上述開口部的開口邊緣部分不形成上述表面凹凸形狀。
13.一種電光裝置的制造方法，是具有電光層、與該電光層相對(duì)配置的反射膜和在該反射膜與上述電光層相反側(cè)相鄰配置的基底層的、排列了包含上述電光層和上述反射膜的多個(gè)像素區(qū)域的電光裝置的制造方法，其特征在于，包括形成具有表面凹凸形狀的基底層的工序，該基底層存在于每個(gè)上述各像素區(qū)域并且具有在每個(gè)相鄰的上述像素區(qū)域連續(xù)的基底開口；以及形成在與上述基底開口平面看重疊的位置具有透過(guò)開口部、具有在上述基底層的表面上反映上述表面凹凸形狀的光散射性的反射面的上述反射膜的工序。
14.按權(quán)利要求13所述的電光裝置的制造方法，其特征在于在形成上述基底層的工序中，通過(guò)使用指定的掩模對(duì)感光性樹脂進(jìn)行曝光和顯影，形成具有上述表面凹凸形狀的上述基底層。
15.一種電子設(shè)備，其特征在于具有權(quán)利要求8至12的任意一項(xiàng)所述的電光裝置和該電光裝置的控制裝置。
全文摘要
在電光裝置用基板或電光裝置中，通過(guò)變更基底層的圖形形狀，使基底層難于剝離，由此抑制反射膜的不良的發(fā)生，提高產(chǎn)品的合格率。本發(fā)明的電光裝置用基板的特征在于在基板上形成相互疊層配置的反射膜(213)和基底層(212)，排列包含反射膜和基底層的一部分的多個(gè)像素區(qū)域，在每個(gè)像素區(qū)域設(shè)置不形成反射膜的透過(guò)開口部(213a)和配置在與該透過(guò)開口部平面看重疊的位置上的不形成基底層的基底開口部(212a)，在相鄰的上述像素區(qū)域間，基底開口部相互連續(xù)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK1591112SQ20041005703
公開日2005年3月9日 申請(qǐng)日期2004年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月25日
發(fā)明者大竹俊裕 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社