專利名稱：：自發(fā)光顯示裝置及其制造方法、透明導(dǎo)電性薄膜、電致發(fā)光元件、太陽能電池用透明電極...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及具有透光性高且表面電阻率低而且可撓性優(yōu)良的電極部的自發(fā)光顯示裝置及其制造方法、透光性高且表面電阻率低而且可撓性優(yōu)良的透明導(dǎo)電性薄膜、和采用了該透明導(dǎo)電性薄膜的電致發(fā)光元件、太陽能電池用透明電極及電子紙用透明電極。再有，自發(fā)光顯示裝置也包括照明用途的發(fā)光裝置。
背景技術(shù)：
：近來，在液晶顯示器或有機、無機的電致發(fā)光元件、電子紙等中，作為取出光的一側(cè)的電極，采用具有透明導(dǎo)電性層的薄膜或玻璃基板(例如參照專利文獻(xiàn)14)。這些透明導(dǎo)電性層一般是采用銦及錫的氧化物或鋅的氧化物、錫的氧化物等而形成的，但為了得到低電阻，必須形成厚而均勻的膜，其結(jié)果是，存在光透射率下降、高成本化、形成工序中需要進(jìn)行高溫處理等問題，特別是在薄膜上的低電阻化中存在界限。作為其改進(jìn)對策，提出了在透明電極層中附加金屬線等導(dǎo)電性成分的提案(專利文獻(xiàn)2)、或在透明電極層(透明陽極基板)中設(shè)置導(dǎo)電性金屬的總線的方法(專利文獻(xiàn)1及3)、或者在透明電極層(上部電極)上設(shè)置網(wǎng)格模樣的金屬線結(jié)構(gòu)的方法(專利文獻(xiàn)5)。通過蒸鍍或濺射ITO(IndiumTinOxide)膜等導(dǎo)電性金屬、透明電極層來賦予導(dǎo)電性(例如參照專利文獻(xiàn)1及2)的方法，在生產(chǎn)性低這點上還要求改進(jìn)。此外，設(shè)置總線的方法因其本身的工序增加而使成本上升。除此以外，在專利文獻(xiàn)5中通過蒸鍍ITO膜提高了導(dǎo)電性，但其缺陷是作為材料的ITO膜因擔(dān)心資源枯竭而要求替代品，并且在蒸鍍工序中損耗大。另外，在專利文獻(xiàn)6中公開了一種方法，該方法是在支撐體上制造實質(zhì)上透明的傳導(dǎo)層，該傳導(dǎo)層含有本征傳導(dǎo)性聚合體及不均勻地分布在其中的傳導(dǎo)性金屬，且本身形成傳導(dǎo)體；通過照相處理來制造該不均勻地分布的傳導(dǎo)性金屬。但是，對于以低成本、大批量制造能兼顧高的光透射率和低的表面電阻的透明導(dǎo)電性薄膜的目的來說，還不充分。再者，在利用近年來積極開發(fā)的有機EL或電子紙技術(shù)等的柔性顯示器中，必須采用具有可撓性的透明導(dǎo)電性薄膜，在上述透明導(dǎo)電膜中因彎曲而形成的微細(xì)裂紋所導(dǎo)致的導(dǎo)電性下降是不可避免的。近年來，作為具有可撓性的導(dǎo)電性材料的PEDOT/PSS等透明導(dǎo)電性樹脂、或應(yīng)用了納米技術(shù)的碳納米管或金屬納米絲及納米棒等的開發(fā)十分活躍，但如果就其單體而言，還不能產(chǎn)生與ITO膜同等以上的低電阻。專利文獻(xiàn)l:日本特開平8-180974號公報專利文獻(xiàn)2:日本特開平9-147639號公報專利文獻(xiàn)3:日本特開平10-162961號公報專利文獻(xiàn)4:日本特開平11-224782號公報專利文獻(xiàn)5:日本特開2005-302508號公報專利文獻(xiàn)6:日本特表2006-501604號公報
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于上述情況而做出的，其課題在于解決上述以往的問題，實現(xiàn)以下的目的。也就是說，提供一種具有透光性高且表面電阻率低而且可撓性優(yōu)良的電極部的自發(fā)光顯示裝置及其制造方法。此外，提供一種透光性高且表面電阻率低而且可撓性優(yōu)良的透明導(dǎo)電性薄膜、和采用了該透明導(dǎo)電性薄膜的電致發(fā)光元件、太陽能電池用透明電極及電子紙用透明電極。本發(fā)明的課題是通過限定本發(fā)明的下述事項及其優(yōu)選的方式來實現(xiàn)的。第l發(fā)明是自發(fā)光顯示裝置，其特征在于，具備支撐體；電極部，其被設(shè)置在該支撐體上，且具有由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部和透光性的導(dǎo)電膜；和顯示部，其被層疊在所述電極部上且具有發(fā)光層。而且所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部的體積電阻為10—4歐姆*Cm以下及/或表面電阻在100歐姆/sq以下，所述導(dǎo)電膜的體積電阻為0.05歐姆'cm以上及/或表面電阻在100歐姆/sq以上，在將進(jìn)行下述彎曲試驗前的所述電極部的表面電阻設(shè)定為Rl、將進(jìn)行了下述彎曲試驗后的所述電極部的表面電阻設(shè)定為R2吋，滿足R2/RK18。此處，彎曲試驗是通過重復(fù)進(jìn)行以下工序使所述電極部彎曲100次，所述工序是將所述電極部掛在相對于基座旋轉(zhuǎn)自如地安裝的直徑為4mm的輥上，對所述電極部的一個端部按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥旋轉(zhuǎn)，從而使所述電極部彎曲的工序；和對所述電極部的另一個端部按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥旋轉(zhuǎn)，從而使所述電極部彎曲的工序。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述導(dǎo)電膜含有導(dǎo)電性材料。根據(jù)[2]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述導(dǎo)電性材料含有透明導(dǎo)電性有機聚合物、或?qū)щ娦晕⒘?。根?jù)[3]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述導(dǎo)電性微粒是導(dǎo)電性金屬氧化物、導(dǎo)電性金屬微?；蛱技{米管。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部的厚度(高度)在10um以下。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部的厚度(高度)在5um以下。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部的厚度(高度)與所述導(dǎo)電膜實質(zhì)上相同。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述導(dǎo)電膜被設(shè)置在所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部的上表面或下表面。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的光的透射率相對于550nm的光在70%以上。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部由導(dǎo)電性金屬銀形成，該導(dǎo)電性金屬銀是通過對在所述支撐體上至少具有含感光性銀鹽的層的感光層進(jìn)行曝光、顯影處理而形成的。[11]根據(jù)[IO]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部是通過對在所述支撐體上具有含感光性銀鹽的層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影從而形成導(dǎo)電性金屬銀部和透光部而成的。根據(jù)[ll]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部具有所述導(dǎo)電膜、所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部和透光部，所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部和所述透光部是通過對設(shè)置在所述支撐體上的感光材料進(jìn)行曝光及顯影而形成的，該感光材料是至少包含含感光性鹵化銀的層的照相構(gòu)成層且其中的至少1層為含有導(dǎo)電性材料的層。根據(jù)[10]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部含有銀，且Ag/粘合劑的體積比為1/4以上。根據(jù)[10]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部可通過在對所述支撐體上具有含感光性銀鹽的層的感光材料進(jìn)行了曝光、顯影及定影后，至少進(jìn)行1次壓實處理來得到。根據(jù)[14]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述壓實處理是在對曝光過的感光層進(jìn)行了顯影、水洗、干燥、定影、水洗、干燥后進(jìn)行的。根據(jù)[14]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述壓實處理是通過砑光輥裝置來進(jìn)行的。根據(jù)[14]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于在1980N/cm(200kgf/cm)以上的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。根據(jù)[14]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于在2960N/cm(300kgf/cm)以上的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。根據(jù)[14]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于在6860N/cm(700kgf/cm)以下的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。根據(jù)[14]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部可通過在所述顯影和干燥之間進(jìn)行物理顯影、電解鍍覆及非電解鍍覆中的至少一種來得到。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于在形成了所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部后，通過貼合所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部和所述導(dǎo)電膜而形成所述電極部。根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述支撐體的膜厚為8200Um。[23]根據(jù)[l]的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述支撐體是下述樹脂薄膜，所述樹脂是聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯類；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、EVA等聚烯烴類；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯等乙烯基系樹脂；此外，是聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亞胺、丙烯酸樹脂、三醋酸纖維素(TAC)等樹脂。第2發(fā)明的自發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于通過對支撐體上具有至少包含含感光性鹵化銀的層的照相構(gòu)成層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影，在所述支撐體上形成由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部，并將該細(xì)線結(jié)構(gòu)部與透明性的導(dǎo)電膜組合。根據(jù)[24]的自發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于具有對所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部進(jìn)行壓實處理的壓實處理工序。根據(jù)[25]的自發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于在所述壓實處理工序的前段還具有在還原劑水溶液中進(jìn)行浸漬的工序。根據(jù)[25]的自發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于在所述壓實處理工序的后段還具有用黑化處理液對所述金屬銀部的表面進(jìn)行黑化處理的黑化處理工序。根據(jù)[27]的自發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于所述黑化處理液包含鎳、鋅、錫中的任一種。第3發(fā)明的自發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，具有以下工序在支撐體上設(shè)置至少包含含感光性鹵化銀的層的照相構(gòu)成層的工序；和通過對所述照相構(gòu)成層中的至少1層為含有導(dǎo)電性材料的層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影來制作電極部的工序，該電極部被設(shè)置在所述支撐體上、且具有由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部和透光性的導(dǎo)電膜。第4發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜，其具有支撐體、設(shè)置在該支撐體上且由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部、和透光性的導(dǎo)電膜，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部的體積電阻為10—4歐姆，cm以下及/或表面電阻為100歐姆/sq以下，所述導(dǎo)電膜的體積電阻為0.05歐姆，cm以上及/或表面電阻為100歐姆/sq以上;在將進(jìn)行下述彎曲試驗前的所述透明導(dǎo)電性薄膜的表面電阻設(shè)定為Rl、將進(jìn)行了下述彎曲試驗后的所述透明導(dǎo)電性薄膜的表面電阻設(shè)定為R2時，滿足R2/RK18。這里，彎曲試驗是通過重復(fù)進(jìn)行以下工序使所述透明導(dǎo)電性薄膜彎曲100次，所述工序是將所述透明導(dǎo)電性薄膜掛在相對于基座旋轉(zhuǎn)自如地安裝的直徑為4mm的輥上，對所述透明導(dǎo)電性薄膜的一個端部按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥旋轉(zhuǎn)，從而使所述透明導(dǎo)電性薄膜彎曲的工序；和對所述透明導(dǎo)電性薄膜的另一個端部按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥旋轉(zhuǎn)，從而使所述透明導(dǎo)電性薄膜彎曲的工序。根據(jù)[30]的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部含有密度為8.0g/cm310.5g/cm3的銀。根據(jù)[30]的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部的厚度為0.5ym10lim。根據(jù)[30]的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部為細(xì)線圖案，其線寬為0.1um25um。第5發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于通過對支撐體上具有至少包含含感光性鹵化銀的層的照相構(gòu)成層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影，從而在所述支撐體上形成由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部，并將該細(xì)線結(jié)構(gòu)部與透明性的導(dǎo)電膜組合。根據(jù)[34]的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部含有銀，且Ag/粘合劑的體積比為1/4以上。根據(jù)[34]的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于具有對所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部進(jìn)行壓實處理的壓實處理工序。根據(jù)[36]的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于所述壓實處理通過砑光輥裝置來進(jìn)行。根據(jù)[36]的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于在1980N/cm(200kgf/cm)以上的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。根據(jù)[36]的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于在2960N/cm(300kgf/cm)以上的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。根據(jù)[36]的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于在6860N/cm(700kgf/cm)以下的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。[41]第6發(fā)明的電致發(fā)光元件，其特征在于具有上述的透明導(dǎo)電性薄膜。第7發(fā)明的太陽能電池用透明電極，其特征在于具有上述的透明導(dǎo)電性薄膜。第8發(fā)明的電子紙用透明電極，其特征在于具有上述的透明導(dǎo)電性薄膜。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的自發(fā)光顯示裝置，由于具有透光性高、且表面電阻率低、可撓性優(yōu)良的電極部，因此很容易在利用無機EL、有機EL、電子紙等的柔性顯示器中應(yīng)用，可促進(jìn)這些無機EL、有機EL、電子紙等的批量生產(chǎn)。此外，根據(jù)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜，由于透光性高、且表面電阻率低、可撓性優(yōu)良，因此可優(yōu)選用于大面積的電致發(fā)光元件的低電壓化、高耐用化、面內(nèi)亮度均勻化、或太陽能電池等的電力取出效率的改進(jìn)、以及電子紙等柔性顯示器的低電壓化及低耗電化。'此外，以具有經(jīng)壓實處理過的具有導(dǎo)電性金屬部的細(xì)線結(jié)構(gòu)部、和透明性的導(dǎo)電膜為特征的本發(fā)明，可提供能兼顧高的透射率和低的表面電阻率的透明導(dǎo)電性薄膜。而且，能夠低成本、大批量地制造具有如此的效果的透明導(dǎo)電性薄膜。在本發(fā)明中，通過采用透明導(dǎo)電性材料等作為導(dǎo)電膜，能夠?qū)崿F(xiàn)透明導(dǎo)電性薄膜的批量生產(chǎn)化。ITO膜的表面電阻值雖然不是十分低，但本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜通過導(dǎo)電膜和細(xì)線結(jié)構(gòu)部的聯(lián)合作用使表面電阻降低，而且涂膜也廉價，因而能夠在無機EL、太陽能電池等中應(yīng)用。此外，在用于EL元件時，細(xì)線結(jié)構(gòu)部與ITO膜的情況相比，由于表面電阻降低，因此具有在形成大尺寸元件時亮度不降低等特征。另一特征是:采用ITO膜時必需的電極的母線(總線)也不需要。此外，也能夠作為低電阻的電極用于電子紙等柔性顯示器，在此種情況下，能夠有助于低電壓化、低耗電化。在用于所有制品的情況下，由于本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的可撓性優(yōu)良，可以用輥對輥(rolltoroll)的方式生產(chǎn)，因而能夠大幅度降低這些制品的生產(chǎn)工藝成本。圖l是部分省略地表示本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的構(gòu)成的剖視圖。圖2是部分省略地表示本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的第1變形例的剖視圖。圖3是部分省略地表示本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的第2變形例的剖視圖。圖4是部分省略地表示本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的第3變形例的剖視圖。圖5是部分省略地表示本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的第4變形例的剖視圖。圖6是部分省略地表示本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的第5變形例的剖視圖。圖7是部分省略地表示本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的第6變形例的剖視圖。圖8是部分省略地表示本實施方式的自發(fā)光顯示裝置的構(gòu)成的剖視圖。圖9A圖9E是表示在支撐體上形成細(xì)線結(jié)構(gòu)部的制造方法的工序圖。圖IO是表示顯影后的砑光處理及定影后的砑光處理中的線壓力與表面電阻率的關(guān)系的特性圖。圖11是用于說明彎曲試驗的圖示。圖12A是表示只有細(xì)線結(jié)構(gòu)部的細(xì)線附近發(fā)光的狀態(tài)的圖示，圖12B是表示整面發(fā)光的圖示。圖13是表示用于測定根據(jù)與取出電極的距離而發(fā)生的亮度變化的實驗例的說明圖。圖14是表示在實施例23、比較例21、24及25中測定根據(jù)與取出電極的距離而發(fā)生的亮度變化的測定結(jié)果的特性圖。圖15是表示試樣16的表面電阻的上升率的圖示。具體實施例方式以下記述本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進(jìn)行說明。首先，如圖1所示，本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜10具有透明性的支撐體12、和設(shè)在該支撐體12上且由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14及透光性的導(dǎo)電膜16。在圖1的例子中，表示細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的厚度(高度)大于導(dǎo)電膜的厚度(高度)，但此外，如圖2及圖3所示，細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的厚度(高度)與導(dǎo)電膜16的厚度(高度)也可以大致相同。在此種情況下，如圖2所示，也可以使細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的上表面露出，或如圖3所示也可以用導(dǎo)電膜16覆蓋細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的上表面?；蛘?，如圖4所示，也可以在支撐體12上的整面上形成導(dǎo)電膜16，在該導(dǎo)電膜16上形成細(xì)線圖案狀的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14。在此種情況下，如圖5所示，也可以形成厚度(高度)比細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的厚度(高度)大的保護(hù)層18或其它的導(dǎo)電膜。此外，如圖6所示，在支撐體12上形成高電阻的第l導(dǎo)電膜16a和細(xì)線圖案狀的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14，也可以在包含這些第1導(dǎo)電膜16a和細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的整面上形成低電阻的第2導(dǎo)電膜16b或保護(hù)層。另外，如圖7所示，也可以在支撐體12上形成以條紋狀形成的多個導(dǎo)電膜16，在各導(dǎo)電膜16的上表面中，在寬度方向端部的附近沿著長度方向分別形成細(xì)線結(jié)構(gòu)部14。如圖7所示，可以在各導(dǎo)電膜16的例如左側(cè)端部(或右側(cè)端部)形成細(xì)線結(jié)構(gòu)部14，也可以在寬度方向兩端形成細(xì)線結(jié)構(gòu)部14。作為細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的細(xì)線圖案，可以形成例如如圖12A及圖12B所示的網(wǎng)格狀，或者也可以列舉出多個六角形狀排列而成的形狀、多個三角形狀排列而成的形狀、多個多角形狀排列而成的形狀、條紋狀(格子狀)等。當(dāng)然，也可以將各細(xì)線形成直線狀以外的波線狀(正弦曲線等)。而且，在利用該透明導(dǎo)電性薄膜10構(gòu)成自發(fā)光顯示裝置20的情況下，例如如圖8所示，能夠通過采用上述本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜10作為例如第1電極部22(例如陽極)、在該第1電極部22上配置顯示部24來構(gòu)成。作為顯示部24，具有層疊在第l電極部22的上表面(包含細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的上表面)上的例如發(fā)光層26(硫化鋅等無機物或二胺類等有機物)、和配置在該發(fā)光層26上的第2電極部28(例如陰極)。本實施方式中的自發(fā)光顯示裝置除了顯示圖像的用途以外，當(dāng)然也能用于照明用途。15對于本發(fā)明中所用的細(xì)線結(jié)構(gòu)部的導(dǎo)電材料和賦予開口部的透明導(dǎo)電材料來說，為了能進(jìn)行有效的發(fā)光，存在電阻的最佳的范圍。關(guān)于細(xì)線結(jié)構(gòu)部，為了充分發(fā)揮高導(dǎo)電性，優(yōu)選利用體積電阻為10^歐姆，cm以下的材料。此外，關(guān)于開口部中所用的透明導(dǎo)電材料，為了抑制由該材料造成的光損失，作為單獨的表面電阻，優(yōu)選為1000歐姆/sq以上。通過上述范圍中的方式，可以實現(xiàn)低電阻、電力損耗小且透明性高的透明導(dǎo)電性薄膜。特別是，在本實施方式中，構(gòu)成第1電極部22的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的體積電阻為10_4歐姆，cm以下，同樣地構(gòu)成第1電極部22的導(dǎo)電膜16的體積電阻為0.05歐姆cm以上。此外，構(gòu)成第1電極部22的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的表面電阻為100歐姆/sq以下，同樣地構(gòu)成第1電極部22的導(dǎo)電膜16的表面電阻為1000歐姆/sq以上。細(xì)線結(jié)構(gòu)部14及導(dǎo)電膜16的表面電阻是按照J(rèn)ISK6911中記載的測定方法而測定的值。另外，在將進(jìn)行后述彎曲試驗前的第1電極部22的表面電阻設(shè)定為Rl、將進(jìn)行了彎曲試驗后的第l電極部22的表面電阻設(shè)定為R2時，滿足R2/Rl<18。這里，例如如圖n所示，彎曲試驗是通過重復(fù)進(jìn)行以下工序使試樣34彎曲IOO次，所述工序是將長尺寸的試樣34(第l電極部22)掛在相對于基座30旋轉(zhuǎn)自如地安裝的直徑(^4mm的輥32上，對試樣34的一個端部34a施加28.6(kg/m)的張力進(jìn)行拉伸，同時使輥32旋轉(zhuǎn)，從而使試樣34彎曲的工序；和同樣對試樣34的另一個端部34b施加28.6(kg/m)的張力進(jìn)行拉伸，同時使輥32旋轉(zhuǎn)，從而使試樣34彎曲的工序。通過滿足上述條件，本實施方式中的自發(fā)光顯示裝置20由于可以具有透光性高、且表面電阻低、而且可撓性優(yōu)良的第l電極部22，所以能夠容易將其應(yīng)用于利用了無機EL、有機EL、電子紙等的柔性顯示器中，能夠促進(jìn)這些無機EL、有機EL、電子紙等的批量生產(chǎn)化。此外，根據(jù)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10,由于透光性高、且表面電阻低、而且可撓性優(yōu)良，因此能夠優(yōu)選用于大面積的電致發(fā)光元件的低電壓化、高耐用化、面內(nèi)亮度均勻化、或太陽能電池等的電力取出效率的改進(jìn)、以及電子紙等柔性顯示器的低電壓及低耗電化。特別是，通過對后述的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14進(jìn)行壓實處理，可提供能兼顧高的透射率和低的表面電阻率的透明導(dǎo)電性薄膜10。而且，能夠以低成本大批量地制造具有如此的效果的透明導(dǎo)電性薄膜10。在本發(fā)明中，通過釆用透明導(dǎo)電性薄膜等作為導(dǎo)電膜，能夠?qū)崿F(xiàn)透明導(dǎo)電性薄膜的批量生產(chǎn)化。雖然ITO膜的表面電阻值也不是十分低，但本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜通過導(dǎo)電膜和細(xì)線結(jié)構(gòu)部的聯(lián)合作用使表面電阻降低，而且涂膜也廉價，因而能夠用于無機EL、太陽能電池等中。此外，在用于EL元件時，細(xì)線結(jié)構(gòu)部14與ITO膜時相比，由于表面電阻降低，因此具有在形成大尺寸元件時亮度不降低等特征。另一特征是在采用ITO膜時必需的電極的母線(busbar)也不需要，此外，也能夠作為低電阻的電極用于電子紙等柔性顯示器中，在此種情況下，能夠有助于低電壓化、低耗電化。即使在用于所有的制品的情況下，由于本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的可撓性優(yōu)良，因而能夠以輥對輥的方式生產(chǎn)，能夠大幅度降低這些制品的生產(chǎn)工藝成本。作為另一優(yōu)選的實施方式，如下所述。首先，優(yōu)選本實施方式中的透明導(dǎo)電性薄膜10(第1電極部22)的導(dǎo)電膜16含有導(dǎo)電性材料。在此種情況下，優(yōu)選導(dǎo)電性材料是透明導(dǎo)電性有機聚合物或?qū)щ娦晕⒘?。?yōu)選導(dǎo)電性微粒是導(dǎo)電性金屬氧化物、導(dǎo)電性金屬微粒或碳納米管。在本實施方式中，細(xì)線結(jié)構(gòu)部14也可以由導(dǎo)電性金屬銀形成，該導(dǎo)電性金屬銀是通過對支撐體12上至少具有含感光性銀鹽的層的感光層進(jìn)行曝光、顯影處理而形成的。在此種情況下，作為細(xì)線結(jié)構(gòu)部14，通過對在支撐體12上的具有含感光性銀鹽的層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影，也可以形成導(dǎo)電性金屬銀部和透光部。再有，透光部也可以實質(zhì)上沒有物理顯影核。此外，優(yōu)選細(xì)線結(jié)構(gòu)部14含有銀，且Ag/粘合劑的體積比為1/4以上。作為上述Ag/粘合劑的體積比，優(yōu)選Ag:粘合劑=10:io.i:i，更優(yōu)選4:io.25:i，進(jìn)一步優(yōu)選4:10.7:i，進(jìn)一步優(yōu)選Ag:粘合劑=3.50:11lc這里，參照圖9A圖9E對在支撐體12上形成細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的制造方法進(jìn)行說明。17首先，如圖9A所示，將鹵化銀粒子40(例如溴化銀粒子、氯溴化銀粒子或碘溴化銀粒子)混合在明膠42中形成銀鹽感光層44，然后將該銀鹽感光層44涂布在第2透明支撐體28上。再有，在圖9A圖9C中，以"顆粒"的形式標(biāo)記卣化銀40，但說到底是為了有助于理解本發(fā)明而夸張地表示卣化銀40，不是表示其尺寸及濃度等。然后，如圖9B所示，對銀鹽感光層44進(jìn)行細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的形成中所必須的曝光。鹵化銀40接受光能而感光，生成被稱為"潛影"的肉眼觀察不到的微小的銀核。然后，為了將潛影增幅到能夠用肉眼觀察的可視化的圖像，如圖9C所示，進(jìn)行顯影處理。具體地講，用顯影液(堿性溶液和酸性溶液中的哪一種都有，但通常堿性溶液較多)對形成了潛影的銀鹽感光層44進(jìn)行顯影處理。所謂該顯影處理，是鹵化銀粒子乃至從顯影液供給的銀離子通過顯影液中的被稱為顯影主劑的還原劑，以潛影銀核為催化劑核被還原成金屬銀，其結(jié)果是潛影銀核被增幅而形成可視化的銀圖像(顯影銀46)。在顯影處理結(jié)束后，由于在銀鹽感光層44中殘留可對光感光的鹵化銀40，因此為了將其除去，如圖9D所示，利用定影處理液(堿性溶液和酸性溶液中的哪一種都有，但通常堿性溶液較多)進(jìn)行定影。通過進(jìn)行該定影處理，可在被曝光的部位上形成金屬銀部48，在沒有被曝光的部位上只殘留明膠42，成為透光部。.采用溴化銀作為鹵化銀40、用硫代硫酸鹽進(jìn)行定影處理時的定影處理的反應(yīng)式如以下所示。AgBr(固體)+2個8203離子一Ag(S203)2(易水溶性絡(luò)合物)也就是說，2個硫代硫酸根3203與明膠42中的銀離子(來自AgBr的銀離子)生成硫代硫酸銀絡(luò)合物。硫代硫酸銀絡(luò)合物因水溶性高而從明膠42中溶出。其結(jié)果是，顯影銀46作為金屬銀部48被定影而殘留。因此，顯影工序是相對于潛影使還原劑反應(yīng)從而析出顯影銀46的工序，定影工序是使未成為顯影銀46的鹵化銀40向水中溶出的工序。詳細(xì)情況i青參照T.H.James,TheTheoryOfthePhotographicProcess,4thed.,MacmillianPublishingCo"Inc，NY，Chapter15,438-442頁，1977。再有，優(yōu)選在顯影處理后、進(jìn)入到定影處理工序之前，用醋酸(醋)溶液等終止液對銀鹽感光層44進(jìn)行中和或酸性化。然后，如圖9E所示，例如通過在進(jìn)行熱處理除去了殘存的明膠后，例如進(jìn)行鍍覆處理(可單獨或組合進(jìn)行非電解鍍覆或電鍍)而只在金屬銀部48的表面上擔(dān)載金屬層50，從而可在第2透明支撐體28上由金屬銀部48、和擔(dān)載于該金屬銀部48上的金屬層50來形成細(xì)線結(jié)構(gòu)部14。這里，對采用上述的銀鹽感光層44的方法(銀鹽照相技術(shù))和采用光致抗蝕劑的方法(抗蝕劑技術(shù))的區(qū)別進(jìn)行說明。在抗蝕劑技術(shù)中，通過曝光處理，光聚合引發(fā)劑吸收光而引發(fā)反應(yīng)，光致抗蝕劑膜(樹脂)本身產(chǎn)生聚合反應(yīng)，使相對于顯影液的溶解性增大或減小，通過顯影處理將曝光部分或未曝光部分的樹脂除去。再有，在抗蝕劑技術(shù)中，被稱為顯影液的溶液不含還原劑，是能將未反應(yīng)的樹脂成分溶解的例如堿性溶液。另一方面，在本發(fā)明的銀鹽照相技術(shù)的曝光處理中，如上述所記載，由在接受光的部位上的鹵化銀40內(nèi)發(fā)生的光電子和銀離子形成被稱為所謂"潛影"的微小銀核，該潛影銀核通過顯影處理(此時的顯影液一定要含有被稱為顯影主劑的還原劑)而被增幅，成為可視化的銀圖像。這樣，在抗蝕劑技術(shù)和銀鹽照相技術(shù)中，從曝光處理到顯影處理的反應(yīng)完全不同。在抗蝕劑技術(shù)的顯影處理中，將曝光部分或未曝光部分的沒有發(fā)生聚合反應(yīng)的樹脂部分除去。另一方面，在銀鹽照相技術(shù)的顯影處理中，以潛影為催化劑核，通過含在顯影液中的被稱為顯影主劑的還原劑發(fā)生還原反應(yīng)，使顯影銀46生長到肉眼能夠看到的尺寸，不對未曝光部分的明膠42進(jìn)行除去。這樣，在抗蝕劑技術(shù)和銀鹽照相技術(shù)中，顯影處理中的反應(yīng)也完全不同。再有，含在未曝光部分的明膠42中的鹵化銀40通過其后的定影處理被溶出，而不對明膠42本身進(jìn)行除去(參照圖9D)。這樣，在銀鹽照相技術(shù)中，反應(yīng)(感光)主體是鹵化銀，而在抗蝕劑技術(shù)中是光聚合引發(fā)劑。此外，在顯影處理中，在銀鹽照相技術(shù)中，粘合劑(明膠42)殘存(參照圖9D)，但在抗蝕劑技術(shù)中，粘合劑消失。在這點上，銀鹽照相技術(shù)和抗蝕劑技術(shù)區(qū)別較大。19另外，關(guān)于細(xì)線結(jié)構(gòu)部14，優(yōu)選通過在對支撐體12上的具有含感光性銀鹽的層的感光材料進(jìn)行了曝光、顯影后、在定影前進(jìn)行至少1次壓實處理，在定影結(jié)束后再進(jìn)行至少1次壓實處理來得到。在此種情況下，壓實處理在對曝光后的感光層進(jìn)行了顯影、水洗及干燥后進(jìn)行，進(jìn)一步優(yōu)選在定影、水洗及干燥后進(jìn)行。壓實處理可通過砑光輥裝置來進(jìn)行。再者，關(guān)于細(xì)線結(jié)構(gòu)部14，優(yōu)選通過在顯影和干燥之間進(jìn)行物理顯影、電解鍍覆及非電解鍍覆中的至少1種來得到。而且，透明導(dǎo)電性薄膜IO(第l電極部22)也可以在形成了細(xì)線結(jié)構(gòu)部14后，通過貼合細(xì)線結(jié)構(gòu)部14和導(dǎo)電膜16來構(gòu)成。接著，對本實施方式中的透明導(dǎo)電性薄膜10(第1電極部22)的具體的構(gòu)成例進(jìn)行說明。再有，在本說明書中""以表示包含其前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值的意思而使用。支撐體12只要具有透光性就不特別限定，但希望透光性高。此外，只要具有透光性，也可以在不妨礙發(fā)明的目的的范圍內(nèi)進(jìn)行著色。在本實施方式中，支撐體12的總可見光透射率優(yōu)選為70100%，更優(yōu)選為85100%，特別優(yōu)選為90100%。因此，作為支撐體12，能夠采用塑料薄膜。作為上述塑料薄膜的原料，例如能夠采用聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯類；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、EVA等聚烯烴類；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯等乙烯基系樹脂；此外，能夠采用聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亞胺、丙烯酸樹脂、三醋酸纖維素(TAC)等。在本實施方式中，從透明性、耐熱性、處理容易及價格等方面考慮，優(yōu)選上述塑料薄膜為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)。關(guān)于透明導(dǎo)電性薄膜IO，由于要求透明性，所以希望支撐體12的透明性高。這種情況下的塑料薄膜的總可見光透射率優(yōu)選為70100%、更優(yōu)選為85100%、特別優(yōu)選為90100%。此外，在本實施方式中，作為所述20塑料薄膜，也可以采用在不妨礙發(fā)明的目的的范圍內(nèi)進(jìn)行了著色的塑料薄膜。本實施方式中的塑料薄膜能以單層使用，也能夠以組合2層以上而成的多層薄膜使用。此外，也可以采用為了提高耐光性而混合了紫外線吸收劑的底膜、或附加了阻擋層、或者附加了反射防止層或硬質(zhì)涂層的塑料薄膜。在作為本實施方式中的支撐體12采用玻璃板的情況下，對其種類不特別限定，但在作為顯示器用導(dǎo)電性薄膜的用途使用時，優(yōu)選采用表面設(shè)有強化層的強化玻璃。強化玻璃與未進(jìn)行強化處理的玻璃相比，防破損的可能性高。而且，用風(fēng)冷法得到的強化玻璃即使萬一破損，其碎片也小，且端面也不鋒利，因此在安全上是優(yōu)選的。本實施方式中，除了透明性的導(dǎo)電膜16以外，配置同樣的網(wǎng)格狀、梳齒型或格子型等的金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14，制成經(jīng)過壓實處理的導(dǎo)電性面，以改善通電性。作為金屬或合金的細(xì)線(記述為金屬細(xì)線)的材料，優(yōu)選采用銅或銀、鋁，但也可以根據(jù)目的采用上述的透明導(dǎo)電性材料。優(yōu)選是導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性高的材料。此外，也可以通過對這些金屬實施鍍覆處理形成鍍覆金屬。金屬細(xì)線的寬度是任意的，但優(yōu)選為O.lum左右至30ym之間。優(yōu)選按20um300nm間隔的間距來配置金屬細(xì)線。因配置金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部使光的透射率降低，但重要的是盡量使降低減小，而且重要的是在不使金屬細(xì)線的間隔過窄、或者不使金屬細(xì)線的寬度或高度過大的情況下，優(yōu)選確保70%以上的光透射率。在本實施方式中，透明導(dǎo)電性薄膜IO的光透射率相對于550nm的光優(yōu)選為70%以上、更優(yōu)選為80%、進(jìn)一步優(yōu)選為90%以上。在將本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜IO用于EL元件的情況下，為了提高亮度，此外為了實現(xiàn)白色發(fā)光，優(yōu)選波長為420nm650nm的區(qū)域的光透過70%以上，更優(yōu)選透過80%以上。進(jìn)而為了實現(xiàn)白色發(fā)光，更優(yōu)選波長為380nm680nm的區(qū)域的光透過80%以上。最優(yōu)選透過90%以上。透明導(dǎo)電性薄膜10的光透射率可用分光光度計進(jìn)行測定。金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的高度(厚度)優(yōu)選為0.1um以上10txm以下，更優(yōu)選為0.1um以上2ym以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.1um以上1ym以下。金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14和導(dǎo)電膜16中的哪個在表面突出都可以，但作為結(jié)果的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的突起部與開口部的高低差優(yōu)選在5um以下，進(jìn)而最優(yōu)選為實質(zhì)上沒有高低差。這里，導(dǎo)電性面的高度表示采用三維表面粗糙度計(例如東京精密公司制，SURFCOM575A-3DF)測定5mm四方時的凹凸部的平均振幅。對于表面粗糙度計的分解能力達(dá)不到的部位，采用STM或電子顯微鏡進(jìn)行測定而求出高度。優(yōu)選細(xì)線結(jié)構(gòu)部14是至少一部分被實施了黑化處理的。通過黑化處理形成的黑化層除了防銹效果以外，還能夠賦予防反射性。通過利用黑化處理對細(xì)線結(jié)構(gòu)部14賦予防反射性，能夠抑制將反射率高的金屬進(jìn)行細(xì)線圖案化而成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14中的光的反射。關(guān)于黑化處理，例如已在特開2003-188576號公報中公開，一般能夠通過使用導(dǎo)電性金屬化合物、例如鎳(Ni)、鋅(Zn)、銅(Cu)等的化合物或合金的電解鍍覆處理、提供黑色系被膜的鍍覆法、或使用電沉積涂覆材料等電沉積性離子性高分子材料的方法來實施。例如，通過Co-Cu合金鍍覆而形成的黑化層能夠防止金屬表面的反射，另外通過實施鉻酸鹽處理還能夠賦予防銹性。鉻酸鹽處理是浸漬在以鉻酸或重鉻酸鹽為主成分的溶液中，干燥后形成防銹被膜的處理。在本實施方式中，作為上述黑化處理時所用的電解液的鍍液(黑色鍍覆液)能夠使用以硫酸鎳鹽為主成分的黑色鍍覆液，另外也能同樣地使用市售的黑色鍍覆液，具體地講，例如，能夠使用株式會社Shimizu制的黑色鍍覆液(商品名乂一7、'口^SNC，Sn-Ni合金系)、日本化學(xué)產(chǎn)業(yè)株式會社制的黑色鍍覆液(商品名二、7力:/，、;/夕，Sn-Ni合金系)、株式會社金屬化學(xué)工業(yè)制的黑色鍍覆液(商品名工求二一夕口厶85、乂y—85系列，Cr系)等。此外，在本實施方式中，作為上述的黑色鍍覆液，能夠使用Zn系、Cu系、其它等多種黑色鍍覆液。此外，作為金屬的黑化處理劑，采用硫化物系化合物能夠易于制造，再者，市售品也有多種處理劑，例如，能夠使用商品名、;/夕CuO、3八°一:/，、乂夕CuS、硒系的〕八°一7、、，iy夕No.65等(ISOLATE化學(xué)研究所制)、商品名工求乂一少C7^V卞》(>》亍、乂夕只株式會社制)等。對于細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的制造方法不特別限定，但優(yōu)選用銀鹽照相法使鹵化銀粒子化學(xué)顯影成所希望的細(xì)線圖案的方法。利用銀鹽照相法得到的金屬被稱為顯影銀，是通過化學(xué)顯影得到的燈絲狀的金屬銀的集合體、或是燈絲狀的金屬銀相互結(jié)合及熔合而成的金屬銀的集合體。作為得到顯影銀的方法，能夠利用一般熟知的銀鹽照相的原理及方法。例如，能夠利用在特開2004-221564號公報中記載的方法等。此外，由于顯影銀可形成為足夠用作電解鍍覆的陰極的導(dǎo)電性，因此可對顯影銀進(jìn)行電解鍍覆。此外，也可利用顯影銀作為非電解鍍覆催化劑，也可以對顯影銀實施非電解鍍覆。因此，通過利用其它金屬例如導(dǎo)電性高的銅等實施鍍覆處理，也可以形成由顯影銀和鍍覆金屬(包括不可避免的雜質(zhì))形成的構(gòu)成。此外，由于可按上述對顯影銀進(jìn)行鍍覆處理，因而能夠容易實施黑化處理。對于細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的細(xì)線圖案的形狀不特別限定，能夠根據(jù)目的而選擇各種圖案，可如上所述地形成網(wǎng)格狀，或者列舉出多個六角形狀排列而成的形狀、多個三角形狀排列而成的形狀、多個多角形狀排列而成的形狀、條紋狀(格子狀)等。當(dāng)然，也可以將各細(xì)線形成直線狀以外的波線狀(正弦曲線等)。金屬細(xì)線的厚度可根據(jù)用途適宜變更，但為了得到高的導(dǎo)電性，優(yōu)選具有0.241!1以上的厚度。關(guān)于上限，如上所述，優(yōu)選為10um以下、更優(yōu)選為2ym以下、進(jìn)一步優(yōu)選為lum以下。細(xì)線圖案的線寬也能根據(jù)用途適宜變更，但為了得到高的導(dǎo)電性，優(yōu)選具有l(wèi)um以上的線寬，如果線寬過大，在與上述同樣地目視的情況下能夠發(fā)現(xiàn)，對于透射光的材料來說會成為問題，因此優(yōu)選是線寬為lym以上30ym以下的細(xì)線圖案，更優(yōu)選為2um以上20um以下，進(jìn)一步優(yōu)選為4tim以上18tim以下。另一方面，作為導(dǎo)電膜16，可通過在聚對苯二甲酸乙二酯、及聚萘二甲酸乙二酯基底等透明薄膜上，將PEDOT/PSS聚苯胺聚吡咯聚噻23吩聚異硫茚等透明導(dǎo)電性有機聚合物、金屬氧化物、金屬微粒、金屬納米棒及納米絲等導(dǎo)電性金屬、碳納米管等的導(dǎo)電性無機微粒、或有機水溶性鹽中的任何一種用涂布、印刷等方法同樣地附著、成膜來得到。關(guān)于這些涂布液，為了提高涂布適宜性及調(diào)整膜物性，也可以混合其它非導(dǎo)電性聚合物或膠乳等來使用。另外，也可以使用將銀薄膜用高折射率層夾持而成的多層結(jié)構(gòu)。關(guān)于這些透明導(dǎo)電性材料，在東l/研究中心發(fā)行的"電磁波屏蔽材料的現(xiàn)狀和將來"、和特開平9-147639號公報等中有記載。作為涂布及印刷的方法，可采用滑板涂布機、縫口模頭涂布機、幕式涂布機、輥式涂布機、棒涂機、照相凹版涂布機等涂布機或絲網(wǎng)印刷等。在本實施方式中，除了如此的導(dǎo)電膜16以外，配置一樣的網(wǎng)格狀、條紋狀、梳齒型或格子型等的金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14，制成導(dǎo)電性面，改善通電性。通過分別地形成網(wǎng)格狀的金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14、和形成有導(dǎo)電膜16的透明薄膜并重合，能夠制作本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜10。除了貼合細(xì)線結(jié)構(gòu)部14和導(dǎo)電膜16以外，通過在形成于透明薄膜上的網(wǎng)格狀的金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14上，通過用蒸鍍、涂布、印刷等方法相同地對透明導(dǎo)電性材料的分散物進(jìn)行附著、成膜，也可以制作透明導(dǎo)電性薄膜10。通過用透明導(dǎo)電性材料的分散物來緩和網(wǎng)格狀的金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的凸凹，可得到整體凹凸少的光滑的結(jié)構(gòu)。此外，也可以在透明薄膜上形成透明導(dǎo)電性材料，然后在其上設(shè)置細(xì)線結(jié)構(gòu)部14。在任何情況下，為了使金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14與透明薄膜的密合性、或?qū)щ娔?6與透明薄膜的密合性等提高，可以優(yōu)選采用由有機高分子材料形成的中間層、或者進(jìn)行表面處理。由于不使金屬及/或合金的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14直接與其它層接觸，并且將透明導(dǎo)電性薄膜10的表面的凹凸抑制在低水平，因此，例如容易得到形成于其上的電場發(fā)光層或電流注入層的均勻的接合，并且容易確保自發(fā)光顯示裝置20的穩(wěn)定性。此外，在支撐體12上具有至少包含含感光性氯化銀的層的照相構(gòu)成層，通過對該照相構(gòu)成層中的至少1層為含有導(dǎo)電性材料的層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影，也可以形成具有金屬銀部和透光部的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14、和含有導(dǎo)電性材料的導(dǎo)電膜16。導(dǎo)電膜16也可形成為將含有導(dǎo)電性聚合物的第1膜和以絕緣性聚合物為主成分的第2膜層疊而成的構(gòu)成。也可以將導(dǎo)電膜16形成為含有導(dǎo)電性聚合物和絕緣性聚合物的混合物的構(gòu)成。通過上述構(gòu)成，能夠削減高價的導(dǎo)電性聚合物的使用量，能夠?qū)崿F(xiàn)低價格化。這里，在含有導(dǎo)電性聚合物和絕緣性聚合物的混合物的情況下，例如，可考慮按導(dǎo)電性聚合物為10%、其它粘合劑為90%混合使用的方式等。導(dǎo)電性聚合物的含量優(yōu)選為50質(zhì)量%以上，更優(yōu)選為70質(zhì)量％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為80質(zhì)量％以上。在導(dǎo)電膜16含有導(dǎo)電性聚合物和絕緣性聚合物的混合物的情況下，導(dǎo)電性聚合物可以均勻地分布，也可以在空間上不均勻地分布，但在分布不均勻的情況下，優(yōu)選越接近導(dǎo)電膜16的表面，導(dǎo)電性聚合物的含有率越高。再有，在上述的第1膜(以導(dǎo)電性聚合物為主成分)和第2膜(以絕緣性聚合物為主成分)的層疊結(jié)構(gòu)的情況下，為了形成價格更低的構(gòu)成，優(yōu)選為第2膜的層厚大于第1膜的層厚的構(gòu)成。作為導(dǎo)電性聚合物，優(yōu)選透光性及導(dǎo)電性高的，優(yōu)選聚噻吩類、聚吡咯類、聚苯胺類等電子傳導(dǎo)性導(dǎo)電性聚合物。作為電子傳導(dǎo)性導(dǎo)電性聚合物，是該
技術(shù)領(lǐng)域：
已知的聚合物，例如聚乙炔、聚吡咯、聚苯胺、聚噻吩等。其詳細(xì)情況可參見"AdvancesinSyntheticMetals，，，ed.P.Bernier，S丄efrant，andG.Bidan，Elsevier,1999;"IntrinsicallyConductingPolymers:AnEmergingTechnology",Kluwer(1993);"ConductingPolymerFundamentalsandApplications，APracticalApproach"，RChandrasekhar，Kluwer，1999;及"HandbookofOrganicConductingMoleculesandPolymers",Ed.Walwa，Vol.1-4，MarcelDekkerInc.(1997)這些教科書。今后開發(fā)的新型的電子傳導(dǎo)性聚合物，只要是電子傳導(dǎo)性聚合物，同樣能夠采用，這對于該行業(yè)人士是容易想到的。此外，這些電子傳導(dǎo)性聚合物可以單獨使用，也可以如聚合物混合物一樣混合使用多種聚合物。作為絕緣性聚合物，可列舉出丙烯酸樹脂、脂膠樹脂、聚氨酯樹脂、乙烯基樹脂、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯垸酮、明膠等，其中優(yōu)選為丙烯酸樹脂及聚氨酯樹脂，特別優(yōu)選為丙烯酸樹脂。此外，導(dǎo)電膜16也可以含有導(dǎo)電性金屬氧化物粒子或粘合劑等。作為導(dǎo)電性金屬氧化物，可采用氧化錫、摻雜銻的Sn02、銦和錫的氧化物(IT0)、氧化鋅、摻雜氟的氧化錫、摻雜鎵的氧化鋅等。作為粘合劑可列舉出丙烯酸樹脂、脂膠樹脂、聚氨酯樹脂、乙烯基樹脂、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、明膠等，其中優(yōu)選為丙烯酸樹脂及聚氨酯樹脂，特別優(yōu)選為丙烯酸樹脂。為了提高耐水性或耐溶劑性等，優(yōu)選對導(dǎo)電膜16進(jìn)行交聯(lián)，在導(dǎo)電性聚合物本身不具有交聯(lián)反應(yīng)性的情況下，優(yōu)選粘合劑具有交聯(lián)反應(yīng)性，優(yōu)選具有相對于交聯(lián)劑可以進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)的官能團(tuán)。關(guān)于交聯(lián)劑，如后所述。作為丙烯酸樹脂，可列舉出丙烯酸、丙烯酸垸基酯等丙烯酸酯類；丙烯酰胺、丙烯腈、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸烷基酯等甲基丙烯酸酯類；甲基丙烯酰胺及甲基丙烯腈中的任何一種的單體的均聚物或通過這些單體的2種以上的聚合得到的共聚物。在這些樹脂中，優(yōu)選為丙烯酸烷基酯等丙烯酸酯類、及甲基丙烯酸垸基酯等甲基丙烯酸酯類中的任何一種的單體的均聚物或通過這些單體的2種以上的聚合得到的共聚物。例如，可列舉出具有碳原子數(shù)為16的烷基的丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類中的任何一種單體的均聚物或通過這些單體的2種以上的聚合得到的共聚物。上述丙烯酸樹脂優(yōu)選以上述組成為主成分，具有能與后述的交聯(lián)劑反應(yīng)的官能團(tuán)。在使用碳化二亞胺化合物作為交聯(lián)劑的情況下，例如，優(yōu)選是通過部分使用具有羥甲基、羥基、羧基及氨基中的任何一種基團(tuán)的單體而得到的聚合物。在以下的粘合劑的例子中，能與交聯(lián)劑反應(yīng)的形態(tài)的例示表示的是采用碳化二亞胺化合物作為交聯(lián)劑的情況，但在采用其它的交聯(lián)劑時，優(yōu)選具有與交聯(lián)劑的種類相適應(yīng)的官能團(tuán)。作為乙烯基樹脂，可列舉出聚乙烯醇、酸改性聚乙烯醇、聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯基甲醚、聚烯烴、乙烯/丁二烯共聚物、聚醋酸乙烯酯、氯乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、氯乙烯/(甲基)丙烯酸酯共聚物及乙烯/醋酸乙烯酯系共聚物(優(yōu)選為乙烯/醋酸乙烯酯/(甲基)丙烯酸酯共聚物)。在這些樹脂中，優(yōu)選為聚乙烯醇、酸改性聚乙烯醇、聚乙烯醇縮甲醛、聚烯烴、乙烯/丁二烯共聚物及乙烯/醋酸乙烯酯系共聚物(優(yōu)選為乙烯/醋酸乙烯酯/丙烯酸酯共聚物)。上述乙烯基樹脂，為了26能與碳化二亞胺化合物進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)，優(yōu)選在聚乙烯醇、酸改性聚乙烯醇、聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯基甲醚及聚醋酸乙烯酯中，通過例如在聚合物中殘留乙烯醇單元來形成具有羥基的聚合物，關(guān)于其它聚合物，例如優(yōu)選通過部分使用具有羥甲基、羥基、羧基及氨基中的任何一基團(tuán)的單體來形成可交聯(lián)的聚合物。作為聚氨酯樹脂，能夠列舉出多羥基化合物(例如，乙二醇、丙二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷)、通過多羥基化合物和多元酸的反應(yīng)而得到的脂肪族聚酯系多元醇、聚醚多元醇(例如，聚氧丙烯醚多元醇、聚氧乙烯-丙烯醚多元醇)、聚碳酸酯系多元醇、及聚對苯二甲酸乙二酯多元醇中的任何一種、或它們的混合物與聚異氰酸酯衍生而得到的聚氨酯。在上述聚氨酯樹脂中，例如，能夠采用在多元醇和聚異氰酸酯的反應(yīng)后作為未反應(yīng)物而殘存的羥基作為可以與碳化二亞胺化合物發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)的官能團(tuán)。作為脂膠樹脂(esterresin)，一般可使用通過多羥基化合物(例如，乙二醇、丙二醇、丙三醇、三羥甲基丙垸)與多元酸的反應(yīng)而得到的聚合物。在上述脂膠樹脂中，例如，能夠利用在多元醇和多元酸的反應(yīng)結(jié)束后作為未反應(yīng)物而殘存的羥基及羧基作為可以與碳化二亞胺化合物發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)的官能團(tuán)。當(dāng)然，也可以添加具有羥基等官能團(tuán)的第三成分。如上所述，優(yōu)選導(dǎo)電膜16進(jìn)行了交聯(lián)。在此種情況下，導(dǎo)電膜16可以利用交聯(lián)劑進(jìn)行交聯(lián)，也可以通過不影響感光性的手段，不添加交聯(lián)劑，而只利用通過光照射而誘發(fā)的光化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行交聯(lián)。作為交聯(lián)劑，可列舉出乙烯基砜類(例如1，3-雙乙烯基砜丙烷)、醛類(例如乙二醛)、氯化嘧啶類(例如2,4,6-三氯嘧啶)、氯化三嗪類(例如氰尿酰氯)、環(huán)氧化合物、碳化二亞胺化合物等。作為環(huán)氧化合物，優(yōu)選為1,4-雙(2，,3，-環(huán)氧丙氧基)丁烷、1,3，5-三縮水甘油異氰脲酸酯、1，3-二縮水甘油-5-(，乙酸基-P-氧丙基)異氰脲酸酯、山梨糖醇聚縮水甘油醚類、聚甘油聚縮水甘油醚類、季戊四醇聚縮水甘油醚類、二甘油聚縮水甘油醚、1，3,5-三縮水甘油(2-羥乙基)異氰脲酸酯、甘油聚甘油醚類及三羥甲基丙垸聚縮水甘油醚類等環(huán)氧化合物，作為其具體的市售品，可列舉例如DenacolEX-521或EX-614B(Nagase化成工業(yè)株式會社制)等，但也不限定于這些。此外，也能夠在不影響感光特性的添加量范圍內(nèi)與其它交聯(lián)性化合物并用，例如可列舉出在C.E.K.Meers及T.H.James著"TheTheoryofthePhotographicProcess"第3版Cl966年)中、及在美國專利第3316095號、第3232764號、第3288775號、第2732303號、第3635718號、第3232763號、第2732316號、第2586168號、第3103437號、第3017280號、第2983611號、第2725294號、第2725295號、第3100704號、第3091537號、第3321313號、第3543292號及第3125449號、以及英國專利第994869號及第1167207號的各說明書等中記載的固化劑等。作為這些固化劑的代表例，可列舉出含有2個以上(優(yōu)選3個以上)羥甲基及烷氧基甲基中的至少一個的三聚氰胺化合物或它們的縮聚物即三聚氰胺樹脂或三聚氰胺/尿素樹脂、以及粘氯酸、粘溴酸、粘苯氧基氯酸、粘苯氧基溴酸、甲醛、乙二醛、單甲基乙二醛、2，3-二羥基-1,4-二氧雜環(huán)己烷、2,3-二羥基-5-甲基-1,4-二氧雜環(huán)己烷丁二醛、2，5-二甲氧基四氫呋喃及戊二醛等醛系化合物及其衍生物；二乙烯基砜-N,N，-亞乙基雙(乙烯基砜乙酰胺)、1,3-雙(乙烯基砜)-2-丙醇、亞甲基雙馬來酰亞胺、5-乙酰-l,3-二丙烯?；?六氫-s-三嗪、1，3，5-三丙烯?；?六氫-s-三嗪及1,3，5-三乙烯基砜-六氫-s-三嗪等活性乙烯基系化合物；2，4-二氯-6-羥基-s-三嗪鈉鹽、2,4-二氯-6-(4-磺基苯胺基)-s-三嗪鈉鹽、2，4-二氯-6-(2-磺基乙胺基)-s-三嗪及N，N，-雙(2-氯乙基氨基甲?；?哌嗪等活性鹵系化合物；雙(2,3-環(huán)氧丙基)甲基丙基銨.p-甲苯磺酸鹽、2，4，6-三亞乙基-s-三嗪、1，6-六亞甲基-N，N，-雙亞乙基尿素及雙-P-亞乙基氨基乙硫醚等亞乙基亞胺系化合物；1，2-二(甲磺酰氧)乙垸、1，4-二(甲磺酰氧)丁烷及l(fā),5-二(甲磺酰氧)戊垸等甲磺酸酯系化合物；雙環(huán)己基碳化二亞胺及1-雙環(huán)己基-3-(3-三甲基氨丙基)碳化二亞胺鹽酸鹽等碳化二亞胺化合物；2，5-二甲基異噁唑基等異噁唑系化合物；鉻礬及醋酸鉻等無機系化合物；N-羰乙氧基-2-異丙氧基-l，2-二氫喹啉及N-(l-嗎啡啉羧基)-4-甲基吡啶鑰氯化物等脫水縮合型縮氨酸試劑；N,N'-己二酰基二氧琥珀酰亞胺及N,N，-對苯二?；蹒牾啺返然钚怎ハ祷衔铮患妆?2，4-二異氰酸酯及l(fā)，6-六亞甲基二異氰酸酯等異氰酸酯類；及聚酰胺-多元胺-環(huán)氧氯丙垸反應(yīng)物等環(huán)氧氯丙烷系化合物，但也不限定于這些。作為碳化二亞胺化合物，優(yōu)選使用在分子內(nèi)具有多個碳化二亞胺結(jié)構(gòu)的化合物。聚碳化二亞胺通常通過有機二異氰酸酯的縮合反應(yīng)而合成。這里，對于分子內(nèi)具有多個碳化二亞胺結(jié)構(gòu)的化合物的合成中所用的有機二異氰酸酯的有機基不特別限定，可以使用芳香族系、脂肪族系中的任何一種、或它們的混合系，但從反應(yīng)性的觀點考慮，更優(yōu)選脂肪族系。作為合成原料，可使用有機異氰酸酯、有機二異氰酸酯及有機三異氰酸酯等。作為有機異氰酸酯的例子，可使用芳香族異氰酸酯、脂肪族異氰酸酯、及它們的混合物。具休地講，可采用4,4'-二苯基甲垸二異氰酸酯、4,4'-二苯基二甲基甲垸二異氰酸酯、1，4-苯撐二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、2，6-甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、環(huán)己烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、2，2，4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、4,4，-二環(huán)己基甲垸二異氰酸酯、1，3-苯撐二異氰酸酯等。此外，作為有機單異氰酸酯，可使用異佛爾酮異氰酸酯、苯基異氰酸酯、環(huán)己基異氰酸酯、丁基異氰酸酯、萘基異氰酸酯等。此外，作為碳化二亞胺系化合物的具體的市售品，例如，可得到力》求^，吖卜V-02-L2(商品名日清紡公司制)等。在采用碳化二亞胺系化合物作為交聯(lián)劑的情況下，優(yōu)選相對于粘合劑按1200質(zhì)量％的范圍添加，更優(yōu)選按5100質(zhì)量％的范圍添加。作為導(dǎo)電膜16的形成方法，能夠利用濺射等各種物理方法、一般熟知的涂布方法，例如浸漬涂覆法、氣刀涂覆法、幕涂法、繞線棒涂覆法、照相凹版涂覆法、擠出涂覆法等各種涂布法等。在利用這些方法來形成導(dǎo)電膜16的情況下，優(yōu)選采用以下的方法(A)調(diào)節(jié)導(dǎo)電膜16的設(shè)置量，以使得細(xì)線圖案的凹部被埋沒，細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的表面和導(dǎo)電膜16的表面形成例如平滑的表面的方法；(B)通過研磨進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的表面和導(dǎo)電膜16的表面形成平滑的表面的方法；(C)在細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的表面上實施了用于防止附著導(dǎo)電膜16的材料的表面處理后來形成導(dǎo)電膜16的方法。在(C)的方法中，由于導(dǎo)電膜16的材料的涂布液一般是高極性的，或是親水性的，因此優(yōu)選細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的表面是低極性的或是疏水性的，具體優(yōu)選采用以烷基硫醇類為代表的疏水性金屬表面處理劑對細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的表面實施表面處理，進(jìn)一步優(yōu)選通過后處理將該處理劑除去。導(dǎo)電膜16也可以根據(jù)需要另外設(shè)置具有功能性的功能層。該功能層能夠根據(jù)每種用途形成多種樣式。例如能夠設(shè)置調(diào)整了折射率或膜厚的賦予了防及射功能的防反射層、或無眩光層或防眩光層(都具有防止晃眼的功能)、由吸收近紅外線的化合物或金屬構(gòu)成的近紅外線吸收層、具有吸收特定的波長區(qū)的可見光的色調(diào)調(diào)節(jié)功能的層、具有容易除去指紋等污垢的功能的防污層、不易損傷的硬質(zhì)涂層、具有吸收沖擊功能的層、具有防止玻璃破損時的玻璃飛濺的功能的層等。這些功能層可以設(shè)在導(dǎo)電膜16的表面，也可以設(shè)在支撐體12的背面。接著，對通過對在支撐體12上具有含感光性銀鹽的層的感光材料進(jìn)行曝光及顯影來形成導(dǎo)電性金屬銀部和透光部、從而構(gòu)成細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的情況進(jìn)行說明。本實施方式的制造方法中所用的感光材料具有在支撐體12上含有作為光傳感器的銀鹽的乳劑層(含銀鹽感光層)。含銀鹽感光層除了銀鹽和粘合劑以外，還能夠含有溶劑或染料等添加劑。此外，優(yōu)選將乳劑層實質(zhì)上配置在最上層。這里，所謂"乳劑層實質(zhì)上是最上層"，不僅表示將乳劑層實際上配置在最上層的情況，而且也表示設(shè)在乳劑層上的層即保護(hù)層的總膜厚在0.5um以下。設(shè)在乳劑層上的層的總膜厚優(yōu)選為0.2um以下。以下，對乳劑層中含有的各成分進(jìn)行說明。<染料〉在感光材料中，也可以至少在乳劑層含有染料。該染料作為濾光染料或以防止輻照等其它各種目的而含在乳劑層中。作為上述染料，也可以含有固體分散染料。作為本發(fā)明中優(yōu)選采用的染料，可列舉出日本特開平9-179243號公報中記載的用通式(FA)、通式(FA1)、通式(FA2)、通式(FA3)表示的染料，具體優(yōu)選該公報中所記載的化合物F1F34。此外，還優(yōu)選采用日本特開平7-152112號公報中記載的(II-2)(11-24)、特開平7-152112號公報中記載的(III-5)(111-18)、及特開平7-152112號公30報中記載的(IV-2)(IV-7)等。除此以外，作為在本實施方式中能夠使用的染料，作為在顯影或定影的處理時被脫色的固體微粒分散狀的染料，可列舉出日本特開平3-138640號公報中記載的花青染料、吡喃鑰染料及胺鐺染料。此外，作為處理時不脫色的染料，可列舉日本特開平9-96891號公報中記載的具有羧基的花青染料、特開平8-245902號公報中記載的不含酸性基的花青染料、及特開平8-333519號公報中記載的色淀型花青染料、特開平1-266536號公報中記載的花青染料、特開平3-136038號公報中記載的全極型(holopolar)花青染料、特開昭62-299959號公報中記載的吡喃鐵染料、特開平7-253639號公報中記載的聚合物型花青染料、特開平2-282244號公報中記載的氧雜菁(oxonol)染料的固體微粒分散物、特開昭63-131135號公報中記載的光散射粒子、特開平9-5913號公報中記載的￥133+化合物及特開平7-113072號公報中記載的ITO粉末等。此外，也可以采用特開平9-179243號公報中記載的用通式(Fl)、通式(F2)表示的染料，具體可采用該公報中記載的化合物F35F112。此外，作為上述染料，能夠含有水溶性染料。作為如此的水溶性染料，可列舉出氧雜菁染料、芐叉染料、部花青染料、花青染料及偶氮染料。其中，在本發(fā)明中，氧雜菁染料、半氧雜菁(八S才年乂/一》)染料及芐叉染料是有用的。作為本發(fā)明中可用的水溶性染料的具體例子，可列舉出以下文獻(xiàn)中記載的水溶性染料，所述文獻(xiàn)是英國專利第584609號說明書、英國專利第1177429號說明書、日本特開昭48-85130號公報、特開昭49-99620號公報、特開昭49-114420號公報、特開昭52-20822號公報、特開昭59-154439號公報、特開昭59-208548號公報、美國專利第2274782號說明書、第2533472號說明書、第2956879號說明書、第3148187號說明書、第3177078號說明書、第3247127號說明書、第3540887號說明書、第3575704號說明書、第3653卯5號說明書、第3718427號說明書。關(guān)于上述乳劑層中的染料的含量，從防止輻照等的效果、及由添加量增加帶來的感度下降的觀點出發(fā)，相對于總固體成分優(yōu)選為0.0110質(zhì)量%、更優(yōu)選為0.15質(zhì)量％。<銀鹽>31作為在本實施方式中所用的銀鹽，可列舉出鹵化銀等無機銀鹽及醋酸銀等有機銀鹽。在本實施方式中，優(yōu)選采用作為光傳感器的特性優(yōu)良的鹵化銀。對在本實施方式中優(yōu)選采用的鹵化銀進(jìn)行說明。在本實施方式中，優(yōu)選采用作為光傳感器的特性優(yōu)良的鹵化銀，也能夠?qū)⒂嘘P(guān)鹵化銀的銀鹽照相薄膜或照相紙、印刷制版用薄膜、光掩模用乳膠掩模等中采用的技術(shù)用于本發(fā)明中。含在上述鹵化銀中的鹵素元素可以是氯、溴、碘及氟中的任何一種，也可以是它們的組合。例如，優(yōu)選采用以氯化銀、溴化銀、碘化銀為主體的鹵化銀，更優(yōu)選采用以溴化銀或氯化銀為主體的鹵化銀。此外還優(yōu)選采用氯溴化銀、碘氯溴化銀、碘溴化銀，更優(yōu)選采用氯溴化銀、溴化銀、碘氯溴化銀、碘溴化銀，最優(yōu)選采用含有50摩爾％以上的氯化銀的氯溴化銀、碘氯溴化銀、及含有50摩爾％以上的溴化銀的鹵化銀。再有，這里，所謂"以溴化銀為主體的鹵化銀"，指的是在鹵化銀組成中所占的溴化物離子的摩爾分率在50%以上的鹵化銀。以該溴化銀為主體的鹵化銀粒子中，除溴化物離子以外，也可以含有碘化物離子、氯化物離子。再有，鹵化銀乳劑中的碘化銀含有率優(yōu)選為每摩爾鹵化銀乳劑中不超過1.5摩爾％的范圍。通過將碘化銀含有率規(guī)定為不超過1.5摩爾％的范圍，能夠防止灰霧，改善壓力性。更優(yōu)選的碘化銀含有率是在每摩爾鹵化銀乳劑中為1摩爾％以下。鹵化銀為固體粒子狀，從曝光、顯影處理后形成的圖案狀金屬銀層的圖像質(zhì)量的觀點出發(fā)，鹵化銀的平均粒子尺寸以當(dāng)量球直徑計優(yōu)選為0.11000nm(lum)。上述下限值更優(yōu)選為lnm，進(jìn)一步優(yōu)選為10nm。上述上限值更優(yōu)選為800nm，進(jìn)一步優(yōu)選為500nm，更進(jìn)一步優(yōu)選為100nm，特別優(yōu)選為50nm。上述數(shù)值范圍更優(yōu)選為0.11000nm，進(jìn)一步優(yōu)選為105000nm。再有，所謂鹵化銀粒子的當(dāng)量球直徑，是粒子形狀為球形的具有相同體積的粒子的直徑。對于鹵化銀粒子的形狀不特別限定，例如能夠是球狀、立方體狀、平板狀(六角平板狀、三角形平板狀、四角形平板狀等)、八面體狀、14面體狀等多種形狀，優(yōu)選為立方體、14面體。鹵化銀粒子的內(nèi)部和表層可以由均勻的相形成，也可以由不同的相形成。此外，也可以在粒子內(nèi)部或表面具有鹵素組成不同的局部存在層。關(guān)于本實施方式中使用的乳劑層用涂布液即鹵化銀乳劑,可采用以下文獻(xiàn)等中記載的方法進(jìn)行調(diào)制，所述文獻(xiàn)是P.Glafkides著ChimieetPhysiquePhotographique(PaulMontel公司干lj，1967年)、G.F.Dufm著PhotographicEmulsionChemistry(TheForcalPress干U，1966年)、禾口V.L.Zelikman等著MakingandCoatingPhotographicEmulsion(TheForcalPress干U，1964年)。也就是說，作為上述鹵化銀乳劑的調(diào)制方法，可以是酸性法、中性法等中的任何一種，此外，作為使可溶性銀鹽和可溶性鹵鹽反應(yīng)的方法，可以采用單側(cè)混合法、同時混合法、它們的組合等中的任何一種方法。此外，作為銀粒子的形成方法，也能夠采用在銀離子過剩的情況下形成粒子的方法(所謂逆混合法)。另外，也能夠采用作為同時混合法的一種形式的將生成鹵化銀的液相中的pAg保持恒定的方法，即所謂的控制雙注(ControlledDouble-Jet)法。此外，還優(yōu)選使用氨、硫醚、四取代硫脲等所謂鹵化銀溶劑來形成粒子。在這些方法中，更優(yōu)選四取代硫脲化合物，其在特開昭53-82408號公報、特開昭55-77737號公報中有記載。作為優(yōu)選的硫脲化合物，可列舉出四甲基硫脲、1，3-二甲基-2-亞乙基硫脲。鹵化銀溶劑的添加量因所使用的化合物的種類及作為目標(biāo)的粒子尺寸、鹵素組成而異，但優(yōu)選為相對于每摩爾鹵化銀為10_510—2摩爾。在上述的可控雙注法及使用了鹵化銀溶劑的粒子形成方法中，容易制作結(jié)晶型為規(guī)則的、且粒子尺寸分布窄的鹵化銀乳劑，因而在本發(fā)明中能夠優(yōu)選采用。此外，為了使粒子尺寸均勻，優(yōu)選采用如英國專利第1535016號公報、日本特公昭48-368卯號公報、特公昭52-16364號公報中記載那樣的，根據(jù)粒子生長速度使硝酸銀或鹵化堿金屬的添加速度變化的方法，或優(yōu)選采用如英國專利第4242445號公報、日本特開昭55-158124號公報中記載那樣的，使水溶液的濃度變化的方法，在不超過臨界飽和度的范圍內(nèi)使銀快速地生長。作為本實施方式中的乳劑層的形成中所用的鹵化銀乳劑，優(yōu)選為單分散乳劑，以{(粒子尺寸的標(biāo)準(zhǔn)偏差)/(平均粒子尺寸))xioo表示的變動系數(shù)在20%以下，更優(yōu)選為15%以下，最優(yōu)選為10%以下。本實施方式中所用的鹵化銀乳劑中，也可以混合粒子尺寸不同的多種鹵化銀乳劑。本實施方式中所用的鹵化銀乳劑也可以含有屬于VIII族、VIIB族的金屬。特別是為了實現(xiàn)高對比及低灰霧，優(yōu)選含有銠化合物、銥化合物、釕化合物、鐵化合物及鋨化合物等。這些化合物可以是具有各種配位基的化合物，作為配位基，例如可列舉出氰化物離子或鹵離子、硫氰基離子、亞硝酰離子、水、氫氧化物粒子等，或除了這樣的擬鹵素、氨以外，胺類(甲胺、乙二胺等)、雜環(huán)化合物(咪唑、噻唑、5-甲基噻唑、巰基咪唑等)、尿素、硫脲等有機分子。此外，為了高感度化，進(jìn)行IQ[Fe(CN)6]或K4[Ru(CN)6]、K4[Cr(CN)6]這樣的六氰化金屬絡(luò)合物的摻雜是有利的。作為上述銠化合物，能夠采用水溶性銠化合物。作為水溶性銠化合物，例如可列舉出鹵化銠(III)化合物、六氯銠(m)絡(luò)鹽、五氯水合銠絡(luò)鹽、四氯二水合銠絡(luò)鹽、六溴銠(in)絡(luò)鹽、六胺合銠(m)絡(luò)鹽、三草酸根合(trioxalato)銠(III)絡(luò)鹽、K3Rh2Br9等。這些銠化合物可溶解在水或適當(dāng)?shù)娜軇┲衼硎褂?，可采用為了使銠化合物的溶液穩(wěn)定化而一般常用的方法，也就是說能夠采用添加鹵化氫水溶液(例如鹽酸、溴酸、氟酸等)、或鹵化堿金屬(例如KC1、NaCl、KBr、NaBr等)的方法。也可以替代采用水溶性銠而在鹵化銀調(diào)制時預(yù)先添加摻雜了銠的其它鹵化銀粒子并使其溶解。作為上述銥化合物，可列舉出K2IrCl6、K3IrCl6等六氯銥絡(luò)鹽、六溴銥絡(luò)鹽、六氨絡(luò)銥絡(luò)鹽、五氯亞硝基銥絡(luò)鹽等。作為上述釕化合物，可列舉出六氯釘、五氯亞硝基釕、K4[RuCN]6等。作為上述鐵化合物，可列舉出六氰基鐵(II)酸鉀、硫代氰酸亞鐵。上述釕、鋨能以在特開昭63-2042號公報、特開平1-285941號公報、特開平2-20852號公報、特開平2-20855號公報等中記載的水溶性絡(luò)鹽的形態(tài)添加，作為特別優(yōu)選的，可列舉出用下式表示的六配位絡(luò)合物。-n這里，M表示Ru或Os，n表示0、1、2、3或4。在此種情況下，抗衡粒子不具有重要性，例如，可采用銨或堿金屬離子。此外，作為優(yōu)選的配位基，可列舉出鹵化物配位基、氰化物配^I基、氰酸化物配位基、亞硝基配位基、硫代亞硝基配位基等。以下示出本發(fā)明中所用的絡(luò)合物的具體例子，但本發(fā)明并不限定于此。一3、[RuCU(H20)2r1、[RuCl5(NO)〗—2、[RuBr5(NS)]—2、[Ru(CO)3Cl3]一2、[Ru(CO)Cl5]_2、[Ru(CO)Br5]_2、[OsCl6]—3、[OsCl5(NO)]—2、[Os(NO)(CN)5]-2、[Os(NS)Br5]-2、[Os(CN)6廣、[Os(0)2(CN)5]-4°關(guān)于這些化合物的添加量，相對于每摩爾鹵化銀優(yōu)選為10_1Q10—2摩爾/摩爾Ag，更優(yōu)選為10_910—3摩爾/摩爾Ag。另外，在本實施方式中，也能夠優(yōu)選采用含有Pd(II)離子及/或Pd金屬的鹵化銀。Pd也能在鹵化銀粒子內(nèi)均勻分布，但優(yōu)選使其含在鹵化銀粒子的表層附近。這里，所謂Pd"含在鹵化銀粒子的表層附近"，意思是從鹵化銀粒子的表面在深度方向到50nm以內(nèi)具有鈀含有率比其它層高的層。這樣的卣化銀粒子能夠通過在形成鹵化銀粒子的途中添加Pd來制作，優(yōu)選在按總添加量的50。/。以上分別添加了銀離子和鹵離子后添加Pd。此外還優(yōu)選采用在后期熟化時添加Pd(II)離子的等方法使其存在于鹵化銀表層。該含有Pd的卣化銀粒子有助于提高物理顯影或非電解鍍覆的速度，提高所希望的電磁波屏蔽材料的生產(chǎn)效率，并降低生產(chǎn)成本。已知廣泛采用Pd作為非電解鍍覆催化劑，但在本發(fā)明中，由于可使Pd集中存在于鹵化銀粒子的表層，因此能夠節(jié)約價格非常高的Pd。在本實施方式中，含在鹵化銀中的Pd離子及/或Pd金屬的含有率，相對于鹵化銀中的銀的摩爾數(shù)優(yōu)選為10—40.5摩爾/摩爾Ag，更優(yōu)選為0.010.3摩爾/摩爾Ag。作為所使用的Pd化合物的例子，可列舉出PdCU或Na2PdCU等。在本實施方式中，能與普通的鹵化銀照相感光材料同樣地實施化學(xué)增敏，也可以不實施。作為化學(xué)增敏的方法，例如可通過將化學(xué)增敏劑添加到鹵化銀乳劑中來進(jìn)行，該化學(xué)增敏劑已在特開2000-275770號公報的段落以后的內(nèi)容中引用，且包含具有照相感光材料的感度增敏作用的硫?qū)僭鼗衔锘蛸F金屬化合物。作為本實施方式的感光材料中所用的銀鹽乳劑，能夠優(yōu)選采用不進(jìn)行上述化學(xué)增敏的乳劑、即未化學(xué)增敏的乳劑。在本實施方式中作為優(yōu)選的未化學(xué)增敏的乳劑的調(diào)制方法，優(yōu)選將包含硫?qū)僭鼗衔锘蛸F金屬化合物的化學(xué)增敏劑的添加量限制于通過添加這些化學(xué)增敏劑而形成的感度上升在0.1以內(nèi)的量以下。對于硫?qū)僭鼗衔锘蛸F金屬化合物的添加量的具體的量無限制，但作為本實施方式中的未化學(xué)增敏的乳劑的優(yōu)選調(diào)制方法，優(yōu)選將這些化學(xué)增敏化合物的總添加量規(guī)定在相對于每摩爾鹵化銀為5X10—7摩爾以下。在本實施方式中，為了進(jìn)一步提高作為光傳感器的感度，還能實施用照相乳劑進(jìn)行的化學(xué)增敏。作為化學(xué)增敏的方法，能夠采用硫增敏、硒增敏、碲增敏等硫?qū)僭卦雒?、金增敏等貴金屬增敏、還原增敏等。這些方法可以單獨或組合使用。在組合使用上述化學(xué)增敏的方法的情況下，例如，優(yōu)選硫增敏法和金增敏法、硫增敏法和硒增敏法和金增敏法、硫增敏法和碲增敏法和金增敏法等的組合。上述硫增敏通常通過添加硫增敏劑、在4(TC以上的高溫下對乳劑攪拌一定時間來進(jìn)行。作為上述硫增敏劑，能夠使用公知的化合物，例如，除了含在明膠中的硫化合物以外，還能夠采用多種硫化合物，例如硫代硫酸鹽、硫脲類、噻唑類、勞丹堿類等。優(yōu)選的硫化合物是硫代硫酸鹽、硫脲化合物。硫增敏劑的添加量根據(jù)化學(xué)熟成時的pH、溫度、鹵化銀粒子的大小等多種條件而變化，優(yōu)選相對于每摩爾鹵化銀為10—710—2摩爾，更優(yōu)選為10_510_3摩爾。作為在上述硒增敏中所用的硒增敏劑，能夠采用公知的硒化合物。也就是說，上述硒增敏通常通過添加不穩(wěn)定型及/或非不穩(wěn)定型硒化合物、在4(TC以上的高溫下對乳劑攪拌一定時間來進(jìn)行。作為上述不穩(wěn)定型硒化合物，能夠采用在特公昭44-15748號公報、特公昭43-13489號公報、特開平4-109240號公報、特開平4-324855號公報等中記載的化合物。尤其優(yōu)選36特開平4-324855號公報中的用通式(VIII)及(IX)表示的化合物。上述碲增敏劑中所用的碲增敏劑是在卣化銀粒子表面或內(nèi)部使碲化銀生成的化合物，推斷該碲化銀成為增敏核。關(guān)于鹵化銀乳劑中的碲化銀生成速度，可采用在特開平5-313284號公報中記載的方法進(jìn)行試驗。具體是，可采用美國專利US第1623499號公報、美國專利US第3320069號公報、美國專利US第3772031號公報、英國專利第235211號公報、英國專利第1121496號公報、英國專利第1295462號公報、英國專利第1396696號公報、加拿大專利第800958號公報、日本特開平4-204640號公報、特開平4-271341號公報、特開平4-333043號公報、特開平5-303157號公報、化學(xué)學(xué)會化學(xué)通訊雜志(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635頁(1980)、該刊1102頁(1979)、該刊645頁(1979)，化學(xué)學(xué)會佩金學(xué)報(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.l巻，2191頁(1980)，S.Patai編著，有機硒和有機碲化合物的化學(xué)(TheChemistryofOrganicSeleniumandTelluniumCompounds),1巻(1986)、該干U2巻(1987)等中記載的化合物。尤其優(yōu)選特開平5-313284號公報中的用通式(n)、(ni)、(IV)表示的化合物。在本實施方式中能夠使用的硒增敏劑及碲增敏劑的使用量，根據(jù)所使用的鹵化銀粒子、化學(xué)熟成條件等而變化，但通常相對于每摩爾鹵化銀使用10—810—2摩爾，優(yōu)選為10—710—3摩爾左右。作為本發(fā)明中的化學(xué)增敏的條件，不特別限定，但作為pH適宜為58，作為pAg適宜為611、優(yōu)選為710，作為溫度適宜為4095。C、優(yōu)選為4585。C。此外，作為上述貴金屬增敏劑，可列舉出金、鉑、鈀、銥等，尤其優(yōu)選金增敏。作為金增敏中所用的金增敏劑，具體地講，可列舉出氯金酸、氯金酸鉀、金硫氰酸鉀(potassiumaurithiocyanate)、硫化金、硫葡糖金(1)、硫甘露糖金(I)等，相對于每摩爾鹵化銀能夠采用10—710—2摩爾左右。在本發(fā)明中所用的鹵化銀乳劑中，在鹵化銀粒子的形成或物理熟成的過程中，也可以使鎘鹽、亞硫酸鹽、鉛鹽、鉈鹽等共存。此外，在本實施方式中還能夠采用還原增敏。作為還原增敏劑，能夠采用亞錫鹽、胺類、甲瞇亞磺酸、硅垸化合物等。上述鹵化銀乳劑也可以利用歐洲公開專利(EP)293917號公法中所示的方法來添加硫代磺酸化合物。本發(fā)明中所用的感光材料的制作中采用的鹵化銀乳劑可以是1種、也可以2種以上(例如平均粒子尺寸不同的、鹵素成分不同的、晶體慣態(tài)不同的、化學(xué)增敏條件不同的、感度不同的)并用。其中，為了得到高對比度，如特開平6-324426號公報中記載那樣，優(yōu)選的是越接近支撐體涂布感度越高的乳劑。<水溶性粘合劑>在乳劑層，為了均勻地分散銀鹽粒子，且輔助乳劑層和支撐體的密合，可以采用粘合劑。在本實施方式中，作為上述粘合劑，可以采用水溶性粘合劑，該水溶性粘合劑可通過在后述的溫水中浸漬或與蒸汽接觸的處理加以除去。作為這樣的水溶性粘合劑，優(yōu)選采用水溶性聚合物。作為上述粘合劑，例如，可列舉出明膠、角叉菜膠、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖類、纖維素及其衍生物、聚氧化乙烯、多糖類、聚乙烯胺、脫乙酰殼多糖、聚賴氨酸、聚丙烯酸、聚藻酸、多透明質(zhì)酸、羧基纖維素、阿拉伯樹膠、藻酸鈉等。它們根據(jù)官能團(tuán)的離子性而具有中性、陰離子性、陽離子性的性質(zhì)。此外，作為明膠，除了石灰處理明膠以外，也可以采用酸處理明膠，能夠使用明膠的水解物、明膠酵母分解物、修飾了其它氨基、羧基的明膠(鄰苯二甲?；髂z、乙?；髂z)。對于含在乳劑層中的粘合劑的含量不特別限定，可在能發(fā)揮分散性和密合性的范圍內(nèi)適宜確定。關(guān)于乳劑層中的粘合劑的含量，優(yōu)選Ag/粘合劑的體積比率在1/4以上，更優(yōu)選在1/1以上。<溶劑〉對于上述乳劑層的形成中所用的溶劑不特別限定，例如可列舉出水、有機溶劑(例如甲醇等醇類、丙酮等酮類、甲酰胺等酰胺類、二甲亞砜等亞砜類、醋酸乙酯等酯類、醚類等)離子性液體、及它們的混合溶劑。本實施方式的乳劑層中所用的溶劑的含量相對于上述乳劑層中含有的銀鹽、粘合劑等的合計質(zhì)量適宜為3090質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選為5080質(zhì)量％的范圍。<防靜電劑>優(yōu)選本實施方式中的感光材料含有防靜電劑，最好將其涂覆在與乳劑層相反一側(cè)的支撐體表面上。38作為防靜電層，優(yōu)選采用表面電阻率在25'C、25MRH的氣氛下為1012歐姆/sq以下的含導(dǎo)電性物質(zhì)的層。作為在本實施方式中優(yōu)選的防靜電劑，能夠優(yōu)選采用下述的導(dǎo)電性物質(zhì)。能夠采用例如從日本特開平2-18542號公報的第2頁左下欄第13行到該公報第3頁右上欄第7行中記載的導(dǎo)電性物質(zhì)。具體地講，能夠釆用該公報第2頁右下欄第2行到該頁右下欄第10行中記載的金屬氧化物、及該公報中記載的化合物P-lP-7的導(dǎo)電性高分子化合物、以及在美國專利第5575957號說明書、特開平10-142738號公報的段落、日本特開平11-223901號公報的段落中記載的針狀的金屬氧化物等。作為本實施方式中所用的導(dǎo)電性金屬氧化物粒子，可列舉出ZnO、Ti02、Sn〇2、AI203、ln203、MgO、BaO及Mo03以及它們的復(fù)合氧化物、以及在這些金屬氧化物中另外含有異種原子的金屬氧化物的粒子。作為金屬氧化物，優(yōu)選Sn02、ZnO、A1203、Ti02、Iri203及MgO，更優(yōu)選Sn02、ZnO、Iri203及Ti02，特別優(yōu)選Sn02。作為少量含有異種原子的例子，可列舉出按0.0130摩爾％(優(yōu)選0.110摩爾％)的摻雜比例相對于ZnO摻雜了Al或In、相對于Ti02摻雜了Nb或Ta、相對于111203摻雜了Sn、及相對于Sn02摻雜了Sb、Nb或鹵素元素等異種元素的金屬氧化物粒子。在異種元素的添加量低于0.01摩爾％時，難以向氧化物或復(fù)合氧化物賦予充分的導(dǎo)電性，如果超過30摩爾％，則粒子的黑化度增加，防靜電層發(fā)黑，因此不適合。所以，在本實施方式中，作為導(dǎo)電性金屬氧化物粒子的材料，優(yōu)選相對于金屬氧化物或復(fù)合金屬氧化物含有少量異種元素的材料。此外還優(yōu)選在結(jié)晶結(jié)構(gòu)中含有氧缺陷的材料。作為少量含有上述異種原子的導(dǎo)電性金屬氧化物微粒，優(yōu)選為摻雜了銻的Sn02粒子，特別優(yōu)選為摻雜了0.22.0摩爾％的銻的Sn02粒子。對于本實施方式中所用的導(dǎo)電性金屬氧化物的形狀不特別限制，可列舉出粒狀、針狀等。此外，關(guān)于其尺寸，按球換算直徑表示的平均粒徑為0.525um。此外，為了得到導(dǎo)電性，例如，還能夠使用可溶性鹽(例如氯化物、硝酸鹽等)、蒸鍍金屬層、美國專利第2861056號說明書及美國專利第393206312號說明書中記載的離子性聚合物或美國專利第3428451號說明書中記載的不溶性無機鹽。含有這樣的導(dǎo)電性金屬氧化物粒子的防靜電層優(yōu)選作為背面的下涂層、乳劑層的下涂層等而設(shè)置。優(yōu)選其添加量按兩面合計為(X011.0g/m2。此外，優(yōu)選感光材料的體積電阻率在25。C、25%RH的氣氛下為1.0X1071.0乂1012歐姆cm。在本實施方式中，除了上述導(dǎo)電性物質(zhì)之外，通過并用從特開平2-18542號公報第4頁右上欄第2行到第4頁右下欄第3行、及從特開平3-39948號公報第12頁左下欄第6行到該公報中第13頁右下欄第5行中記載的含氟表面活性劑，能夠得到更好的防靜電性。<其它添加劑〉關(guān)于本發(fā)明中的感光材料中所用的各種添加劑不特別限制，例如能夠優(yōu)選采用下記公報等中記載的添加劑。但是，在本實施方式中最好不使用硬膜劑。因為在使用硬膜劑的情況下，如果進(jìn)行后述的使其浸漬在溫水中或與蒸汽接觸的處理，則電阻升高，導(dǎo)電率下降。(1)造核促進(jìn)劑作為上述造核促進(jìn)劑，可列舉出在特開平6-82943號公報中記載的通式(1)、(11)、(m)、(IV)、(V)、(VI)的化合物、或從特開平2-103536號公報第9頁右上欄第13行到該公報第16頁左上欄第10行的通式(II-m)(n-p)及化合物例n-lII-22、以及特開平1-179939號公報中記載的化合物。(2)分光增敏色素作為上述分光增敏色素，可列舉出從特開平2-12236號公報第8頁左上欄第13行到該頁右下欄第4行、特開平2-103536號公報第16頁右下欄第3行到該公報第17頁左下欄第20行、以及特開平1-112235號公報、特開平2-124560號公報、特開平3-7928號公報、及特開平5-11389號公報中記載的分光增敏色素。(3)表面活性劑作為上述表面活性劑，可列舉出在從特開平2-12236號公報第9頁右上欄第7行到該頁右下欄第7行、及從特開平2-18524號公報第2頁左下欄第13行到該公報第4頁右下欄第18行中記載的表面活性劑。(4)灰霧防止劑作為上述灰霧防止劑，可列舉出在從特開平2-103536號公報第17頁右下欄第19行到該公報第18頁右上欄第4行及從該頁右下欄第1行到第5行、另外在特開平1-237538號公報中記載的硫代亞磺酸化合物。(5)聚合物膠乳作為上述聚合物膠乳，可列舉出在從特開平2-103536號公報第18頁左下欄第12行到該頁第20行中記載的聚合物膠乳。(6)具有酸基的化合物作為上述具有酸基的化合物，可列舉出在從特開平2-103536號公報第18頁右下欄第6行到該公報第19頁左上欄第1行中記載的化合物。(7)硬膜劑作為上述硬膜劑，可列舉出在從特開平2-103536號公報第18頁右上欄第5行到該頁第17行中記載的化合物。(8)黑斑防止劑所謂上述黑斑防止劑是一種化合物，其可抑制在未曝光部產(chǎn)生點狀顯影銀，例如，可列舉出美國專利第4956257號說明書及日本特開平1-118832號公報中記載的化合物。(9)氧化還原化合物作為氧化還原化合物，可列舉出特開平2-301743號公報中的用通式(i)表示的化合物(尤其是化合物例1至50);特開平3-174143號公報第3頁至第20頁中記載的通式(R-l)、(R-2)、(R-3)、化合物例1至75;及特開平5-257239號公報、特開平4-278939號公報中記載的化合物。(10)—甲堿類化合物作為上述一甲堿類化合物，可列舉出特開平2-287532號公報的通式(ii)的化合物(尤其是化合物例n-i至n-26)。(11)二羥基苯類可列舉出從特開平3-39948號公報第11頁左上欄到第12頁左下欄記載的化合物、及歐洲專利申請公開第452772a號說明書中記載的化合物。[其它的層構(gòu)成〗也可以在乳劑層上設(shè)置保護(hù)層。在本實施方式中所謂"保護(hù)層"，指的是由明膠或高分子聚合物等粘合劑形成的層，為了實現(xiàn)防擦傷或改進(jìn)力學(xué)特性的效果，被形成在具有感光性的乳劑層上。其厚度優(yōu)選為0.2um以下。對于上述保護(hù)層的涂布方法及形成方法不特別限定，能夠適宜采用公知的涂布方法，(細(xì)線結(jié)構(gòu)部的形成方法)下面對采用上述感光材料形成細(xì)線結(jié)構(gòu)部的方法進(jìn)行說明。再有，通過本實施方式得到的透明導(dǎo)電性薄膜10不僅是通過圖案曝光在支撐體12上形成了細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的透明導(dǎo)電性薄膜，而且也可以是通過面曝光形成了金屬的透明導(dǎo)電性薄膜。此外，在采用透明導(dǎo)電性薄膜10例如作為印刷基板的情況下，也可以形成金屬銀部和絕緣性部。關(guān)于本實施方式中的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的形成方法，根據(jù)感光材料和顯影處理的方式，包括以下3種方式。(1)通過對不含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進(jìn)行化學(xué)顯影或熱顯影，使金屬銀部形成在該感光材料上的方式。(2)通過對在鹵化銀乳劑層中含有物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進(jìn)行溶解物理顯影，使金屬銀部形成在該感光材料上的方式。(3)通過將不含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料與具有含物理顯影核的非感光性層的顯像膠片重合，并擴(kuò)散轉(zhuǎn)印顯影，使金屬銀部形成在非感光性顯像膠片上的方式。上述(1)的方式是一體型黑白顯影類型，在感光材料上形成透光性導(dǎo)電性膜。所得到的顯影銀是化學(xué)顯影銀或熱顯影銀，是高比表面的絲狀，基于此點，在后續(xù)的鍍覆或物理顯影過程中，活性高。上述(2)的方式是在曝光部中，通過將物理顯影核邊緣的鹵化銀粒子溶解，使其沉積在顯影核上，由此在感光材料上形成透光性電磁波屏蔽膜或光透射性導(dǎo)電膜等透光性導(dǎo)電性膜。其也是一體型黑白顯影類型。顯影作用由于是向物理顯影核上析出，因而活性高，但顯影銀是比表面積小的球形。上述(3)的方式通過在未曝光部中溶解鹵化銀粒子并使其擴(kuò)散，沉積42在顯像膠片上的顯影核上，由此在顯像膠片上形成透光性電磁波屏蔽膜或光透射性導(dǎo)電膜等透光性導(dǎo)電性膜。其是所謂的分離類型，是將顯像膠片從感光材料上剝離而使用的方式。所有方式都能選擇負(fù)型顯影處理及反轉(zhuǎn)顯影處理中的任何一種顯影(在是擴(kuò)散轉(zhuǎn)印方式時，通過采用自動正型感光材料作為感光材料可進(jìn)行負(fù)型顯影處理)。關(guān)于顯影，更優(yōu)選為負(fù)型。這里所說的化學(xué)顯影、熱顯影、溶解物理顯影及擴(kuò)散轉(zhuǎn)印顯影是如該行業(yè)中常用的用語的意思，在照片化學(xué)的一般教科書、例如菊地真一著"照片化學(xué)"(共立出版社出版發(fā)行)、C.E.K.Mees編"TheTheoryofPhotographicProcess,4thed."(Mcmillan公司，1977年出版發(fā)行)中進(jìn)行了解說。此外，例如，也可參照特開2004-184693號公報、特開2004-334077號公報、特開2005-010752號公報、特愿2004-244080號說明書、特愿2004-085655號說明書等中記載的技術(shù)。[曝光]在本實施方式的制造方法中，對設(shè)在支撐體12上的含銀鹽感光層進(jìn)行曝光。能夠釆用電磁波進(jìn)行曝光。作為電磁波，例如可列舉出可見光線、紫外線等光、X射線等放射線等。另外，也可以利用在曝光中具有波長分布的光源，也可以采用特定的波長的光源。作為上述光源，例如可列舉出采用了陰極射線(CRT)的掃描曝光。陰極射線管曝光裝置與采用激光的裝置相比，簡便且緊湊，可降低成本。此外，也容易調(diào)節(jié)光軸或顏色。作為圖像曝光中所用的陰極射線管，可根據(jù)需要采用在頻譜區(qū)域顯示發(fā)光的各種發(fā)光體。作為發(fā)光體，例如，可采用紅色發(fā)光體、綠色發(fā)光體、藍(lán)色發(fā)光體中的任何一種或混合使用2種以上。頻譜區(qū)域不局限于上述的紅色、綠色及藍(lán)色，也能采用在黃色、橙色、紫色或紅外區(qū)域發(fā)光的熒光體。尤其可經(jīng)常采用通過混合這些發(fā)光體而發(fā)白色光的陰極射線管。此外，優(yōu)選采用紫外線燈，但也能利用水銀燈的g射線、水銀燈的i射線等。此外，在本實施方式的制造方法中，能夠采用多種激光束進(jìn)行曝光。例如，作為本發(fā)明中的曝光，能夠優(yōu)選采用掃描曝光方式，該掃描曝光方式采用了氣體激光器、發(fā)光二極管、半導(dǎo)體激光器、將半導(dǎo)體激光器或以半導(dǎo)體激光器用作激發(fā)光源的固體激光器與非線形光學(xué)晶體組合而成的二次諧波發(fā)光光源(SHG)等的單色高密度光，而且本發(fā)明中的曝光也能夠采用KrF準(zhǔn)分子激光器、ArF準(zhǔn)分子激光器、F2激光器等。為了使裝置緊湊并且廉價，優(yōu)選采用半導(dǎo)體激光器、半導(dǎo)體激光器或固體激光器與非線形光學(xué)晶體組合而成的二次諧波發(fā)光光源(SHG)進(jìn)行曝光。尤其是為了設(shè)計緊湊、廉價、且壽命長、穩(wěn)定性高的裝置，優(yōu)選采用半導(dǎo)體激光器進(jìn)行曝光。作為激光光源，具體地講，優(yōu)選采用以下半導(dǎo)體激光器波長為430460nm的藍(lán)色半導(dǎo)體激光器(2001年3月，第48屆應(yīng)用物理學(xué)相關(guān)聯(lián)合講演會，日亞化學(xué)發(fā)表)、通過利用具有波導(dǎo)路狀的反轉(zhuǎn)疇結(jié)構(gòu)的LiNb03的SHG晶體對半導(dǎo)體激光器(振蕩波長大約1060nm)進(jìn)行波長變換而取出的大約530nm的綠色激光器、波長大約為685nm的紅色半導(dǎo)體激光器(日立型號No，HL6738MG)、波長大約為650nm的紅色半導(dǎo)體激光器(日立型號No.HL6501MG)等。關(guān)于將含銀鹽的層曝光成圖案狀的方法，可以通過利用光掩模的面曝光來進(jìn)行，也可以通過利用激光束的掃描曝光來進(jìn)行。此時，可以是采用透鏡的折射式曝光，也可以是采用反光鏡的反射式曝光，能采用接觸曝光、接近曝光、縮小投影曝光、反射投影曝光等曝光方式。在本實施方式的制造方法中，在將含銀鹽的層曝光后再實施顯影處理。作為上述顯影處理，能夠采用銀鹽照相薄膜或照相紙、印刷制版用薄膜、光掩模用乳化掩模等中所用的通常的顯影處理技術(shù)。關(guān)于顯影液不特別限定，但可釆用PQ顯影液、MQ顯影液、MAA顯影液等。作為市售品，例如，能夠采用富士膠片公司制的CN-16、CR-56、CP45X、FD-3、ND-1、FT-803R、HS陽1、HS匿5、/《匕。卜一/k、〕匕°于—/K77<yK-^、$夕口77O或K0DAK公司制的C-41、E-6、RA-4、Dsd-19、D-72等顯影液、或含在其套件(kit)中的顯影液(所有都是商品名)。此外，也能夠采用里斯(yX)顯影液。作為里斯顯影液，能夠采用KODAK公司制的D85(商品名)等。在本實施方式的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法中，通過進(jìn)行上述曝光及顯影處理，在曝光部形成圖案狀的金屬銀部，而且在未曝光部形成后述的透光部。再有，在本實施方式中，優(yōu)選在顯影溫度、定影溫度及水洗溫度為35"C以下的條件下進(jìn)行。本實施方式的制造方法中的顯影處理能夠包括為除去未曝光部分的銀鹽使之穩(wěn)定化而進(jìn)行的定影處理。在本實施方式的制造方法中，定影處理能夠采用銀鹽照相薄膜或照相紙、印刷制版用薄膜、光掩模用乳化掩模等中所用的顯影處理技術(shù)。為了提高圖像質(zhì)量，可在顯影處理中所用的顯影液中含有畫質(zhì)改善劑。作為上述畫質(zhì)改善劑，例如，可列舉出苯并三唑等含氮雜環(huán)化合物。此外，在利用里斯顯影液的情況下，特別優(yōu)選使用聚乙二醇。關(guān)于顯影處理后的曝光部中含有的金屬銀的質(zhì)量，相對于曝光前的曝光部中含有的銀的質(zhì)量優(yōu)選為50質(zhì)量％以上的含有率，更優(yōu)選為80質(zhì)量％以上。只要曝光部中含有的銀的質(zhì)量相對于曝光前的曝光部中含有的銀的質(zhì)量在50質(zhì)量％以上，就容易得到高的導(dǎo)電性，因此是優(yōu)選的。對于本實施方式中的顯影處理后的灰度不特別限定，但優(yōu)選超過4.0。如果顯影處理后的灰度超過4.0，則能夠較高地確保透光部的透明性，同時能夠提高導(dǎo)電性金屬部的導(dǎo)電性。作為使灰度在4.0以上的方法，例如，可列舉出前述的銠離子、銥離子的摻雜。在本實施方式的制造方法中，優(yōu)選對顯影處理后的金屬銀部進(jìn)行氧化處理。通過進(jìn)行氧化處理，例如，在金屬稍微沉積在透光部的情況下，能夠除去該金屬，使透光部的透過性達(dá)到大致100%。作為上述氧化處理，例如，可列舉出Fe(III)離子處理等采用各種氧化劑的公知的方法?？稍诤y鹽的層的曝光及顯影處理后進(jìn)行氧化處理。在本實施方式中，還能夠用含Pd的溶液進(jìn)一步對曝光及顯影處理后的金屬銀部進(jìn)行處理。Pd可以是2價的鈀離子也可以是金屬鈀。通過該處理能夠抑制金屬銀部的黑色的時效變化。通過在顯影處理后浸漬在還原水溶液中，能夠得到優(yōu)選的導(dǎo)電性高的薄膜。作為還原水溶液，可適宜采用亞硫酸鈉水溶液、對苯二酚水溶液、對45苯二胺水溶液、草酸水溶液等，更優(yōu)選將水溶液的pH設(shè)定在10以上。[壓實處理]在本實施方式的制造方法中，優(yōu)選對顯影處理過的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14進(jìn)行壓實(平滑化)處理。由此可顯著增加細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的導(dǎo)電性。而且，通過適宜地設(shè)計細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的金屬銀部和透光部的面積，可得到同時具有高的導(dǎo)電性和高的透光性的透明導(dǎo)電性薄膜10。此外，優(yōu)選的是使形成有細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的支撐體12在浸漬在溫水中之前或使其與水蒸汽接觸之前進(jìn)行壓實處理。關(guān)于壓實處理，例如可通過砑光輥來進(jìn)行。砑光輥通常由一對輥構(gòu)成。以下將釆用砑光輥的壓實處理表述為砑光處理。作為砑光處理中所用的輥，可采用環(huán)氧、聚酰亞胺、聚酰胺、聚酰亞胺酰胺等塑料輥或金屬輥。特別是在兩面具有乳劑層的情況下，優(yōu)選在金屬輥相互間進(jìn)行處理。在一面具有乳劑層的情況下，從防止皺褶的觀點出發(fā)，也能夠規(guī)定為金屬輥和塑料輥的組合。關(guān)于線壓力的下限值，優(yōu)選為1960N/cm(200kg/cm)、更優(yōu)選為2940N/cm(300kg/cm)。關(guān)于線壓力的上限值，優(yōu)選為6860N/cm(700kgf/cm)。這里，所謂線壓力，指的是對要壓實處理的薄膜試樣的每lcm所施加的力。以砑光輥為代表的平滑化處理的適用溫度優(yōu)選為IO'C(無調(diào)溫)100°C，更優(yōu)選的溫度因金屬網(wǎng)狀圖案或金屬布線圖案的布線密度或形狀、粘合劑種類而異，但大致在10'C(無調(diào)溫)5(TC的范圍。如上所述，根據(jù)本實施方式的制造方法，能夠簡便且低成本地制造具有高的導(dǎo)電性的透明導(dǎo)電性薄膜10。在本實施方式中，在采用銀鹽(特別是鹵化銀)感光材料的透明導(dǎo)電性薄膜IO的制造方法中，優(yōu)選在線壓力為1960N/cm(200kgf/cm)以上的高線壓下進(jìn)行平滑化處理，由此能夠充分降低透明導(dǎo)電性薄膜10的表面電阻。在以如此高的線壓進(jìn)行平滑化處理的情況下，如果金屬銀部形成細(xì)線狀(特別是線寬為25um以下)，可以認(rèn)為該金屬銀部的線寬被擴(kuò)寬，難以形成所希望的圖案?？墒牵谄交幚淼膶ο笫倾y鹽(特別是鹵化銀)感光材料的情況下，線寬的擴(kuò)展小，能夠形成所希望圖案的金屬銀部。也就是說，由于能夠按所希望的圖案形成形狀均勻的金屬銀部，因此能夠抑制次品的發(fā)生，能夠更加提高透明導(dǎo)電性薄膜10的生產(chǎn)性。在按上述線壓力進(jìn)行平滑化處理的情況下，優(yōu)選用砑光輥進(jìn)行所述平滑化處理，用一對金屬輥、或金屬輥和樹脂輥的組合進(jìn)行所述平滑化處理。此時，優(yōu)選將輥間的表面壓力設(shè)定在600kgf/cr^以上，更優(yōu)選設(shè)定在800kgf/cri^以上，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)定在900kgf/cn^以上。而且優(yōu)選將此時的上限值設(shè)定在2000kgf/cm2以下。[鍍覆處理]在本實施方式中，只要進(jìn)行上述平滑化處理就可以，但也可以對金屬銀部進(jìn)行鍍覆處理。通過鍍覆處理能夠更加降低表面電阻，提高導(dǎo)電性。既可以在鍍覆處理的前段也可以在后段進(jìn)行平滑化處理，但如果在鍍覆處理的前段進(jìn)行，則能夠使鍍覆處理效率化，并可形成均勻的鍍層。作為鍍覆處理，可以使電解鍍覆也可以是非電解鍍覆。此外，作為鍍層的構(gòu)成材料，優(yōu)選為具有充分導(dǎo)電性的金屬，優(yōu)選為銅。再有，能夠在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)，將本發(fā)明與下述公報中公開的技術(shù)組合在一起使用。特開2004-221564號公報、特開2004-221565號公報、特開2006-012935號公報、特開2006-010795號公報、特開2006-228469號公報、特開2006-228473號公報、特開2006-228478號公報、特開2006-228480號公報、特開2006-228836號公報、特開2006-267627號公報、特開2006-269795號公報、特開2006-267635號公報、特開2006-286410號公報、特開2006-283133號公報、特開2006-283137號公報。(浸漬在溫水中或與蒸汽接觸的處理)在本實施方式的制造方法中，在將細(xì)線結(jié)構(gòu)部14形成在支撐體12上后，使形成有該細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的支撐體12浸漬在40°C以上的溫水中或使其與水蒸汽接觸。由此能夠在短時間內(nèi)簡便地提高導(dǎo)電性及透明性。如上所述，關(guān)于透明導(dǎo)電性薄膜10的導(dǎo)電性被提高的理由還不確定，但在本實施方式中，認(rèn)為是通過至少除去一部分水溶性粘合劑使金屬(導(dǎo)電性物質(zhì))彼此的結(jié)合部位增加的緣故。浸漬支撐體12的溫水的溫度優(yōu)選為40°C以上IO(TC以下，更優(yōu)選為60'C10(TC，特別優(yōu)選為大約8(TC10(rC，這樣可顯著提高導(dǎo)電性。此外，與支撐體12接觸的水蒸汽的溫度優(yōu)選在1個大氣壓下為IOO'C以上140°C47以下。優(yōu)選溫水的pH為213，更優(yōu)選為29，進(jìn)一步優(yōu)選為25。在4(TC以上的溫水中或該溫度以上的熱水中的浸漬時間或與蒸氣接觸的時間因使用的水溶性粘合劑的種類而異，但在支撐體12的尺寸為60cmXlm時，優(yōu)選大約為10秒大約5分鐘的范圍，更優(yōu)選為大約1分鐘大約5分鐘。在本實施方式的制造方法中，通過曝光及顯影處理直接在支撐體12上形成特定了線寬、開口率、Ag含量的網(wǎng)狀的金屬銀部，因而具有充分的表面電阻，所以不需要再通過對金屬銀部實施物理顯影及/或鍍覆處理來預(yù)先賦予導(dǎo)電性。因此，能夠用簡易的工序制造透明導(dǎo)電性薄膜IO。根據(jù)本實施方式的方法制造的透明導(dǎo)電性薄膜10由于電阻低、透光性高，因而能夠廣泛地應(yīng)用于液晶顯示器、等離子顯示面板、有機EL、無機EL、太陽能電池、接觸面板、印刷電路基板等。<電壓和頻率>通常，分散型電致發(fā)光元件用交流電來驅(qū)動。典型地，采用IOOV、50Hz至400Hz的交流電源來驅(qū)動。在面積小的情況下，亮度與外加電壓以及頻率大致成正比地增加。但是，在是0.251112以上的大面積元件的情況下，元件的電容成分增大，元件和電源的阻抗匹配不吻合，或向元件中蓄積電荷所需的時間常數(shù)增加，因此即使高電壓化或尤其是高頻化也容易形成不能充分供給電力的狀態(tài)。特別是在0.251112以上的元件中，相對于500Hz以上的交流驅(qū)動，經(jīng)常發(fā)生相對于驅(qū)動頻率的增大而使外加電壓下降，經(jīng)常引起低亮度化。對此，采用了本實施方式的第1電極部22的電致發(fā)光元件即使在0.25m2以上的大尺寸的情況下，也能進(jìn)行高頻率的驅(qū)動，能夠進(jìn)行高亮度化。在此種情況下，優(yōu)選為500Hz以上5KHz以下的驅(qū)動，更優(yōu)選800KHz以上3KHz以下的驅(qū)動。以下，通過列舉實施例對本發(fā)明進(jìn)行更具體的說明。再有，以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理順序等可以在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)適宜變更。因此，不應(yīng)理解為本發(fā)明的范圍受以下所示的具體例的限定。首先，對形成于支撐體12上的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的特性(表面電阻、膜強度等)進(jìn)行了評價的第1實施例如以下所示。<實施例114及比較例17>(乳劑A的調(diào)制)1液水750ml明膠(鄰苯二甲?；幚砻髂z)20g氯化鈉3g1,3-二甲基-2-亞乙基硫脲20mg苯硫代磺酸鈉10mg檸檬酸0.7g2液水300ml硝酸銀150g3液水300ml氯化鈉38g溴化鉀32g六氯銥(III)酸鉀(0.005%KC120%水溶液)5ml六氯銠酸銨(0.001%NaCl20%水溶液)7ml3液中所用的六氯銥(III)酸鉀(0.005%KC120%水溶液)及六氯銠酸銨(0.001%NaCl20%水溶液)是通過將各自的絡(luò)合物粉末分別溶解于KC1的20%水溶液、NaCl的20%水溶液中，在4(TC下加熱120分鐘而調(diào)制成的。在保持在38°C、pH4.5的1液中一邊攪拌一邊用20分鐘同時加入相當(dāng)于2液和3液的各90%的量，形成0.16lim的核粒子。接著用8分鐘加入下記4液、5液，再用2分鐘加入2液和3液的剩余的10%的量，使其生長到0.21um。然后，加入碘化鉀0.15g，熟化5分鐘，結(jié)束粒子形成。4液49水100ml硝酸銀50g5液水100ml氯化鈉13g溴化鉀llg亞鐵氰化鉀5mg然后，按照常規(guī)方法，用絮狀沉淀法進(jìn)行水洗。具體是，將溫度降到35°C，采用硫酸使pH降低到鹵化銀沉降的程度(為pH3.6士0.2的范圍)。接著，將上清液除去大約3升(第l水洗)。再加入3升蒸餾水，然后加入硫酸直到鹵化銀沉降。再次，將上清液除去大約3升(第2水洗)。再重復(fù)一次與第2水洗相同的操作(第3水洗)，然后結(jié)束水洗及脫鹽過程。將水洗及脫鹽后的乳劑調(diào)整到pH6.4、pAg7.5，加入苯硫代磺酸鈉10mg、苯硫代亞磺酸鈉3mg、硫代硫酸鈉15mg和氯金酸10mg，在55°。下實施化學(xué)增敏以得到最佳的感度，作為穩(wěn)定劑，加入1,3，3a,7-四氮茚100mg，作為防腐劑，加入7?？谀阨r》(商品名，ICICo.,Ltd.制)100mg。最終得到含有氯化銀70摩爾％、碘化銀0.08摩爾％的平均粒徑為0.22lim、變動系數(shù)為9。/。的碘氯溴化銀立方體粒子乳齊U。最終的乳劑為pH-6.4、pAg-7.5、導(dǎo)電率-40uS/m、密度-1.2Xl()3kg/m3、粘度-60mPas。(乳劑B的調(diào)制)除了在乳劑A的調(diào)制中將1液的明膠量規(guī)定為8g之外，按相同的條件調(diào)制乳劑，將其作為乳劑B。(涂布試樣的制作)在上述乳劑A、B中加入增敏色素(sd-l)5.7X10—4摩爾/摩爾Ag，實施分光增敏。再加入KBr3.4X10—4摩爾/摩爾Ag、化合物(Cpd-3)8.0X10—A摩爾/摩爾Ag，充分混合。接著，添加1,3，3a,7-四氮茚1.2X10—4摩爾/摩爾Ag、對苯二酚1.2X10^摩爾/摩爾Ag、檸檬酸3.0X10"^摩爾/摩爾Ag、按90mg/n^添加2,4-二氯-6-羥基-1,3,5-三嗪鈉鹽，相對于明膠添加15wt。/。的粒徑為10Um的膠體二氧化硅、按50mg/m2添加水性膠乳(aqL畫6)，按100mg/m2添加聚丙烯酸乙酯膠乳，按100mg/i^添加甲基丙烯酸酯與2-丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸鈉鹽與甲基丙烯酸2-乙酰氧基乙酯的膠乳共聚物(重量比為88:5:7)，按100mg/i^添加芯殼型膠乳，芯苯乙烯/丁二烯共聚物(重量比為37/63),殼苯乙烯/丙烯酸2-乙酰氧基乙酯(重量比為84/16、芯/殼比=50/50)，相對于明膠添加4wt。/。的化合物(Cpd-7)，采用檸檬酸將涂布液的pH調(diào)整到5.6。采用乳劑A，將按如上所述調(diào)制的乳劑層涂布液涂布在聚對苯二甲酸乙二酯(PET)上，使得Ag為10.5g/m2，明膠為0.94g/m2，然后進(jìn)行千燥，將其作為涂布試樣A。此外，釆用乳劑B，將按如上所述調(diào)制的乳劑層涂布液涂布在聚對苯二甲酸乙二酯(PET)上，使得Ag為10.5g/m2，明膠為0.33g/m2，然后進(jìn)行干燥，將其作為涂布試樣B。作為PET，采用預(yù)先進(jìn)行了表面親水化處理的PET。,萍o(jì)丫Y51<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>關(guān)于得到的涂布試樣A，其乳劑層的Ag/粘合劑體積比率(銀/GEL比(vol))為1/0.7，符合本發(fā)明的導(dǎo)電膜形成用感光材料中優(yōu)選采用的Ag/粘合劑比率為1/1以上(參照實施例1、2、比較例1及2)。關(guān)于涂布試樣B，其乳劑層的Ag/粘合劑體積比率(銀/GEL比(vol))為4/1，符合本發(fā)明的導(dǎo)電膜形成用感光材料中更優(yōu)選采用的Ag/粘合劑比率為2/1以上(參照實施例3、4、比較V」3)。而且，制成了明膠量變化的試樣，制成了實施例511。(曝光及顯影處理)接著，采用以高壓水銀燈為光源的平行光，經(jīng)由光掩模對干燥了的涂布膜進(jìn)行曝光，該光掩模的格子狀的光掩模線/間隙-195um/5um(間距200Pm)，且間隙為格子狀，可提供線/間隙-5Pm/195um的顯影銀像。用下述顯影液顯影，進(jìn)而在釆用定影液(商品名CN16X用N3X-R，富士照相膠片公司制)進(jìn)行了顯影處理后，用純水沖洗，得到線寬及開口率不同的試樣a及b。關(guān)于涂布試樣A，將制成的試樣作為A-a(參照比較例1及實施例1)、A-b(參照比較例2及實施例2),關(guān)于涂布試樣B，將制成的試樣作為B-a(參照比較例3、實施例3及4)、B-b(實施例5)。此外，還制作了整面曝光的試樣(參照比較例7、實施例13及14)。在l升的顯影液中，含有以下的化合物。對苯二酚0.037mol/LN-甲基氨基苯酚0.016mol/L0.140mol/L0.360mol/L0.031mol/L0.187mol/L偏硼酸鈉氫氧化鈉溴化鈉偏亞硫酸氫鈉(砑光處理)對按如上所述顯影處理過的試樣進(jìn)行了砑光處理。砑光輥由金屬輥(鐵心+鍍硬鉻，輥直徑為250mm)形成，施加從1960N/cm(200kgf/cm，如果換算成表面壓力，則為700kgf/cm2)到7840N/cm(800kgf/cm，如果換算成表面壓力，則為1850kgf/cm2)的線壓力，使試樣通過輥間，測定了處理前后的表面電阻率(歐姆/sq)。在本實施例的情況下，如果將線壓力lOOkgf/cm換算成表面壓力，則為417kgf/cm2，如果將線壓力200kgf/cm換算成表面壓力，則為700kgf/cm2，如果將線壓力300kgf/cm換算成表面壓力，則為936kgf/cm2，如果將線壓力600kgf/cm換算成表面壓力，則為1519kgf/cm2。將試樣A-a的砑光處理前作為A-a-1(比較例1)，將處理后作為A-a-2(實施例l)，將試樣A-b的砑光處理前作為A-b-1(比較例2)，將處理后作為A-b-2(實施例2)。將試樣B的砑光處理前作為B-a-l(比較例3)，將處理后作為B-a-2(實施例3)。關(guān)于得到的試樣B-a-2(實施例3)，其金屬銀部的Ag/非導(dǎo)電性高分子的體積比為3.1/1，此外，密度為8.5g/cm3，厚度為1.2^1111，符合本發(fā)明的導(dǎo)電膜中優(yōu)選采用的金屬銀部的Ag/非導(dǎo)電性高分子的體積比為3/1以上、厚度為0.5um5ixm。(黑化處理)接著，對形成有網(wǎng)狀的銀圖像的透明薄膜，在具有以下組成的黑化鍍液中，以碳為陽極電極進(jìn)行電鍍。黑化鍍覆處理中的鍍覆處理液如下。[黑化液組成]硫酸鎳六水合鹽120g53硫代氰酸銨17g硫酸鋅七水合鹽28g硫酸鈉16g加入純水1LpH為5.0，用硫酸和氫氧化鈉(調(diào)整pH)[鍍覆條件]液溫大約30'C時間20秒陰極電流密度0.10.2A/dm2相對于陰極(35mmX12cm)整體，電流為0.03A將試樣B-a-2(實施例3)的上述黑化處理試樣作為B-a-3(實施例4)。(比較例46)為了與以往所知中的導(dǎo)電性最高、且透光性高的技術(shù)相比較，作為上述以往技術(shù)部分的"利用照相術(shù)的刻蝕加工銅網(wǎng)"的代表，制作了特開平10-41682號公報中記載的金屬網(wǎng)，作為比較例4的試樣。通過進(jìn)行與特開平10-41682號公報中的實施例相同的實驗，制成了該試樣(比較例4)。再有，為了使其網(wǎng)形狀線寬、間距與本發(fā)明的試樣一致，采用了與上述相同的間距為200ym的光掩模。此外，作為上述以往技術(shù)部分的"印刷了銀漿料的網(wǎng)"的代表，制作了特開2000-13088號公報記載的金屬網(wǎng)，制作了開口率不同的比較例5及6的試樣。對如此得到的具有導(dǎo)電性金屬部和透光部的本發(fā)明的試樣及比較例的試樣的導(dǎo)電性金屬部的線寬進(jìn)行了測定，求出了開口率，而且測定了表面電阻率(歐姆/sq)。再有，在各測定中，采用了光學(xué)顯微鏡、掃描式電子顯微鏡及低電阻率計。此外，目視評價了網(wǎng)的金屬部的顏色，將黑色的表示為"〇"，將褐色至灰色的表示為"X"。另外，關(guān)于制造方法中的工序數(shù)，將具有工序數(shù)在5以下的評價為"〇"，將需要工序數(shù)超過5的評價為"X"。此外，按以下方法進(jìn)行了膜強度的評價。采用直徑為0.1mmct)的藍(lán)寶石針，以lcm/秒的速度在形成有網(wǎng)金屬部的一面?zhèn)冗M(jìn)行劃痕。使藍(lán)寶石針的負(fù)荷在0100g的范圍內(nèi)變化，而且將劃傷達(dá)到基板時的負(fù)荷作為膜強度的尺度。開始產(chǎn)生劃傷的負(fù)荷在80g以上〇開始產(chǎn)生劃傷的負(fù)荷在50g以上且低于80gX:開始產(chǎn)生劃傷的負(fù)荷在20g以上且低于50g評價結(jié)果與各試樣的數(shù)據(jù)一同示于表1。<table>tableseeoriginaldocumentpage56</column></row><table>由表1得知，比較例4的刻蝕銅網(wǎng)的網(wǎng)顏色為褐色，工序數(shù)也為多工序。另外，比較例5的印刷了銀漿料的網(wǎng)因其線寬粗而使開口率低。在此種情況下，如比較例6所示，雖然能夠擴(kuò)大間距而提高開口率，但出現(xiàn)了表面電阻率增大的新問題。相對于此，實施例1及2沒有出現(xiàn)上述比較例中見到的問題，線寬細(xì)，幾乎沒有從原來的線寬擴(kuò)展，開口率高，而且表面電阻率低，電磁波屏蔽能力高。更優(yōu)選的方式的實施例4由于網(wǎng)的金屬部是黑色，因而可避免對顯示器的圖像的不良影響、對比度下降。此外，制造時的工序數(shù)少，是短工序。而且，可知實施例14的膜強度高，在處理時也不易產(chǎn)生網(wǎng)部的缺陷、剝離，在質(zhì)量上可靠性高。關(guān)于變化了明膠量的實施例58，線寬比實施例14稍大?？墒?，由于即使擴(kuò)大間距而提高開口率，表面電阻率也低，因此能夠使開口率比實施例14大。此外，膜強度大，可靠性高。整面曝光的比較例7的表面電阻率低而比較優(yōu)良，但膜強度低，在可靠性上存在問題。另一方面，整面曝光的實施例13及14與比較例7相比，表面電阻率低，而且膜強度高，在可靠性上也充分。再有，關(guān)于實施例911，表面電阻率高于2.5(歐姆/sq)，在導(dǎo)電性上不太充分，但膜強度高，在可靠性上比較充分。上述表1所示的實施例114中，在顯影后進(jìn)行砑光處理、進(jìn)而在定影后進(jìn)行砑光處理的實施例14的表面電阻率為0.08(歐姆/sq)，表示出最低的值。因而，對顯影后的砑光處理及定影后的砑光處理中的線壓力與表面電阻率的關(guān)系進(jìn)行了研究。其結(jié)果見圖IO所示。關(guān)于試樣，與上述的試樣B-a-2(參照實施例3)相同，在與上述同樣地進(jìn)行了曝光、顯影后，用純水沖洗l分鐘，然后進(jìn)行40'C的干燥處理。接著，進(jìn)行顯影后的砑光處理，其后采用定影液(商品名CN16X用N3X-R,富士照相膠片公司制)進(jìn)行定影處理，接著用純水沖洗2分鐘，然后進(jìn)行干燥處理，進(jìn)行定影后的砑光處理。作為砑光處理中所用的砑光輥，準(zhǔn)備兩種，l種是由表面進(jìn)行了壓花加工的金屬輥和進(jìn)行了鏡面加工的金屬輥組合而成的第1砑光輥，另一種是由表面進(jìn)行了鏡面加工的金屬輥與樹脂制的輥組合而成的第2砑光輥。通過第1砑光輥改變線壓力地進(jìn)行砑光處理(顯影后及定影后)時的表面電阻率的變化用菱形的標(biāo)繪點表示，通過第2砑光輥改變線壓力地進(jìn)行砑光處理(顯影后及定影后)時的表面電阻率的變化用四角形的標(biāo)繪點表示。從圖10得知，當(dāng)在顯影后及定影后分別進(jìn)行砑光處理時，幾乎不依賴砑光輥的種類，作為線壓力只要在200(kgf/cm)以上，就能得到1.8(歐姆/sq)以下的表面電阻率。此外，由于線壓力在700(kgf/cm)以下時，表面電阻率出現(xiàn)微小的上升，因此優(yōu)選將700(kgf/cm)以下作為上限。接著，在第3實施例中對透明導(dǎo)電性薄膜10的特性(透射率、體積電阻、表面電阻、可撓性等)進(jìn)行了評價。該第3實施例如以下所示。l.擔(dān)載有細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的支撐體12的制作(乳劑的調(diào)制)由于與第l實施例的乳劑A相同，因此這里省略其重復(fù)說明。(涂布試樣的制作)由于與在第i實施例中說明的事項相同，與采用了乳劑A的涂布試樣A相同，因此這里省略其重復(fù)說明。所得到的涂布試樣的乳劑層的Ag/粘合劑體積比率為1/0.7，符合本發(fā)明中優(yōu)選采用的Ag/粘合劑體積比率為1/4以上。(曝光及顯影處理)接著，采用以高壓水銀燈為光源的平行光，經(jīng)由光掩模對干燥了的涂布膜進(jìn)行曝光，該光掩?？商峁┚€/間隙=10um/300um的顯影銀像，且間隙為格子狀，用下述顯影液顯影。進(jìn)而在采用定影液(商品名CN16X用N3X-R,富士照相膠片公司制)進(jìn)行了顯影處理后，用純水沖洗。采用上述處理劑對曝光、顯影完的感光材料進(jìn)行25t下20秒的顯影、25-C下20秒的定影、流水(5L/min)20秒的水洗處理，且按照顯影、水洗、干燥、壓實處理、定影、水洗、干燥、壓實處理的順序進(jìn)行。采用裝58備有金屬輥的砑光輥裝置，施加3920N/cm(400kgf/cm)的線壓，使試樣通過輥之間，如此進(jìn)行壓實處理。2.導(dǎo)電膜16的涂覆在按如上所述形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部14上，通過棒涂機，改變涂布量地如表1所示涂布由下述導(dǎo)電性聚合物形成的透明性導(dǎo)電膜16，制作了透明導(dǎo)電性薄膜(實施例2123)。迸而，在沒有細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的PET基板上進(jìn)行相同厚度的涂布，達(dá)到與實施例2123相同的膜厚，制成比較例2123。作為導(dǎo)電性聚合物，采用TAChemical株式會社的導(dǎo)電性聚合物BaytronPEDOT(聚乙烯二氧噻吩)。干燥在室溫下通過自然干燥來進(jìn)行。同樣，將只形成有細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的試樣作為比較例24，將采用了ITO薄膜的試樣作為比較例25。3.電致發(fā)光元件的制作將按以上制作的透明導(dǎo)電性薄膜(實施例2123、比較例2125)按以下方式組裝在無機分散型EL(電發(fā)光)元件中，進(jìn)行了發(fā)光試驗。在成為背面電極的鋁薄板上涂布含有平均粒子尺寸為0.03um的顏料的反射絕緣層和熒光體粒子為5060um的發(fā)光層，采用溫風(fēng)干燥機在110'C下干燥1小時。然后，將透明導(dǎo)電性薄膜10重合、熱壓接在熒光體層及內(nèi)面電極的電介質(zhì)層表面上，制成EL元件。用2塊由尼龍6形成的吸水性薄片和2片防潮薄膜夾著EL元件進(jìn)行熱壓接。EL元件的尺寸為3cmX5cm或A4尺寸。4.評價(試樣的表面電阻/透射率)對實施例2123、比較例2125的表面電阻、及相對于波長為550nm的光的透射率進(jìn)行了測定。(試樣的亮度)采用3cmX5cm的試樣，對進(jìn)行峰值電壓為100V、頻率為lkHz的驅(qū)動時的初期亮度進(jìn)行了評價。(可撓性的評價)求出了上述彎曲試驗中的試樣(實施例2123、比較例2125)的表面電阻的上升率K。表面電阻的上升率K在將進(jìn)行彎曲試驗前的試樣的表面電阻設(shè)為R1、將進(jìn)行了彎曲試驗后的試樣的表面電阻設(shè)為R2時，按K-R2/Rl求出。彎曲試驗是如圖11所示，通過重復(fù)進(jìn)行以下工序使試樣34彎曲100次，所述工序是將試樣34(實施例2123、比較例2125)掛在相對于基座30旋轉(zhuǎn)自如地安裝的直徑為4mm的輥32上，對試樣34的一個端部34a按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使輥32旋轉(zhuǎn)，從而使試樣34彎曲的工序;和對試樣34的另一個端部34b按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使輥32旋轉(zhuǎn)，從而使試樣34彎曲的工序。關(guān)于評價，在表面電阻的上升率〖為1.2以下時表示為〇，為1.210時表示為A，為10以上時表示為X。(結(jié)果l)實施例2123、比較例2125的透射率、細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的表面電阻、導(dǎo)電膜16的表面電阻、強度及可撓性的評價結(jié)果如表2所示。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage60</column></row><table>該評價結(jié)果表明，比較例24(只有細(xì)線結(jié)構(gòu)部)的表面電阻比比較例25(只有ITO膜)低。但如圖12A所示，只在細(xì)線的附近發(fā)光，開口部不發(fā)光，因此亮度顯著降低。相對于此，如實施例2123那樣，當(dāng)在細(xì)線結(jié)構(gòu)部14上附加導(dǎo)電膜16的情況下，如圖12B所示，確認(rèn)了整面發(fā)光。此外，在采用了表面電阻為105歐姆/叫的導(dǎo)電膜16時，確認(rèn)了在比較例23中不發(fā)光，但在實施例23中整面發(fā)光。在按上述所示制作的試樣中，對A4尺寸的試樣(實施例23、比較例21、24、25)按峰值電壓50V、頻率1.4kHz進(jìn)行驅(qū)動，如圖13所示，在由Ag漿料形成的母線上設(shè)置取出電極，通過變化與取出電極的距離進(jìn)行了亮度的測定，求出了以取出電極附近(基準(zhǔn)點)的亮度為基準(zhǔn)(=1)時的亮度比?；鶞?zhǔn)點離母線的最短距離為10mm，測定點離母線的最短距離為50mm、100mm、150mm、200mm、250mm。圖14示出了測定結(jié)果。該結(jié)果表明，只有導(dǎo)電膜的比較例21隨著離取出電極的距離加大，亮度減小。比較例24(只有細(xì)線結(jié)構(gòu)部)幾乎沒有離取出電極的距離所造成的亮度的下降，亮度大致穩(wěn)定，但如上所述，在比較例24中，如圖12A所示，存在不能面發(fā)光的問題。在采用ITO膜的比較例25中，直到200mm的測定點都幾乎沒有亮度的減少，但在250mm的測定點，亮度急劇下降。與此相對照，在實施例23中，幾乎沒有離取出電極的距離所造成的亮度的下降，亮度大致穩(wěn)定。而且如圖12B所示，實現(xiàn)了整面發(fā)光。接著，對以下所示的試樣16進(jìn)行了上述的彎曲試驗，按與上述相同的評價標(biāo)準(zhǔn)(表面電阻的上升率K)評價了可撓性。試樣1是通過濺射形成ITO膜，表面電阻為300歐姆/sq的ITO薄膜。試樣2是采用由PEDOT形成的導(dǎo)電膜16制作透明導(dǎo)電性薄膜，試樣3是只有細(xì)線結(jié)構(gòu)部14的透明導(dǎo)電性薄膜，該細(xì)線結(jié)構(gòu)部14是通過對支撐體12上具有含感光性銀鹽的層的感光材料進(jìn)行曝光及顯影而形成的。試樣4是具有細(xì)線結(jié)構(gòu)部14和導(dǎo)電膜16的透明導(dǎo)電性薄膜，其在制造過程中進(jìn)行了砑光處理，而且在溫水中進(jìn)行了浸漬處理。試樣5是在支撐體12的上表面整面上具有導(dǎo)電膜16的透明導(dǎo)電性薄膜，其在制造過程中進(jìn)^1了砑光處理，而且在溫水中進(jìn)行了浸漬處理。試樣6是在支撐體12的上表面整面上具有導(dǎo)電膜16的透明導(dǎo)電性薄膜，其在制造過程中進(jìn)行了砑光處理，但沒有在溫水中進(jìn)行浸漬處理。表3及圖15示出了評價結(jié)果。61表3<table>tableseeoriginaldocumentpage62</column></row><table>采用了ITO膜的試樣1顯示出上升率為18480.33的非常高的上升率。與此相對照，在試樣26中，上升率在2以下。再有，試樣2中沒有電阻值的上升，相反，盡管程度微小，卻有電阻的下降。如此得知，如試樣l所明示的，使用了ITO膜的透明導(dǎo)電性薄膜的可撓性不充分。再有，本發(fā)明中的自發(fā)光顯示裝置、自發(fā)光顯示裝置的制造方法、透明導(dǎo)電性薄膜、電致發(fā)光元件、太陽能電池用透明電極及電子紙用透明電極并不局限于上述的實施方式，當(dāng)然能夠在不脫離本發(fā)明的宗旨的條件下采取多種構(gòu)成。權(quán)利要求1、一種自發(fā)光顯示裝置，其特征在于，具備支持體(12)，電極部(22)，其設(shè)置在該支持體(12)上，且具有由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)和透光性的導(dǎo)電膜(16)，和顯示部(24)，其層疊在所述電極部(22)上且具有發(fā)光層(26)；所述電極部(22)的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的體積電阻為10-4歐姆·cm以下及/或表面電阻為100歐姆/sq以下，所述導(dǎo)電膜(16)的體積電阻為0.05歐姆·cm以上及/或表面電阻為100歐姆/sq以上；在將進(jìn)行下述彎曲試驗前的所述電極部(22)的表面電阻設(shè)定為R1、將進(jìn)行了下述彎曲試驗后的所述電極部(22)的表面電阻設(shè)定為R2時，滿足R2/R1<18；彎曲試驗是通過重復(fù)進(jìn)行以下工序使所述電極部(22)彎曲100次，所述工序是將所述電極部(22)掛在相對于基座(30)旋轉(zhuǎn)自如地安裝的直徑為4mm的輥(32)上，對所述電極部(22)的一個端部(34a)按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥(32)旋轉(zhuǎn)，從而使所述電極部(22)彎曲的工序；和對所述電極部(22)的另一個端部(34b)按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥(32)旋轉(zhuǎn)，從而使所述電極部(22)彎曲的工序。2、根據(jù)權(quán)利要求l所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部(22)的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的體積電阻為5X10—s歐姆'cm以下及/或表面電阻為50歐姆/sq以下，所述導(dǎo)電膜(16)的體積電阻為0.5歐姆，cm以上及/或表面電阻為1000歐姆/sq以上。3、根據(jù)權(quán)利要求l所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部(22)的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的體積電阻為2X10—5歐姆cm以下及/或表面電阻為10歐姆/sq以下，所述導(dǎo)電膜U6)的體積電阻為1歐姆，cm以上及/或表面電阻為10000歐姆/sq以上。4、根據(jù)權(quán)利要求l所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部(22)的所述導(dǎo)電膜(16)含有導(dǎo)電性材料。5、根據(jù)權(quán)利要求4所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述導(dǎo)電性材料含有透明導(dǎo)電性有機聚合物、或?qū)щ娦晕⒘！?、根據(jù)權(quán)利要求5所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述導(dǎo)電性微粒是導(dǎo)電性金屬氧化物、導(dǎo)電性金屬微?；蛱技{米管。7、根據(jù)權(quán)利要求l所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部(22)的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的厚度即高度為lO"m以下。8、根據(jù)權(quán)利要求l所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的厚度即高度與所述導(dǎo)電膜(16)實質(zhì)上相同。9、根據(jù)權(quán)利要求l所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述導(dǎo)電膜(16)被設(shè)置在所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的上表面或下表面。10、根據(jù)權(quán)利要求1所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部(22)的光的透射率相對于550nm的光為70%以上。11、根據(jù)權(quán)利要求l所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部(22)的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)由導(dǎo)電性金屬銀形成，該導(dǎo)電性金屬銀是通過對在所述支持體(12)上至少具有含感光性銀鹽的層(44)的感光層進(jìn)行曝光、顯影處理而形成的。12、根據(jù)權(quán)利要求ll所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述電極部(22)的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)含有銀，且Ag/粘合劑的體積比為1/4以上。13、根據(jù)權(quán)利要求ll所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于-所述電極部(22)的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)可通過對導(dǎo)電性金屬銀進(jìn)行壓實處理來得到，該導(dǎo)電性金屬銀是通過對在所述支持體(12)上具有含感光性銀鹽的層(44)的感光材料進(jìn)行曝光、顯影處理而形成的。14、根據(jù)權(quán)利要求13所述的自發(fā)光顯示裝置，其特征在于所述壓實處理通過砑光輥裝置來進(jìn)行。15、一種透明導(dǎo)電性薄膜，其具有支持體(12)、設(shè)置在該支持體(12)上且由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)、和透光性的導(dǎo)電膜(16)，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的體積電阻為10^歐姆'cm以下及/或表面電阻為100歐姆/sq以下，所述導(dǎo)電膜(16)的體積電阻為0.05歐姆"m以上及/或表面電阻為100歐姆/sq以上；在將進(jìn)行下述彎曲試驗前的所述透明導(dǎo)電性薄膜的表面電阻設(shè)定為Rl、將進(jìn)行了下述彎曲試驗后的所述透明導(dǎo)電性薄膜的表面電阻設(shè)定為R2時，滿足R2/RK18;彎曲試驗是通過重復(fù)進(jìn)行以下工序使所述透明導(dǎo)電性薄膜彎曲100次，所述工序是將所述透明導(dǎo)電性薄膜掛在相對于基座(30)旋轉(zhuǎn)自如地安裝的直徑為4mm的輥(32)上，對所述透明導(dǎo)電性薄膜的一個端部(34a)按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥(32)旋轉(zhuǎn)，從而使所述透明導(dǎo)電性薄膜彎曲的工序；和對所述透明導(dǎo)電性薄膜的另一個端部(34b)按每米寬施加28.6(kg)的張力進(jìn)行拉伸，同時使所述輥(32)旋轉(zhuǎn)，從而使所述透明導(dǎo)電性薄膜彎曲的工序。16、根據(jù)權(quán)利要求15所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)含有密度為8.0g/cm310.5g/cm3的銀。17、根據(jù)權(quán)利要求15所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的厚度為0.5um10um。18、根據(jù)權(quán)利要求15所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)為細(xì)線圖案，其線寬為0.1um25um。19、一種透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于通過對支持體上具有至少包含含感光性鹵化銀的層的照相構(gòu)成層的感光材料進(jìn)行曝光、顯影處理，在所述支持體上形成由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部，并將該細(xì)線結(jié)構(gòu)部和透明性的導(dǎo)電膜組合。20、根據(jù)權(quán)利要求19所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于:所述電極部的所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部含有銀，且Ag/粘合劑的體積比為1/4以上。21、根據(jù)權(quán)利要求19所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于:具有對所述細(xì)線結(jié)構(gòu)部進(jìn)行壓實處理的壓實處理工序。22、根據(jù)權(quán)利要求21所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于:所述壓實處理通過砑光輥裝置來進(jìn)行。23、根據(jù)權(quán)利要求21所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于:在1980N/cm(200kgf/cm)以上的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。24、根據(jù)權(quán)利要求21所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于:在2960N/cm(300kgf/cm)以上的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。25、根據(jù)權(quán)利要求21所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其特征在于:在6860N/cm(700kgf/cm)以下的線壓力下進(jìn)行所述壓實處理。26、一種電致發(fā)光元件，其特征在于具有權(quán)利要求15所述的透明導(dǎo)電性薄膜。27、一種太陽能電池用透明電極，其特征在于具有權(quán)利要求15所述的透明導(dǎo)電性薄膜。28、一種電子紙用透明電極，其特征在于具有權(quán)利要求15所述的透明導(dǎo)電性薄膜。全文摘要一種自發(fā)光顯示裝置(20)，其具備支撐體(12)、第1電極部(22)和顯示部(24)，所述第1電極部(22)設(shè)置在該支撐體(12)上且具有由導(dǎo)電性金屬形成的細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)和透光性的導(dǎo)電膜(16)；所述顯示部(24)層疊在該第1電極部(22)上且具有發(fā)光層(26)。第1電極部(22)的細(xì)線結(jié)構(gòu)部(14)的體積電阻為10^-4歐姆·cm以下及/或表面電阻為100歐姆/sq以下，導(dǎo)電膜(16)的體積電阻為0.05歐姆·cm以上及/或表面電阻為100歐姆/sq以上，在將進(jìn)行彎曲試驗前的第1電極部(22)的表面電阻設(shè)定為R1、將進(jìn)行了彎曲試驗后的第1電極部(22)的表面電阻設(shè)定為R2時，滿足R2/R1＜18。文檔編號G09F9/30GK101512682SQ20078003319公開日2009年8月19日申請日期2007年9月28日優(yōu)先權(quán)日2006年9月28日發(fā)明者一木晃,德永司,栗城匡志,楠岡亮申請人:富士膠片株式會社