專利名稱：熱敏性平版印刷版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及能用作平版印刷用原版(以下也稱PS版)的熱敏性平版印刷版。尤其是能利用可見光或紅外線等各種激光按照數(shù)字信號可直接制版，而且能水顯影或不經(jīng)過顯影就能裝到印刷機上進行印刷的熱敏性平版印刷版。特別涉及適于無任何處理制造印刷版的熱敏性平版印刷版。
以往利用PS版制造印刷版時，包括以下工序，即在曝光后與除去支撐體表面圖像狀感光層(成像層)利用濕法顯影工序，將顯影處理的印刷版用水洗水洗滌，或者用含有表面活性劑的漂洗液、含有阿拉伯樹膠、淀粉衍生物的不敏感脂化液等進行后處理工序。
另一方面，近年來在制版、印刷業(yè)界由于顯影廢液的堿性而產(chǎn)生環(huán)境問題。隨著制版業(yè)的合理化進展，而希望有一種不需要上述那樣復雜的濕法顯影處理，而在曝光后能直接用于印刷的印刷版用原版。
在特開平7-186562號公報中記載了適于制造陽性型無處理平版印刷版材的對射線敏感的成像材料。該公報中還記載了具有特定羧酸硅結(jié)構(gòu)的化合物。它們含有在加熱或酸的作用下由疏水性變?yōu)橛H水性的官能團。雖然用這樣的化合物在曝光后即使不顯影處理也能進行印刷，并能就得滿足要求的印刷物；但仍期望進一步提高其耐印刷性。
本發(fā)明的目的是提供一種能水顯影，或影像輸入后無需濕法顯影或擦拭等特別處理的對射線敏感的平版印刷版；特別是利用放射紅外線的固體激光或半導體激光進行記錄的可根據(jù)數(shù)字數(shù)據(jù)能直接制版的熱敏性平版印刷版。
本發(fā)明的另一目的是提供耐印刷性優(yōu)秀的陽性型熱敏性平版印刷版。
經(jīng)過本發(fā)明者們的精心研究，制造出一種具有由加熱引發(fā)親水性變化的聚合物成像層，而且比聚合物通過光交聯(lián)反應(yīng)而交聯(lián)的熱敏性平版印刷版，從而達到了上述目的。
本發(fā)明的熱敏性平版印刷版，通過其成像層中含有特定的聚合物，從而提高了成像層的膜強度。
本發(fā)明的熱敏性平版印刷版在利用加熱手段產(chǎn)生的熱或利用酸生成手段產(chǎn)生的酸，可使上述聚合物的影像部分親水性發(fā)生變化，不需要成像顯影處理，即可進行印刷，能獲得滿足要求的印刷物，同時其耐印刷性也是優(yōu)越的。而且，由光交聯(lián)反應(yīng)而交聯(lián)的聚合物與由熱交聯(lián)的方法不同，由于不通過加熱而交聯(lián)，就意味著有效地保護了因加熱而產(chǎn)生親水性變化的官能團。
本發(fā)明的熱敏性平版印刷版的成像層中含有的聚合物，因熱而使親水性變化，因光交聯(lián)反應(yīng)而交聯(lián)，但對此并沒有特別的限定。
上述的親水性變化，無論是從疏水性向親水性變化，或是從親水性向疏水性變化，均可以，最好是從疏水性親水性變化。
上述的親水性變化，在由疏水性向親水性變化時，本發(fā)明的熱敏性平版印刷版，形成有陽性型；在由親水性向疏水性變化時就形成負性型。
上述聚合物的親水性變化，最好是由聚合物的支鏈上具有的受熱而使親水性發(fā)生變化的基因來完成。
作為由熱引發(fā)的親水性變化的基因，最好是受熱由疏水性向親水性變化的基因，作為具體的例子，首先對從磺酸酰基，二磺酰基，磺酰亞胺基以及烷氧基烷脂中選出至少一種官能團的具體實例進行詳細說明。
磺酸脂基、二磺?；?、磺酰亞胺基分別可用下列的一般式(1)、(2)、(3)表示。一般式(1)-L-SO2-O-R1一般式(2)-L-SO2-SO2-R2一般式(3) 式中L表示將一般式(1)、(2)、(3)所示官能團連接到聚合物骨架上所需要的由多價的非金屬原子構(gòu)成的有機基團，R1、R2、R3、R4表示置換或無置換的芳基、置換或無置換的烷基或環(huán)亞胺基。
在R1、R2、R3、R4表示芳基或置換的芳基時，在芳基上含有碳環(huán)芳基和雜環(huán)芳基。作為碳環(huán)芳基有苯基、萘基、蒽基、芘基等碳原子數(shù)為6至19的化合物，二作為雜環(huán)芳基有吡啶基、呋喃基以及由苯環(huán)縮成的喹啉基、苯并呋喃基、硫雜蒽酮基、咔唑基等碳原子數(shù)為3至20、并含有雜原子數(shù)為1至5的化合物。R1、R2、R3、R4在表示置換的烷基時，該烷基有甲基、乙基、異丙基、叔丁基、環(huán)己基等直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀碳原子數(shù)為1至25的化合物。
R1、R2、R3、R4表示置換芳基、置換雜環(huán)芳基、置換烷基時，作為置換基可以舉出甲氧基、乙氧基等的碳原子數(shù)為1至10的烷氧基、氟原子、氯原子、溴原子等鹵素原子，三氟甲基、三氯甲基等鹵素置換的烷基、甲氧羰基、乙氧羰基、叔丁氧羰基、對-氯苯羰基等碳原子數(shù)為2至15的烷氧羰基或芳氧羰、羥基、乙酰氧基、苯酰氧基、對-二苯氨基苯酰氧基等酰氧基，叔丁氧羰氧基等的碳酸鹽基，叔丁氧羰甲氧基、2-吡喃氧基等醚基、氨基、二甲氨基、二苯氨基、嗎啉代基、乙酰氨基等置換、非置換的氨基，甲硫基、苯硫基等硫醚基，乙烯基、苯烯基等鏈烯基，硝基、氰基、甲酰基、乙?；?、苯甲酰基等?；交?、萘基一類的芳基、吡啶基一類的雜環(huán)芳基等等。再有，R1～R4是置換芳基、置換雜環(huán)芳基時，作為置換基除了上述的以外還能用甲基、乙基等烷基。
R1、R2、R3、R4表示環(huán)狀亞胺基時，作為環(huán)狀亞胺可以用琥珀酸亞胺、苯二甲酰亞胺、環(huán)己二羧酸亞胺、降冰片烯二羧酸亞胺等碳原子數(shù)為4至20的化合物。
上述R1、R2、R3、R4最好采用的是用鹵素、氰基、硝基等吸電子性基團置換的芳基；用鹵素、氰基、硝基等吸電子性基團置換的烷基；2級或3級支鏈狀的烷基、環(huán)烷基以及環(huán)亞胺。
用L表示的由非金屬原子構(gòu)成的多價連結(jié)基團，是含從1至60個碳原子、從0至10個氮原子、從0至50個氧原子、從1至100個氫原子以及從0至20個硫原子組成的化合物。作為更具體的連結(jié)基團，可以舉出由下列結(jié)構(gòu)單元組合而成的化合物。化2
多價連結(jié)基團具有置換基時，作為置換基可以采用甲基、乙基等碳原子數(shù)從1至20的烷基，苯基、萘基等碳原子數(shù)從6至16的芳基，羥基、羰基、磺酰胺基、N-磺酰胺基、乙酰氧基一類的碳原子數(shù)從1至6的酰氧基，甲氧基、乙酰氧基一類的碳原子數(shù)從1至6的烷氧基，氯、溴一類的鹵原子，甲氧羰基、乙氧羰基、環(huán)乙氧羰基一類的碳原子數(shù)為2至7的烷氧羰基，氰基、叔丁基碳酸一類的碳酸?；取?br> 烷氧基烷?；梢杂孟铝幸话闶?4)表示。一般式(4) 式中R11表示氫原子，R12表示氫原子或碳原子數(shù)在18個以下的烷基，R13表示碳原子數(shù)在18個以下的烷基。還有，R11、R12和R13也可以在內(nèi)部兩兩結(jié)合形成空間，特別是由R12和R13結(jié)合形成5或6圓環(huán)較好。
雖然舉出了以上一般式(1)-(4)所表示的化合物，但較好的是式(1)表示的磺酸?；鸵话闶?4)表示的烷氧烷酰基，特別好的是一般式(1)表示的磺酸?；?。以下列出一般式(1)-(4)表示的官能團的具體例子。
化5

化6
上述官能團在加熱或酸的作用于聚合物時，起到由疏水性向親水性變化的作用。特別是這些官能團最好使聚合物的墨中水滴接觸角降低15°以上，即，作為聚合物在空中的水滴接觸角受到加熱或酸的作用會降低15°以上，最好是最初為疏水性變成親水性的聚合物，進而作為聚合物，這種空中水滴接觸角最好降低40°以上。作為上述聚合物具體說，空中水滴接觸角，當初為60°以上的聚合物，但經(jīng)加熱或酸作用后會降至20°以下。
本發(fā)明熱敏性平版印刷版的成像層中含有的聚合物是受熱親水性發(fā)生變化，加之用光交聯(lián)反應(yīng)會形成交聯(lián)的物質(zhì)。
以下對利用光交聯(lián)形成交聯(lián)聚合物進行詳細說明。
光交聯(lián)有光二聚、光游離基聚合的方法。在聚合物上嵌入交聯(lián)活性基，以其自身或與單體反應(yīng)而形成交聯(lián)。
光二聚反應(yīng)是利用自身的官能團對光的吸收，或利用光敏感劑在光照射下引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。
光游離基聚合交聯(lián)是利用廣為知曉的光聚合引發(fā)劑，在光照射下引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。
由光交聯(lián)反應(yīng)而交聯(lián)的聚合物，是含有光交聯(lián)性官能團，其別名叫硬化性官能團的單體和含有受熱產(chǎn)生親水性變化的基團的單體共聚而成的。
“光硬化官能基團”是指受光而引發(fā)樹脂硬化反應(yīng)的官能基團。
關(guān)于光硬化官能基團，具體的可采用在乾英夫、永松元太郎著的“光敏性高分子(講談社.1977年出版)，角田隆弘著的“彩光敏生樹脂”(印刷學會出版部1981年出版)、G.E.Green和B.P.strak發(fā)表在J.Macro.Sci.Reas.Chem.C21(2).187～273(1981～82)和C.G.Rattey發(fā)表在“表面涂層的光聚合”(A.Wiley Inter Science Pub.1982年出版)的文章等總論中列舉的作為光硬化性樹脂，早已應(yīng)用于感光性樹脂等中的公知官能基團。
例如可以列舉出聚合型二聚結(jié)合基、光交聯(lián)型二聚結(jié)合基等。 作為聚合型二聚結(jié)合基，具體的可以列舉出以下基團。CH2=CH-,CH2=CHCH2-,CH2=CHCOO-,CH2=C(CH3)COO-,C(CH3)H=CHCOO-,CH2=CHCONH-,CH2=C(CH3)CONH-,C(CH3)H=CHCONH-,CH2=CHOCO-,CH2=C(CH3)OCO-,CH2=CHCH2OCO-,CH2=CHNHCO-,CH2=CHCH2NHCO-,CH2=CHSO2-,CH2=CHCO-,CH2=CHO-,CH2=CHS-。
作為光交聯(lián)型二聚結(jié)合基，特別是以下列一般式(A)所示的順丁烯二酰亞胺基為好。一般式(A) [式(A)中R2和R3分別表示氫原子，鹵原子和烷基，R2和R3也可以結(jié)合形成5元或6元環(huán)]這里的R2和R3的烷基的碳原子數(shù)1～4為好，特別好的是甲基。R2和R3結(jié)合形成6元環(huán)也很好。鹵原子以氯、溴和碘原子為好。
以順丁烯二酰亞胺的具體例子在特開昭52-988號(對應(yīng)于美國專利4,079,041號)公報，西德專利2,626,769號說明書，歐洲專利21,019號說明書，歐洲專利3,552號說明書或Die AngewandteMackromolek ulare Chemi.115卷(1983)的163～181頁，特開昭49-128,911號～128993號、特開昭50-5376號～5380號，特開昭51-5298號～5300號，特開昭50-50107號，特開昭51-47940號，特開昭52-13907號，特開昭50-45076號，特開昭52-121700號，特開昭50-10844號，特開昭50-45087號，特開昭58-43951號等各公報，西德專利2,349,948號，2,616,276號等公報上均有記載。
本發(fā)明可以使用這些化合物中例如以下述一般式(B)～(D)表示的單體。 一般式(C) [化學式10] [式(B)～(D)中的R2和R3與一般式(A)中的R2和R3定相同，R4表示氫原子或甲基，n1、n2和n3為整數(shù)，以1～6為好]還有，作為光游離基聚合交聯(lián)中使用的單體，是含有能加成聚合二聚結(jié)合基的化合物。詳細地說，可以從末端至少有1個，最好有2個以上不飽和乙烯鍵的化合物中任意選擇。
例如具有單體，預聚物即二聚物，三聚物以及低聚物或它們的混合物以及它們的共聚物等化學形態(tài)的化合物。
作為單體及其共聚物的例子，可以列舉如不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣糠酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸等)和脂肪族多價醇化合物的脂、不飽和羧酸和脂肪族多價胺化合物的酰胺等。
脂肪族多價醇化合物和不飽和羧酸生成的酯單體的具體例子，作為丙烯酸酯的有二丙烯酸乙二酯，二丙烯酸三乙二酯，二丙烯酸-1,3-丁二酯，二丙烯酸四亞甲基乙二酯，二丙烯酸丙二酯，二丙烯酸新戊二酯，丙基三丙烯酸三甲酯，三羥甲基丙基三(丙烯酰氧丙基)醚，乙基三丙烯酸三甲酯，二丙烯酸己巰酯，二丙烯酸-1,4-環(huán)己巰酯，二丙烯酸四乙二酯，二丙烯酸季戊四酯，三丙烯酸季戊四酯，四丙烯酸季戊四酯，二丙烯酸二季戊四酯，戊基丙烯酸二季戊四酯，己基丙烯酸二季戊四酯，三丙烯酸山梨醇酯，四丙烯酸山梨醇酯，戊基丙烯酸山梨醇酯，己基丙烯酸山梨醇酯，三(丙烯酰氧乙基)三異氰酸酯，甲基丙烯酸四甲酯，聚丙烯酸酯低聚體等。
作為甲基丙烯酸酯的有二甲基丙烯酸四乙二酯，二甲基丙烯酸三乙二酯，二甲基丙烯酸新戊二酯、丙基三甲基丙烯酸三甲酯，乙基三甲基丙烯酸三甲酯，二甲基丙烯酸乙二酯，二甲基丙烯酸-1,3-丁二酯，二甲基丙烯酸己二酯，二甲基丙烯酸季戊四酯，三甲基丙烯酸季戊四酯，四甲基丙烯酸季戊四酯，二甲基丙烯酸二季戊四酯，己基甲基丙烯酸二季戊四酯，戊基甲基丙烯酸二季戊四酯，三甲基丙烯酸的山梨醇酯，四甲基丙烯酸的梨醇酯，雙[對-(3-甲基丙烯酰氧-2-羥基丙氧)苯]二甲基甲烷，雙[對-(甲基丙烯酰氧乙氧)苯]二甲基甲烷等。
作為衣糠酸脂的有二衣糠酸乙二酯，二衣糠酸丙二酯，二衣糠酸-1,3-丁二酯，二衣糠酸-1,4-丁二酯，二衣糠酸四亞甲基二酯、二衣糠碳季戊四酯，四衣糠酸的梨醇酯等。
作為巴豆碳酯的有二巴豆酸乙二酯，二巴豆酸四亞甲二酯，二巴豆酸季戊四酯，四巴豆酸的梨醇酯等。
作為異巴豆酸酯的有二異巴豆酸乙二酯，二異巴豆酸季戊四酯，四異巴豆酸的梨醇酯等。
作為馬來酸酯的有二馬來酸乙二酯，二馬來酸三乙二酯，二馬來酸季戊四酯，四馬來酸的梨醇酯等。
還可以列舉出上述酯單體的混合物。
作為脂肪族多價胺化合物和不飽和羧酸的酰胺單體，具體的例子有亞甲基雙丙烯酰胺，亞甲基雙甲基丙烯酰胺，1,6-亞己基雙丙烯酰胺，1,6-亞己基雙甲基丙烯酰胺，二亞乙基三胺三丙烯酰胺，二甲苯基雙丙烯酰胺，二甲基苯雙甲基丙烯酰胺等。
其它的例子還可舉出特公昭48-41708號公報中記載的在一個分子中有二個以上異氰酸酯基的聚異氰酸酰化合物上含有，在加成了含有下述式(E)表示羥基的乙烯單體的一個分子中有二個以上聚合乙烯基的乙烯基聚氨酯化合物。
CH2=C(R5)COOH2CH(R6)OH(E)還可以舉出如特開昭51-37193號上記載的聚氨酯丙烯酸酯類，特開昭48-64183號，特開昭49-43191號，特開昭52-30490號等公報上記載的聚酯丙烯酸酯類，環(huán)氧樹脂和(甲基)丙烯酸反應(yīng)生成的環(huán)氧丙烯酸酯類等多官能團的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。還可以使用日本粘結(jié)協(xié)會志Vol.20.No.7.300-308頁(1984年)上作為光硬化型單體和低聚體介紹的化合物。這些化合物的使用量是相對于總成分的5-70重量％(以下稱％)以10-50重量％為好。
作為本發(fā)明所用的光聚合型成像層(組合物)中含有的光聚合引發(fā)劑，可以根據(jù)所使用的光源的波長適當選擇使用各種光引發(fā)劑或二種以上的光聚合引發(fā)劑的并用系列(光聚合引發(fā)系列)。這些是在專利、文獻的報導中眾所周知的。
例如在使用400nm附近的光源時，就廣泛使用芐基，安息香醚，米蜜酮，蒽醌，噻噸酮，吖啶，吩嗪，二苯甲酮等。
作為前述光敏感劑，可使用EP 591786和A.Reiser的“光反應(yīng)高分子”。Wiley Intersiciennce(1989)上記載的光二聚型增感劑。
以下是光交聯(lián)生成的聚合物的例子。
[化學式13] 下面是本發(fā)明所用的交聯(lián)聚合物合成實例。。
將苯乙烯磺酸-1-甲基-2-甲氧基乙酯(0.4摩爾)，N-[(3-甲基丙烯酰氧)丙基]-2,3-二甲基順丁烯二酰亞胺(0.1摩爾)以及甲乙酮203克放入三口燒瓶中，65℃氮氣流下添加2.44克偶氮二甲基Verelo腈(商品名，聚丙烯腈類合成纖維素)。維持此溫度攪拌5小時后減壓蒸縮除去甲乙酮，得到固體。根據(jù)GPC(聚苯乙烯標準)定其平均分子量為25,000的聚合物。除了用N-[(6-甲基丙烯酰氧)己基]-2,3-二甲基順丁烯二酰亞胺或丙烯基甲基丙烯酸替換N-[(3-甲基丙烯酰氧)丙基]-2,3-二甲基順丁烯二酰亞胺以外，其余與前面的聚合物KP-3的合成相同。對于聚合物KP-4所需的苯乙烯磺酸酯，采用苯乙烯磺酸環(huán)己酯。聚合物KP-4的平均分子量是56,000，聚合物KP-5是19,000。除了2-甲基丙烯酰氧乙基異氰酸酯替換N-[(3-甲基丙烯酰氧)丙基]-2,3-二甲基順丁烯二酰亞胺以外，其余與前面的聚合物KP-3的合成相同。接著向反應(yīng)液中加入丙烯酸(0.1摩爾)，進一步加熱攪拌8小時，反應(yīng)結(jié)束后減壓蒸餾除去甲基乙酮，獲得固體。根據(jù)GPC(聚苯乙烯標準)可知是平均分子量為23,000的聚合物。除了用丙烯酸替換甲基丙烯酸外，其余與前面的聚合物KP-1的合成方法相同。平均分子量為23,000。將[(3-丙烯酰氧丙烷)磺酸酯]-1-甲基-甲氧乙酯(0.4摩爾)，丙烯酸-2-[(6-氯丙氧)乙基]酯(0.1摩爾)以及254克甲醇加入到三口燒瓶中，64℃氮氣流下加入2.44克偶氮雙二甲基verelo腈(商品名)，在此溫度下攪拌5小時后冷卻至室溫。冷卻后添加三乙胺(0.1摩爾)，攪拌6小時，然后加入到過量的水中，就得固體。根據(jù)GPC(聚苯乙烯標準)可知是平均分子量為25,000的聚合物。除了分別替換對應(yīng)的單體外，其余與聚合物KP-9同樣的方法合成。根據(jù)GPC(聚苯乙烯標準)可知是平均分子量。KP-8為30,000,KP-10為28,000,KP-11為35,000的聚合物。
對于本發(fā)明的熱敏性平版印刷版使用激光曝光成像時，在成像層中最好含有光熱轉(zhuǎn)換劑。激光曝光以紅外線為好。這時的光熱轉(zhuǎn)換劑是紅外線吸收劑。
本發(fā)明最理想的紅外線吸收劑是有效吸收波長760nm到1200nm范圍的紅外線的染料或顏料，更好的是對波長760～1200nm有極大吸收的染料或顏料。
作為染料可以使用市售的染料或文獻(例如“染料便覽”，有機合成化學協(xié)會編集，昭和45年出版)中記載的共知染料。具體可舉出偶氮染料、金屬絡(luò)合物偶氮染料，吡唑啉酮偶氮染料，蒽醌染料，酞菁染料、碳鎓染料、醌亞胺染料、次甲基染料、花菁染料、金屬硫醇鹽絡(luò)合物等。
作為理想的染料可列舉出如特開昭58-125,246號，特開昭59-84356號，特開昭59-202829號，特開昭60-78787號等中記載的花菁染料、特開昭58-173696號，特開昭58-181690號，特開昭58-194595號等中記載的次甲基染料，特開昭58-112793號、特開昭58-224793號、特開昭59-48187號、特開昭59-73996號、特開昭60-52940號、特開昭60-63744號等中記載的萘醌染料、特開昭58-112792號等中記載的三十碳鎓鹽染料，英國專利434875號中記載的花菁染料等。
美國專利5,156,938中載有適用于近紅外吸收的增感劑，美國專利3,881,924號中載有芳基苯并(硫)吡喃鎓鹽，特開昭57-142645號(美國專利4,327,169號)中載有三次甲基吡喃鎓鹽，特開昭58-181051號、-220146號、特開昭59-41363號、-84248號、-84249號、-146063號、-146061號中載有吡喃鎓類化合物，特開昭59-216146號中載有花菁染料，美國專利4283475號中載有五次甲基硫吡喃鎓鹽，特開平5-13514號、-19702號公報中的吡喃鎓鹽化合物。這些都是很好的。
作為較好的染料，其它實例，可以舉出美國專利4,756,983號說明書中以式(Ⅰ)，(Ⅱ)所記載的近紅外吸收染料。
在這些染料中特別理想的是花青染料，三十碳鎓鹽染料，吡喃鎓鹽和硫酸鎳絡(luò)合物。
作為本發(fā)明所用的顏料，可以用市售的顏料或彩色索引便覽，“最新顏料便覽”(日本顏料技術(shù)協(xié)會編，1977年發(fā)刊)、“最新顏料應(yīng)用技術(shù)”(CMC出版，1986年刊)、“印刷油墨技術(shù)”(CMC出版，1984年刊)等中記載的顏料。
作為顏料的種類可列舉出黑色，黃色，橙色，褐色，紅色，紫色，蘭色，綠色等顏料以及螢光顏料，金屬粉顏料和聚合物結(jié)合色素。具體可使用不溶性偶氮顏料，偶氮紅顏料，縮合偶氮顏料，螯合偶氮顏料，酞菁偶氮顏料，蒽醌類顏料，紫蘇烯或紫蘇酮類顏料，硫靛類顏料，喹吖酮類顏料，二噁嗪類顏料，異吲哚滿-1-酮類顏料，奎酞酮類顏料，粘染紅顏料，吖嗪顏料，亞硝基顏料，硝基顏料，天然顏料，螢光顏料，無機顏料，碳黑等。這些顏料中理想的是碳黑。
對這些顏料可以不進行表面處理使用，表面處理后使用更優(yōu)越，表面處理的方法可以是表面涂樹脂或蠟、附著表面活性劑，讓反應(yīng)活性物質(zhì)(例如硅烷偶合劑或環(huán)氧化物，聚異氰酸鹽等)結(jié)合在顏料表面等方法。上述的表面處理方法記載于“金屬皂堿的性質(zhì)和應(yīng)用”(幸書房)，“印刷油墨技術(shù)”(CMC出版1984年刊)以及“最新顏料應(yīng)用技術(shù)”(CMC出版1986年刊)上。
顏料的粒徑以在0.01微米～10微米的范圍為好，在0.05微米～1微米的范圍更好，特別是0.1微米～1微米的范圍最好。當顏料的粒徑小于0.01微米時，分散在涂布液中熱敏組合物的穩(wěn)定性就不好，而大于10微米時，涂布后成像層的均一性就不好。
作為分散顏料的方法，可以采取用于油墨制造或調(diào)色劑制造的公知分散技術(shù)。作為分散的裝置可列舉出超聲分散器、砂磨機、磨碎機、微磨機、超級磨機、球磨機、渦輪磨機、分散機、KD磨機、取體磨、負阻管、三輥壓延機、均化器等，詳細的見“最新顏料應(yīng)用技術(shù)”(CMC出版，1988年刊)。
這些染料或顏料相對熱敏感性平版印刷版的成像層組合物中的總固體成分比率為0.01～50重量％，最好為0.1～10重量％，在染料的場合，為0.5～10重量％，在顏料的場合為1.0～10重量％。顏料或染料的添加量小于0.01重量％時，感光度降低，而超過50重量％時，印刷中就容易引起非影像部位的污染。本發(fā)明中雖然根據(jù)需要使用上述成分，但是，還可根據(jù)需要添加各種其它的化合物。
例如可以使用在可見光區(qū)域具有較大吸收的染料作為影像的染色劑。具體的可舉出油黃101#、油黃103#、油品321#、油綠BG、油蘭BOS，油蘭603#、油黑BY、油黑BS、油黑T-505(以上為東方化學工業(yè)侏式會社制造)，維多利亞純蘭、結(jié)晶紫(CI42535)、乙基紫、羅丹明B(CI145170B)、孔雀綠(CI42000)、亞甲基蘭(CI52015)等，或特開昭62-293247號公報，特愿平7-335145號中記載的染料。
其添加量是相對于熱敏性平版印刷版成像層中的總固體成分為0.01～10重量％的比率。
本發(fā)明的輻射感應(yīng)平版印刷版的成像層中，相對于印刷條件還可以添加為擴大穩(wěn)定性的表面活性劑。有特開昭62-251740號或特開平3-208514號公報中記載的非離子型表面活性劑，特開昭59-121044號公報、特開平4-13149號公報中記載的兩性表面活性劑。
非離子型表面活性劑的例子有山梨糖醇酐三硬脂酸酯、山梨糖醇酐單棕櫚酸酯、山梨糖醇酐三油酸酯，硬脂酸單甘油酯、聚氧乙烯壬基苯醚等。
兩性表面活性劑的具體例子有烷基二(氨基乙基)甘氨酸、烷聚氨基乙基甘氨酸鹽酸鹽、乙-烷基-N-羧乙基-N-羥乙基咪唑鹽甜菜堿或N-四癸基-N,N-甜菜堿類(例如商品名阿摩要K，第一工業(yè)株式會社制造)。
此外根據(jù)需要，在本發(fā)明的熱敏性平版印刷版成像層中，還可以添加給涂膜付與柔韌性等的增塑劑。例如可以使用聚乙烯乙二醇、檸檬酸三丁酯、酞酸二乙酯、酞酸二丁酯、酞酸二己酯、酞酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氫化糠基，丙烯酸或甲基丙烯酸的低聚物或高聚物等。
本發(fā)明的熱敏性平版印刷版的成像層制造，通常是將上述各成分溶于溶劑中，涂布在適當?shù)闹误w上。這里使用的溶劑，雖然有二氯乙烯、環(huán)已烷、甲乙酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇單甲醚、1-甲氧-2-丙醇、乙酸-2-甲氧乙酯、乙酸-1-甲氧-2-丙酯、二甲氧乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N,N-二甲基乙酰胺，N,N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亞砜、環(huán)丁砜、r-丁內(nèi)酯、甲苯和水等，但并不僅限于這些化合物。
這些溶劑可單獨或混合使用。溶劑中上述成分(包括添加劑在內(nèi)的總固體成分)的濃度最好在1～50重量％范圍內(nèi)。涂布干燥后，支撐體上的涂布量(固體萬分)一般以在0.5～5.0克/米2為好。涂布的方法有多種，例如棒式涂布，旋轉(zhuǎn)涂布、噴涂、幕簾涂布、浸涂、氣刀涂布、刮涂、輥筒涂等。
本發(fā)明熱敏性平版印刷版成像層中還可以添加改進涂布性的表面活性劑。例如特開昭62-170950號公報中記載的含氟表面活性劑。理想的添加量是相對于成像層中總固體成分為0.01～1重量％，最好是0.05～0.5重量％。
本發(fā)明在平版印刷版用原版上涂布上述成像層的成像材料時所使用的支撐體(基板)，是尺寸穩(wěn)定的板狀物，作為印刷版的支撐體，包括現(xiàn)今使用的仍可以使用。作為這樣的支撐體，可以使用紙，層壓塑料(例如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯等)的紙，鋁(包括鋁合金)，鋅、鐵、銅等金屬板，二醋酸纖維素、三醋酸纖維素、丙酸纖維素、酪酸纖維素、酪酸醋碳纖維素，硝酯纖維素、聚乙烯基對苯二甲酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚乙烯縮醛等塑料膜，上述金屬層壓或蒸鍍的紙或塑料膜等，但特別好的是鋁板。鋁板包括純鋁板和鋁合金板。作為鋁合金可以使用各種各樣的，例如硅、銅、錳、鎂、鉻、鋅、鉛、鉍、鎳等金屬和鋁的合金。這些組合物含有若干鐵和鈦或可忽視量的雜質(zhì)。
本發(fā)明的平版印刷版用原版中使用的支撐體(基板)，是尺寸穩(wěn)定的板狀物，作為印刷版的支撐體，包括迄今使用的和仍可使用的。作為這樣的支持體雖然包括紙，層壓塑料(例如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯等)紙，鋁(包括鋁合金)，鋅、鐵、銅等金屬板、二醋酸纖維素、三醋酸纖維素、丙碳纖維素、酪酸纖維素、酪酸醋酸纖維素、硝酸纖維素、聚乙烯基對苯二甲酸酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚乙烯縮醛等塑料膜，上述的金屬層壓或蒸鍍的紙或塑料膜等，但還是的鋁板最好。鋁板包括純鋁板和鋁合金板。鋁合金有多種可使用，例如硅、銅、錳、鎂、鉻、鋅、鉛、鉍、鎳等金屬與鋁的合金。這些組合物中含有若干鐵和鈦或其它可忽視量的雜質(zhì)。
對支撐體根據(jù)需要進行表面處理，例如對支撐體的表面進行親水性處理。
對具有金屬、特別是具有鋁表面的支撐體，最好進磨砂目處理，在硅酸鈉，氟化鋯酸鉀、磷酸鹽等水溶液中的浸漬處理，或陽極氧化等表面處理。還有像美國專利2,714,066號說明書中記載的在磨砂目處理后在硅酸鈉水溶液中浸漬處理的鋁板，美國專利3,181,461號說明中記載的對鋁板陽極氧化處理后，再在堿金屬硅酸鹽的水溶液中浸漬處理。經(jīng)這樣處理后的支撐體很適用。對于上述的陽極化處理，例如用磷酸、鉻酸、硫酸、硼酸等無機酸、或草酸、氨基磺酸等有機酸或這些酸的鹽水溶液或非水溶液，在單獨或兩種以上組合的電解液中，以鋁板作為陽極，通電進行處理。
美國專利3,658,682號說明書中記載的硅酸鹽電沉積也是有效的。這些親水性處理，除為使支撐體表面形成親水性外，也為防止與其上設(shè)定的記錄層產(chǎn)生有害反應(yīng)，還為提高與記錄層的密著性。在對鋁板進行磨砂目處理前，最好根據(jù)需要實施表面前處理，除去表面的壓延油和露出清潔的鋁表面。對于前處理可以用三氯乙烯等溶劑、表面活性劑。對于后處理可使用廣泛采用的氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿性腐蝕的方法。
關(guān)于磨砂目處理的方法，無論機械的、化學的或電化學的方法均是有效的。作為機械的方法有球磨法、噴砂研磨法和用尼龍刷擦拭象浮石一類的研磨劑水分散泥漿的刷磨法等。作為化學的方法有特開昭54-31187號公報中記載的在礦物酸鋁鹽的飽和水溶液中浸漬的方法。作為電化學的方法，理想的是在鹽酸、硝酸或它們的混合酸在酸性電解液中交流電解的方法。在這樣的粗面化方法中特別是以特開昭55-137993號公報中記載的機械粗面化和電化學的粗面化相組合的粗面化方法為好。由于增強了敏感性影像與支撐體的附著力，所以最為理想。
根據(jù)上面方法最好實施磨砂目處理使鋁板表面中心線的平均粗糙度(Ra)達到0.3-1.0微米的范圍。
這種經(jīng)磨砂目處理的鋁板，根據(jù)需要進行水洗和化學腐蝕。
關(guān)于腐蝕處理液通常選擇溶解鋁的堿或酸的水溶液。這時在被腐蝕的表面上，必須不含因腐蝕液成分誘導而形成的與鋁不同的被復膜。理想的腐蝕劑例如，作為堿性物質(zhì)的有氫氧化鈉、氫氧化鉀、磷酸三鈉、磷酸二鈉、磷酸三鉀、磷酸二鉀等，作為酸性物質(zhì)的有硫酸、過硫酸、磷酸、鹽酸及其鹽等。但是比鋁離子化傾向低的金屬，例如鋅、鉻、鈷、鎳、銅等的鹽，由于腐蝕表面上會形成不必要的被復膜，所以不適用。
這些腐蝕劑使用的濃度、溫度的設(shè)定，所用鋁或合金的溶解速度，最好是以每浸漬一分鐘形成0.3-40克/平方米的方式進行。在這范圍上下一點也可以。
理想的處理是將鋁板浸漬到腐蝕液中，或?qū)⒏g液涂布到鋁板上，腐蝕量在0.5-10克/平方米的范圍。
作為上述腐蝕劑，從所說的腐蝕速度快的特點考慮最好使用堿水溶液。但這時會生成污物，通常要進行去污物處理。用于去污物處理的酸有硝酸、硫酸、磷酸、鉻酸、氫氟酸、硼氫氟酸等。腐蝕處理過的鋁板根據(jù)需要進行水洗和陽極氧化。陽極氧化可以按此領(lǐng)域一直使用的方法進行。具體可以在硫酸、磷酸、鉻酸、氫溴酸、氨基磺酸、苯磺酸等，或者它們二種以上的組合物水溶液或非水溶液中，向鋁板通直流或交流電，在鋁支撐體表面上形成陽極氧化膜。
陽極氧化的處理條件，雖然根據(jù)使用電解液的不同而有各種變化，不能一概而論，但一般電解液的濃度在1-30重量％，液溫5-70℃，電流密度0.5-60安培/平方分米，電壓1-100伏，電解時間30秒-50分的范圍是適當?shù)摹?br> 這些陽極氧化處理方法中，特別是英國專利1,412,768號說明書中記載的，在硫酸中用高電流密度進行陽極氧化的方法和美國專利3,511,611號說明書中記載的，以磷酸作為電解液進行陽極氧化的方法為好。
上述經(jīng)表面粗面化處理并進一步陽極氧化的鋁板，按照需要最好進行親水性處理，其理想的例子是美國專利2,714,066號以及3,181,461號中揭示的堿金屬硅酸鹽，例如硅酸鈉水溶液處理法和特開昭36-22,063號公報中提示的氟化鋯酸鉀，以及美國專利4,153,461號說明書中提示的聚乙烯基磺酸的處理方法。
有機底層本發(fā)明的熱敏感性平版印刷版在涂布成像層之前要涂有機底層，以減少成像層中殘留非影像部分。這種有機底層所用的有機化合物，例如可選用羧甲基纖維素，糊精，阿拉伯膠，含有如乙-氨基乙磺酸等的磺酸，也可以選用含置換基的苯磺酸、萘磺酸、烷基磺酸、甘油基磺酸、亞甲基二磺酸以及亞乙基磺酸等的有機磺酸，也可以選用含置換基的苯基磷酸、萘基磷酸、烷基磷酸以及甘油磷酸等有機磷酸，還可以選用含置換基的苯基膦酸、萘基膦酸、烷基膦酸以及甘油膦酸等的有機膦酸，還有甘氨酸或β-丙氨酸等氨基酸類以及三乙醇胺鹽酸等的含有羥基胺的鹽酸鹽。除了單獨使用這些化學物料，也可以使用二種以上混合物。
可以用有其它聚合(對-乙烯基安息香酸)結(jié)構(gòu)單元的高分子化合物。
此有機底層可以按如下方法設(shè)置。即將上述有機化合物溶劑在水或甲醇、乙醇、甲乙酮等有機溶劑或它們的混合溶劑中，涂布于支撐體上，然后干燥的方法；或者將支撐體在水或甲醇、乙醇、甲基乙酮等有機溶劑或它們的混合溶劑中溶解了上述有機化合物的溶液中進行浸漬，吸附有機化合物，然后用水洗凈、干燥的方法。前者方法的有機物濃度為0.005-10重量％的溶液，有各種涂布方法涂布。例如用棒式涂布、旋轉(zhuǎn)涂布、噴涂、幕簾涂布等，哪一種方法都有可以。而后者方法的溶液濃度為0.01-20重量％，最好為0.05-5重量％，浸漬溫度為20-90℃，最好為25-50℃，浸漬時間為0.1秒-20分，最好為2秒-1分。
這里使用的溶液，利用氨、三乙胺、氫氧化鉀等堿性物質(zhì)，或鹽酸、磷酸等酸性物質(zhì)調(diào)節(jié)PH值均可，調(diào)節(jié)在1-12范圍內(nèi)使用。為了改善熱敏性平版印刷版的色調(diào)再現(xiàn)性，也可以添加黃色染料。
有機底層干燥后的被復量以2-200毫克/平方米為適宜，最好為5-100毫克/平方米。小于2毫克/平方米或大于200毫克/平方米時耐印刷性能都不充分。
為了提高有機底層和成像層的密著性，在鋁支撐體的表面可以涂上至少一種含有加成聚合官能團的硅烷偶合劑，它在下列一般式(F)所示有機磺酸的催化作用下，進行加水分解并縮聚反應(yīng)，得到的化合物涂設(shè)在鋁支撐體表面上。
RSO3H(F)(R表示碳原子數(shù)2-50的有機基團)硅烷偶合劑在上述有機磺酸的催化作用下，進行加水分解并縮聚反應(yīng)而成的化合物，是在含有-Si-O-si-鍵的無機高分子上固定加成反應(yīng)性官能基的有機無機復合體。
本發(fā)明中在支撐體表面上涂設(shè)粘接層，可以用此有機無機復合體，采用所謂溶膠-凝膠法(以下稱SG法)。關(guān)于SG法可見“有機硅聚合物的最新技術(shù)”，第六章溶膠-凝膠法和“硅高分子的研究動向”(今井淑夫著，CMC出版，1996年發(fā)行)，以及“溶膠-凝膠法的科學”(作花濟夫著，AGUNE承風社出版，1988年發(fā)刊)。但是本發(fā)明并不僅限定于這些方法。
將此有機無機復合體作為粘接層涂布到支撐體上，一經(jīng)干燥，無機高分子部分就同支撐體密著，而加成活性官能團就原封不動地殘留在支撐體表面上。
根據(jù)SG法使硅烷偶合劑在催化劑的存在下，在含有少量水的醇等溶液中，進行加水分解并縮聚合反應(yīng)，將此含有無機高分子的液體組合物，作為粘接層涂布到支撐體的表面上，根據(jù)情況進行干燥，這樣就能將加成反應(yīng)活性官能團涂布到支撐體上。
由于絡(luò)合固定在支撐體表面上的加成活性官能團的分布，很少左右支撐體表面酸點或堿點等化學性質(zhì)的分布，所以，SG法是一種好的方法。
作為本發(fā)明所用的硅烷偶合劑，可舉出如下列一般式(G)所示的化合物。
Ra(Rb)SiRc(Rd)(G)(Ra-Rd至少有兩個表示碳原子數(shù)為10以下的烷基，或-OCOR’基，其它表示加成聚合性基，R’表示烷基)。
一般式(G)中R’表示的烷基有甲基、乙基、丙基等，加成聚合活性基有鏈烯基、炔基等，在硅原子和這些加成聚合活性基之間，也可以結(jié)合各種連結(jié)基。作為鏈烯基的有乙烯基、丙烯基、丁烯基、二烷基順丁烯二酰亞胺基等，作為炔基的有乙炔基、烷基乙炔基等。
作為硅烷偶合劑可以舉出“硅烷偶合劑”(Edwin P.Plued demaunPlemum Press 1982)中記載的化合物。
具體可列舉出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷、四(正-丙氧基)硅烷、四(正-丁氧基)硅烷、四(2-乙基丁氧基)硅烷、四(2-乙基己氧基)硅烷、四(2-甲氧基乙氧基)硅烷、四苯氧基硅烷、四乙酰氧基硅烷等化合物。特別以四乙氧基硅烷為好。
作為具加成聚合的乙烯性二聚結(jié)合反應(yīng)基的硅烷偶合劑，具體有CH2=CH-Si(OCOCH3)3、CH2=CH-Si(OC2H5)3、CH2=CH-Si(OCH3)3、CH2=CHCH2-Si(OC2H5)3、CH2=CHCH2NH(CH2)3-Si(OCH3)3、CH2=CHCOO-(CH2)3-Si(OCH3)3、CH2=CHCOO-(CH2)3-Si(OC2H5)3、CH2=CHCOO-(CH2)4-Si(OCH3)3、CH2=C(CH3)COO-(CH2)3-Si(OCH3)3、CH2=C(CH3)COO-(CH2)3-Si(CC2H5)3、CH2=C(CH3)COO-(CH2)4-Si(OCH3)3、CH2=C(CH3)COO-(CH2)5-Si(OCH3)3、(CH2=C(CH3)COO-(CH2)3)2-Si(OCH3)2、CH2=C(CH=CH2)-Si(CCH3)3、CH2=CH-SO2NH-(CH2)3-Si(CCH3)、CH2=CH-ph-O-Si(CCH3)3、(ph表示苯環(huán))
CH2=CH-ph-CONH-(CH2)3-Si(OCH3)3、CH2=CH-ph-CH2NH-(CH2)3-Si(OCH3)3、CH2=CH-ph-CH2NH-C2H4NH(CH2)3-Si(OCH3)3·HClHC≡C-Si(OC2H5)3、CH3C≡C-Si(OC2H5)3、DMI-(CH2)m-CONH-(CH2)3-Si(OCH3)3、(DMI表示二甲基順丁烯二酰亞胺，m=1～20)CH2=CHCH2O-Si(OCH3)3、(CH2=CHCH2O)4Si、HO-CH2-C≡C-Si(OC2H5)3、CH3CH2CO-C≡C-Si(OC2H5)3、CH2=CHS-(CH2)3-Si(OCH3)3、CH2=CHCH2O-(CH2)2-SCH2-Si(OCH3)3、CH2=CHCH2S-(CH2)3-S-Si(OCH3)3、(CH3)3CCO-C≡C-Si(OC2H5)3、(CH2=CH)2N-(CH2)2-SCH2-Si(OCH3)3、CH3COCH=C(CH3)-O-Si(OCH3)3但并不限定在這些化合物。
硅烷偶合劑也可以以任意的比率與幾種化合物混合使用。
上述含有使硅烷偶合劑能進行SG反應(yīng)的化合物的粘接層涂布在支持體上時，此化合物可單獨使用也可混合使用。也可以用適當?shù)娜軇┫♂尯笫褂?。作為溶劑可以是甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、乙烯乙二醇、己烯乙二醇、THF、DMF等，雖然醇類特別好，但也可以將有機溶劑混合使用。
溶劑用量根據(jù)使用硅烷偶合劑的總重量計算，一般為0.2-500倍，最好為0.5-100倍，更好為1-20倍。少于0.2倍時，反應(yīng)液經(jīng)過一段時間后很容易凝膠化而不穩(wěn)定；而大于500倍時，反應(yīng)的時間要好幾天，也不好。
在本發(fā)明中為了促進水解反應(yīng)可以加水。加水分解硅烷偶合劑的加水量，一般每一摩爾化合物為0.1-1000摩爾，最好為0.5-200摩爾，更好為5-100摩爾。水量每1摩爾化合物少于0.1克分子時，就會延遲加水分解和接著的縮聚反應(yīng)，完成穩(wěn)定的表面處理則需要幾天時間；另一方面水量每1摩爾化合物多于1000摩爾時，在金屬表面涂布生成的組合物時會引起密著不好，或組合物隨時間的穩(wěn)定性變壞，通常會立即凝膠化，難于穩(wěn)定地進行涂布操作。
調(diào)配適于SG法的組合物的溫度，可以在室溫～100℃的范圍內(nèi)。也可以在比溶劑沸點高的溫度下反應(yīng)，這時根據(jù)需要可在反應(yīng)器中安裝回流冷凝器。
背面涂布在支撐體的背面可根據(jù)需要進行背面涂布。作為背面涂布，可以采用特開平5-45885號公報中記載的有機高分子化合物和特開平6-35174號公報中記載的由有機或無機金屬化合物加水分解和縮聚而成的金屬氧化物形成的涂層。
這些涂層當中，Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等的硅的烷氧化合物價格便宜，容易得到。由這些化合物制得的金屬氧化物涂層親水性優(yōu)良，特別好。
按以上步驟就可以制作成本發(fā)明的熱敏性平版印刷版?？梢酝ㄟ^熱記錄頭對影像直接實施熱敏記錄；也可以通過發(fā)射波長760nm～1200nm的紅外線的固體激光或半導體激光進行影像曝光。本發(fā)明在熱敏記錄或激光拍照后進行水顯影。若有必要則再進行樹脂處理，然后將版裝到印刷機上進行印刷；也可以在熱敏記錄或激光拍照后，立即將版裝到印刷機上進行印刷。在熱敏記錄或激光拍照后進行加熱處理會更好。如熱處理的條件以在80℃～150℃范圍內(nèi)進行10秒～5分為好。通過這種加熱處理，熱敏記錄時或激光拍照時就可減少所需要的熱或激光能量。
根據(jù)這樣加工獲得的平版印刷版，或進行水顯影，或就這樣原封不動地裝到膠版印刷機上，可以印刷很多次。
以下實施例是對本發(fā)明的詳細的說明，但是本發(fā)明并不限定于這些實施例。[具有溶液-凝膠的支持體的制造方法]用尼龍刷和400目浮石水懸濁液對0.30毫米厚的鋁板進行磨砂目處理，用水洗凈。在10重量％的氫氧化鈉水溶液中70℃下浸漬60秒以進行腐蝕，接著用流動水水洗后用20重量％的硝酸中和，再用水洗凈。然后在VA=12.7狀的條件下用正弦波交流電，在1重量％的硝酸水溶液中以160摩爾/平方分米.小時的陽極電量進行電解粗面化處理。測定表面粗造度0.6微米(表示Ra)。接著在30％硫酸水溶液中進行55℃下浸漬2分鐘去污處理，然后再在20重量％的硫酸水溶液中以2A/平方分米的電流密度進行陽極氧化處理，時間2分鐘，陽極氧化膜的厚度達2.7克/平方米。
根據(jù)下面的次序調(diào)整SG法的液狀組合物(溶膠)溶膠液甲醇 130克水 20克85重量％磷酸16克四乙氧基硅烷50克3-甲基丙烯氧丙基三甲氧硅烷 60克將上列組分的溶膠液混合攪拌，5分鐘后確認它發(fā)熱，反應(yīng)60分鐘后將內(nèi)容物移到另一容器中，加入甲醇3000克制得溶膠液。用甲醇/乙二醇=9/1(重量比)稀釋此溶液，按基板上硅的重量為3毫克/平方米進行涂布，在100℃干燥1分鐘。作為成像層的涂布液，按下列所示成份調(diào)制溶液實施例 使用聚合物 添加單體 增感劑(聚 光熱變換 涂布溶劑合引發(fā)劑) 材料1 KP-3 0.4克無 下列式(Ⅰ) IR125 MEK0.04克 0.04克1.6克2 KP-5 0.4克無 下列式(Ⅰ) IR125 MEK0.04克0.04克1.6克3 KP-1 0.4克ATMMT DMAB 0.04克 IR125 MEK0.2克 0.04克1.6克4 KP-4 0.4克ATMMT DMAB 0.04克 IR125 MEK0.2克 0.04克1.6克5 KP-9 0.4克 無 DMAB 0.04克 IR125 MEK0.04克1.6克6 KP-11 0.4克 無 DMAB 0.04克 IR125 MEK0.04克1.6克(注)MEK甲基乙酮ATMMT四丙烯酸季戊四酯DMAB4’4二甲氨基二苯甲酮IR125(日本和光純藥制)[化14](式Ⅰ) 將上述溶液涂布到按前述操作制成的支撐體上，80℃干燥一分鐘。
然后對此涂布物進行紫外線曝光(金屬鹵燈，1000讀數(shù))獲得具有光交聯(lián)成像層的平版印刷用原版。對制得的平版印刷用原版，用發(fā)射830nm紅外線的半導體激光進行影像曝光，將曝光后的平版印刷用原版原封不動地在海德爾SOR-M機器上進行印刷試驗，對耐污性進行評估。
結(jié)果是即使印刷20,000張印刷品都未發(fā)生污染。
如上所述，按照本發(fā)明可提供能水顯影、或影像輸入后不必進行濕法顯影處理或擦拭等特別處理的熱敏性平版印刷版。特別是按照本發(fā)明可以提供用發(fā)射紅外線固體激光或半導體激光等，進行記錄，可從數(shù)字化數(shù)據(jù)直接制版的熱敏性平版印刷版。
而且按照本發(fā)明可以提供耐刷性優(yōu)良的陽性型熱敏性平版印刷版。
權(quán)利要求
1.一種熱敏性平版印刷版，其特征是，其含有因受熱而親水性變化的聚合物成像層，而且是聚合物通過光交聯(lián)反應(yīng)而交聯(lián)。
全文摘要
提供能水顯影、或影像輸入后不必進行濕法顯影處理或擦拭等特別處理的對輻射線敏感的平版印刷版。特別是提供發(fā)射紅外線固體激光或半導體激光進行記錄,可從數(shù)字化數(shù)據(jù)直接制版的熱敏性平版印刷版;還提供耐印刷性優(yōu)良的陽性型熱敏性平版印刷版。本發(fā)明含有因受熱親水性變化的聚合物成像層,且此聚合物通過光交聯(lián)反應(yīng)而交聯(lián)的熱敏性平版印刷版。
文檔編號G03F7/038GK1309330SQ0110234
公開日2001年8月22日 申請日期2001年2月5日 優(yōu)先權(quán)日2000年2月18日
發(fā)明者山崎純明, 川村浩一 申請人:富士膠片株式會社