專利名稱：掩膜元件，用此元件制備掩膜的方法和用此掩膜制備感光樹(shù)脂印版的方法
背景技術(shù)：
1、發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種掩膜用元件，和用此元件制備掩膜的方法以及用此掩膜制備感光樹(shù)脂印版的方法。尤其是，本發(fā)明涉及一種掩膜用元件，其非常有利于制備用于感光樹(shù)脂印版如苯胺印版的掩膜，不需要用化學(xué)藥品處理，用激光束蝕刻具有極好的清晰度并且可用于制備大尺寸的印版；并涉及一種用此元件制備掩膜的方法；也涉及一種用此掩膜制備感光樹(shù)脂印版的方法。
2、現(xiàn)有技術(shù)描述已知，穿過(guò)具有特定圖案的作為負(fù)片的掩膜用光照射具有感光樹(shù)脂層的印版材料的感光樹(shù)脂層，然后清洗除去感光樹(shù)脂層的不曝光部分而形成印版，例如苯胺印版。
通常以銀鹽照相法或者其他不同的印刷方法，例如激光打印機(jī)法，制備用于感光樹(shù)脂印版的掩膜。然而，這些方法不能用于制備大尺寸的掩膜。例如，當(dāng)需要大尺寸掩膜，如一張報(bào)紙大小的掩膜時(shí)，要結(jié)合使用兩個(gè)或更多的掩膜并且形成的像不能相互干擾。再者，雖然照相法具有極好的分辨率，但由于必須在照相法的專用暗室中進(jìn)行操作且需要用多種化學(xué)藥品處理，所以照相法的缺點(diǎn)在于其很復(fù)雜。相反，就此印刷方法而言，由于可以直接用數(shù)字打印機(jī)形成圖案，所以操作簡(jiǎn)單。然而，ZANTE公司(美國(guó)公司)所提供的激光打印機(jī)法的缺點(diǎn)在于必須用化學(xué)藥品處理來(lái)改進(jìn)不透過(guò)光掩膜的性能而且分辨率不夠。
在制備印版領(lǐng)域中已經(jīng)公開(kāi)了使用激光束的技術(shù)，例如，日本專利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)Heisei5(1993)-24172已經(jīng)公開(kāi)了用激光束照射表面具有樹(shù)脂層的印版中的樹(shù)脂層的所需部分以至于樹(shù)脂層的所需部分或是升華或是分解而形成具有用于印刷的凹下部分的印版；和日本專利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)碼Heisei10(1999)-67088已經(jīng)公開(kāi)了用具有一層對(duì)電離輻射敏感的樹(shù)脂層和一層沉積在基片上的不透過(guò)電離輻射層的樹(shù)脂印版材料，用激光束除去與印刷圖像相對(duì)應(yīng)的不透過(guò)電離輻射層部分，而后電離輻射除去與上面除去部分相對(duì)應(yīng)的電離輻射敏感的樹(shù)脂層部分并且對(duì)上面照射過(guò)的對(duì)電離輻射敏感的樹(shù)脂層部分進(jìn)行顯影處理而形成印版。
然而，上述技術(shù)不用掩膜而用激光束直接照射樹(shù)脂印版來(lái)制備印版，并且這些技術(shù)不涉及掩膜的制備。
發(fā)明概述本發(fā)明的目的是提供一種掩膜用元件，不需要用化學(xué)藥品處理，用激光束蝕刻就可以具有極好的分辨率并且可用于制備大尺寸的印版，其非常便于制備用于感光樹(shù)脂印版如苯胺印版的掩膜；還提供一種用此元件制備掩膜的方法；也提供一種用此掩膜制備感光樹(shù)脂印版的方法。
本發(fā)明者經(jīng)過(guò)廣泛研究結(jié)果而達(dá)到上述目的，發(fā)現(xiàn)用下述元件可以達(dá)到該目的該元件具有一層具有透過(guò)紫外線的基片和一層具有特定的厚度和特殊性質(zhì)的且沉積在基片一面上的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層?；谏鲜鲋R(shí)本發(fā)明得以完成。
本發(fā)明提供(1)掩膜用元件，包括一層透過(guò)紫外線的基片膜和一層沉積在基片一面之上的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層，允許用激光束照射除去顏色，其紫外線透過(guò)率為0.1％或更小并且其厚度為0.1到30微米；(2)如(1)所述元件，其中不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層含有黑色系顏料；(3)如(1)和(2)任一項(xiàng)所述元件，其中不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層含有至少一種氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物和聚氨酯基樹(shù)脂；(4)如(1)到(3)任一項(xiàng)所述元件，其中不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層的表面具有H或者更高的鉛筆硬度；(5)制備掩膜的方法，包括用激光束照射蝕刻如(1)到(4)任一項(xiàng)所述掩膜元件中的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層和形成特定圖案；(6)制備感光樹(shù)脂印版的方法，包括使用按照如(5)所述方法制得的掩膜；和(7)如(6)所述的方法，其中感光樹(shù)脂印版是苯胺印版。
優(yōu)選實(shí)施方式說(shuō)明本發(fā)明掩膜用元件是包括透過(guò)紫外線基片膜和沉積在基片上的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層的且用于用激光束照射蝕刻樹(shù)脂層特定部分而制備印版的掩膜用元件。
對(duì)用于掩膜元件的基片膜沒(méi)有什么特別限制，只要這基片膜具有透過(guò)紫外線的特性就行。優(yōu)選具有下列性能的膜在光源(例如，360納米紫外線燈)的特性波長(zhǎng)固化感光樹(shù)脂印版的活性光的透過(guò)率為20％或者更高并具有顯示極好耐熱性，加熱時(shí)具有尺寸穩(wěn)定性和良好機(jī)械性能?；さ膶?shí)例包括聚酯基樹(shù)脂膜如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯和聚萘二甲酸乙酯，聚酰胺基樹(shù)脂，聚酰亞胺基樹(shù)脂，聚酰胺-酰亞胺基樹(shù)脂，聚醚醚酮基樹(shù)脂，聚醚砜基樹(shù)脂，聚醚酰亞胺基樹(shù)脂，聚砜基樹(shù)脂，聚苯硫基樹(shù)脂，聚酯酰亞胺基樹(shù)脂和這些樹(shù)脂的混合物?；ず穸韧ǔ＿x擇為25至250微米，優(yōu)選為80到200微米。
在本發(fā)明中，不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層將要沉積在其表面上的基片膜表面可以在需要的地方進(jìn)行無(wú)光處理。經(jīng)過(guò)無(wú)光處理的基片膜，可以改進(jìn)與未固化的感光樹(shù)脂印版材料的粘合。印刷的精度預(yù)期得以改善并且固化后除去感光樹(shù)脂印版材料的基片膜變得更為方便。因此，實(shí)用性得以改進(jìn)。無(wú)光處理的實(shí)例包括化學(xué)無(wú)光處理和砂磨無(wú)光處理。無(wú)光處理得到粗糙度大約為0.05到2.0微米R(shí)a。
在本發(fā)明的掩膜用元件中，沉積在基片膜的面上不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層平均厚度范圍選擇為0.1至30微米。當(dāng)厚度是小于0.1微米時(shí)，很難得到需要的抑制光透過(guò)的性質(zhì)。當(dāng)厚度超過(guò)30微米時(shí)，在印刷時(shí)線的間隔精度降低。況且，會(huì)出現(xiàn)激光束蝕刻的時(shí)間延長(zhǎng)并且由于激光束產(chǎn)生的熱量而使掩膜變形。樹(shù)脂層平均厚度優(yōu)選為0.5到20微米，更優(yōu)選為0.8至1 0微米。
按本發(fā)明掩膜用元件的紫外線的透過(guò)率為0.1％或者更小來(lái)選擇不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層。當(dāng)透過(guò)率超過(guò)0.1％時(shí)，會(huì)出在通過(guò)下列方法形成與掩膜上圖案相對(duì)應(yīng)的圖案時(shí)精度不夠活性光通過(guò)掩膜用元件得到的掩膜照射感光樹(shù)脂層，隨后顯影經(jīng)照射的光敏層。
不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層可以包含黑色系顏料，因此該樹(shù)脂層不透過(guò)紫外線。黑色系顏料的實(shí)例包括炭黑，黑鉻氧化物，鈦黑，黑色氧化鐵，黑色有機(jī)顏料，如苯胺黑和用混合至少二種選自紅色，藍(lán)色，綠色，紫色，黃色，青色和洋紅色從而呈現(xiàn)人造黑色的有機(jī)顏料的混合有機(jī)顏料。黑色系顏料可以單獨(dú)用或者兩個(gè)或更多個(gè)混合用。由于碳黑的黑度大，顆粒直徑小可以在樹(shù)脂層中混合均勻和完全分解變成二氧化碳?xì)怏w而沒(méi)有殘留的有色物剩下，因而在上述黑色系顏料之中優(yōu)選炭黑。根據(jù)制備方法，炭黑的類型包括槽法炭黑，爐法炭黑，乙炔黑和熱炭黑?？梢允褂萌魏晤愋偷奶亢?。炭黑的平均直徑通常大約為10至30納米。
根據(jù)黑色系顏料的類型適當(dāng)選擇樹(shù)脂層中黑色顏料的含量。當(dāng)炭黑作為黑色顏料時(shí)，含量通常大約為20至60％(重量)。
用于不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層的樹(shù)脂沒(méi)有特別限制，只要當(dāng)樹(shù)脂形成的層的厚度小和樹(shù)脂層表面沒(méi)有粘合性的時(shí)，黑色顏料還能極好分散以至于樹(shù)脂層能充分抑制紫外線的透過(guò)。許多樹(shù)脂能用于不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層。這樣的樹(shù)脂的例子包括氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物，乙烯-丙烯酸酯基共聚物，苯乙烯基共聚物，聚烯烴基共聚物，丙烯酸樹(shù)脂，醋酸乙烯酯基共聚物，聚氨酯基樹(shù)脂，氯乙烯基樹(shù)脂和偏二氯乙烯基樹(shù)脂。這些樹(shù)脂可以單獨(dú)用或者兩種或更多種混合用。在上述樹(shù)脂之中，優(yōu)選氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物，聚氨酯基樹(shù)脂以及氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物和聚氨酯基樹(shù)脂的混合樹(shù)脂。
當(dāng)用大輸出功率的激光束照射含有上述成分樹(shù)脂層時(shí)，黑色系顏料吸收特定波長(zhǎng)的激光束能量和被照射部分局部受熱。樹(shù)脂層中受熱部分的黑色系顏料和樹(shù)脂由于熱量而分解或者升華，黑色系顏料消失。因此，樹(shù)脂層部分顏色消失并且樹(shù)脂層透過(guò)紫外線。優(yōu)選用激光束照射除去顏色的掩膜用元件的部分的紫外線透過(guò)率為基片膜的紫外線透過(guò)率的20％或者更大。
在本發(fā)明中，制備包括適當(dāng)?shù)娜軇鲜龊谏殿伭系暮蜕鲜鰳?shù)脂的涂布液，隨后按照傳統(tǒng)的涂布法例如刮棒涂布法、刮刀涂布法輥涂法、刮板涂布法、口模涂布法(die coating process)和照相凹版式涂布法，把制備的涂布液涂到基片膜的一個(gè)面上并在加熱和固化條件下干燥處理涂覆層，由此形成上述樹(shù)脂層。
如上所述制得的樹(shù)脂表面層優(yōu)選具有H或者更大的鉛筆硬度。當(dāng)這表面具有小于H的鉛筆硬度時(shí)，通過(guò)使用本發(fā)明的掩膜元件制得的掩膜中的樹(shù)脂層易受到損傷且印刷的精度可能降低。在本發(fā)明中，如果需要，在上述樹(shù)脂層上可以形成含有丙烯酸樹(shù)脂的澄清涂覆膜保護(hù)樹(shù)脂層。
可以按照下列方法制備本發(fā)明中的掩膜，該方法包括用激光束照射蝕刻如上所述得到的掩膜元件中的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層和形成特定圖案作為在上述方法中用的激光振蕩器，例如，可以使用紅外激光器如二氧化碳激光器(振動(dòng)波長(zhǎng)1,060納米)，釹YAG激光器(振動(dòng)波長(zhǎng)1,060納米)和釹玻璃激光器(振動(dòng)波長(zhǎng)1,060納米)。在激光振蕩器中優(yōu)選釹YAG激光器。激光振蕩器可以是連續(xù)振蕩類型或者脈沖類型的任一種。根據(jù)不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層的厚度和樹(shù)脂類型可以相應(yīng)選擇輸出功率。當(dāng)使用連續(xù)振蕩類型的振蕩器時(shí)，通常輸出功率范圍大約為0.5到10千瓦。
優(yōu)選能夠通過(guò)數(shù)字控制照射特定部分的儀器作為激光振蕩器。當(dāng)使用這種儀器時(shí)，電腦把印刷圖案存儲(chǔ)成數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)和然后通過(guò)計(jì)算機(jī)控制制備掩膜。
對(duì)根據(jù)本發(fā)明制備的掩膜的應(yīng)用沒(méi)有特殊的限制。該掩膜可以用于其中具有特定圖案的透過(guò)型的膜用作掩膜的多種應(yīng)用中。例如，掩膜有利于用作在制備感光樹(shù)脂印版中。應(yīng)用本發(fā)明感光樹(shù)脂印版的例子，包括苯胺印版，活版印刷印版，膠印版，照相凹版印版和絲網(wǎng)印版。在這些應(yīng)用之中，本發(fā)明優(yōu)選應(yīng)用在制備苯胺印版中使用的負(fù)片上。
在生產(chǎn)印刷電路板中使阻焊劑能在除了焊接部分外的電路導(dǎo)電的材料整個(gè)表面上形成涂覆膜。當(dāng)將電子元件焊接到印刷電路板時(shí)，阻焊劑起保護(hù)膜的作用，防止焊接到不需要焊接的部分并防止直接暴露于空氣中時(shí)氧氣和水汽對(duì)電路導(dǎo)電材料的蝕刻。
作為阻焊劑，通常使用含有用稀堿顯影過(guò)的感光樹(shù)脂的阻焊劑。按照下列方法使用阻焊劑用阻焊劑涂覆印刷電路的基片；在臨時(shí)的干燥步驟中干燥形成的涂覆膜表面直到不顯現(xiàn)粘合性；和這樣形成的阻焊劑通過(guò)掩膜暴露在光下，用稀堿溶液進(jìn)行顯影處理然后加熱固化。
本發(fā)明所得的掩膜也能用作阻焊劑的掩膜。
用如上所述的掩膜可以制備本發(fā)明的感光樹(shù)脂印版。感光樹(shù)脂印版的實(shí)例包括多種如上所述的印版。在這些印版中，優(yōu)選苯胺印版。
為了制備苯胺印版，例如，用片狀的，可溶于顯影液(沖洗液)的未固化的感光樹(shù)脂制成的印版材料。用活性光例如紫外線照射的感光樹(shù)脂部分，由于通過(guò)反應(yīng)例如交聯(lián)和聚合固化，而不能溶解于顯影液中。印版材料有時(shí)具有多層結(jié)構(gòu)，包括橡膠狀高彈體，如聚異戊二烯和NBR的基片層。
通常，可以根據(jù)下列方法制備苯胺印版。
苯胺印版材料的背面首先曝露在紫外線中。用本發(fā)明制得的具有所需圖案的掩膜作為負(fù)片并緊緊地附著于印版材料的背面，以至于掩膜的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層附著在印版材料上。苯胺印版材料主要通過(guò)附著的掩膜的紫外線曝光。然后除去掩膜和通過(guò)顯影(沖洗)處理殘留的印版材料來(lái)除去未曝光的部分的樹(shù)脂，隨后干燥。對(duì)生成的印版材料進(jìn)一步用紫外線進(jìn)行后曝光照射，得到想要的苯胺印版。對(duì)于每次紫外線曝光來(lái)說(shuō)通常使用的紫外線波長(zhǎng)范圍為300到400納米。
通常如上所述制備的苯胺印版的Shore A硬度大約為40到50。
總結(jié)本發(fā)明具有的優(yōu)點(diǎn)，掩膜元件有利于生產(chǎn)用于制備感光樹(shù)脂印版，例如苯胺印版的掩膜，不需要用化學(xué)藥品處理，用激光束蝕刻就具有極好的分辨率和能用于制備大尺寸的的印版。
使用掩膜元件可以制備掩膜和具有所需圖案的感光樹(shù)脂印版。
實(shí)施例參考下列實(shí)施例可以更準(zhǔn)確描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明不局限于這些實(shí)施例。
實(shí)施例1厚度為188微米的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)膜的一個(gè)表面經(jīng)過(guò)噴砂無(wú)光處理(無(wú)光澤的粗糙度為0.39微米R(shí)a)。在此加工表面上涂上含有一定量炭黑的樹(shù)脂液體[DAINICHI-SEI KA COLOR&CHEMICALS MFG.Co.，Ltd.制備；商品名″MU1720 BLACK″；樹(shù)脂成分氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物；炭黑的平均直徑14納米；非揮發(fā)性成分的含量29％(重量)；樹(shù)脂成分/炭黑的重量比2/1]以致于干燥后其平均厚度為2微米。上述涂層干燥形成不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層然后制備掩膜元件。元件的性能如表1所示。
實(shí)施例2厚度為188微米的PET膜的一個(gè)表面經(jīng)過(guò)噴砂無(wú)光處理。在此加工表面上涂上含有一定量炭黑的樹(shù)脂液體[DAINICHI-SEIKACOLOR & CHEMICALS MFG.Co.，Ltd.制備；商品名″SEIKA SEVENALT8794 BLACK″；樹(shù)脂成分聚氨酯；非揮發(fā)性成分的含量30.5％(重量)；樹(shù)脂成分/炭黑的重量比1/1]以致于干燥后其平均厚度為1微米。上述涂層干燥形成不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層然后制備掩膜元件。元件的性能如表1所示。
實(shí)施例3厚度為188微米的PET膜的一個(gè)表面經(jīng)過(guò)噴砂無(wú)光處理。在此加工表面上涂上一定量的由100份(重量)含有炭黑[如上所述的″MU1720 BLACK″]的樹(shù)脂液體，10份(重量)的聚氨酯樹(shù)脂液[DAINICHI-SEIKA COLOR & CHEMICALS MFG.Co.，Ltd.制造；商品名″LEATHEROID LU-2830HV″；非揮發(fā)性成分的含量30％(重量)]和0.2份(重量)的聚異氰酸酯基交聯(lián)劑[DAINICHI-SEIKACOLOR & CHEMICALS MFG.Co.，Ltd.制造；商品名″RESAMINE NE-C″；非揮發(fā)性成分的含量75％(重量)]制備的混合液體以致于干燥后其平均厚度為2微米。上述涂層干燥形成不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層然后制備掩膜元件。元件的性能如表1所示。
對(duì)比例1厚度為188微米的PET膜的一個(gè)表面經(jīng)過(guò)噴砂無(wú)光處理。在此加工表面上涂上含有一定量的染料的樹(shù)脂液體[TOYO INK SEIZOCo.，Ltd.制備；商品名″AIZEN SPILON BLACK FS-LIQUID″；非揮發(fā)性成分的含量30％(重量)]以致于干燥后其平均厚度為4微米。上述涂層干燥形成不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層然后制備掩膜元件。元件的性能如表1所示。
表1實(shí)施例 1 2 3對(duì)比例 1樹(shù)脂類型氯乙烯-醋 聚氨脂 氯乙烯-醋 只有PET酸乙烯醋 酸乙烯醋- (厚度為共聚物 共聚物+聚 188微米，氨脂 無(wú)光處理)樹(shù)脂層平2 1 2 4 -均厚度(微米)紫外線 0.01＞0.01＞0.01＞ 0.1562.6(360納米)的透過(guò)率(％)激光束 0.57 0.01＞1.1 83.081.3(1,060納米)蝕刻后紫56.7 52.0 55.449.2 -外線(360納米)透過(guò)率鉛筆硬度3HH HHB -注釋(1)透過(guò)率在波長(zhǎng)360納米或者1,060納米時(shí)，用紫外線和可見(jiàn)光的分光光度計(jì)測(cè)量透過(guò)率。(2)鉛筆硬度按日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)K5400的方法測(cè)量鉛筆硬度。表面經(jīng)過(guò)噴砂無(wú)光處理的厚度為188微米的PET膜在光的波長(zhǎng)為360納米時(shí)透過(guò)率為62.6％且在光的波長(zhǎng)為1,060納米時(shí)透過(guò)率為81.3％。
實(shí)施例4用在實(shí)施例1得到掩膜元件制備掩膜，用所得掩膜制備苯胺印版并根據(jù)下列步驟制備的苯胺印版進(jìn)行印刷試驗(yàn)。
(1)掩膜的制備實(shí)心圖案，多種尺寸的字符(字體Helvetica)，線和網(wǎng)作為正性或者負(fù)性圖案制備出來(lái)并用來(lái)檢驗(yàn)印刷的精度。對(duì)圖案進(jìn)行數(shù)字化處理并放入儀器中用于激光束照射(釹YAG激光振蕩器，發(fā)射波長(zhǎng)為1,060納米激光束；輸出功率25千瓦)。
用激光束照射器發(fā)射激光束連續(xù)地照射在實(shí)施例1制得的掩膜元件的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層并按照?qǐng)D案進(jìn)行蝕刻。這樣，制得掩膜。
(2)苯胺印版的制備用制備苯胺印版的機(jī)器[TAKANO KIKAl SEISAKUSHO Co.，Ltd.制造；商品名″DX-A3″]，繼續(xù)進(jìn)行下列制備苯胺印版的后續(xù)步驟和制備苯胺印版。
感光樹(shù)脂[Du Pont Company制造；商品名″SIREL AQS″；厚度1.7毫米]苯胺印版材料的背面用波長(zhǎng)為360納米紫外線照射55秒進(jìn)行紫外線曝光。然后，用上面在(1)得到掩膜緊緊地附著于上述處理過(guò)的苯胺印版材料的背面以至于掩膜的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層附著于印版材料上并通過(guò)掩膜進(jìn)行紫外線長(zhǎng)曝光14分鐘。
從印版材料上剝?nèi)パ谀げ⒂煤?％(重量)的表面活性劑的水在55℃沖洗該印版材料22分鐘30秒除去未暴露于紫外線的印版材料部分。然后在70℃干燥印版材料20分鐘并再用紫外線照射35分鐘進(jìn)行紫外線后曝光。因此，得到具有所需圖案的進(jìn)行印刷試驗(yàn)的苯胺印版。
(3)印刷試驗(yàn)用上述(2)中得到的苯胺印版，根據(jù)下列條件進(jìn)行印刷試驗(yàn)和評(píng)價(jià)其性能。評(píng)價(jià)結(jié)果如表2所示。
苯胺印版印刷機(jī)器LINTEC Corporation制造；商品名″MA2200″印刷制品涂布的紙[OJI SEISHI Co.，Ltd.制造；商品名″OKTOP COAT 127.9g/m2″]墨水T&K TOKA Co.，Ltd.制造；商品名″UV FLEXO INDIGO″印刷速度50米/分鐘(4)印刷的精度根據(jù)下列標(biāo)準(zhǔn)用目視觀察評(píng)價(jià)印版的檢驗(yàn)圖案的印刷精度字體極好2pt大小或者更小的圖案印刷清楚。
好3pt大小的圖案印刷清楚和2pt大小的圖案印刷不清楚。
差3pt大小的圖案印刷不清楚。
線極好0.1pt大小的圖案印刷清楚。
好0.2pt大小的圖案印刷清楚和0.1pt大小的圖案印刷不清楚。
差0.2pt大小的圖案印刷不清楚。
網(wǎng)極好網(wǎng)格點(diǎn)的大小和形狀均勻重現(xiàn)。
好網(wǎng)格點(diǎn)的大小和形狀輕微不均勻重現(xiàn)。
差網(wǎng)格點(diǎn)的大小和形狀不均勻重現(xiàn)。
實(shí)心極好顏色無(wú)缺陷和實(shí)心均勻重現(xiàn)。
好顏色有缺陷。
差顏色有缺陷和實(shí)心不均勻重現(xiàn)。
上述，pt意思如下字體1pt＝字符的大小0.35毫米×0.35毫米線1pt＝線寬0.35毫米實(shí)施例5和6和對(duì)比例2用在實(shí)施例2和3和對(duì)比例1制備的掩膜元件，按照實(shí)施例4中同樣的方法制備苯胺印版。評(píng)價(jià)用每個(gè)苯胺印版印刷的精度。評(píng)價(jià)結(jié)果如表2所示。
對(duì)比例3用激光打印機(jī)，在聚酰亞胺薄膜上制備出和實(shí)施例4同樣的印刷圖案。然后，用ZANTE公司提供的FILMSTAR II SYSTEM的化學(xué)處理劑使顯示圖案的色調(diào)變黑(抑制光的透過(guò))并用印刷機(jī)制備掩膜。除了使用上面制備的掩膜外按實(shí)施例4同樣的方法，制備苯胺印版。然后，進(jìn)行印刷試驗(yàn)和按實(shí)施例4同樣的方法進(jìn)行性能評(píng)價(jià)。評(píng)價(jià)結(jié)果如表2所示。
表2實(shí)施例 4 5 6對(duì)比例 2 3掩膜元件 實(shí)施例1 實(shí)施例2實(shí)施例3 對(duì)比例1制備方法 激光 激光 激光激光 打印機(jī)掩膜 蝕刻 蝕刻 蝕刻蝕刻 打字負(fù)片 好 好 好 差 好正片 極好 極好 極好好 差線片 好 好 好 差 好正片 極好 極好 極好差 差網(wǎng)高亮度 好 好 好 差 差中間調(diào) 好 好 好 差 差陰影 好 好 好 差 差實(shí)心 極好 極好 極好好 極好
權(quán)利要求
1.一種掩膜元件，包括透過(guò)紫外線的基片膜和沉積在基片膜一個(gè)表面上的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層，用激光束照射能除去其顏色，其紫外線的透過(guò)率為0.1％和更小并且其厚度為0.1到30微米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的元件，其中不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層含有黑色系顏料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2任一項(xiàng)的元件，其中不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層包括氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物和聚氨酯基樹(shù)脂中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1到3任一項(xiàng)的元件，其中不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層的表面具有H或者更大的鉛筆硬度。
5.一種制備掩膜方法，包括用激光束照射蝕刻根據(jù)權(quán)利要求1到4任一項(xiàng)所述的掩膜元件中不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層和形成特定圖案。
6.一種制備感光樹(shù)脂印版的方法，包括使用根據(jù)權(quán)利要求5的方法制得的掩膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6的方法，其中感光樹(shù)脂印版為苯胺印版。
全文摘要
一種掩膜元件，包括透過(guò)紫外線的基片膜和沉積在基片膜一個(gè)表面上的不透過(guò)紫外線的樹(shù)脂層，用激光束照射能除去其顏色，其紫外線的透過(guò)率為0.1％和更小并且其厚度為0.1到30微米；一種用該元件制備掩膜的方法；和一種用掩膜制備感光樹(shù)脂印版的方法。這種掩膜有利于制備印版，如感光印版。掩膜元件提供激光束蝕刻的掩膜。
文檔編號(hào)G03F1/00GK1444097SQ0312860
公開(kāi)日2003年9月24日 申請(qǐng)日期2003年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月28日
發(fā)明者三橋正文, 柴野富四 申請(qǐng)人:琳得科株式會(huì)社