專利名稱：有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法。
背景技術(shù)：
最近，與陰極射線管設(shè)備相比重量更輕、體積更小的各種平板顯示設(shè)備
已被開發(fā)出來。示例性平板顯示設(shè)備包括液晶顯示器(LCD)、場致發(fā)光顯示器(FED)、等離子體顯示面板(PDP)和有機(jī)發(fā)光顯示器(OLED)，以及其它顯示器。
有機(jī)發(fā)光顯示器利用通過電子和空穴的復(fù)合而發(fā)光的OLED來顯示圖像。
有機(jī)發(fā)光二極管包括陽極、陰極和位于陽極與陰極之間的發(fā)光層。當(dāng)電流以從陽極到陰極的方向流動(dòng)時(shí)，顏色通過發(fā)出的光表現(xiàn)出來。
這種有機(jī)發(fā)光顯示器具有優(yōu)良的顏色再現(xiàn)性、相對(duì)較薄的配置等，其市場已經(jīng)廣泛擴(kuò)展到各種應(yīng)用中，例如除了蜂窩電話外，還有個(gè)人數(shù)字助理(PDA) 、 MP3播放器等。
傳統(tǒng)有機(jī)發(fā)光顯示器可以包括在透明基板，以及密封透明基板的密封基板，其中透明基板上形成有薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管等等。透明基板和密封基板之間包括隔板以便恒定地在透明基板和密封基板之間保持距離。
在如上構(gòu)造的有機(jī)發(fā)光顯示器中，當(dāng)從外部向密封基板或透明基板施加沖擊時(shí)，該沖擊可能會(huì)傳遞至隔板。
傳遞至隔板的沖擊還能夠傳遞至有機(jī)發(fā)光二極管，從而損壞有機(jī)發(fā)光二極管。具體來說，傳送的沖擊強(qiáng)度越大，對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管的損壞程度也變得越大。被損壞的有機(jī)發(fā)光二極管不發(fā)光，從而有可能造成有機(jī)發(fā)光顯示器出現(xiàn)污點(diǎn)。
通過評(píng)估設(shè)備強(qiáng)度的彎曲測試或球下落測試來檢查內(nèi)部設(shè)備出現(xiàn)的缺 陷。如果設(shè)備無法承受閾值強(qiáng)度，則該設(shè)備被判定為不適合投入市場。
因此，設(shè)備的有機(jī)發(fā)光顯示器的強(qiáng)度很重要，而且增加設(shè)備的強(qiáng)度也很重要。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的方面，提供一種通過納入沖擊吸收層而使耐用性提高的有 機(jī)發(fā)光顯示器和制造該有機(jī)發(fā)光顯示器的方法。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，提供一種有機(jī)發(fā)光顯示器，包括第一基板， 該第 一基板包括位于絕緣層上的多個(gè)陽極和圍繞所述多個(gè)陽極的多個(gè)像素 限定層。沖擊吸收層與所述多個(gè)像素限定層隔開，隔板位于該沖擊吸收層上。 第二基板面向該第 一基板并且通過該隔板與該第 一基板隔開。
在一個(gè)實(shí)施例中，該第 一基板和該第二基板之間的空間中為惰性氣體或 有機(jī)材料。進(jìn)一步，所述多個(gè)像素限定層和該沖擊吸收層可以包括相同的材 料并且可以由相同的工藝形成。
在另一實(shí)施例中，提供一種制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，包括在玻璃上
形成薄膜晶體管，在該薄膜晶體管的上表面上形成絕緣層；在該絕緣層上形 成電連接至該薄膜晶體管的多個(gè)陽極；通過在所述多個(gè)陽極上形成該絕緣層 或形成該形成在所述多個(gè)陽極上的絕緣層的圖案，來形成圍繞所述多個(gè)陽極 的多個(gè)像素限定層以及與所述多個(gè)像素限定層隔開的多個(gè)沖擊吸收層；以及 在所述多個(gè)沖擊吸收層上形成隔板。


附圖與說明書結(jié)合圖示說明本發(fā)明的示例性實(shí)施例，并且結(jié)合描述來解 釋本發(fā)明的原理。
圖1是示出有機(jī)發(fā)光顯示器的平面圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示器的橫截面圖。
具體實(shí)施例方式
在接下來的具體描述中，僅僅簡單地通過圖示說明的形式示出和描述本 發(fā)明的某些示例性實(shí)施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，可以采用各種方式修 改所描述的實(shí)施例而不偏離本發(fā)明的精神或范圍。相應(yīng)地，附圖和描述被認(rèn) 為是例證性的而非限制性的。另外，當(dāng)元件被稱為在另一元件"上"時(shí)，它 可以直接在該元件上，也可以間接在該元件上并有 一個(gè)以上的中間元件間置 于兩者之間。同樣，當(dāng)元件被稱為"連接至，，另一元件時(shí)，它可以直接連接 至該元件，也可以間接連接至該元件并有 一個(gè)以上的中間元件間置于兩者之 間。在下文中，相似的附圖標(biāo)記表示相似的元件。
圖1是示出有機(jī)發(fā)光顯示器的平面圖。
參見圖1，有機(jī)發(fā)光顯示器包括透明基板和密封基板。這里，透明基板 包括薄膜晶體管、絕緣層和有機(jī)發(fā)光二極管的陽極10等等，這些形成在透
明基板的上表面上。同樣，像素限定層(PDL) 11形成在陽極10的上表面 上。陽極10的特定區(qū)域暴露，例如用于發(fā)光的發(fā)射區(qū)域12暴露。發(fā)射區(qū)域 12與發(fā)射層形成在一起以形成有機(jī)發(fā)光二極管。有機(jī)發(fā)光二極管電連接至 薄膜晶體管以發(fā)出對(duì)應(yīng)于從薄膜晶體管發(fā)送的信號(hào)的光。多個(gè)隔板13形成
在PDL層11的一個(gè)區(qū)域上。隔板13的作用是恒定地保持透明基板和密封 基板之間的距離。
當(dāng)來自外部的沖擊施加到如上構(gòu)造的有機(jī)發(fā)光顯示器的密封基板或透 明基板時(shí)，沖擊^皮傳遞至隔板13。
當(dāng)沖擊被傳遞至隔板13時(shí)，沖擊可以用進(jìn)一步被傳遞至隔板的下表面 上的PDL層11。傳遞至PDL層11的沖擊還能夠被傳遞至發(fā)射層和陽極10。 因此，如果傳遞的沖擊強(qiáng)度很大，有機(jī)發(fā)光二極管可能被損壞，從而妨礙有 機(jī)發(fā)光二極管發(fā)光。同樣，有機(jī)發(fā)光顯示器上可能會(huì)出現(xiàn)污點(diǎn)。
相應(yīng)地，本發(fā)明的實(shí)施例所包括的有機(jī)發(fā)光顯示器具有沖擊吸收層以防
6止或大大減輕對(duì)有機(jī)發(fā)光顯示器的損壞。在下文中，將參照?qǐng)D2給出其具體 描述。
圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示器的橫截面圖。參照?qǐng)D2， 有機(jī)發(fā)光顯示器包括透明基板150、密封透明基板150的密封基板200和將 密封基板200與透明基板150隔開的隔板110。
緩沖層101形成在透明基板150的玻璃100上，半導(dǎo)體層102形成在緩 沖層101的上表面上。絕緣層103形成在半導(dǎo)體層102的上表面上，并且柵 極104通過在絕緣層103的上表面上形成金屬層并使金屬層形成圖案而形 成。在半導(dǎo)體層102上進(jìn)行離子摻雜處理。
絕緣層105形成在4冊才及104的上表面上，而后接觸孔115形成在絕緣層 中。源極漏極金屬106通過在半導(dǎo)體層102的上表面上形成金屬層并使金屬 層形成圖案而形成。源極漏極金屬106可以通過接觸孔115接觸半導(dǎo)體層 102的兩端。
絕緣層107被形成為具有平坦的上表面。接觸孔117接著形成在絕緣層 107中，并且陽極111形成在絕緣層107上。陽極111通過接觸孔117接觸 源極漏極金屬106。
絕緣層形成在陽極111上。通過對(duì)形成在陽極111上的絕緣層進(jìn)行蝕刻， 形成在陽極111上的絕纟彖層變成PDL層108和沖擊吸收層109。 PDL層108 是在其中形成有機(jī)發(fā)光二極管的膜限定區(qū)。陽極111暴露于PDL層108的 內(nèi)部。發(fā)射層(未示出)形成在陽極111的上表面上，陰極(未示出)形成 在發(fā)射層的上部以形成有機(jī)發(fā)光二極管。
沖擊吸收層109和PDL層108以彼此隔開的形式形成。因此，雖然沖 擊可能會(huì)施加到?jīng)_擊吸收層109,但它不會(huì)被傳遞給PDL層108。換句話說， 雖然由來自外部的沖擊產(chǎn)生的力^皮施加到?jīng)_擊吸收層109，但力并沒有^皮傳 遞給PDL層108上形成的發(fā)射層。
隔板110形成在沖擊吸收層的上部以保持透明電極150和密封電極200 之間的距離。此時(shí)，隔*反110可以形成為4妄觸密封基板200,也可以形成與密封基板200隔開一定的距離。如果從外部施加沖擊，則沖擊被施加于隔
板110。同樣，施加于隔板110的沖擊僅傳遞給沖擊吸收層109，從而保護(hù)
了發(fā)射層。
有機(jī)發(fā)光顯示器的透明基板150和密封基板200還可以通過環(huán)氧樹脂或 玻璃料(frit)以及其它緊固件或粘膠彼此粘附。諸如N2之類的惰性氣體被 注入透明基板150和密封基板200之間的空間。
另外，為了進(jìn)一步增加設(shè)備強(qiáng)度，將諸如有機(jī)材料等的各種增強(qiáng)材料形 成在透明基板150和密封基板200之間。
如上所述，利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法，沖 擊吸收層109以與PDL層108隔開的形式形成，并且隔板110形成在沖擊 吸收層109上，這樣可以防止由于從外部施加的沖擊而損壞有機(jī)發(fā)光二極 管。
盡管已經(jīng)結(jié)合某些示范性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，應(yīng)該理解的是， 本發(fā)明并不局限于所公開的實(shí)施例，相反，旨在覆蓋落入所附權(quán)利要求的精 神和范圍內(nèi)的各種修改和等同配置及其等同物。
8
權(quán)利要求
1、一種有機(jī)發(fā)光顯示器，包括第一基板，包括位于絕緣層上的多個(gè)陽極、圍繞所述多個(gè)陽極的多個(gè)像素限定層和與所述多個(gè)像素限定層隔開的沖擊吸收層；第二基板，面向所述第一基板；以及隔板，位于所述沖擊吸收層上，將所述第二基板與所述第一基板隔開。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器，其中所述第一基板和所述第二基板之間的空間中有惰性氣體。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器，其中所述第一基板和所述第二 基板之間的空間中有有機(jī)材料。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器，其中所述多個(gè)像素限定層和所
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器，其中所述第一基板進(jìn)一步包括緩沖層和位于所述緩沖層上的半導(dǎo)體層。
6、 一種制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，包括在玻璃上形成薄膜晶體管；在所述薄膜晶體管上形成絕緣層；在所述絕緣層上形成電連接至所述薄膜晶體管的多個(gè)陽極；形成圍繞所述多個(gè)陽極的多個(gè)像素限定層以及與所述多個(gè)像素限定層隔開的多個(gè)沖擊吸收層；以及在所述多個(gè)沖擊吸收層上形成隔板。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，其中形成圍繞所述多個(gè)陽極的多個(gè)像素限定層以及與所述多個(gè)像素限定層隔開的多個(gè)沖擊吸收層的步驟包括在所述多個(gè)陽極上形成絕緣層，并使在所述多個(gè)陽極上形成的絕緣層形成圖案來形成圍繞所述多個(gè)陽極布置的多個(gè)像素限定層和與所述多個(gè)像素限定層隔開的多個(gè)沖擊吸收層。
8、 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，進(jìn)一步包括在所述隔板上形成密封基板，所述隔板將所述密封基板與所述多個(gè)像素限定層隔開。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，進(jìn)一步包括將情 性氣體注入在所述薄膜晶體管上形成的絕緣層和所述密封基板之間。
10、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，進(jìn)一步包括將 有機(jī)材料注入在所述薄膜晶體管上形成的絕緣層和所述密封基板之間。
11、 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，其中所述多 個(gè)像素限定層和所述多個(gè)沖擊吸收層包括相同的材料。
12、 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法，其中所述多 個(gè)像素限定層和所述多個(gè)沖擊吸收層由相同的工藝制成。全文摘要
本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法。該有機(jī)發(fā)光顯示器包括第一基板，該第一基板包括位于絕緣層上的多個(gè)陽極和圍繞所述多個(gè)陽極的多個(gè)像素限定層。沖擊吸收層與所述多個(gè)像素限定層隔開，隔板位于所述沖擊吸收層的上表面上。第二基板面向所述第一基板并且通過所述隔板與所述第一基板隔開。
文檔編號(hào)G09F9/33GK101499486SQ20091000853
公開日2009年8月5日 申請(qǐng)日期2009年1月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月30日
發(fā)明者崔永瑞, 李瓘熙 申請(qǐng)人:三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社