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電子設(shè)備的制作方法

文檔序號:11920457閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種電子設(shè)備,其特征在于包括:

光傳感器;

透明結(jié)構(gòu),所述透明結(jié)構(gòu)具有形成與所述光傳感器對準(zhǔn)的窗口的一部分;和

所述透明結(jié)構(gòu)上的涂層,所述涂層插置在所述光傳感器與所述透明結(jié)構(gòu)之間并且與所述窗口疊置,其中所述涂層具有物理氣相沉積薄膜涂層和插置在所述物理氣相沉積薄膜涂層與所述透明結(jié)構(gòu)之間的電介質(zhì)層疊堆。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于所述光傳感器包括環(huán)境光傳感器。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備,其特征在于還包括顯示器,其中所述透明結(jié)構(gòu)包括用于所述顯示器的顯示器覆蓋層。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備,其特征在于所述物理氣相沉積薄膜涂層具有至少1.8的折射率。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備,其特征在于所述物理氣相沉積薄膜涂層具有至少2.1的折射率。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備,其特征在于所述物理氣相沉積薄膜涂層包含金屬氮化物。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備,其特征在于所述物理氣相沉積薄膜涂層包含氮化鋁鈦。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備,其特征在于所述電介質(zhì)層疊堆包括具有第一折射率的多個層和具有與所述第一折射率不同的第二折射率的多個交織層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子設(shè)備,其特征在于所述電介質(zhì)層疊堆包括至少一個金屬氧化物層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電子設(shè)備,其特征在于所述物理氣相沉積薄膜涂層包括具有小于20%的可見光透射率的黑色層。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子設(shè)備,其特征在于所述物理氣相沉積薄膜涂層具有至少2.2的折射率。

12.一種電子設(shè)備,其特征在于包括:

具有顯示器覆蓋層的顯示器,所述顯示器覆蓋層與具有用于顯示圖像的像素的有效區(qū)域和不具有像素的無效區(qū)域疊置;

環(huán)境光傳感器,所述環(huán)境光傳感器通過所述顯示器覆蓋層的與所述無效區(qū)域疊置的一部分來接收光;和

所述顯示器覆蓋層的所述一部分上的涂層,其中所述涂層包括黑色無機(jī)層和電介質(zhì)層疊堆。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電子設(shè)備,其特征在于所述電介質(zhì)層疊堆位于所述黑色無機(jī)層與所述顯示器覆蓋層之間。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子設(shè)備,其特征在于所述黑色無機(jī)層包含金屬氮化物。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子設(shè)備,其特征在于所述黑色無機(jī)層具有至少2.1的折射率。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子設(shè)備,其特征在于所述涂層插置在所述環(huán)境光傳感器與所述顯示器覆蓋層之間,并且其中所述電介質(zhì)層疊堆包括至少一個金屬氧化物層。

17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子設(shè)備,其特征在于所述電介質(zhì)層疊堆至少包括具有第一折射率的一些電介質(zhì)層和具有與所述第一折射率不同的第二折射率的一些電介質(zhì)層。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的電子設(shè)備,其特征在于還包括所述顯示器覆蓋層上的黑色油墨層,其中所述涂層形成在所述黑色油墨中的開口中,并且其中所述電介質(zhì)層疊堆被配置為形成防反射顏色調(diào)節(jié)層。

19.一種電子設(shè)備,其特征在于包括:

外殼;

所述外殼中的顯示器,所述顯示器具有顯示器覆蓋層;

所述顯示器覆蓋層上的黑色不透明遮蔽層,所述黑色不透明遮蔽層具有形成環(huán)境光傳感器窗口的開口;

所述外殼中的環(huán)境光傳感器,所述環(huán)境光傳感器通過所述環(huán)境光傳感器窗口來接收環(huán)境光;和

所述顯示器覆蓋層上的位于所述開口中的涂層,其中所述涂層包括黑色薄膜無機(jī)層和防反射層。

20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電子設(shè)備,其特征在于防反射層位于所述黑色薄膜無機(jī)層與所述顯示器覆蓋層之間,其中所述黑色薄膜無機(jī)層包括具有至少1.9的折射率的物理氣相沉積層,并且其中所述防反射層包括至少三個無機(jī)電介質(zhì)層。

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