本發(fā)明涉及敷銅板腐蝕裝置。

背景技術(shù)：

中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利ZL201110002860.5公開(kāi)了一種敷銅板腐蝕設(shè)備，該腐蝕設(shè)備適用于高校電子工藝實(shí)習(xí)教學(xué)以及創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)室的使用，但是使用過(guò)程中的，小部分廢液在敷銅板清洗的時(shí)候會(huì)混入到水槽中，從而可能對(duì)環(huán)境造成污染。此外，在腐蝕過(guò)程中，腐蝕槽中有很多敷銅板，由于被腐蝕液覆蓋著，要取出已腐蝕完的敷銅板較麻煩。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種更環(huán)保的敷銅板腐蝕裝置。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種敷銅板腐蝕裝置，包括支架、腐蝕槽、儲(chǔ)液箱以及磁力離心泵，腐蝕槽略?xún)A斜，儲(chǔ)液箱位于腐蝕槽低端的出水口的下面，儲(chǔ)液箱通過(guò)管道與磁力離心泵的入水口相連，支架的上方呈一個(gè)臺(tái)階狀，前低后高，腐蝕槽固定于上階上面，下階上面固定著水槽，水槽與腐蝕槽的長(zhǎng)度大致相等，腐蝕槽的高端設(shè)置著散液盒，散液盒通過(guò)管道與磁力離心泵的出水口相連；磁力離心泵的入水口是水平設(shè)置的，磁力離心泵的出水口設(shè)置成往下；腐蝕槽的后面還設(shè)置有后擋板，后擋板上固定有一個(gè)海綿架，海綿架的出水口的下面正好是腐蝕槽，其特征在于：腐蝕槽上放置有能往上提起的箱體，箱體的側(cè)面和底面都設(shè)有通孔，箱體上設(shè)有把手。

進(jìn)一步的，儲(chǔ)液箱的下面設(shè)置一個(gè)廢液箱，廢液箱的容積為儲(chǔ)液箱的容積的1至6倍。

進(jìn)一步的，廢液箱的底部設(shè)有滑動(dòng)輪。

進(jìn)一步的，滑動(dòng)輪為萬(wàn)向輪。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)：本發(fā)明的腐蝕裝置在腐蝕槽上增加了箱體，敷銅板在腐蝕完之后，把箱體從腐蝕槽中提起，從而方便取出腐蝕后的敷銅板。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的正面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是箱體的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是箱體的俯視示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：1、腐蝕槽，2、水槽，3、后擋板，4、儲(chǔ)液箱，5、支架，6、磁力離心泵，7、廢液箱，71、廢液箱的入口，8、開(kāi)關(guān)，9、散液盒，10、海綿架，11、箱體。

具體實(shí)施方式

如圖1和圖2所示，一種敷銅板腐蝕裝置，包括支架5、腐蝕槽1、儲(chǔ)液箱4以及磁力離心泵6，腐蝕槽1略?xún)A斜，儲(chǔ)液箱4位于腐蝕槽1低端的出水口的下面，儲(chǔ)液箱4通過(guò)管道及開(kāi)關(guān)8與磁力離心泵6的入水口相連，支架5的上方呈一個(gè)臺(tái)階狀，前低后高，腐蝕槽1固定于上階上面，下階上面固定著水槽2，水槽2與腐蝕槽1的長(zhǎng)度大致相等，腐蝕槽1的高端設(shè)置著散液盒9，散液盒9通過(guò)管道與磁力離心泵6的出水口相連；磁力離心泵6的入水口是水平設(shè)置的，磁力離心泵6的出水口設(shè)置成往下；腐蝕槽1的后面還設(shè)置有后擋板3，后擋板3上固定有一個(gè)海綿架10，海綿架10的出水口的下面正好是腐蝕槽1。儲(chǔ)液箱4的下面設(shè)置一個(gè)廢液箱7。儲(chǔ)液箱4設(shè)置有兩個(gè)出水口，一個(gè)連至磁力離心泵6，另一個(gè)正好對(duì)著廢液箱的入口71。如圖1所示，腐蝕槽1上放置有8個(gè)能往上提起的箱體11，如圖3和圖4所示，箱體11的側(cè)面和底面都設(shè)有通孔，箱體11上設(shè)有把手。