專利名稱：包括一帶有凸紋結(jié)構(gòu)的層的轉(zhuǎn)印膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)印膜特別是熱壓膜和一種用于制造一種這樣的 轉(zhuǎn)印膜的方法，以及一種多層體。所述轉(zhuǎn)印膜包括一層支承膜和一層 設(shè)置在所述支承膜上的且可以從所述支承膜上分離開的、帶有結(jié)構(gòu)紋 理層的傳遞層。
背景技術(shù)：
通過合理的表面結(jié)構(gòu)，可以提高技術(shù)物品的使用性能，例如通過 設(shè)計(jì)帶有減少反射或防塵的表面。在DE 199 62 641中描述了 一種用于制造自清潔的金屬表面的方 法，然而其中所述方法局限于金屬表面。DE 102 33 831 Al設(shè)定借助于涂層工藝將一種可硬化的基體作 為支承層施加到待保護(hù)的表面上；將納米顆粒借助于涂層工藝施加到 所述支承層上，并且通過支承層的硬化將顆粒固定住。所述涂裝方法 有這樣的缺點(diǎn)，即所述涂層結(jié)果取決于所述納米顆粒的質(zhì)地和涂布 方法。缺點(diǎn)是所述納米顆粒的施加由所述噴槍設(shè)定，并且所述納米 顆粒經(jīng)過長期使用可從所述支承層上剝落。此外所述納米顆粒的毒物 效果在制造、使用和報(bào)廢時(shí)幾乎沒有檢驗(yàn)，這就隱藏了風(fēng)險(xiǎn)。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明基于這樣的任務(wù)說明一種成本低廉的、并且適合于大批 量生產(chǎn)的、用于構(gòu)建一種帶有外部結(jié)構(gòu)紋理層的多層體的方法，以及 一種以這種方法制造的多層體。本發(fā)明的目的通過一種轉(zhuǎn)印膜特別是熱壓膜實(shí)現(xiàn)，所述轉(zhuǎn)印膜包 括一層支承膜和一層設(shè)置在所述支承膜上的且可從所述支承膜上分離 開的、帶有結(jié)構(gòu)紋理層的傳遞層，其中設(shè)定在所述支承膜上在它的 面向所述結(jié)構(gòu)紋理層的一側(cè)上成形一種主凸紋結(jié)構(gòu)，并且所述結(jié)構(gòu)紋 理層在其面向所述支承膜的一側(cè)上具有一種與所述支承膜的主凸紋結(jié) 構(gòu)互補(bǔ)的凸紋結(jié)構(gòu)。另外，所述目的通過一種用于制造轉(zhuǎn)印膜的方法實(shí)現(xiàn)，所述轉(zhuǎn)印 膜包括一層支承膜和一層設(shè)置在所述支承膜上的且可以從所述支承膜上分離開的、帶有結(jié)構(gòu)紋理層的傳遞層，其中設(shè)定在所述支承膜中 成形一種主凸紋結(jié)構(gòu)；和/或在所述支承膜上施加一層復(fù)制層，并在所 述復(fù)制層中成形所述主凸紋結(jié)構(gòu)；在所述支承膜上施加所述結(jié)構(gòu)紋理 層，其中在所述結(jié)構(gòu)紋理層中成形一層與所述支承膜的主凸紋結(jié)構(gòu)互 補(bǔ)的凸紋結(jié)構(gòu)；并且所述凸紋結(jié)構(gòu)通過所述結(jié)構(gòu)紋理層的加固和石更化 來固定。此外，所述目的通過一種帶有結(jié)構(gòu)紋理層的多層體實(shí)現(xiàn)，其中所 述結(jié)構(gòu)紋理層構(gòu)成所述多層體的前端面，并且在所述透明的結(jié)構(gòu)紋理 層的、構(gòu)成所述多層體的前端面的第一表面中成形一凸紋結(jié)構(gòu)，其中 設(shè)定所述結(jié)構(gòu)紋理層具有小于100pm的厚度，優(yōu)選是小于20pm。通過本發(fā)明可以以非常小的層厚度來構(gòu)成結(jié)構(gòu)紋理層，并且借助 于所述支承膜傳遞所述結(jié)構(gòu)紋理層。在此所述帶有主凸紋結(jié)構(gòu)的支承 膜在將所述傳遞層施加到待保護(hù)的表面情況上提供足夠的機(jī)械穩(wěn)定性 和表面結(jié)構(gòu)紋理的保護(hù)。所述結(jié)構(gòu)紋理層的厚度可以根據(jù)本發(fā)明這樣被減小，使得當(dāng)所述 結(jié)構(gòu)紋理層涂布到一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)或一臺顯示器上時(shí)，通過所述結(jié)構(gòu)紋 理層不造成成像失真。通過根據(jù)本發(fā)明所述的方法，在所述結(jié)構(gòu)紋理 層上構(gòu)成的凸紋結(jié)構(gòu)可以僅僅根據(jù)功能的標(biāo)準(zhǔn)來構(gòu)成。此外可以使用 在實(shí)際中經(jīng)受考驗(yàn)的并且適用于大批量生產(chǎn)的工藝步驟和裝置，并且 可以在一個(gè)軋輥到軋輥過程中構(gòu)成所述結(jié)構(gòu)紋理層。因?yàn)樗龅谝煌辜y結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述多層體的表面上，所以可以通 過所述多層體為敏感表面提供技術(shù)上的表面保護(hù)，優(yōu)選防止污染。其它有利的設(shè)計(jì)在從屬權(quán)利要求中被描述。可以設(shè)定所述轉(zhuǎn)印膜的結(jié)構(gòu)紋理層具有小于100nm的厚度，優(yōu) 選的厚度小于20nm。由此實(shí)現(xiàn)其它之前已經(jīng)列舉的優(yōu)點(diǎn)。
此外可以設(shè)定所述結(jié)構(gòu)紋理層構(gòu)成為透明的。但是也可以涉及 一種不透明的和/或彩色的結(jié)構(gòu)紋理層，所述結(jié)構(gòu)紋理層例如仿制對于 某種材料而言特殊的表面。在此既可以模仿所述材料的光學(xué)效果，也 可以模仿所述材料的觸覺效果。在一個(gè)有利的實(shí)施例中設(shè)定所述主凸紋結(jié)構(gòu)在所述轉(zhuǎn)印膜中通 過壓印來構(gòu)成。但是也可以設(shè)定所述轉(zhuǎn)印膜具有一種凸紋漆層，例 如在這種凸紋漆層中，所述主凸紋結(jié)構(gòu)通過熱壓印或者UV壓印來成 形。可以設(shè)定在所迷轉(zhuǎn)印膜和所述傳遞層之間設(shè)置一層剝離層。這 樣的一種剝離層可以例如構(gòu)成為蠟層，其中在構(gòu)成所述主凸紋結(jié)構(gòu)時(shí) 考慮到所述剝離層的厚度。另外可以設(shè)定在所述第一凸紋結(jié)構(gòu)上構(gòu)建一保護(hù)層。也可以以 有利地來設(shè)定所述結(jié)構(gòu)紋理層的材料如此選擇，即所述結(jié)構(gòu)紋理 層構(gòu)成一層保護(hù)層。所述凸紋結(jié)構(gòu)涉及一種非隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)。對非隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu) 可以這樣理解它是有針對性地構(gòu)成，并且不是由于材料表面的、隨 機(jī)的表面粗糙度而出現(xiàn)。因此非隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)可以特別地由此識別， 即這種凸紋結(jié)構(gòu)是可以有針對性地重復(fù)制造。例如如果一個(gè)凸紋結(jié)構(gòu)以一種希望的輪廓形狀例如以工業(yè)的比例 制成一種連續(xù)的轉(zhuǎn)印膜，那么通常使用一種相應(yīng)的結(jié)構(gòu)化的印模、圓 柱體或者類似物，其具有有限的長度。由于在所述連續(xù)的轉(zhuǎn)印膜上連 續(xù)地使用所述結(jié)構(gòu)化的模具，所述成形的凸紋結(jié)構(gòu)以 一規(guī)則的距離在 所述轉(zhuǎn)印膜上重復(fù)，并且因此可以看出非隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)，即使乍看 上去似乎局部地存在著隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)。一種非隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)此外例如可以這樣看出，即特定的、通 常不會或者只有非常少地發(fā)生的輪廓形狀累積地、周期性地或者準(zhǔn)周 期性地出現(xiàn)。而由如同表面粗糙度的隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)可以想象一種先 前未限定的且倒圓角的輪廓形狀，示出非隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)則例如表示 精確的且?guī)缀螛?gòu)造的輪廓形狀，如矩形輪廓、鋸齒形輪廓、半球輪廓、 光柵結(jié)構(gòu)或者類似物。此外，還示出非隨機(jī)的凸紋結(jié)構(gòu)例如帶有分級階梯狀的輪廓深度、帶有固定的輪廓深度的輪廓，特別是像在DE100 54 503 B4里描述的雙輪廓那樣，等等。一種階梯狀輪廓的特例是例如一種矩形輪廓，其中所述局部的 輪廓深度可以假設(shè)僅僅離散的水平。在兩個(gè)相鄰的凹槽之間的距離， 在此優(yōu)選地位于從0.5|nm至50|Lim的區(qū)域內(nèi)。所述輪廓深度相對于一 種平均水平優(yōu)選地小于5pm。例如在EP 992 020 Bl中公開了微觀上精細(xì)的、具有局部變化的 結(jié)構(gòu)紋理深度的非隨機(jī)凸紋結(jié)構(gòu)。已證明有效的是，所述互補(bǔ)的凸紋結(jié)構(gòu)包括一種微觀結(jié)構(gòu)。所述 微觀結(jié)構(gòu)的尺寸位于人眼分辨能力之下。所述互補(bǔ)的凸紋結(jié)構(gòu)一般可以構(gòu)建為微觀結(jié)構(gòu)和/或構(gòu)建為宏觀 結(jié)構(gòu)，所述微觀結(jié)構(gòu)的尺寸位于人眼分辨能力之下，所述宏觀結(jié)構(gòu)對 人眼而言是可見的。在此，除了一種微觀結(jié)構(gòu)，可以存在一種宏觀結(jié) 構(gòu)，和/或與一種微觀結(jié)構(gòu)重疊。 一種微觀結(jié)構(gòu)在此可以具有一種光學(xué) 效應(yīng)，所述光學(xué)效應(yīng)可以模擬一宏觀結(jié)構(gòu)。所述互補(bǔ)的凸紋結(jié)構(gòu)可以構(gòu)成為磨石少結(jié)構(gòu)(Mattstruktur )和/或 構(gòu)成為衍射結(jié)構(gòu)，和/或構(gòu)成為折射結(jié)構(gòu)，和/或構(gòu)成為宏觀結(jié)構(gòu)。所述磨砂結(jié)構(gòu)涉及一種帶有隨機(jī)分布的衍射結(jié)構(gòu)，因此入射的光 線以隨機(jī)的方式被散射。磨砂結(jié)構(gòu)具有在微觀尺寸下精細(xì)的凸紋結(jié)構(gòu) 元素，所述凸紋結(jié)構(gòu)元素決定了所述散射能力，并且可以用統(tǒng)計(jì)參數(shù) 例如平均粗糙度Ra，相關(guān)長度Ic等等來描述。優(yōu)選地，磨砂結(jié)構(gòu) 具有位于從20nm至2000nm的范圍內(nèi)的平均粗糙度，優(yōu)選的從50nm 至500nm范圍內(nèi)的平均粗糙度。所述相關(guān)長度Ic優(yōu)選地位于從200nm 至50000nm的范圍內(nèi)特別是位于從500nm至10000nm的范圍內(nèi)。衍射結(jié)構(gòu)是基于衍射的光學(xué)效應(yīng)例如衍射光柵或全息圖來構(gòu)建的 結(jié)構(gòu)。在此可以涉及典型的2D/3D全息圖或3D全息圖，所述全息圖 以表面結(jié)構(gòu)紋理為基礎(chǔ)，允許顯示三維的信息。局部觀察地，可以對 全息攝影生成的全息圖的輪廓例如傅立葉全息圖進(jìn)行近似周期性地觀
察，其中典型的線數(shù)位于從300至20001/mm的區(qū)域內(nèi)，并且典型的 結(jié)構(gòu)紋理深度位于從50至800nm的區(qū)域內(nèi)。一種電腦生成的全息圖例如所謂的相息圖可以引起一種隨機(jī)表面 凸紋的壓痕，并且具有一種不對稱的衍射效果。 一種典型的結(jié)構(gòu)紋理 深度是所述入射光線的波長的一半或數(shù)倍，并且根據(jù)所述相息圖是否 應(yīng)該發(fā)揮它的透射或反射效果來校準(zhǔn)。所述折射結(jié)構(gòu)涉及基于以光折射為基礎(chǔ)的光學(xué)效應(yīng)微透鏡來構(gòu)建 的結(jié)構(gòu)。這種類型的微透鏡通常不會單獨(dú)被使用，而是相鄰地設(shè)置在 一種規(guī)則的光柵中。這種結(jié)構(gòu)總的來說具有一種位于人眼分辨能力之下的尺寸。所述宏觀結(jié)構(gòu)涉及其尺寸為人眼可以識別的結(jié)構(gòu)，例如由結(jié)構(gòu)紋 理區(qū)域構(gòu)成的設(shè)計(jì)元素。這種宏觀結(jié)構(gòu)可以例如通過透鏡元件或特殊形成的、產(chǎn)生一種可 見的透鏡式作用的、有效的光學(xué)衍射凸紋結(jié)構(gòu)來生成，正如特別地通 過根據(jù)DE 102 54 499 B4或DE 102 54 500 B4所述的凸紋結(jié)構(gòu)那樣。 所述宏觀可見的結(jié)構(gòu)紋理在此基本上借助于肉眼無法被識別的、光學(xué) 衍射起作用的凸紋結(jié)構(gòu)來模擬。此外一種根據(jù)DE 102 16 561 Al所述 的宏觀結(jié)構(gòu)可以被構(gòu)建，所述宏觀結(jié)構(gòu)是一種至少逐個(gè)上升的并且可 區(qū)別開的功能，至少在部分區(qū)域內(nèi)是彎曲的，并且其相鄰的極限值相 互間距離至少為O.lmm。與一種孩i觀結(jié)構(gòu)重疊的宏觀結(jié)構(gòu)例如可由WO 03/084764 A2得 知。在此描述一種衍射結(jié)構(gòu)，所述衍射結(jié)構(gòu)通過將宏觀結(jié)構(gòu)與一種微 觀精細(xì)凸紋輪廓進(jìn)行加性的或減性的疊加來構(gòu)成。在有利的擴(kuò)展中設(shè)定所述凸紋結(jié)構(gòu)構(gòu)成為帶有防反射效應(yīng)和/ 或作為散射體和/或耐臟的。為了構(gòu)建一種耐臟的凸紋結(jié)構(gòu)，此外可以 設(shè)計(jì)將所述結(jié)構(gòu)紋理層構(gòu)建為疏水的。所述凸紋結(jié)構(gòu)的上述特征可以由此建立，即所述凸紋結(jié)構(gòu)具有 大的深度與寬度之比，優(yōu)選地為大于1的深度與寬度之比。所述無量綱的深度與寬度之比優(yōu)選的是周期性結(jié)構(gòu)紋理的一種典
型特征。作為深度t，在此表示這種結(jié)構(gòu)紋理的、在相繼的最低和最高點(diǎn)之間的距離，即涉及一個(gè)"波谷"的深度。作為寬度b表示在兩 個(gè)相鄰的最高點(diǎn)之間的距離，即在兩個(gè)"波峰，，之間。所述寬度b也 表示為網(wǎng)格周期，當(dāng)所述凸紋結(jié)構(gòu)涉及一種衍射光柵時(shí)?，F(xiàn)在，所述 深度與寬度之比越高，則所述"波峰"側(cè)壁就越陡。當(dāng)涉及到一種矩形 凸紋結(jié)構(gòu)時(shí)，所述"波峰"側(cè)壁以垂直的走向被構(gòu)建。所述凸紋結(jié)構(gòu)例如可以構(gòu)成為直線狀網(wǎng)格或交叉狀網(wǎng)格，也就是 i兌所述凸紋結(jié)構(gòu)在由x-y坐標(biāo)系展開的平面內(nèi)沿著x方向或/和y方 向延伸。所述凸紋結(jié)構(gòu)也可以涉及一種在三個(gè)方向上延伸的結(jié)構(gòu)紋理， 例如一種六方形網(wǎng)格。這可以設(shè)定所述凸紋結(jié)構(gòu)的寬度或網(wǎng)格周期小于所述光波波長， 當(dāng)涉及到一種用于消除表面反射的、光學(xué)有效的凸紋結(jié)構(gòu)的時(shí)候。對 于所述可見光的范圍，意味著在考慮到人眼的最大光譜靈敏度下， 對于光波波長義=555"、則所述網(wǎng)格周期必須小于550nm。所述凸紋 結(jié)構(gòu)的、對于有效地消除反射所必需的平均深度必須至少位于一個(gè)半 波長的數(shù)量級內(nèi)，即"275聽。為了提高所述凸紋結(jié)構(gòu)的機(jī)械穩(wěn)定性，也可以設(shè)定所述凸紋結(jié) 構(gòu)構(gòu)成為一種被微觀結(jié)構(gòu)重疊的宏觀結(jié)構(gòu)。所述宏觀結(jié)構(gòu)可以構(gòu)成為 帶有一個(gè)是入射射線波長10倍至100倍的網(wǎng)格周期，即對于 A = 550"m, 6 = 5.5戶至55戶。對于微觀結(jié)構(gòu)的尺寸確定前面所提到的規(guī)則是有效的。當(dāng)所述"波峰"在所述宏觀結(jié)構(gòu)中是規(guī)則地分布的，則在所述入射 射線的反射中會出現(xiàn)不期望的方向效應(yīng)，所述方向效應(yīng)導(dǎo)致了一種所 謂的摩爾紋(Moi")。因此可以優(yōu)選地i殳定所迷"波峰"在所述宏 觀結(jié)構(gòu)中隨機(jī)地分布，因此射在所述凸紋結(jié)構(gòu)表面上的射線被完全地 漫反射。那么此外可以設(shè)定所述凸紋結(jié)構(gòu)構(gòu)成為散射體。在此在其表面上構(gòu)成有這種凸紋結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)紋理層不論在入射光下還是在透射光下 都可以構(gòu)成為散射體。因此所述結(jié)構(gòu)紋理層可以例如被用作為一個(gè)單 反鏡頭相機(jī)的磨砂片(Mattscheibe )或者被用作為背投影面或者是作 為一個(gè)顯示器的表面。在所有這些情況下，所述結(jié)構(gòu)紋理層使得所述 反射的以及所述透射的光線在一個(gè)大的空間角度內(nèi)都是可見的。在另外一種有利的擴(kuò)展中可以設(shè)定所述凸紋結(jié)構(gòu)帶有微透鏡， 所述微透鏡的折射率是變化的，并且因此散射光線。這種已知作為指 數(shù)分級或GRIN效應(yīng)的光學(xué)效應(yīng)可以例如借助于感光聚合物材料來構(gòu) 成。在此所述由光線聚合的單體擴(kuò)散在區(qū)域內(nèi)，因此在每個(gè)微透鏡中 建立了一種與位置有關(guān)的折射率。這種感光聚合物材料是可以感光聚 合的單體、或者低聚物、或由可感光聚合的單體和低聚物構(gòu)成的混合 物。為此包括環(huán)氧樹脂、烯丙基、乙烯基醚和其它的含乙烯基有機(jī)單 體、以及丙烯酸酯和丙烯酸曱酯。所述感光聚合物材料可以添加一種 光引發(fā)劑和一種抑制劑例如氧氣，所述光引發(fā)劑在光線作用下啟動(dòng)所 述聚合反應(yīng)，所迷抑制劑在光照強(qiáng)度低于 一 個(gè)閾值時(shí)阻止所述聚合作 用。優(yōu)選地可以設(shè)定所述孩4:透鏡的直徑在3pm和80^n之間，此外 優(yōu)選地介于5nm和50jum之間。但是所述凸紋結(jié)構(gòu)也可以這樣構(gòu)造，即所述凸紋結(jié)構(gòu)將光線散 射到 一個(gè)預(yù)定的角度范圍內(nèi)。通過使用帶有非對稱性輪廓的凸紋結(jié)構(gòu)， 也可以在此得到非對稱的光分布。一種耐臟的凸紋結(jié)構(gòu)是這樣構(gòu)成的，即它是由疏水的材料構(gòu)建 的，并且選擇小于灰塵顆粒的平均尺寸的網(wǎng)格周期。尺寸在從2至5ium 的數(shù)量級內(nèi)的、細(xì)小的灰塵顆粒被滾落的水滴粘合，并且因此從所述 凸紋結(jié)構(gòu)上被除去。在此，凸紋結(jié)構(gòu)的微微凸起已經(jīng)起到疏水的效果， 因?yàn)樗捎谧陨淼谋砻鎻埩Χ豢赡芘獫袼鐾辜y結(jié)構(gòu)。特別地前面所提及的效應(yīng)的組合實(shí)現(xiàn)例如已經(jīng)清楚地由現(xiàn)有技術(shù) 出發(fā)經(jīng)由干涉層來消除光學(xué)元件的表面反射的方案。此外可以設(shè)計(jì)根據(jù)本發(fā)明所述的結(jié)構(gòu)紋理層也被隨后施加到設(shè) 有傳統(tǒng)消除反射的光學(xué)組件上。對顯示器和光電元件也可以以有利的 方式設(shè)置根據(jù)本發(fā)明所述的多層體。
此外可以設(shè)定所述結(jié)構(gòu)紋理層構(gòu)成為光學(xué)元件或者光學(xué)元件的 一部分。在此例如可以涉及一種菲涅爾透鏡，所述菲涅爾透鏡雖然是 平整構(gòu)建的，但是可以發(fā)揮一個(gè)帶有明顯更大厚度的凸透鏡的光學(xué)效 應(yīng)。例如，這樣的一個(gè)菲涅爾透鏡可以被集成在一個(gè)對某個(gè)雜志特定 的書簽中，并且因此可以讓視力有限的人閱讀較小的字體。將所述結(jié)構(gòu)紋理層施加到可設(shè)有一個(gè)技術(shù)表面的物體上是特別簡 單的且可以更加安全，因?yàn)樗鼋Y(jié)構(gòu)紋理層和一層粘膠層一起構(gòu)成一 個(gè)多層體，所述多層體直到被施加到所述物體的表面上為止，并且在 敷設(shè)過程當(dāng)中都是通過所述轉(zhuǎn)印膜以防損害所述表面結(jié)構(gòu)。所述粘膠 劑優(yōu)選地涉及一種熱熔粘接劑。由此所述結(jié)構(gòu)紋理層可以例如借助于 一個(gè)熱壓印過程在壓力和熱量的作用下被壓印。低溫粘接劑、壓敏粘 接劑和UV-硬化粘接劑可以被設(shè)計(jì)作為其它的粘膠劑。在這種情況下， 有利的是所述支承膜的與復(fù)制層相對的表面設(shè)有一層剝離層，由此 可以巻起所述轉(zhuǎn)印膜，而在展開所述轉(zhuǎn)印膜的時(shí)候，不會有所述結(jié)構(gòu) 紋理層從轉(zhuǎn)印層上脫落的危險(xiǎn)。然而所述粘膠劑也可以被施加在物體上。同樣例如可以在壓力和 溫度的作用下進(jìn)行轉(zhuǎn)印。在一個(gè)預(yù)定的模版中擠壓粘膠劑是特別有利 的，特別是在對物體的套裝中，所述結(jié)構(gòu)紋理層應(yīng)該被傳遞到所述模 版上。通過除了所述粘膠層之外設(shè)有其它的層，所述構(gòu)成有根據(jù)本發(fā)明 所述的結(jié)構(gòu)紋理層的多層體可以被修改用于各種的任務(wù)。例如可以設(shè) 定對于在生物和/或醫(yī)療應(yīng)用，所述多層體設(shè)計(jì)用于測量或者檢測氣 體和/或流體和/或固體。所述多層體也可以被作為用于保護(hù)文件和/或 貴重物品的安全元件，例如通過在其表面凸紋中引入一個(gè)特征的或一 個(gè)徽標(biāo)形式的結(jié)構(gòu)。


接下來，借助于多個(gè)實(shí)施例參考附圖示例性地說明本發(fā)明。 附圖中圖1 施加到支承基底上的根據(jù)本發(fā)明的多層體的示意的剖視圖；1 圖2a-2c 在圖1中的多層體的加工步驟的示意的剖視圖；圖2d 將圖2e中的多層體施加到支承基底上；圖3 凸紋結(jié)構(gòu)的第一實(shí)施例的示意的剖視圖；圖4 凸紋結(jié)構(gòu)的第二實(shí)施例的示意的剖視圖；圖5a和圖5b 凸紋結(jié)構(gòu)的第三實(shí)施例的示意的剖視圖；圖6 第一壓印實(shí)例的示意的剖視圖；圖7 第二壓印實(shí)例的示意的剖視圖。
具體實(shí)施方式
圖1示出一種在支承體20上的多層體1，所述多層體由一層透明 的結(jié)構(gòu)紋理層14和一層粘膠層16構(gòu)成。所述支承體20例如可以涉及 一個(gè)顯示器的前屏幕。所述透明的結(jié)構(gòu)紋理層14在其上面的背離粘膠層16的一側(cè)上具 有一凸紋結(jié)構(gòu)14o。所述凸紋結(jié)構(gòu)14o例如可以涉及一種減少反射的 凸紋結(jié)構(gòu)，正如此后在圖3和4中所描述的那樣。所述凸紋結(jié)構(gòu)14o 也可以涉及一種耐臟的凸紋結(jié)構(gòu)，其在此后在圖5a和5b中被描述。此外可以設(shè)定將所述凸紋結(jié)構(gòu)14o構(gòu)成為后向反射器。在此可 以涉及具有徽標(biāo)的形式的部分區(qū)域。所述凸紋結(jié)構(gòu)14o也可以借助于結(jié)構(gòu)紋理確定用于某種凸紋顯 示，其輪廓深度被限制在一個(gè)預(yù)定的值上，類似于對于一種菲涅爾透 鏡。 一個(gè)這種類型的凸紋結(jié)構(gòu)由于在表面處的反射很少，而只會很小 的干擾到例如位于其下方的文件的觀察，然而盡管如此，在合適的觀 察條件下，是可以簡單地測試的。此外可以設(shè)定所述結(jié)構(gòu)紋理層14的表面具有一個(gè)局部的鍍金屬 或者介電層。所述圖2a至圖2c這里示出在圖1中所示的多層體l的加工步驟。 圖2a示出一支承膜18,在所述支承膜中成形一主凸紋結(jié)構(gòu)18m。 所述支承膜18可以涉及一種聚酯薄膜或一種聚丙烯薄膜或由BOP組 成的、厚度為從6至150nm的優(yōu)選厚度為從12|tim至70)nm的薄膜。 所述主凸紋結(jié)構(gòu)18m可以例如通過熱壓印直接在所述支承膜內(nèi)生成。 為此可以將一個(gè)加熱的壓印輥與所述支承膜接觸。所述主凸紋結(jié)構(gòu)18m可以在一層中間層中局部地設(shè)有一層金屬 層或介電層，通過對其進(jìn)行蒸鍍，以便像之前所述的那樣構(gòu)成所述結(jié) 構(gòu)紋理層14。在另外一個(gè)結(jié)構(gòu)中可以設(shè)定所述支承膜18設(shè)有一漆層，在所述 漆層中成形所述主凸紋結(jié)構(gòu)18m。特別是用于構(gòu)成特別精細(xì)的或者深 的主凸紋結(jié)構(gòu)18m，正如其對增透性的表面所必需的那樣，可以設(shè)定 涉及一種可UV石更化的漆，在所述漆中，所述主凸紋結(jié)構(gòu)18m通過 UV復(fù)制生成。所述可UV硬化的漆可以設(shè)置為特別可流動(dòng)的，這樣 它也可以完全填充壓輥的最窄的空隙。所述可UV硬化的漆可以直接 通過UV光線硬化，所述UV光線經(jīng)過所述支承膜導(dǎo)入。但是所述壓 輥也可以涉及一種光學(xué)的壓輥，在其中，所述主凸紋結(jié)構(gòu)18m通過光 學(xué)成像傳遞，所述UV漆局部地完全被硬化，并且在一個(gè)下級清洗站 中將沒有被完全硬化的UV漆完全沖洗掉。所述可UV石更化的漆可以例如涉及下面所述的漆中的 一種單體或低聚的聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、 或環(huán)氧丙烯酸酯、以及氨基改性的聚酯丙烯酸酯，胺改性的聚醚丙烯 酸酯或者胺改性的聚氨酯丙烯酸酯。也可以設(shè)定涉及一種熱塑性漆，所述熱塑性漆借助于熱壓印， 在壓力和溫度下4皮復(fù)制。在此可以例如涉及一種下列混合物的漆組成成分 計(jì)重分量 曱乙酮(Methylethylketon ) 乙酸乙酯(Ethylacetat) 乙酸丁酯(Buthlacetat)聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylat) (軟化點(diǎn)約為170°C ) 笨乙烯共聚物(Styrolcopolymerisat) (軟化點(diǎn)約為IO(TC )400 260 160150 30 正如前面所述的例子所闡述的那樣，在根據(jù)本發(fā)明所述的方法中， 可以在廣泛的范圍內(nèi)影響所述主凸紋結(jié)構(gòu)的特性，其中可以為大批量 生產(chǎn)使用合適的工藝步驟。圖2b示出所述被復(fù)制的支承膜18，在所述支承膜上全面型地施 加所述透明結(jié)構(gòu)紋理層14。所述結(jié)構(gòu)紋理層14由一種漆構(gòu)成，特別 是由一種層厚度為從0.5nm至50pm的熱塑性漆或可UV石更化漆構(gòu)成， 所述漆優(yōu)選地借助于一個(gè)壓輥涂布，并且在涂布之后被完全硬化。也 可能的是所述漆通過噴鍍、滾壓涂覆、或者旋轉(zhuǎn)涂覆來涂布到所述 被復(fù)制的支承膜上。對于較厚的大于10nm的結(jié)構(gòu)紋理層，所述結(jié)構(gòu)紋理層14也可以 由一種薄的PET載體構(gòu)成，所述PET載體設(shè)有可UV硬化的漆，并 且被無氣泡地層壓到所述支承膜18上。所述漆首先粘附在所述薄的 PET上，并且接受所述支承膜18的主凸紋結(jié)構(gòu)18m。接著，可以全 面地涂上粘膠劑16?，F(xiàn)在是結(jié)構(gòu)紋理層14的一部分的薄PET膜如今 在熱壓印中不再以已知的形式施加。因此可以設(shè)定結(jié)構(gòu)紋理層14 以所希望的方式被壓印，并且所述結(jié)構(gòu)紋理層14的不待傳遞的區(qū)域通 過壓印網(wǎng)格分離。所述傳遞的方式因此可以通過壓印確定，而不是通 過轉(zhuǎn)印印記。此外可能的是通過打印不同的部分區(qū)域，所述結(jié)構(gòu)紋理層14 在所述表面上局部地由不同的材料構(gòu)成。所述不同材料的涂布在對于 不同的凸紋結(jié)構(gòu)14o的套準(zhǔn)中是特別有利的。由此可以在結(jié)構(gòu)紋理層 14中局部地實(shí)現(xiàn)材料和表面的優(yōu)化的組合。所述復(fù)制的支承膜在此作為用于成形所述凸紋結(jié)構(gòu)的模型。在此 所述成形質(zhì)量可以通過壓力和/或溫度在涂布所述結(jié)構(gòu)紋理層時(shí)改進(jìn)。 但是也可以設(shè)計(jì)一種非常稀薄的漆，所述漆也可以特別好地完全填充 所迷主凸紋結(jié)構(gòu)的最細(xì)小的空隙。通?？梢栽O(shè)定所述施加的漆通過 干燥而被完全硬化，例如通過熱輻射或通過與加熱體例如一旋轉(zhuǎn)的軋 輥接觸。可以設(shè)定一種干燥輥，用以形成帶有特別光滑的背面的結(jié)構(gòu) 紋理層。在使用可UV硬化的漆時(shí)，可以通過一透明的軋輥或來自于
所述支承膜的前面特別簡單地進(jìn)行所述結(jié)構(gòu)紋理層的硬化。也可以設(shè)定通過UV硬化構(gòu)成具有與位置有關(guān)的折射率的結(jié)構(gòu) 紋理層。為此所必需的模型形狀的照射可以例如通過設(shè)置在所述光源 和所述結(jié)構(gòu)紋理層之間的掩膜或者通過所述主凸紋結(jié)構(gòu)來產(chǎn)生。此外所述結(jié)構(gòu)紋理層可以以一個(gè)預(yù)定的折射率構(gòu)成，例如為了避 免在所述結(jié)構(gòu)紋理層和設(shè)安置在其下的層之間的折射。所迷折射率設(shè) 計(jì)在1.4和1.7之間是有利的，當(dāng)所述結(jié)構(gòu)紋理層施加到聚合物基底或 光學(xué)玻璃上時(shí)。由于所述結(jié)構(gòu)紋理層的凸紋結(jié)構(gòu)是暴露在環(huán)境中的，也可以設(shè)定水的。一種具有特別的抗機(jī)械的UV硬化的漆可以具有下列化合物 組成成分 計(jì)重分量 甲乙酮(Methylethylketon ) 30 乙酸乙酯(Ethylacetat) 20環(huán)己酉同(Cyclohexanon ) 5聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylat) (MG 60000克/摩爾)雙季戊四醇五丙烯酸酯(Dipentaerithritolpentaacrylat)光引發(fā)劑(例如Ciba-Geigy公司的Irgacure1000 )通過下列化合物得到一種疏水的UV硬化漆 成分 計(jì)重分量甲乙酮(Methylethylketon ) 28乙酸乙酯(Ethylacetat) 20環(huán)己酮(Cyclohexa細(xì)) 5聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylat) 18 (MG 60000克/摩爾)雙季戊四醇五丙烯酸酯(Dipentaerithritolpentaacrylat) 25光引發(fā)劑(例如Ciba-Geigy公司的Irgacure1000) 2聚珪氧烷樹脂(Polysiloxanharz) 2圖2c示出圖1中的施加到所述支承膜18上的多層體1的第三、 同時(shí)也是最后的加工步驟，在所述多層體中一層粘膠層16施加到所述 結(jié)構(gòu)紋理層14上。所述粘膠層16優(yōu)選地可以涉及一種熱熔膠。 例如可以設(shè)定下列化合物的粘膠劑組成成分 計(jì)重分量 甲乙酮(Methylethylketon ) 550 乙酸乙酯(Ethylacetat) 175 環(huán)己酉同(Cyclohexanon ) 50聚氨酯樹脂(Polyurethanharz )、 100(尸"200。C )聚氯乙蹄三元共聚物(Polyvinylchlorid Terpolymer )二氧化珪(Siliciumdioxid ) 5現(xiàn)在圖2d示出了施加到所迷承支承體20上的多層體1,在施加 所述多層體l之后，從其上去除所述支承膜18。所述多層體l和所述 支承膜18相對于在圖2a至2c中所示的位置旋轉(zhuǎn)的180度，因此所述 凸紋結(jié)構(gòu)14o現(xiàn)在構(gòu)成所述多層體l的、遠(yuǎn)離所述承支承體18的上面。所述支承膜18從所述多層體上可剝離性可以通過所述支承膜18 的材料配對和所述結(jié)構(gòu)紋理層14來實(shí)現(xiàn)。也可以設(shè)定在所述支承膜 18和所迷結(jié)構(gòu)紋理層14之間設(shè)置一層剝離層，所述剝離層可以例如 是由一層蠟層構(gòu)成的。當(dāng)然，在構(gòu)成所述支承膜18的主凸紋結(jié)構(gòu)18m 時(shí)要考慮到所述剝離層的厚度。所述結(jié)構(gòu)紋理層14可以優(yōu)選地構(gòu)成為 保護(hù)層。
前面所描述的方法特別好地適合于一種連續(xù)的軋輥到軋輥的過程，在所述過程中所述多層體1被分層地涂布到所述支承膜18上并且 結(jié)構(gòu)化。圖3在此示出一種帶有凸紋結(jié)構(gòu)30o的結(jié)構(gòu)紋理層30的第一實(shí)施 例的示意性剖視圖。在此涉及 一 種構(gòu)成為亞波長光柵 (Subwellenlaengengitter)的直線型衍射光柵。 一個(gè)亞波長光柵的網(wǎng)格 周期，即在兩個(gè)"波峰"之間的距離小于光波波長。所述凸紋結(jié)構(gòu)30o 具有一個(gè)大的深度與寬度之比。所述無量綱的深度與寬度之比是一種典型的特征優(yōu)選為周期性的 結(jié)構(gòu)紋理。作為深度t在此表示這種結(jié)構(gòu)紋理的、最低和最高的依次 的點(diǎn)之間的距離，即 一個(gè)"波谷"的深度。作為寬度b表示在兩個(gè)相 鄰的最高點(diǎn)之間的距離，即在兩個(gè)"波峰"之間。所述寬度b也表示 為網(wǎng)格周期。在此，所述深度與寬度之比越高，則所述"波峰"側(cè)壁就 越陡。當(dāng)涉及到一種矩形凸紋結(jié)構(gòu)時(shí)，如在圖1中所示，所述"波峰" 側(cè)壁以垂直的走向被構(gòu)成?，F(xiàn)在一束光線32射入到所述凸紋結(jié)構(gòu)30o上，它分解成多個(gè)反射 光線32r，每個(gè)反射光線具有小于所述光線32的強(qiáng)度。通過這種方式 抑制了光線反射干擾。帶有防反射作用的周期性的微觀結(jié)構(gòu)也被稱作 為蛾眼結(jié)構(gòu)。除了直線型網(wǎng)格外，交叉型網(wǎng)格和六角形網(wǎng)格特別適合 于蛾眼結(jié)構(gòu)?？紤]到人眼的最大光語敏感度位于光波長^ = 555" 在可視范圍 內(nèi)的、防反射的凸紋結(jié)構(gòu)的所述網(wǎng)格周期b必須小于550nm。所述凸 紋結(jié)構(gòu)的、對于好的消除反射性所必需的最小深度必須至少位于半光 波長的數(shù)量級內(nèi)，即在此實(shí)施例中約為350nm。所述凸紋結(jié)構(gòu)30o由于所述通過高的深度與寬度之比而非常細(xì)長 地構(gòu)成的結(jié)構(gòu)元素，可以輕易地被破壞。在圖4中顯示了一種帶有凸 紋結(jié)構(gòu)40o的結(jié)構(gòu)紋理層40，所述凸紋結(jié)構(gòu)40o避免的這種缺點(diǎn)。如 可看出的，所述凸紋結(jié)構(gòu)40o涉及一種凸紋結(jié)構(gòu)，所述凸紋結(jié)構(gòu)特征 在于周期性的宏觀結(jié)構(gòu)與具有高的深度與寬度之比的微觀結(jié)構(gòu)的重 疊。所述凸紋結(jié)構(gòu)40o正如在圖3中的凸紋結(jié)構(gòu)30o那樣起到防反射 的作用，通過將入射光線32分散為許多漫反射的光線32r。圖5a和5b在此示出一種帶有凸紋結(jié)構(gòu)50o的結(jié)構(gòu)紋理層50，所 述凸紋結(jié)構(gòu)構(gòu)成為具有高的深度與寬度之比的直線型網(wǎng)格并且具有垂 直的側(cè)壁。此外所迷凸紋結(jié)構(gòu)50o是疏水構(gòu)成的。圖5a示出沉積在所述凸紋結(jié)構(gòu)50o的表面上的灰塵顆粒52。 一 滴水滴54現(xiàn)在可以在所述凸紋結(jié)構(gòu)50o的、相對于水平的合適的表面 上向下滾動(dòng)，并且因此與灰塵顆粒52接觸。正如在圖5b中顯示的那樣，所述水滴54對所述灰塵顆粒52比對 所述凸紋結(jié)構(gòu)50o的表面施加更高的粘合力。通過這種方式，所述灰 塵顆粒52粘附在向下滾動(dòng)的水滴54上，并且被從所述凸紋結(jié)構(gòu)50o 的表面上去除。因?yàn)閹в懈叩纳疃扰c寬度之比的凸紋結(jié)構(gòu)即可以構(gòu)成為防反射 的，也可以構(gòu)成為耐臟的，所以通過這種方法可以建立一種特別有效 的、光學(xué)表面的保護(hù)。光學(xué)表面在此指得是透明表面，所述透明表面 設(shè)置在光學(xué)路內(nèi)。這可以涉及一個(gè)顯示器的表面或一個(gè)光學(xué)成像系統(tǒng)， 但還可以涉及安全特征的表面，所述安全特征施加到文件、證件、商 品等等上面。例如，在日常使用中可能容易弄臟證件，所以至少會損 害所述證件的外部光學(xué)外觀。但是也有可能的是，再也不能無錯(cuò)誤地 讀出安置在所述證件的表面之下的光學(xué)安全特征，如果所述表面被弄 臟時(shí)。圖6示出一個(gè)證件60的示意性剖視圖，所迷證件的表面被涂布有 一種前面所描述的、帶有減少反射和耐臟的凸紋結(jié)構(gòu)62o的結(jié)構(gòu)紋理 層62。所述結(jié)構(gòu)紋理層62由于一層粘膠層64是不可以被剝離地連接 在所述證件60上，并且此外覆蓋住一層光學(xué)安全元件66，所述安全 元件可以例如具有衍射結(jié)構(gòu)。所迷粘膠層64可以優(yōu)選地具有大約與所 述結(jié)構(gòu)紋理層62 —樣的折射率。所述結(jié)構(gòu)紋理層62現(xiàn)在除了其保護(hù)功能之外也提供一種防偽特 征。所述結(jié)構(gòu)紋理層62是不可以光學(xué)復(fù)制的，并且由于它的薄厚度， 不能毫無損傷地從所迷證件60上剝離，并且因此是不可轉(zhuǎn)移的。所述結(jié)構(gòu)紋理層62有利地具有帶有不同結(jié)構(gòu)化的不同的區(qū)域。在 圖6所示的實(shí)施例中，這涉及帶有凸紋結(jié)構(gòu)62o'的區(qū)域，所述凸紋結(jié) 構(gòu)620，通過它的光學(xué)效應(yīng)與所述凸紋結(jié)構(gòu)62o區(qū)別開來。所述凸紋結(jié) 構(gòu)62o'在它的宏觀分布上是環(huán)形構(gòu)成的，并且框住所述安全元件66。所述具有不同的凸紋結(jié)構(gòu)62o， 62o'的結(jié)構(gòu)紋理層62的結(jié)構(gòu)可以 用于一種安全特征的構(gòu)造，例如由于所述凸紋結(jié)構(gòu)62o， 620，的反射 能力、粗糙度或浸潤行為的不同。所述額外的凸紋結(jié)構(gòu)620，有利地以 一種特征例如一個(gè)徽標(biāo)的形式制入。此外可以設(shè)定所述結(jié)構(gòu)紋理層62的區(qū)域可觸摸地(taktil)從 它的周圍凸起或者具有一個(gè)可通過觸摸確定的圖案。所述區(qū)域可以通 過特征如硬度、彈性、打滑度、導(dǎo)熱性能或者粘性被感覺到，或者 具有可通過觸摸確定的凸起或凹槽，所述凸起或凹槽構(gòu)成一個(gè)圖案， 例如所述盲文符號或簡單的圖形徽標(biāo)例如正方形、菱形、圓形或 星形。所述區(qū)域也可以是可通過觸摸確定的，通過其相對于其周圍凹 下或凸起地構(gòu)成。也可以設(shè)定所述觸覺印痕與一種光學(xué)印痕組合，例如基于所述 凸紋結(jié)構(gòu)的優(yōu)先定向。此外可以設(shè)計(jì)所述結(jié)構(gòu)紋理層62在涂布之后與一個(gè)附加的套印 相組合，例如借助于凹版印刷或也作為素壓印。由此可以在局部構(gòu)成 一個(gè)額外的可觸覺感知的特征，所述特征也可以例如設(shè)置用于個(gè)性化。圖7在此以剖視圖示出一種光學(xué)旋入式過濾器70，正如其可以應(yīng) 用為攝像機(jī)的UV帶阻濾波器。所述旋入式過濾器70主要由一個(gè)環(huán)形 過濾體72和一個(gè)過濾板74構(gòu)成，所述過濾板通過一個(gè)鎖緊環(huán)72k固 定在所述過濾體72中。所述過濾板74在其前方的遠(yuǎn)離在圖7中沒有 顯示出來的相機(jī)機(jī)體的一側(cè)設(shè)置防反射的并且耐臟的結(jié)構(gòu)紋理層76。
權(quán)利要求
1.轉(zhuǎn)印膜，特別是熱壓膜，所述轉(zhuǎn)印膜具有一層支承膜(18)和一層設(shè)置在所述支承膜(18)上的且可以從所述支承膜(18)上分離開的、帶有結(jié)構(gòu)紋理層(14)的傳遞層，其特征在于在所述支承膜(18)上、在它的面向所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)的一側(cè)上成形一主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)，并且所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)在其面向所述支承膜(18)的一側(cè)上具有一與所述支承膜(18)的主凸紋結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的凸紋結(jié)構(gòu)(14o)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)通過壓印形成在所述支承膜(18)中。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述支承膜(18)具有一復(fù)制漆層，在所述復(fù)制漆層中成形所述 主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)。
4. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)具有小于100，的厚度，特別是小于20， 的厚度。
5. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)透明地構(gòu)成。
6. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于在所述支承膜(18)和所述傳遞層之間設(shè)置一剝離層。
7. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于在所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o)上構(gòu)成一保護(hù)層。
8. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)包括微觀結(jié)構(gòu)和/或宏觀結(jié)構(gòu)。
9. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o)的深度是坐標(biāo)x和/或y的一個(gè)函數(shù)，所述 函數(shù)在x方向和/或y方向上周期地變化。
10. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o)的深度主要是坐標(biāo)x或y的矩形函數(shù)，所述 矩形函數(shù)在x方向或y方向上周期地變化。
11. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o)的深度構(gòu)成為坐標(biāo)x或y的鋸齒形函數(shù)，所 述鋸齒形函數(shù)在x方向或y方向上周期地變化。
12. 根據(jù)前面所迷的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于構(gòu)成具有深度與寬度之比大于2的凸紋結(jié)構(gòu)(14o)。
13. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o)通過宏觀結(jié)構(gòu)和微觀結(jié)構(gòu)的疊置來構(gòu)成。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述宏觀結(jié)構(gòu)構(gòu)成為坐標(biāo)x和/或y的一個(gè)函數(shù)，其在x方向和/ 或y方向上周期性地改變所述宏觀結(jié)構(gòu)(14o)的深度。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述宏觀結(jié)構(gòu)具有隨機(jī)分布的凸起。
16. 根據(jù)權(quán)利要求13至14之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于在所述宏觀結(jié)構(gòu)的兩個(gè)相鄰的凸起之間的距離為5^"至55^"。
17. 根據(jù)權(quán)利要求13至16之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述微觀結(jié)構(gòu)的深度與寬度之比大于1。
18. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)構(gòu)成為減少反射的，其中在所述凸紋結(jié)構(gòu)的兩個(gè)相 鄰的凸起之間的距離小于入射射線的波長。
19. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o)構(gòu)成為散射體，其中在所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o) 的兩個(gè)相鄰的凸起之間的距離小于入射射線的IO倍的波長。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所迷的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)(140)的凸起構(gòu)成為直徑為3，至80，的微透鏡， 特別是構(gòu)成為直徑為5，至50，的微透鏡。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述微透鏡構(gòu)成為具有從所述微透鏡的邊緣到所述微透鏡的中心 遞增或遞減的折射率。
22. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述微透鏡構(gòu)成為菲涅爾透鏡。
23. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述凸紋結(jié)構(gòu)(14o)構(gòu)成為防污染的，其中在所述凸紋結(jié)構(gòu)的兩 個(gè)凸起之間的距離小于5，，所述深度與寬度之比大于2,并且所述結(jié)構(gòu)紋理層構(gòu)成為疏水的和/或疏油的。
24. 根據(jù)前面所述的權(quán)利要求之一所述的轉(zhuǎn)印膜， 其特征在于所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)構(gòu)成為光學(xué)元件或者構(gòu)成為一個(gè)光學(xué)元件 的一部分。
25. 用于制造一種轉(zhuǎn)印膜的方法，所述轉(zhuǎn)印膜具有一支承膜(18) 和一設(shè)置在所述支承膜(18)上的且可從所述支承膜(18)上分離開 的帶有結(jié)構(gòu)紋理層(14)的傳遞層，其特征在于將一主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)成形到所述支承膜(18)中；和/或?qū)⒁?復(fù)制層施加到所述支承膜(18)上，并且將一主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)成 形到所述復(fù)制層中；將一結(jié)構(gòu)紋理層(14)施加到所述支承膜(18) 上，其中將一層與所述支承膜(18)的主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)相互補(bǔ)的 凸紋結(jié)構(gòu)(14o)成形到所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)中；并且所述凸紋結(jié)構(gòu) (14o)通過所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)的加固和硬化來固定。
26. 根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法， 其特征在于所述主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)通過壓印制入到所述支承膜(18)中。
27. 才艮據(jù)斥又利要求25或26所述的方法， 其特征在于在施加所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)之前，將一剝離層和/或一保護(hù)層施 加到所述支承膜(18)上。
28. 根據(jù)權(quán)利要求25至27所述的方法， 其特征在于將一粘膠層(16)涂布到所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)上。
29. 帶有一結(jié)構(gòu)紋理層(14)的多層體，其中所述結(jié)構(gòu)紋理層構(gòu) 成所述多層體的前端面，并且在構(gòu)成所述多層體的前端面的、透明的 結(jié)構(gòu)紋理層的第一表面上成形一凸紋結(jié)構(gòu)(14o)，其特征在于所述結(jié)構(gòu)紋理層具有小于100戶的厚度，特別是具有小于20AW的 厚度。
30. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于所述多層體構(gòu)成為可敷設(shè)的防反射層。
31. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于所述多層體構(gòu)成為可敷設(shè)的散射體。
32. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于所述多層體構(gòu)成為可敷設(shè)的、自清潔的保護(hù)層。根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于所述多層體構(gòu)成為光學(xué)元件或者構(gòu)成為一個(gè)光學(xué)元件的一部分。
33. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于所述多層體構(gòu)成為可敷設(shè)的裝飾層。
34. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于所述多層體構(gòu)成為可敷設(shè)的層，用于改變表面磨擦。
35. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于對于生物和/或醫(yī)學(xué)的應(yīng)用，所迷多層體設(shè)計(jì)用于測量和檢測氣體 和/或液體和/或固體。
36. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的多層體， 其特征在于所述多層體構(gòu)成為安全元件，用于保護(hù)文件和/或貴重物品。
全文摘要
這里描述了一種轉(zhuǎn)印膜，特別是熱壓膜，所述轉(zhuǎn)印膜包括一支承膜(18)和一設(shè)置在所述支承膜(18)上的且可以從所述支承膜(18)上分離開的、帶有結(jié)構(gòu)紋理層(14)的傳遞層，其中規(guī)定所述支承膜(18)在其面向所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)的一側(cè)上具有一主凸紋結(jié)構(gòu)(18m)，并且所述結(jié)構(gòu)紋理層(14)在其面向所述支承膜(18)的一側(cè)上具有一與所述支承膜(18)的主凸紋結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的凸紋結(jié)構(gòu)(140)。此外描述一種用于制造所述轉(zhuǎn)印膜的方法，以及一種由所構(gòu)紋理層(14)構(gòu)成的多層體(1)，其中結(jié)構(gòu)紋理層具有小于20μm的厚度。
文檔編號B44C1/16GK101160219SQ200680011970
公開日2008年4月9日 申請日期2006年4月11日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月13日
發(fā)明者A·漢森, J·阿特內(nèi)爾, R·斯托布 申請人:Ovd基尼格拉姆股份公司