專利名稱：記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
要求記錄介質(zhì)具有各種物理性質(zhì)如墨的定影性、圖像的清晰度和耐臭氧性。日本專利特開(kāi)2008-254430提議涉及包含通過(guò)具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑和鋯化合物的反應(yīng)制備的復(fù)合化合物(composite compound)的記錄介質(zhì)，由此降低高溫高濕環(huán)境下忙存的圖像中的洇墨(blurring)以及提高圖像的耐臭氧性的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的方面提供能夠賦予圖像以高耐臭氧性并且還有效防止高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中洇墨的出現(xiàn)的記錄介質(zhì)。 本發(fā)明涉及在基材的至少一個(gè)表面上具有包含無(wú)機(jī)顏料和粘結(jié)劑的墨接收層的記錄介質(zhì)。所述墨接收層包含含有鋯、硅和選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物。本發(fā)明的方面可提供能夠賦予圖像以高耐臭氧性并且還有效防止高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中洇墨的出現(xiàn)的記錄介質(zhì)。本發(fā)明的進(jìn)一步特征將參考附圖從以下示例性實(shí)施方案的描述中變得顯而易見(jiàn)。


圖I是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)的實(shí)例的截面圖。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明復(fù)合化合物的實(shí)例的X-射線衍射(XRD)圖的圖。
具體實(shí)施例方式根據(jù)本發(fā)明人的研究結(jié)果，在日本專利特開(kāi)2008-254430描述的記錄介質(zhì)中，不幸的是，圖像的耐臭氧性低，高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中出現(xiàn)洇墨。記錄介質(zhì)現(xiàn)在將參考附圖描述本發(fā)明的實(shí)施方案。圖I是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)的實(shí)例的截面圖并顯示具有在基材(100)的一個(gè)表面上包括墨接收層(101)的結(jié)構(gòu)的噴墨記錄介質(zhì)(102)。墨接收層可設(shè)置在基材的各表面上。墨接收層(101)包括無(wú)機(jī)顏料、粘結(jié)劑以及包含鋯、硅和選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物(下文中，該化合物也稱為"復(fù)合化合物")。本說(shuō)明書(shū)全文中，選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素也稱為第2族或第3族元素，包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物也稱為第2族或第3族元素化合物。現(xiàn)在將描述本發(fā)明的記錄介質(zhì)能夠賦予圖像以高耐臭氧性并且還有效地防止高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中洇墨的出現(xiàn)的本發(fā)明的開(kāi)發(fā)和推測(cè)機(jī)理。作為研究的結(jié)果，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)具有墨接收層的記錄介質(zhì)顯示優(yōu)良的耐臭氧性，所述墨接收層包含含有鋯、硅和第2族和第3族元素化合物的復(fù)合化合物。這很可能起因于第2族和第3族元素化合物粘附至無(wú)機(jī)顏料如氧化鋁水合物或二氧化硅的顆粒表面上的酸點(diǎn)從而降低酸點(diǎn)的強(qiáng)度，并由此能夠防止當(dāng)臭氧與酸點(diǎn)接觸時(shí)而產(chǎn)生的自由基(radical)的生成。然而，還發(fā)現(xiàn)了包含第2族或第3族元素化合物的記錄介質(zhì)趨于引起高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中的洇墨。用于分散無(wú)機(jī)顏料如氧化鋁水合物或二氧化硅的水性溶劑通常為酸水溶液，并且墨接收層通過(guò)施涂此類包含無(wú)機(jī)顏料的酸水溶液來(lái)形成。如果此類酸水溶液或用此類酸水溶液形成的墨接收層包含第2族或第3族元素化合物，則第2族或第3族元素離子化從而與來(lái)自酸性化合物的負(fù)離子形成鹽。因此，墨接收層包含第2族或第3族元素的鹽。此類鹽在高溫高濕環(huán)境下趨于潮解(deliquesce)從而容易引起洇墨。本發(fā)明中，第2族或第3族元素構(gòu)成包含鋯和二氧化硅的復(fù)合化合物的一部分。即，將第2族或第3族元素引入至復(fù)合化合物結(jié)構(gòu)的內(nèi)部。因此，可防止第2族或第3族元素的離子化，并且當(dāng)?shù)?族或第3族元素與酸水溶液接觸時(shí)防止第2族或第3族元素產(chǎn)生其鹽，導(dǎo)致防止高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中的洇墨?，F(xiàn)在將更詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)的各構(gòu)成材料。墨接收層本發(fā)明的記錄介質(zhì)包括在基材的至少一個(gè)表面上的墨接收層。所述墨接收層包含無(wú)機(jī)顏料、粘結(jié)劑以及包含鋯、硅和選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物?，F(xiàn)在將描述可用于本發(fā)明的墨接收層中的材料。包含鋯、硅和詵自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物包含鋯、硅和選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物可通過(guò)任何方法來(lái)生產(chǎn)并可通過(guò)例如濕法來(lái)生產(chǎn)。將描述通過(guò)濕法生產(chǎn)該化合物的具體實(shí)例。將第2族或第3族元素化合物和鋯化合物添加至液體溶劑，并且逐漸添加硅烷偶聯(lián)劑至其同時(shí)用例如均質(zhì)混合器、攪拌器、球磨機(jī)或超聲波分散機(jī)攪拌。液體溶劑可至少為水或醇(例如，甲醇、乙醇或丁醇)或者可為水和醇的混合物。隨后，通過(guò)硅烷偶聯(lián)劑的水解和縮合反應(yīng)形成硅烷低聚物。在引入第2族或第3族元素和鋯至其中的同時(shí)形成硅烷低聚物，以得到包含復(fù)合化合物的懸浮液。此時(shí)，為了形成均一的復(fù)合化合物，可進(jìn)行攪拌。硅烷偶聯(lián)劑的水解和縮合反應(yīng)的進(jìn)行可通過(guò)借助添加例如有機(jī)酸而調(diào)節(jié)系統(tǒng)的PH來(lái)任意控制。雖然硅烷偶聯(lián)劑的水解和縮合反應(yīng)甚至在常溫下進(jìn)行，仍可加熱反應(yīng)系統(tǒng)用于使得各反應(yīng)有效進(jìn)行。最佳反應(yīng)溫度根據(jù)硅烷偶聯(lián)劑的類型變化，但通常為20°C -100°C。將描述生產(chǎn)復(fù)合化合物的方法的具體實(shí)例。將N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷添加至包含氯化鎂六水合物和乙酸氧鋯的水溶液。隨后，將硅烷偶聯(lián)劑水解，并且加熱水解產(chǎn)物用于脫水-縮合從而得到其中將鎂和鋯引入至硅烷低聚物結(jié)構(gòu)中的復(fù)合化合物。將描述通過(guò)上述方法形成包含第2族或第3族元素、鋯和硅的化合物的推測(cè)機(jī)理。硅烷偶聯(lián)劑在水或醇中水解從而產(chǎn)生硅烷醇(-Si-OH)。產(chǎn)生的硅烷醇分子逐漸彼此縮合從而形成硅氧烷鍵(-Si-O-Si-)并最終形成硅烷低聚物。在其中具有此類特性的硅烷偶聯(lián)劑與第2族或第3族元素化合物和鋯化合物共存的系統(tǒng)中，水解和縮合反應(yīng)在在系統(tǒng)中存在第2族或第3族元素和鋯下進(jìn)行。結(jié)果，形成經(jīng)由第2族或第3族元素或鋯的硅氧烷鍵如-Si-O-Mg-O-Si-或-Si-O-Zr-O-Si-，從而得到包含第2族或第3族元素、鋯和硅的化合物。生產(chǎn)根據(jù)本發(fā)明復(fù)合化合物的方法包括前體形成步驟，包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素和鋯化合物的化合物之一與硅烷偶聯(lián)劑在包含水和/或醇的液體溶劑中形成復(fù)合物前體；和復(fù)合化合物形成步驟，包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物和鋯化合物的另一個(gè)與所得前體形成復(fù)合化合物。即，兩種實(shí)施方案可包括在生產(chǎn)根據(jù)本發(fā)明復(fù)合化合物的方法中通過(guò)包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物與硅烷偶聯(lián)劑在包含水和/或醇的液體溶劑中形成復(fù)合物前體，然后將所得復(fù)合物前體與鋯化合物在包含水和/或醇的液體溶劑中進(jìn)一步形成復(fù)合化合物來(lái)生產(chǎn)復(fù)合化合物的方法；和通過(guò)鋯化合物與硅烷偶聯(lián)劑在包含水和/或醇的液體溶劑中形成復(fù)合物前體，然后所得復(fù)合物前體與包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物在包含水和/或醇的液體溶劑中進(jìn)一步形成復(fù)合化合物來(lái)生產(chǎn)復(fù)合化合物的方法。如上所述，雖然硅烷偶聯(lián)劑的水解和縮合反應(yīng)甚至在常溫下進(jìn)行，仍然可加熱反應(yīng)系統(tǒng)以使得各反應(yīng)有效進(jìn)行。最佳反應(yīng)溫度根據(jù)硅烷偶聯(lián)劑的類型變化，但反應(yīng)溫度通常為20°C -100°C。 該方法不僅能夠提供高耐臭氧性還能夠提供高耐光性。雖然改進(jìn)耐光性的機(jī)理不清楚，但是本發(fā)明人推測(cè)如下在其中如在上述方法中將用于生產(chǎn)復(fù)合化合物的材料以特定順序添加的情況下，能夠生產(chǎn)包括其中第2族或第3族元素和硅的比例高的嵌段和其中鋯和硅的比例高的嵌段的復(fù)合化合物。包括其中第2族或第3族元素和硅的比例高的嵌段和其中鋯和硅的比例高的嵌段的復(fù)合化合物優(yōu)于在著色材料特別是染料的聚集中以恒定比例包括第2族或第3族元素、鋯和硅的復(fù)合化合物，由此可以增加耐光性?，F(xiàn)在將描述提供包括其中第2族或第3族元素和硅的比例高的嵌段和其中鋯和硅的比例高的嵌段的復(fù)合化合物的機(jī)理。硅烷偶聯(lián)劑與第2族和第3族元素化合物的共存形成經(jīng)由第2族或第3族元素的硅氧烷鍵，如-Si-O-M-O-Si-(M表示第2族或第3族元素)，從而提供包含第2族或第3族元素和硅的復(fù)合化合物前體。隨后，將鋯化合物添加至反應(yīng)系統(tǒng)。將鋯化合物中的鋯引入至前體同時(shí)經(jīng)由鋯形成硅氧烷鍵，如-Si-O-Zr-O-Si-。結(jié)果，提供具有其中存在經(jīng)由第2族或第3族元素的大量硅氧烷鍵的部分(S卩，其中第2族或第3族元素和硅的比例高的嵌段)和具有其中存在經(jīng)由鋯的大量硅氧烷鍵的部分(即，其中鋯和硅的比例高的嵌段)的復(fù)合化合物?？蛇x擇地，硅烷偶聯(lián)劑與鋯化合物的共存形成經(jīng)由鋯的硅氧烷鍵從而提供包含鋯和硅的復(fù)合化合物前體。隨后，將第2族或第3族元素化合物添加至反應(yīng)系統(tǒng)。形成經(jīng)由第2族或第3族元素的硅氧烷鍵的同時(shí)將第2族或第3族元素化合物中的第2族或第3族元素引入至前體。結(jié)果，能夠制備包括其中第2族或第3族元素和硅的比例高的嵌段和其中鋯和硅的比例高的嵌段的復(fù)合化合物。通過(guò)借助X-射線衍射(XRD)法的復(fù)合化合物的分析可以證實(shí)通過(guò)上述方法生產(chǎn)的復(fù)合化合物包含第2族或第3族元素和鋯。在復(fù)合化合物的XRD圖中，用作原料的第2族或第3族元素化合物和鋯化合物的X-射線衍射峰消失，并且可證實(shí)具有包含第2族或第3族元素、鋯和硅的無(wú)定形結(jié)構(gòu)的復(fù)合化合物的新X-射線衍射峰。本發(fā)明中，當(dāng)證實(shí)具有包含第2族或第3族元素、鋯和硅的無(wú)定形結(jié)構(gòu)的復(fù)合化合物的X-射線衍射峰時(shí)，判斷出已制備了具有-Si-O-M-O-Si-結(jié)構(gòu)(M表示第2族或第3族元素)和-Si-O-Zr-O-Si-結(jié)構(gòu)的復(fù)合化合物。當(dāng)制備記錄介質(zhì)時(shí)，墨接收層是否包括包含第2族或第3族元素、鋯和硅的復(fù)合化合物能借助于通過(guò)用透射電子顯微鏡(TEM)元素繪圖來(lái)分析記錄介質(zhì)而確定。復(fù)合化合物在墨接收層中的含量基于無(wú)機(jī)顏料的總質(zhì)量可為0. I質(zhì)量％以上至30質(zhì)量％以下，特別地，I質(zhì)量％以上至25質(zhì)量％以下,和進(jìn)一步的3質(zhì)量％以上至20質(zhì)量％以下?，F(xiàn)在將詳細(xì)描述可用于上述方法中的材料。包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物本發(fā)明中，"選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素"是指屬于元素周期表中第2族或第3族的一種或多種元素。特別地，第2族或第3族元素可為選自Mg、Ca、Sr、Y、La 和 Ce 的至少一種。第2族或第3族元素化合物的實(shí)例包括由第2族或第3族元素離子和有機(jī)酸離子或無(wú)機(jī)酸離子構(gòu)成的鹽、所述鹽的水合物以及第2族和第3族元素的氧化物。有機(jī)酸離子 的具體實(shí)例包括乙酸根離子和草酸根離子。無(wú)機(jī)酸離子的具體實(shí)例包括硫酸根離子、硝酸根離子、碳酸根離子、鹵素離子和氫氧根離子。第2族或第3族元素化合物的具體實(shí)例包括乙酸鎂四水合物、乙酸鈣一水合物、乙酸鍶半水合物、氯化鈣、甲酸鈣、硫酸鈣、硫酸鎂、氯化鎂六水合物、檸檬酸鎂九水合物、硝酸鍶、乙酸釔n-水合物、氯化釔六水合物、硝酸釔六水合物、硝酸鑭六水合物、氯化鑭七水合物、乙酸鑭I. 5-水合物、苯甲酸鑭、氯化鈰七水合物、硫酸鈰四水合物、辛酸鈰、氫氧化鈣、氫氧化鎂、氧化鎂、氧化釔、氧化鑭和氧化鈰。本發(fā)明的復(fù)合化合物可包含多種第2族或第3族元素。復(fù)合化合物中包含的元素周期表的第2族或第3族元素的原子數(shù)可為構(gòu)成無(wú)機(jī)顏料的金屬元素的原子數(shù)的0. 001倍以上至0. 03倍以下，特別地，金屬元素原子數(shù)的0. 001倍以上至0.02倍以下。當(dāng)原子數(shù)的比例不小于0.001時(shí)，可獲得優(yōu)良的耐臭氧性。當(dāng)原子數(shù)的比例不高于0. 03時(shí)，可有效地防止高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中洇墨的出現(xiàn)。本發(fā)明中，墨接收層中原子數(shù)的比例可通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)來(lái)計(jì)算。當(dāng)墨接收層包含多種無(wú)機(jī)顏料和第2族或第3族元素時(shí)，原子數(shù)的比例可使用這些元素的總數(shù)來(lái)計(jì)算。復(fù)合化合物中包含的元素周期表的第2族或第3族元素的原子數(shù)可為復(fù)合化合物中包含的硅原子數(shù)的0. I倍以上至5倍以下，特別地，硅原子數(shù)的0. 5倍以上至2倍以下。鋯化合物鋯化合物可以為在其結(jié)構(gòu)中含鋯的任何化合物，并可以為選自鋯的鹵化鹽、鋯的含氧酸鹽(oxoacid salts)和錯(cuò)的有機(jī)酸鹽的至少一種。鋯的鹵化鹽的具體實(shí)例包括ZrOCl2 8H20、Zr2O3Cl2, ZrCl4, ZrCl3' ZrCl2,ZrBr4> ZrBr3> ZrBr2、Zrl4、Zrl3、Zrl2、ZrF4> ZrF3 和 ZrF20 錯(cuò)的含氧酸鹽的具體實(shí)例包括Zr (NO3) 4 2H20、ZrO (NO3) 2 2H20、Zr(SO4)2, Zr (SO4) 2 4H20、ZrO (SO4)、Zr (H2PO4) 2、ZrP2O7,ZrSiO4, (NH4) ZrO (CO3) 2、ZrO(CO3)2 nH20 和 ZrO(OH)2 nH20。鋯的有機(jī)酸鹽的具體實(shí)例包括乙酸鋯、乳酸氧鋯、硬脂酸氧鋯、辛酸氧鋯、月桂酸氧鋯和扁桃酸氧鋯。在上述鋯化合物中，可特別使用在水中具有高溶解性并容易水解的那些，例如，鋯的含氧酸鹽。鋯的含氧酸鹽在其結(jié)構(gòu)中包括ZrO單元，并且與其他鋯化合物相比，此類結(jié)構(gòu)有助于在水中較高的溶解性并更容易水解。鋯化合物可單獨(dú)或以其組合使用。
復(fù)合化合物中包含的鋯原子數(shù)可以為構(gòu)成無(wú)機(jī)顏料的金屬原子數(shù)的0. 001倍以上至0. 05倍以下，特別地，金屬原子數(shù)的0. 001倍以上至0. 03倍以下。當(dāng)原子數(shù)的比例不小于0. 001時(shí)，可有效地防止高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中洇墨的出現(xiàn)。當(dāng)原子數(shù)比例不高于0.05時(shí)，可獲得適當(dāng)?shù)哪招?。墨接收層中原子?shù)比(C/A)可通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)來(lái)計(jì)算。復(fù)合化合物中包含的鋯原子數(shù)可以為硅原子數(shù)的0. I倍以上至5倍以下，特別地，
0.2倍以上至3倍以下，進(jìn)一步為硅原子數(shù)的0. 5倍以上至2倍以下。硅烷偶聯(lián)劑硅烷偶聯(lián)劑通常具有由下式(I)表示的結(jié)構(gòu)式(I)RpSiX4^p
(其中，R表示烴基；X表示可水解的基團(tuán)；p表示1-3的整數(shù)；和當(dāng)p為2或3時(shí)，R可以彼此相同或不同)。式(I)中R的實(shí)例包括烷基、烯基和芳基。R可具有取代基。取代基的實(shí)例包括烷基、稀基、芳基、塊基、芳燒基、氣基、_■氣基、環(huán)氧基、疏基、環(huán)氧丙氧基、甲基丙稀酸氧基、酸脲基(ureide group)、氯基、氰基、異氰酸酯基和乙烯基。R的碳原子數(shù)可以為2_10。當(dāng)碳原子數(shù)為2個(gè)以上時(shí)，可容易地提供充分的疏水性。當(dāng)碳原子數(shù)為10個(gè)以下時(shí)，可防止復(fù)合化合物在水中的分散性由于疏水性的增加而降低，并提高對(duì)無(wú)機(jī)顏料的粘合性。X的實(shí)例包括燒氧基、燒氧基燒氧基、齒素和酸氧基，更具體地，甲氧基、乙氧基和氣基。娃燒偶聯(lián)劑的具體實(shí)例包括_■燒氧基娃燒化合物如甲基二甲氧基娃燒、甲基二乙氧基娃燒、甲基二氣娃燒、乙稀基二氣娃燒、乙稀基二乙酸氧基娃燒、乙稀基二(P-甲氧基乙氧基)娃燒、乙稀基二乙氧基娃燒、乙稀基二甲氧基娃燒、Y _甲基丙稀酸氧基丙基二甲氧基硅烷、Y -甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、￠-(3, 4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基娃燒、Y _環(huán)氧丙氧丙基二甲氧基娃燒、Y _環(huán)氧丙氧丙基甲基二乙氧基娃燒、N-0-(氛乙基)_ Y _氨丙基二甲氧基娃燒、N-￠-(氨乙基-氨丙基甲基二甲氧基娃燒、Y -氨丙基二乙氧基娃燒、N-苯基-氛丙基二甲氧基娃燒、Y -疏丙基二甲氧基娃燒、Y -疏丙基甲基二甲氧基硅烷、Y -氯丙基三甲氧基硅烷、Y -氯丙基甲基二氯硅烷、Y -氯丙基甲基二甲氧基娃燒、Y _氣丙基甲基二乙氧基娃燒、Y _服基丙基二乙氧基娃燒、Y _苯胺基丙基二甲氧基硅烷和十八烷基二甲基[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]氯化銨；二酰氧基硅烷化合物；三烷氧基硅烷化合物；三酰氧基硅烷化合物；三苯氧基硅烷化合物；和其水解產(chǎn)物。這些硅烷偶聯(lián)劑可單獨(dú)或以其組合使用。硅烷偶聯(lián)劑的添加量根據(jù)無(wú)機(jī)顏料的各種物理性質(zhì)和硅烷偶聯(lián)劑的類型而變化，并且可以適當(dāng)調(diào)節(jié)。硅烷偶聯(lián)劑的添加量基于100質(zhì)量％無(wú)機(jī)顏料可為0. I質(zhì)量％以上至10質(zhì)量％以下,特別地,0. 5質(zhì)量％以上至5質(zhì)量％以下。0. I質(zhì)量％以上的量可有效地防止高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中洇墨的出現(xiàn)。10質(zhì)量％以下的量可賦予墨接收層以親水性并能夠由此提供適當(dāng)?shù)哪招?。無(wú)機(jī)顏料任何無(wú)機(jī)顏料可用于本發(fā)明中，其實(shí)例包括氧化鋁水合物、氧化鋁、二氧化硅、膠體二氧化硅、二氧化鈦、沸石、高嶺土、滑石、水滑石、氧化鋅、氫氧化鋅、硅酸鋁、硅酸鈣、硅酸鎂、氧化鋯和氫氧化鋯。特別地，氧化鋁水合物和二氧化硅形成良好的多孔結(jié)構(gòu)并具有高的墨吸收性，由此是優(yōu)良的無(wú)機(jī)顏料。這些無(wú)機(jī)顏料可單獨(dú)或以其組合使用。即，選自氧化鋁水合物和二氧化硅的至少一種可用作無(wú)機(jī)顏料。無(wú)機(jī)顏料可具有平均一次粒徑為Inm以上至I ii m以下，特別地，50nm以下。特別地，為了形成顯示良好墨吸收性的多孔結(jié)構(gòu)，可使用具有平均一次粒徑為20nm以下的二氧化硅細(xì)顆?；蜓趸X水合物細(xì)顆粒。無(wú)機(jī)顏料的平均一次粒徑是當(dāng)用電子顯微鏡觀察無(wú)機(jī)顏料時(shí)，具有等于一次顆粒的投影圖像的面積的面積的圓的數(shù)均直徑。在觀察時(shí)，測(cè)量至少100個(gè)顆粒。無(wú)機(jī)顏料在墨接收層中的含量以固成分計(jì)可為70質(zhì)量％以上至95質(zhì)量％以下。70質(zhì)量％以上的含量可提供適當(dāng)?shù)哪招圆⒖煞乐褂脟娔蛴C(jī)打印時(shí)的成珠現(xiàn)象(beading phenomenon)。95質(zhì)量％以下的含量可賦予墨接收層以適當(dāng)?shù)膹?qiáng)度并可防止裂紋的出現(xiàn)。氧化鋁水合物作為無(wú)機(jī)顏料可由例如以下式(2)表示 Al203_n(0H)2n mH20(2)。式⑵中，n為0、1、2或3 ;m為0以上至10以下的數(shù)，特別地，0以上至5以下；以
及m和n不同時(shí)為O。在許多情況下，mH20表不可去除的水相，其不參與形成晶格，和m可由此為整數(shù)或除了整數(shù)以外的數(shù)值。當(dāng)加熱該類材料(氧化鋁水合物)時(shí)，m可在一些情況下變成O。氧化鋁水合物可通過(guò)已知方法來(lái)生產(chǎn)。該方法的實(shí)例為水解烷醇鋁或鋁酸鈉(參見(jiàn)美國(guó)專利4242271和4202870)。該方法的另一實(shí)例為用例如硫酸鋁或氯化鋁的水溶液中和鋁酸鈉的水溶液。本發(fā)明中的氧化鋁水合物在X-射線衍射分析中可顯示氧化鋁水合物結(jié)構(gòu)或無(wú)定形結(jié)構(gòu)。氧化招水合物的孔容積可為0. 3mL/g以上至I. OmL/g以下,特別地，0. 35mL/g以上至0. 9mL/g以下。另外，氧化鋁水合物當(dāng)通過(guò)BET法測(cè)量時(shí)可具有BET比表面積為50m2/g以上至350m2/g以下，特別地，IOOmVg以上至250m2/g以下。BET法用于通過(guò)氣相吸附測(cè)量粉末的表面積并用于從吸附等溫線中測(cè)定Ig樣品的總表面積即比表面積。通常，將氮?dú)庥米饕降臍怏w，在大多數(shù)情況下，氣體的吸附量由吸附的氣體的壓力和體積的變化來(lái)測(cè)量。稱為BET等式的Brunauer-Emmett-Teller等式是表示多分子吸附等溫線最著名的等式并廣泛用于比表面積測(cè)定。比表面積通過(guò)由BET等式測(cè)定的氣體吸附量乘以由一個(gè)吸附的分子在表面上占據(jù)的面積來(lái)確定。在BET法中，氣體的吸附量和相對(duì)壓力的關(guān)系通過(guò)氮吸附-脫附法在幾個(gè)點(diǎn)處測(cè)量以通過(guò)最小二乘法計(jì)算曲線的斜率和截距，并由此得到比表面積。為了增加測(cè)量的精確度，相對(duì)壓力和氣體吸附量之間的關(guān)系通過(guò)在至少五個(gè)不同的點(diǎn)，特別地10個(gè)點(diǎn)以上測(cè)量來(lái)確定。通常，可用作本發(fā)明無(wú)機(jī)顏料的二氧化硅的生產(chǎn)方法粗分類為濕法和干法(氣相法)。在濕法中，通過(guò)硅酸鹽的酸解而生成活性二氧化硅，并且活性二氧化硅適當(dāng)?shù)木酆蠌亩ㄟ^(guò)凝聚沉淀獲得水合二氧化硅。在干法中，通過(guò)鹵化硅的高溫氣相水解(火焰水解過(guò)程)或通過(guò)其中在電爐中通過(guò)電弧加熱硅砂和焦炭、還原和蒸發(fā)以及將所得產(chǎn)物在空氣中氧化的方法(電弧法)而獲得無(wú)水二氧化硅。通過(guò)氣相法獲得的二氧化硅即氣相法二氧化硅具有特別大的比表面積，因此具有高的墨吸收性和墨保持的高效性。另外，氣相法二氧化硅具有低折射率并因此能夠賦予墨接收層以透明性從而得到高色彩濃度和高色彩顯影性(color developability)。通過(guò)BET法測(cè)量的氣相法二氧化娃的比表面積可為90m2/g以上至400m2/g以下。本發(fā)明中，無(wú)機(jī)顏料可用上述復(fù)合化合物進(jìn)行表面處理。在表面處理的無(wú)機(jī)顏料中，無(wú)機(jī)顏料表面上的酸點(diǎn)遮蓋有復(fù)合化合物從而提供高耐臭氧性。表面處理的實(shí)例包括其中復(fù)合化合物和無(wú)機(jī)顏料在溶劑如水中的分散液在烤箱中加熱干燥或用噴霧干燥器噴霧干燥的方法。用噴霧干燥器噴霧干燥的方法可將復(fù)合化合物均一地施涂至無(wú)機(jī)顏料表面。干燥的加熱溫度可為100°c-400°c。因?yàn)楦哂?00°C的溫度可使氧化鋁水合物相轉(zhuǎn)變至a-氧化鋁相，所以加熱溫度通常為400°C以下。顏料表面是否用本發(fā)明的復(fù)合化合物處理能通過(guò)X-射線光電子能譜(XPS)來(lái)證實(shí)。具體地，例如，在使用氧化鋁水合物作為無(wú)機(jī)顏料的情況下，研究通過(guò)XPS測(cè)量的鋁原子的2p軌道光譜或2s軌道光譜中峰的位置。用復(fù)合化合物表面處理的無(wú)機(jī)顏料的光譜中的峰位置與不進(jìn)行表面處理的氧化鋁水合物的光譜中的峰位置相比化學(xué)位移至較低能量 偵U。因此，當(dāng)在無(wú)機(jī)顏料的表面處理后證實(shí)化學(xué)位移至峰位置的較低能量側(cè)時(shí)，無(wú)機(jī)顏料可判斷為用此類復(fù)合化合物表面處理。粘結(jié)劑用于本發(fā)明墨接收層中的粘結(jié)劑可為水溶性樹(shù)脂。粘結(jié)劑的實(shí)例包括聚乙烯醇及其改性產(chǎn)物；淀粉及其改性產(chǎn)物；明膠及其改性產(chǎn)物；天然高分子樹(shù)脂如酪蛋白、支鏈淀粉(pullulan)、阿拉伯樹(shù)膠、刺梧桐樹(shù)膠和白蛋白，及其衍生物；膠乳如陽(yáng)離子改性的乳膠、SBR乳膠、NBR乳膠、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物和乙烯-乙酸乙烯酯共聚物；乙烯基聚合物如聚丙烯酰胺和聚乙烯基吡咯烷酮；聚乙烯亞胺；聚丙二醇；聚乙二醇；和馬來(lái)酸酐及其共聚物。這些粘結(jié)劑可單獨(dú)或以其組合物使用。在上述粘結(jié)劑中，可特別使用聚乙烯醇及其改性產(chǎn)物。聚乙烯醇的改性產(chǎn)物的實(shí)例包括聚乙烯醇衍生物如陽(yáng)離子改性的聚乙烯醇、陰離子改性的聚乙烯醇、硅烷醇改性的聚乙烯醇和聚乙烯醇縮醛。本發(fā)明中，在墨接收層中無(wú)機(jī)顏料的含量以質(zhì)量比計(jì)可為粘結(jié)劑含量的5倍以上至30倍以下。在該質(zhì)量比范圍內(nèi)，可特別防止霧度，可獲得高光學(xué)濃度和光澤度，并且墨接收層可具有適當(dāng)強(qiáng)度。其它材料為了均一地將無(wú)機(jī)顏料分散在溶劑如水中，抗絮凝劑可添加至墨接收層形成用涂布液，并且包含此類抗絮凝劑的墨接收層可使用該涂布液來(lái)形成。例如，在使用氧化鋁水合物作為無(wú)機(jī)顏料的情況下，其中均一分散氧化鋁水合物的分散體可使用酸作為抗絮凝劑來(lái)獲得。用作抗絮凝劑的酸是公知的，其實(shí)例包括有機(jī)酸如乙酸、甲酸、草酸、烷基磺酸(例如，甲磺酸、乙磺酸、丁磺酸和異丙烷磺酸)；和無(wú)機(jī)酸如硝酸、鹽酸和硫酸。墨接收層形成用涂布液可任選地包含陽(yáng)離子聚合物。特別地，在使用二氧化硅作為無(wú)機(jī)顏料的情況下，涂布液可包含陽(yáng)離子聚合物用于增加耐水性。陽(yáng)離子聚合物的實(shí)例包括季銨鹽、多胺、烷基胺、鹵化季銨鹽、陽(yáng)離子化聚氨酯樹(shù)脂、胺-表氯醇加聚產(chǎn)物、二鹵化物-二胺加聚產(chǎn)物、聚脒、乙烯基(共)聚合物、聚二烯丙基二甲基氯化銨、聚甲基丙烯酰氧基乙基-P -輕乙基二甲基氯化銨、聚乙烯亞胺、聚丙烯胺(polyacrylamine)及其衍生物、聚酰胺-多胺樹(shù)脂、陽(yáng)離子化淀粉、雙氰胺甲醛縮合物、二甲基-2-羥丙基銨鹽聚合物、聚脒、聚乙烯基胺、二氰基陽(yáng)離子樹(shù)脂、多胺陽(yáng)離子樹(shù)脂、表氯醇-二甲胺加成聚合物、二甲基二烯丙基氯化銨-SO2共聚物、二烯丙基胺鹽-SO2共聚物、在酯部分包含具有季銨鹽取代的烷基的(甲基)丙烯酸酯的聚合物、具有季銨鹽取代的烷基的苯乙烯基類聚合物、聚酰胺樹(shù)脂、聚酰胺-表氯醇樹(shù)脂和聚酰胺多胺-表氯醇樹(shù)脂。本發(fā)明記錄介質(zhì)的墨接收層可包含一種或多種硼酸化合物作為交聯(lián)劑。硼酸化合物的實(shí)例包括原硼酸(H3BO3)、偏硼酸、連二硼酸和硼酸鹽。硼酸鹽可為上述硼酸的水溶性鹽。硼酸鹽的具體實(shí)例包括堿金屬鹽如硼酸鈉鹽(例如，Na2B4O7 IOH2O和NaBO2 4H20)和硼酸鉀鹽(例如，K2B4O7 5H20和KBO2);和硼酸銨鹽(例如，NH4B4O9 3H20和NH4BO2)。從長(zhǎng)期穩(wěn)定性和防止裂紋出現(xiàn)的觀點(diǎn)，可使用原硼酸。硼酸化合物的含量可以根據(jù)例如生產(chǎn)條件適當(dāng)調(diào)節(jié)。例如，從防止裂紋的觀點(diǎn)，硼酸化合物的含量基于100質(zhì)量％粘結(jié)劑可為I. 0 質(zhì)量％以上至15. 0質(zhì)量％以下。另外，15. 0質(zhì)量％以下的含量可提供顯示令人滿意的長(zhǎng)期穩(wěn)定性的涂布液。通常，當(dāng)生產(chǎn)記錄介質(zhì)時(shí)，涂布液長(zhǎng)期使用。甚至在該情況下，硼酸化合物的含量為15. 0質(zhì)量％以下也不是太高，并能夠避免涂布液的粘度增加或凝膠化。因此，涂布液交換和涂布機(jī)頭的清潔的次數(shù)可減少，由此進(jìn)一步改進(jìn)生產(chǎn)性。本發(fā)明中，墨接收層可進(jìn)一步包含其他添加劑。此類添加劑的實(shí)例包括增稠劑、pH調(diào)節(jié)劑、潤(rùn)滑劑、流動(dòng)性改進(jìn)劑、表面活性劑、消泡劑、防水添加劑、泡沫抑制劑、脫模劑、起泡劑、滲透劑、著色染料、熒光增白劑、UV吸收劑、抗氧化劑、防腐劑和抗真菌劑。某材本發(fā)明記錄介質(zhì)的基材的實(shí)例包括適當(dāng)涂膠紙、無(wú)膠紙、用例如聚乙烯涂布的涂塑相紙(resin coated paper)、片狀材料如熱塑性膜和織物。熱塑性膜可為例如聚酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、醋酸纖維素、聚乙烯或聚碳酸酯的透明膜。也可使用通過(guò)用無(wú)機(jī)顆?；蛭⒓?xì)泡沫填充而不透明化的片材。本發(fā)明記錄介質(zhì)的基材可為由纖維材料生產(chǎn)的紙。纖維材料可為例如纖維素紙漿。纖維素紙漿的具體實(shí)例包括由闊葉木或針葉木制成的亞硫酸鹽紙漿(SP)、化學(xué)紙漿如堿法紙漿(AP)和牛皮紙漿(KP)、半化學(xué)紙漿、半機(jī)械紙漿、機(jī)械紙漿和作為脫墨二次纖維的再生紙漿。這些可單獨(dú)或以其組合使用。紙漿可為未漂白紙漿或漂白紙漿，并可為打漿紙漿(beaten pulp)或未經(jīng)打漿的紙漿。打漿的纖維素紙漿的實(shí)例包括無(wú)木漿如玻璃、樹(shù)葉、韌皮、種子纖維等的纖維，和麥桿、竹子、大麻、甘鹿洛、茅草、洋麻、桑葉(kozo)、三極皮(mitsumata)、棉絨等的紙衆(zhòng)。 用于本發(fā)明中的基材可為包含選自由例如以下組成的組中的至少一種的上述纖維素紙漿機(jī)械紙漿如大體積纖維素纖維(bulky cellulose fiber)、絲光纖維素、脫絨纖維素(fluffed cellulose)和熱機(jī)械紙衆(zhòng)。此類紙衆(zhòng)的添加可進(jìn)一步提高所得記錄介質(zhì)的墨吸收速率和墨吸收容量。另外，輕度打漿的纖維素紙漿可與上述纖維素紙漿一起使用。本發(fā)明中，輕度打漿的纖維素紙漿為由木材的碎屑制成的化學(xué)紙漿并且不充分地打漿。在輕度打漿的纖維素紙漿中，通過(guò)打漿處理難以形成原纖維，此類纖維素紙漿由此具有優(yōu)良的吸收性和膨松性(bulkiness)?？墒褂玫妮p度打漿的纖維素紙漿的實(shí)例包括日本專利特開(kāi)10-77595中記載的那些。輕度打漿的纖維素紙漿可具有加拿大標(biāo)準(zhǔn)游離度(freeness)為550mL以上。在本發(fā)明記錄介質(zhì)的基材中，上述纖維素紙漿可包括例如以下紙漿細(xì)纖化纖維素、結(jié)晶化纖維素、由闊葉木或針葉木制成的硫酸鹽或亞硫酸鹽紙漿、堿紙漿、半纖維素酶處理的紙漿或酶處理的化學(xué)紙漿。此類紙漿的添加提供提高所得記錄介質(zhì)表面的平滑性并改進(jìn)質(zhì)地(texture)的效果。本發(fā)明中，填料可任選地添加至構(gòu)成基材的纖維材料。填料的實(shí)例包括白色顏料如沉淀碳酸鈣和重質(zhì)碳酸鈣，和二氧化硅類材料如二氧化硅、硅酸鹽和硅酸鹽化合物。填料可具有任何形狀如球形、塊狀或針狀形式。為了特別地減少與纖維的相互作用，可使用多孔填料。填料可具有比表面積為50m2/g以上。填料的含量以灰分含量計(jì)基于基材的總質(zhì)量可為5質(zhì)量％以上至20質(zhì)量％以下。在5質(zhì)量％以上的含量時(shí)，可提供防止纖維變形的特別高的效果。在20質(zhì)量％以下的含量時(shí)，可防止紙粉末產(chǎn)生量的增加?；曳趾靠筛鶕?jù)JIS P 8128來(lái)測(cè)量。此外，本發(fā)明中，為了特別地促進(jìn)記錄介質(zhì)的墨吸收速率，可不添加填料。本發(fā)明的記錄介質(zhì)中包括的基材可通過(guò)混合基材材料和任選的上述多孔填料并進(jìn)行造紙來(lái)生產(chǎn)。用于本發(fā)明的基材的基重可在不使得記錄介質(zhì)由于太低的基重而極薄的 范圍內(nèi)適當(dāng)選擇。例如，基重可為10g/m2以上，特別地，20g/m2以上。10g/m2以上的基重可賦予記錄介質(zhì)以足夠的質(zhì)地、彎曲強(qiáng)度和拉伸強(qiáng)度?；牡幕乜蔀?00g/m2以下。200g/m2以下的基重可賦予記錄介質(zhì)以足夠的撓曲性并防止在通過(guò)打印機(jī)進(jìn)給記錄介質(zhì)時(shí)卡紙。記錄介質(zhì)的生產(chǎn)方法本發(fā)明的記錄介質(zhì)可通過(guò)任何方法來(lái)生產(chǎn)，例如可通過(guò)以下兩種方法的任一種來(lái)生產(chǎn)。生產(chǎn)記錄介質(zhì)的一種方法包括用包含復(fù)合化合物、無(wú)機(jī)顏料和粘結(jié)劑的墨接收層用涂布液涂布基材的步驟。生產(chǎn)記錄介質(zhì)的另一種方法包括用包含無(wú)機(jī)顏料和粘結(jié)劑的墨接收層用涂布液涂布基材的步驟，和在涂布步驟之后，添加復(fù)合化合物至墨接收層的步驟?，F(xiàn)在將詳細(xì)描述記錄介質(zhì)的生產(chǎn)方法?；牡呐．a(chǎn)方法本發(fā)明記錄介質(zhì)中的基材可通過(guò)通常用于生產(chǎn)紙張的方法來(lái)生產(chǎn)。造紙?jiān)O(shè)備的實(shí)例包括長(zhǎng)網(wǎng)造紙機(jī)、圓網(wǎng)造紙機(jī)、鼓式造紙機(jī)和雙網(wǎng)造紙機(jī)(twin wire papermakingmachine)。 在本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，多孔材料如沉淀碳酸鈣、重質(zhì)碳酸鈣、氧化鋁、二氧化硅或硅酸鹽，可通過(guò)通常在紙張生產(chǎn)時(shí)進(jìn)行的施膠壓榨過(guò)程涂布在基材上。在該涂布中，可采用普通的涂布過(guò)程。此類過(guò)程的實(shí)例包括使用諸如門(mén)棍涂布機(jī)(gate roll coater)、施膠機(jī)、棒涂機(jī)、刮板涂布機(jī)、氣刀涂布機(jī)、輥涂機(jī)、紅染涂布機(jī)、簾式涂布機(jī)、凹版涂布機(jī)或噴霧設(shè)備的裝置的涂布技術(shù)。所得基材可進(jìn)行壓延處理、熱壓延處理或超級(jí)壓延處理以使其表面平滑。墨接收層的形成方法在本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，墨接收層可例如通過(guò)以下方法在基材上生產(chǎn)。涂布液通過(guò)混合復(fù)合化合物、無(wú)機(jī)顏料、粘結(jié)劑和任選的其他添加劑來(lái)制備。將該涂布液用涂布裝置施涂至基材上并干燥。復(fù)合化合物和無(wú)機(jī)顏料可單獨(dú)添加至涂布液?？蛇x擇地，如上所述，無(wú)機(jī)顏料可用復(fù)合化合物表面處理，然后添加至涂布液?？蛇x擇地，代替上述方法，墨接收層可通過(guò)以下來(lái)形成將通過(guò)混合無(wú)機(jī)顏料、粘結(jié)劑和任選的其他添加劑制備的涂布液用涂布裝置施涂至基材上，任選地干燥涂布液，然后將至少包含復(fù)合化合物的涂布液施涂至其上，并干燥涂布液。涂布可通過(guò)例如使用諸如刮板涂布機(jī)、氣刀涂布機(jī)、輥涂機(jī)、紅染涂布機(jī)、簾式涂布機(jī)、棒涂機(jī)、凹版涂布機(jī)或噴霧設(shè)備的裝置來(lái)進(jìn)行。涂布液的施涂量以干燥固成分計(jì)可為5g/m2以上至45g/m2以下。在5g/m2以上的施涂量時(shí)，可提供良好的墨吸收性。在45g/m2以下的施涂量時(shí)，可特別防止起皺(cockling)的出現(xiàn)。在墨接收層形成之后，墨接收層的表面可使用例如壓延輥來(lái)平滑。實(shí)施例現(xiàn)在將通過(guò)實(shí)施例更具體地描述本發(fā)明，但本發(fā)明不局限于以下實(shí)施例。實(shí)施例1-7和比較例1-5
表I顯示實(shí)施例1-7和比較例1-5中制備的噴墨記錄介質(zhì)的配方。表I中，第2族或第3族元素化合物、鋯化合物和硅烷偶聯(lián)劑是用于生產(chǎn)復(fù)合化合物的材料。表I中示出的添加至顏料分散體的金屬化合物為在生產(chǎn)復(fù)合化合物之后添加的金屬化合物，并且此類金屬化合物中包含的元素不引入復(fù)合化合物內(nèi)。實(shí)施例I將作為第2族或第3族元素化合物的4. 066g氯化鎂六水合物添加至14g去離子水，隨后，將作為錯(cuò)化合物的4. 506g乙酸氧錯(cuò)添加至其,接著用均質(zhì)混合器(T. K. Robomix,由Primix Corp.制造)攪拌,從而制備包含氯化鎂六水合物和乙酸氧鋯的水溶液。隨后，將作為硅烷偶聯(lián)劑的5. 29g N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷(商品名KBE-603，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)逐漸添加至所得水溶液中。通過(guò)攪拌所得混合物5小時(shí)而將硅烷偶聯(lián)劑水解和縮合，從而制備包含鎂、鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。通過(guò)將I. 3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化鋁水合物(商品名DisperalHP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中來(lái)制備分散液。向該分散液中，添加7. 241g包含上述制備的復(fù)合化合物的懸浮液同時(shí)用均質(zhì)混合器攪拌。將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至所得分散液以制備pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體I。另外，固成分為8. 0質(zhì)量％的PVA水溶通過(guò)將作為粘結(jié)劑的聚乙烯醇PVA 235 (商品名，由Kuraray Co.，Ltd.制造，聚合度3500，皂化度88%)溶解在去離子水中來(lái)制備。將所得PVA溶液與上述制備的顏料分散體I混合以致PVA的含量以固成分計(jì)基于氧化鋁水合物的固成分(100質(zhì)量％)為10質(zhì)量％。另外，將3. 0質(zhì)量％的硼酸水溶液添加至所得溶液以致硼酸含量以固成分計(jì)基于氧化鋁水合物的固成分(100質(zhì)量％)為I. 5質(zhì)量％，從而得到涂布液。將所得涂布液施涂至基材即厚度為lOOym的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名Melinex 705,由 Teijin DuPont Films Japan Limited制造)的一個(gè)表面上，接著在110°C下干燥從而得到具有包含復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。墨接收層的施涂量在干燥狀態(tài)下為35g/m2。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，墨接收層中鎂(Mg)原子與鋁(Al)原子的數(shù)量比(Mg/Al)為0.003。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中鎂(Mg)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Mg/Si)和鋯(Zr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Zr/Si)均為I。將當(dāng)生產(chǎn)噴墨記錄介質(zhì)時(shí)制備的一部分包含復(fù)合化合物的懸浮液在110°C下干燥。將所得固體在研缽中粉碎從而獲得包含復(fù)合化合物的粉末。所得粉末進(jìn)行X-射線衍射(XRD)測(cè)量。所得XRD圖示于圖2中。XRD測(cè)量使用Cu-Ka射線利用X-射線衍射設(shè)備(D 8ADVANCE，由Bruker AXS K. K.制造)來(lái)進(jìn)行。衍射圖通過(guò)連續(xù)掃描即收集在
29=10° -80°、掃描速度為2° /min的數(shù)據(jù)和在各2 0 =0. 02°時(shí)記錄來(lái)獲得。如從圖2中顯然的，沒(méi)有檢測(cè)到用作原料的鎂鹽和鋯鹽如氯化鎂六水合物和乙酸氧鋯的衍射峰。相反地，在27°、40°和57°處觀察到寬峰。這表示獲得具有在其中包含鎂、鋯和硅的無(wú)定形結(jié)構(gòu)的復(fù)合化合物，即具有-Si-O-Mg-O-Si-結(jié)構(gòu)和-Si-O-Zr-O-Si-結(jié)構(gòu)的復(fù)合化合物。實(shí)施例2包含鎂、鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液如實(shí)施例I中生產(chǎn)。另外，通過(guò)將作為無(wú)機(jī)顏料的180g氧化招水合物(商品名Disperal HP14,由Sasol制造)添加至1200g去離子水而制備的分散液用均質(zhì)混合器攪拌。連續(xù)攪拌分散液，并將13.034g包含復(fù)合化合物的懸浮液添加至其，接著攪拌另外I小時(shí)。所得分散液用噴霧干燥器干燥從而獲得用包含鎂、鋯和硅的復(fù)合化合物表面處理的氧化鋁水合物。干燥在170°C的溫度(氣相溫度)下進(jìn)行。隨后，將I. 3g甲磺酸和IOOg表面處理的氧化鋁水合物添加至350g去離子水，接·著用均質(zhì)混合器攪拌。將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至所得分散液以制備pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體2。除了使用上述制備的顏料分散體2代替顏料分散體I以外，如實(shí)施例I中制備具有包括氧化鋁水合物、PVA以及包含鎂、鋯和硅的復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，墨接收層中鎂(Mg)原子與鋁(Al)原子的數(shù)量比(Mg/Al)為0.003。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中鎂(Mg)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Mg/Si)和鋯(Zr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Zr/Si)均為I。將顏料分散體2進(jìn)行XPS測(cè)量從而證實(shí)構(gòu)成氧化鋁水合物的鋁原子的2p軌道光譜和2s軌道光譜中的峰位置與表面處理前鋁原子的2p軌道光譜和2s軌道光譜中峰位置相比，均位移至較低的能量側(cè)。該結(jié)果顯示顏料分散體2中包含的顏料已用復(fù)合化合物表面處理。實(shí)施例3將作為第2族或第3族元素化合物的4. 294g乙酸鍶半水合物添加至21g去離子水，將作為錯(cuò)化合物的4. 506g乙酸氧錯(cuò)添加至其。該混合物用均質(zhì)混合器(T. K. Robomix,由Primix Corp.制造)攪拌從而制備包含乙酸鍶半水合物和乙酸氧鋯的水溶液。隨后，將作為硅烷偶聯(lián)劑的4.428g 3-氨丙基三乙氧基硅烷(商品名KBE-903，由Shin-EtsuChemical Co. , Ltd.制造)逐漸添加至所得水溶液中。通過(guò)攪拌所得混合物5小時(shí)而將硅烷偶聯(lián)劑水解和縮合，從而制備包含鍶、鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。另外，通過(guò)將I. 3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化鋁水合物(商品名Disperal HP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中制備的分散液用均質(zhì)混合器攪拌。連續(xù)攪拌分散液，并將14. 267g包含復(fù)合化合物的懸浮液添加至該分散液同時(shí)攪拌。將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至所得分散液以制備pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體3。除了使用上述制備的顏料分散體3代替顏料分散體I以外，如實(shí)施例I中制備具有包括氧化鋁水合物、PVA以及包含鍶、鋯和硅的復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，墨接收層中鍶(Sr)原子與鋁(Al)原子的數(shù)量比(Sr/Al)為0.005。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中鍶(Sr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Sr/Si)和鋯(Zr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Zr/Si)均為I。實(shí)施例4將作為第2族或第3族元素化合物的5. 146g乙酸鑭I. 5_水合物添加至30g去離子水，將作為鋯化合物的4. 834g氧氯化鋯八水合物添加至其。該混合物用均質(zhì)混合器(T. K. Robomix,由Primix Corp.制造)攪拌從而制備包含乙酸鑭I. 5-水合物和氧氯化錯(cuò)的水溶液。隨后，將作為硅烷偶聯(lián)劑的6. 642g 3-氨丙基三乙氧基硅烷(商品名KBE-903，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)逐漸添加至所得水溶液中。通過(guò)攪拌所得混合物5小時(shí)而將硅烷偶聯(lián)劑水解和縮合，從而制備包含鑭、鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。另外，通過(guò)將I. 3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化鋁水合物(商品名Disperal HP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中制備的分散液用均質(zhì)混合器攪拌。連續(xù)攪拌分散液，并將10. 346g包含復(fù)合化合物的懸浮液添加至該分散液同時(shí)攪拌。將去
除了使用上述制備的顏料分散體4代替顏料分散體I以外，如實(shí)施例I中制備具 有包括氧化鋁水合物、PVA和包含鑭、鋯和硅的復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，墨接收層中鑭(La)原子與鋁(Al)原子的數(shù)量比(La/Al)為0. 002。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中鑭(La)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(La/Si)和鋯(Zr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Zr/Si)均為0.5。實(shí)施例5作為包含第2族或第3族元素化合物的溶膠，使用氧化釔溶膠；作為鋯化合物，使用氧氯化鋯八水合物。氧化釔溶膠包含10質(zhì)量％分散在去離子水中的氧化釔，并且當(dāng)通過(guò)Z-電位&粒徑分析儀(ELSZ-2,由Otsuka Electronics Co. , Ltd.制造)測(cè)量時(shí)，溶膠中包含的氧化釔具有平均粒徑為lOOnm。向45. 162g氧化釔溶膠中，添加6. 445g氧氯化鋯八水合物。向所得混合物中，逐漸添加作為硅烷偶聯(lián)劑的3. 928g 3-巰丙基三甲氧基硅烷(商品名:KBM_803,由 Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd.制造)同時(shí)用均質(zhì)混合器(T. K. Robomix,由Primix Corp.制造)混合。所得混合物進(jìn)一步混合5小時(shí)從而得到包括包含釔、鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。另外，將通過(guò)將I. 3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化鋁水合物(商品名Disperal HP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中制備的分散液用均質(zhì)混合器攪拌。連續(xù)攪拌分散液，并將46. 295g包含復(fù)合化合物的懸浮液添加至該分散液同時(shí)攪拌。將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至所得分散液以制備pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體5。除了使用上述制備的顏料分散體5代替顏料分散體I以外，如實(shí)施例I中制備具有包括氧化鋁水合物、PVA和包含釔、鋯和硅的復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，墨接收層中釔(Y)原子與鋁(Al)原子的數(shù)量比(Y/A1)為0.01。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中釔(Y)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Y/Si)和鋯(Zr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Zr/Si)均為I。實(shí)施例6將氧化鈰溶膠用作包含第2族或第3族元素化合物的溶膠，并且將氧氯化鋯八水合物用作鋯化合物。氧化鈰溶膠包含10質(zhì)量％分散在去離子水中的氧化鈰，并且當(dāng)通過(guò)Z -電位&粒徑分析儀(ELSZ-2,由Otsuka Electronics Co. , Ltd.制造)測(cè)量時(shí)，溶膠中包含的氧化鈰具有平均粒徑為8nm。向68. 844g氧化鈰溶膠中，添加12. 89g氧氯化鋯八水合物。向所得混合物中，逐漸添加作為硅烷偶聯(lián)劑的9. 452g 3-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基娃燒(商品名:KBM_403,由Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd.制造)同時(shí)用均質(zhì)混合器(T. K. Robomix,由Primix Corp.制造)混合。所得混合物進(jìn)一步混合5小時(shí)從而得到包括包含鈰、鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。另外，將通過(guò)將I. 3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化鋁水合物(商品名Disperal HP14,由Sasol制造)添加至320g去離子水中制備的分散液用均質(zhì)混合器攪拌。 連續(xù)攪拌分散液，并將76. 014g包含復(fù)合化合物的懸浮液添加至該分散液同時(shí)攪拌。將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至所得分散液以制備pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體6。除了使用上述制備的顏料分散體6代替顏料分散體I以外，如實(shí)施例I中制備具有包括氧化鋁水合物、PVA和包含鈰、鋯和硅的復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，墨接收層中鈰(Ce)原子與鋁(Al)原子的數(shù)量比(Ce/Al)為0.02。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中鈰(Ce)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Ce/Si)和鋯(Zr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Zr/Si)均為I。實(shí)施例7將作為第2族或第3族元素化合物的2. 362g硝酸鈣四水合物添加至20g去離子水，將作為鋯化合物的2. 253g乙酸氧鋯添加至其。該混合物用均質(zhì)混合器(T. K. Robomix,由Primix Corp.制造)攪拌從而制備包含硝酸鈣四水合物和乙酸氧鋯的水溶液。隨后，將作為硅烷偶聯(lián)劑的2.645g N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷(商品名KBE_603，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)逐漸添加至所得水溶液中。通過(guò)攪拌所得混合物5小時(shí)而將硅烷偶聯(lián)劑水解和縮合，從而制備包含鈣、鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。另外，將二氧化硅細(xì)顆粒分散體I通過(guò)將以下材料與250g去離子水使用行星式球磨機(jī)(商品名P-6,由Fritsch GmbH制造)和5mm直徑的錯(cuò)珠在200rpm下混合5min來(lái)制備無(wú)機(jī)顏料30g氣相法二氧化娃(商品名Aerosil 380,由Nippon AerosilCo. , Ltd.制造);和陽(yáng)離子聚合物1. 2g二甲基二烯丙基氯化銨均聚物(商品名Shallol DC902P,由Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co. , Ltd.制造)。向所得二氧化硅細(xì)顆粒分散體I中，添加4. 083g包含復(fù)合化合物的懸浮液。將去離子水進(jìn)一步添加至所得混合物以具有固成分為10質(zhì)量％，接著用行星式球磨機(jī)(商品名P-6,由Fritsch GmbH制造)和5mm直徑的錯(cuò)珠在200rpm下混合5min從而得到顏料分散體7。另外，固成分為8.0質(zhì)量％的PVA水溶液通過(guò)將聚乙烯醇PVA 235(商品名，由Kuraray Co. , Ltd.制造，聚合度3500，皂化度88%)溶解在去離子水中來(lái)制備。所得PVA溶液與顏料分散體7混合以致PVA的含量以固成分計(jì)基于氣相法二氧化硅的固成分為20質(zhì)量％。另外，將3.0質(zhì)量％的硼酸水溶液與所得溶液混合以致硼酸含量以固成分計(jì)基于氣相法二氧化硅的固成分為4. 0質(zhì)量％從而得到涂布液。將所得涂布液施涂至基材即厚度為100 u m 的 PET 膜(商品名Melinex 705,由 Teijin DuPont Films Japan Limited 制造)的一個(gè)表面上，接著在110°C下干燥從而得到具有包含二氧化硅，包含鈣、鋯和硅的復(fù)合化合物，和PVA的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。墨接收層的施涂量在干燥狀態(tài)下為30g/m2。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，墨接收層中鈣(Ca)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Ca/Si)為0.003。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中鈣(Ca)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Ca/Si)和鋯(Zr)原子與硅(Si)原子 的數(shù)量比(Zr/Si)均為I。比較例I通過(guò)將I. 3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化招水合物(商品名DisperalHP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中并用均質(zhì)混合器混合它們來(lái)制備分散體。去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至分散體以制備pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體8。除了使用上述制備的顏料分散體8代替顏料分散體I以外，通過(guò)如與實(shí)施例I中相同的過(guò)程來(lái)制備具有不包括包含第2族或第3族元素、鋯和硅的復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。比較例2通過(guò)將I. 3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化招水合物(商品名DisperalHP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中并用均質(zhì)混合器混合它們來(lái)制備分散液。將作為硅烷偶聯(lián)劑的1.375g N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷(商品名KBE-603，由Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd.制造)逐漸添加至分散液同時(shí)用均質(zhì)混合器攪拌。通過(guò)攪拌所得溶液5小時(shí)而將硅烷偶聯(lián)劑水解和縮合。隨后，將I. 057g氯化鎂六水合物和I. 171g乙酸氧鋯進(jìn)一步添加至溶液，接著攪拌30min。另外，將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至其以得到pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體9。顏料分散體9包含無(wú)機(jī)顏料、硅烷偶聯(lián)劑的水解產(chǎn)物或縮合產(chǎn)物、鋯化合物和鎂化合物，但不包括包含第2族或第3族元素、鋯和硅的復(fù)合化合物。通過(guò)使用上述制備的顏料分散體9代替顏料分散體I如與實(shí)施例I中相同的過(guò)程嘗試噴墨記錄介質(zhì)的生產(chǎn)。然而，所得涂布液的粘度相當(dāng)高，由此涂布困難。S卩，不能制備噴墨記錄介質(zhì)。比較例3將作為鋯化合物的4. 506g乙酸氧鋯添加至14g去離子水，接著用均質(zhì)混合器(T. K. Robomix,由Primix Corp.制造)混合從而制備包含乙酸氧錯(cuò)的水溶液。隨后，將作為硅烷偶聯(lián)劑的5. 29g N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷(商品名KBE-603，由Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd.制造)逐漸添加至該水溶液。通過(guò)攪拌所得混合物5小時(shí)而將硅烷偶聯(lián)劑水解和縮合，從而制備包括包含鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。另外，將通過(guò)將1.3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化鋁水合物(商品名Disperal HP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中制備的分散液用均質(zhì)混合器攪拌。連續(xù)攪拌分散液，并將6. 185g包含復(fù)合化合物的懸浮液添加至其同時(shí)攪拌。將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至所得分散液以制備pH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體10。除了使用上述制備的顏料分散體10代替顏料分散體I以外，如實(shí)施例I中制備噴墨記錄介質(zhì)。即，制備具有墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)，所述墨接收層包括包含錯(cuò)和娃但不包含第2族或第3族元素的復(fù)合化合物。當(dāng)通過(guò)電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)測(cè)量時(shí)，復(fù)合化合物中鋯(Zr)原子與硅(Si)原子的數(shù)量比(Zr/Si)為I。比較例4如比較例3中制備包括包含鋯和硅的復(fù)合化合物的懸浮液。 另外，將通過(guò)將1.3g甲磺酸和作為無(wú)機(jī)顏料的IOOg氧化鋁水合物(商品名Disperal HP14,由Sasol制造)添加至350g去離子水中制備的分散液用均質(zhì)混合器攪拌。連續(xù)攪拌分散液，并將6. 185g包含復(fù)合化合物的懸浮液添加至其同時(shí)攪拌。隨后，將
I.057g氯化鎂六水合物添加至其，接著攪拌30min。將去離子水和甲磺酸進(jìn)一步添加至所得分散液以制備PH為4. 2和固成分為20質(zhì)量％的顏料分散體11。除了使用上述制備的顏料分散體11代替顏料分散體I以外，如實(shí)施例I中制備噴墨記錄介質(zhì)。即，制備具有墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)，所述墨接收層包括包含錯(cuò)和娃但不包含第2族或第3族元素的復(fù)合化合物。比較例5二氧化硅細(xì)顆粒分散體通過(guò)將以下材料與250g去離子水使用行星式球磨機(jī)(商品名P-6,由Fritsch GmbH制造)和5mm直徑的錯(cuò)珠在200rpm下混合5min來(lái)制備無(wú)機(jī)顏料30g氣相法二氧化娃(商品名Aerosil 380,由Nippon AerosilCo. , Ltd.制造);和陽(yáng)離子聚合物1. 2g二甲基二烯丙基氯化銨均聚物(商品名Shallol DC902P,由Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co. , Ltd.制造)。將去離子水添加至上述制備的二氧化硅細(xì)顆粒分散體以具有固成分為10質(zhì)量％從而得到顏料分散體12。除了使用顏料分散體12代替顏料分散體7以外，如實(shí)施例7制備噴墨記錄介質(zhì)。即，制備具有不包括包含第2族或第3族元素、鋯和硅的復(fù)合化合物的墨接收層的噴墨記錄介質(zhì)。噴墨記錄介質(zhì)的評(píng)價(jià)評(píng)價(jià)實(shí)施例1-7以及比較例I和3-5制備的噴墨記錄介質(zhì)的耐臭氧性和高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中的洇墨。I)耐臭氧性用于耐臭氧性評(píng)價(jià)的圖像的制備通過(guò)在實(shí)施例1-7以及比較例I和3-5中生產(chǎn)的各噴墨記錄介質(zhì)的記錄表面上記錄黑色、青色、品紅色和黃色單色斑塊(各自為2. 5cmX2. 5cm)以具有光學(xué)濃度(OD)為I. 0來(lái)形成圖像。利用照片用打印機(jī)(商品名PIXUS iP4600，墨BCI-321，二者均是由CANONKABUSHIKI KAISHA制造)使用噴墨系統(tǒng)進(jìn)行記錄。
耐臭氧性試驗(yàn)使用臭氧老化試驗(yàn)機(jī)(型號(hào)0MS_HS,由Suga Test Instruments Co. , Ltd.制造)將上述形成的各圖像進(jìn)行臭氧暴露試驗(yàn)。試驗(yàn)條件如下暴露氣體的組成2. 5體積ppm臭氧試驗(yàn)時(shí)間80小時(shí)，和 試驗(yàn)槽中溫度和濕度條件23°C和50%RH(相對(duì)濕度)。耐臭氧性的評(píng)價(jià)方法用分光光度計(jì)(商品名Spectrolino,由GretagMacbeth制造)測(cè)量各圖像在試驗(yàn)前后的圖像濃度，并且各光學(xué)濃度殘存率通過(guò)以下表達(dá)式計(jì)算光學(xué)濃度殘存率(%) =[(試驗(yàn)后光學(xué)濃度)/(試驗(yàn)前光學(xué)濃度)]X100。各圖像的耐臭氧性使用所得光學(xué)濃度殘存率和以下評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)來(lái)評(píng)價(jià)A :青色濃度殘存率為90%以上；B :青色濃度殘存率為85%以上至小于90% ;和C :青色濃度殘存率小于85%。本發(fā)明中，評(píng)價(jià)為以上評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)中的標(biāo)準(zhǔn)A的圖像確定為具有充分的耐臭氧性。表I不出結(jié)果。2)高溫高濕環(huán)境下貯存的圖像中的洇墨高溫高濕環(huán)境下圖像的貯存試驗(yàn)通過(guò)利用照片用打印機(jī)(商品名PIXUS iP4600，墨BCI-321，二者均是由CANONKABUSHIKI KAISHA制造)使用噴墨系統(tǒng)在實(shí)施例1_7以及比較例I和3_5中生產(chǎn)的各噴墨記錄介質(zhì)的記錄表面上記錄黑色斑塊(R, G, B) = (0, 0，0)來(lái)形成圖像。所得圖像在23°C溫度和50%相對(duì)濕度的環(huán)境下放置24小時(shí)，然后在25°C溫度和85%相對(duì)濕度的環(huán)境下貯存4周。各自目視檢查貯存試驗(yàn)后的圖像在黑色斑塊周?chē)哪匿δ?。圖像的洇墨通過(guò)以下評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)來(lái)評(píng)價(jià)A :難以目視辨別出洇墨；B :稍微地目視辨別出洇墨；和C :辨別出洇墨。本發(fā)明中，評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)中評(píng)價(jià)為標(biāo)準(zhǔn)A或B的圖像確定為該圖像充分防止洇墨。表I不出結(jié)果。表I
權(quán)利要求
1.一種記錄介質(zhì)，其包括在基材的至少一個(gè)表面上的墨接收層，所述墨接收層包含無(wú)機(jī)顏料和粘結(jié)劑，其中 所述墨接收層包含含有鋯、硅和選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述化合物包括經(jīng)由所述選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素和鋯的硅氧烷鍵。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述化合物包括-Si-O-M-O-Si-結(jié)構(gòu)和-Si-O-Zr-O-Si-結(jié)構(gòu)，其中M表示所述選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述化合物中包含的元素周期表的第2族或第3族元素的原子數(shù)為所述硅原子數(shù)的0. I倍以上至5倍以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述化合物中包含的所述鋯原子數(shù)為所述硅原子數(shù)的0. I倍以上至5倍以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述化合物通過(guò)以下方式來(lái)制備將包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物、含鋯化合物和硅烷偶聯(lián)劑添加至包含水和醇的至少一種的液體溶劑，然后使所述液體溶劑中包含的硅烷偶聯(lián)劑水解或縮合。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述化合物通過(guò)以下方式來(lái)制備通過(guò)在包含水和醇至少一種的液體溶劑中形成包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物和含鋯化合物之一與硅烷偶聯(lián)劑的復(fù)合物而形成前體；和形成所述包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物和所述含鋯化合物的另一種與所述前體的復(fù)合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的記錄介質(zhì)，其中所述包含選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物為選自由各自由元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的離子和有機(jī)酸離子或無(wú)機(jī)酸離子構(gòu)成的鹽、所述鹽的水合物和選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的氧化物組成的組中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的記錄介質(zhì)，其中所述含鋯化合物為選自由鋯的鹵化物鹽、鋯的含氧酸鹽和鋯的有機(jī)酸鹽組成的組的至少一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述無(wú)機(jī)顏料為選自由氧化鋁水合物和二氧化硅組成的組的至少一種。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中將所述無(wú)機(jī)顏料用所述化合物進(jìn)行表面處理。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的記錄介質(zhì)，其中所述表面處理的無(wú)機(jī)顏料通過(guò)借助于在IOO0C以上至400°C以下加熱而干燥包含所述無(wú)機(jī)顏料和所述化合物的分散液來(lái)制備。
13.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素為選自鎂、鈣、鍶、釔、鑭和鈰的至少一種。
14.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中所述化合物的含量基于所述無(wú)機(jī)顏料的總質(zhì)量為0. I質(zhì)量％以上至30質(zhì)量％以下。
全文摘要
本發(fā)明提供一種記錄介質(zhì)，其包括在基材的至少一個(gè)表面上的墨接收層，所述墨接收層包含無(wú)機(jī)顏料和粘結(jié)劑。所述墨接收層包含含有鋯、硅和選自元素周期表的第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物。
文檔編號(hào)B41M5/50GK102862410SQ2012102326
公開(kāi)日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2012年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月5日
發(fā)明者淺尾昌也, 鶴崎毅, 田中有佳 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社