專利名稱：用于改善平版印刷版的成像和非成像區(qū)域的劃痕敏感性的具有納米顆粒的上膠組合物的制作方法
用于改善平版印刷版的成像和非成像區(qū)域的劃痕敏感性的具有納米顆粒的上膠組合物本發(fā)明涉及對(duì)平版印刷版進(jìn)行上膠的方法，特別是一種使用含有惰性納米顆粒的上膠組合物的方法。而且，本發(fā)明涉及用于對(duì)成像的平版印刷版上膠的上膠組合物。平版印刷的技術(shù)領(lǐng)域基于油和水的不互溶性，其中油性材料或印刷油墨優(yōu)選由成像區(qū)域接受，而水或潤(rùn)版液優(yōu)選由非成像區(qū)域接受。當(dāng)用水潤(rùn)濕適當(dāng)產(chǎn)生的表面并施加印刷油墨時(shí)，背景和非成像區(qū)域接受水而排斥印刷油墨，而成像區(qū)域接受印刷油墨而排斥水。 而后將成像區(qū)域中的印刷油墨轉(zhuǎn)移至諸如紙、纖維等材料的表面上，在其上形成圖像。然而，通常，首先將印刷油墨轉(zhuǎn)移至被稱為橡皮布的中間材料上，然后再將印刷油墨轉(zhuǎn)移至材料表面上，在其上形成圖像；這個(gè)技術(shù)被稱為膠印。平版印刷版前體的常用類型包含施加在鋁基材上的光敏涂料。所述涂料可以在輻射下發(fā)生反應(yīng)，使曝光部分變得可溶，從而在顯影過程中被去除。這樣的版被稱為陽圖制版。另一方面，如果涂料的曝光部分通過輻射而硬化，版被稱為陰圖制版。在這兩種情況下，余下的成像區(qū)域都接受印刷油墨，即是親油的，而非成像區(qū)域(背景)接受水，即是親水的。成像和非成像區(qū)域間的差別在曝光期間產(chǎn)生，為此，在真空下將薄膜粘附在印刷版前體上，以保證良好接觸。而后將版通過輻射源曝光，所述輻射源的一部分包含UV輻射。當(dāng)使用陽圖版時(shí)，薄膜上相應(yīng)于版上的成像區(qū)域的區(qū)域是不透明的，以至于光不能到達(dá)版，而薄膜上相應(yīng)于非成像區(qū)域的區(qū)域是透明的，使得光可以滲透涂料，其溶解度增大。在陰圖版的情況下，發(fā)生相反的情況薄膜上相應(yīng)于版上的成像區(qū)域的區(qū)域是透明的，而非成像區(qū)域是不透明的。在透明的薄膜下的涂料由于入射光而硬化，而不受光影響的區(qū)域在顯影期間被去除。因此陰圖制版的光硬化表面是親油的，接受印刷油墨，而用由顯影劑去除的涂料涂布的非成像區(qū)域被減感并由此是親水的。或者，版還可以不用薄膜而被數(shù)字曝光成像。自從20世紀(jì)90年代后期以來，開發(fā)出了具有熱敏層的版前體，其中通過直接加熱或用頂輻射照射轉(zhuǎn)化成熱而成像，產(chǎn)生涂料的加熱和未加熱區(qū)域的顯影劑溶解度的差別；這種版通常被稱為“頂版”或“熱版”。依據(jù)近來的發(fā)展，已經(jīng)開發(fā)出版前體，其可以通過將版前體成像曝光于由UV激光器(包括雙光子激發(fā)系統(tǒng))發(fā)射的近UV輻射或VIS輻射而成像。對(duì)于干凈的印刷圖像，與所用前體的類型無關(guān)，成像區(qū)域(即成像余下的涂料)必須良好地接受印刷油墨，而非成像區(qū)域(即成像顯露出的基材，例如鋁基材)應(yīng)當(dāng)不接受印刷油墨。為了保護(hù)成像顯露出的基材，例如鋁基材，不受指紋、氧化鋁的形成、腐蝕和機(jī)械攻擊如刮擦的影響，當(dāng)將印刷版固定在印刷機(jī)上或儲(chǔ)存特定時(shí)間，即保持和可能改善非成像區(qū)域的親水性時(shí)，通常對(duì)顯影的印刷版進(jìn)行“上膠”處理(也被稱為“減感”或“上光”)。在儲(chǔ)存之前或印刷機(jī)長(zhǎng)期停用之前將版上膠確保非成像區(qū)域保持親水性。當(dāng)開始印刷時(shí)，上膠溶液必須能夠用潤(rùn)版液迅速從版上洗去，以使成像區(qū)域能夠立即接受印刷油墨。上膠溶液長(zhǎng)期以來是已知的。最開始的上膠溶液基于阿拉伯樹膠，而且現(xiàn)今阿拉伯樹膠得到了廣泛應(yīng)用。多年前嘗試發(fā)現(xiàn)聚合物膠替代物，因?yàn)榘⒗畼淠z的來源有限。由于對(duì)于某些類型的版聚合物溶液可能導(dǎo)致失明問題，嘗試從減感組合物中去除聚合物，得到特定鹽如磷酸鹽和任選存在的表面活性劑的溶液。在其它嘗試中，蔗糖和糊精類材料常常代替磷酸鹽。EP 1 025 992 Al公開了堿性顯影劑水溶液，其主要包含溶解在水中的堿金屬硅酸鹽和堿金屬氫氧化物。DE 29 26 645 Al描述了一種生產(chǎn)用于膠印版的上膠溶液的方法，其包含阿拉伯樹膠。依據(jù)該方法，加熱阿拉伯樹膠的酸性溶液(pH 2或更低)，而后通過添加堿金屬氫氧化物調(diào)節(jié)PH值至優(yōu)選4. 5-4. 7。DE 20 42 217 Al公開了用pH為1_5的水溶液處理平版印刷版。所述溶液包含
堿金屬聚磷酸鹽、磷酸或檸檬酸和選自鈉或鉀的硝酸鹽、高氯酸鹽、高錳酸鹽或過硫酸鹽的
Τττ . οUS 4，880，555 Al描述了一種用于平版印刷版的上光劑，其包含通過酶水解制備的麥芽糊精、多元醇、碳水化合物、長(zhǎng)鏈醇和胺化醇硫酸酯的混合物、取代的苯氧基聚(氧乙烯)乙醇和乙醇胺，pH值為2. 5-6. 5。US 4,033,919 Al描述了上膠水溶液，其包含含有衍生自丙烯酰胺的單元和 l-25wt%的具有羧基的單元的聚合物。而且該溶液還包含酸性物質(zhì)，所述酸性物質(zhì)調(diào)節(jié)溶液的PH值至5. 5以下；其實(shí)例包括磷酸、檸檬酸和酒石酸。在US 4，162，920 Al中描述了乳液形式的上光劑。所述乳液包含含有木薯糊精、 不腐蝕鋁的鹽和水的水相，以及含有烴類溶劑和溶于其中的表面活性劑的溶劑相。PH值為 3-5。在EP 0 397 407 A2中，描述了用于平版印刷版的上光劑組合物，其包含水溶性成膜樹脂，以及選自乙炔醇、乙炔二醇和環(huán)氧烷烴與所述醇或二醇的加合物。在EP 0 024 298 A2中要求保護(hù)一種平版上光劑，其包含(a)冷水溶解的糊精或聚乙烯吡咯烷酮、(b)至少一種HLB為12-18的非離子表面活性劑、(c)潤(rùn)濕劑、(d)無機(jī)鹽禾口 (e)水。DE 25 30 502 Al公開了一種方法、設(shè)備和液體，用于同時(shí)顯影和上膠陰圖印刷版；所述液體是基于水的，并含有較少量的有機(jī)溶劑以及水溶性膠體，PH為3-11。DE 25 04 594 Al描述了一種減感劑水溶液，其含有包含丙烯酰胺單元和具有 COOH基團(tuán)的單元的聚合物以及酸性減感材料如磷酸。US 4，258，122公開了水性減感劑組合物，其包含至少一種堿金屬硅酸鹽或含氮硅酸鹽、潤(rùn)濕劑和親水性高分子量化合物。EP 1 868 036 Al涉及一種具有保護(hù)涂層的感光聚合物印刷版的處理方法。水性堿性處理液體包含水、至少一種表面活性劑、至少一種形成水溶性薄膜的親水聚合物和至少一種用于調(diào)節(jié)PH值至9. 5-14的堿性試劑；通過使用所述處理液體去除所述保護(hù)涂層，在一個(gè)單獨(dú)加工步驟中進(jìn)行顯影和上膠。EP 1 903 399 Al描述了含有親水聚合物的水性顯影劑，其中用堿性組分如堿金屬硅酸鹽、堿金屬氫氧化物磷酸鹽和胺調(diào)節(jié)顯影劑的PH至> 6。JP 2001-092153 A描述了一種乳液類型的版表面保護(hù)劑，用于平版印刷版，其能夠防止在具有比版的尺寸更大的紙上進(jìn)行平版印刷時(shí)對(duì)版的邊緣污染；所述保護(hù)劑包含大豆多糖、改性淀粉以及磷酸和/或磷酸酯。JP 2002-079777 A公開了一種版表面保護(hù)劑，其在防止纖維疵點(diǎn)浮渣和油/脂浮渣上是卓越的；該試劑包含至少一種選自二甲基亞砜、脲、硫脲、胍及其衍生物的成分。如上所述，版上的刮擦常常發(fā)生在加工后的操作期間(例如當(dāng)在等待印刷工作期間將版堆疊或移動(dòng)用于儲(chǔ)存時(shí)，或當(dāng)將其安裝在印刷機(jī)上時(shí))，導(dǎo)致印刷上不期望的調(diào)色。 隨著高度自動(dòng)化印版安裝機(jī)和加工裝置的使用增加，由刮擦導(dǎo)致的調(diào)色問題也增加。一個(gè)原因是，例如現(xiàn)今的印刷室低人工，并且移動(dòng)版的時(shí)間間隔通常更長(zhǎng)；而且，當(dāng)移動(dòng)更大的堆疊時(shí)，刮擦問題增加。因此，本發(fā)明的目的是提供一種方法，其可以改善成像的平版印刷版的抗刮性，而同時(shí)在儲(chǔ)存和印刷機(jī)的長(zhǎng)期停機(jī)過程中，保持平版印刷版的非成像區(qū)域的親水性。所述目的通過一種方法達(dá)到，所述方法包括將一種水性組合物施加在經(jīng)曝光和任選經(jīng)顯影的平版印刷版前體上，所述水性組合物包含無機(jī)的非金屬惰性顆粒，所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成，其平均粒徑為 Inm-O. 5 μ m0依據(jù)一個(gè)實(shí)施方案，成像曝光的平版印刷版前體用含水堿性顯影劑顯影，所述顯影劑包含至少一種成膜聚合物和平均粒徑為Inm-O. 5 μ m的無機(jī)的非金屬惰性顆粒，換句話說顯影和上膠在一個(gè)步驟中進(jìn)行，該二合一的顯影劑含有納米顆粒。依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，用上膠溶液處理成像的平版印刷版(即通過將前體曝光于輻射并顯影得到的版)，所述上膠溶液包含納米顆粒和至少一種選自表面活性劑和親水成膜聚合物的成分；換句話說在曝光后用常規(guī)的顯影劑進(jìn)行顯影，然后用含有納米顆粒的上膠溶液處理經(jīng)顯影的版。在本發(fā)明中所用的術(shù)語“印刷版前體”涉及未成像的版(即未經(jīng)成像曝光和顯影)，由其通過成像曝光和顯影而得到印刷版。在本發(fā)明中所用的術(shù)語“印刷版”指由印刷版前體生產(chǎn)的已成像的版。在本發(fā)明中所用的術(shù)語“納米顆?！敝钙骄綖閘nm-0. 5 μ m的顆粒。在本發(fā)明中，“上膠組合物”、“上光劑組合物”和“減感劑組合物”可以互換使用。在本發(fā)明中，冠詞“一個(gè)” “一種”的使用不一定是僅僅指單個(gè)化合物。在本發(fā)明中所用的術(shù)語“顯影”指在曝光于輻射后，用堿性顯影劑水溶液去除輻射敏感前體涂層的非成像區(qū)域。“一步加工”或“二合一加工”指通過使用適合的液體組合物而在一個(gè)步驟中進(jìn)行顯影和上膠。原則上，如果通過添加平均粒徑為lnm-0. 5 μ m的無機(jī)的非金屬惰性顆粒進(jìn)行改性，任何可得到的上膠組合物(或“二合一加工組合物”)都可以用于本發(fā)明的方法中。如下所述的任何實(shí)施方案、優(yōu)選范圍可以與一個(gè)或多個(gè)其它實(shí)施方案組合、優(yōu)選范圍。所有這種可能的組合都被認(rèn)為在本發(fā)明公開的范圍內(nèi)，即使其未被明確提及?；旧?，所有類型的平版印刷版都可以用于依據(jù)本發(fā)明的方法中，其應(yīng)當(dāng)通過上膠用于儲(chǔ)存或印刷機(jī)停機(jī)的保護(hù)，以保持背景區(qū)域的親水性。由陽圖加工前體生產(chǎn)的印刷版和由陰圖加工前體生產(chǎn)的印刷版都可以使用；用UV/VIS輻射成像的印刷版和用頂輻射或直接用熱成像的印刷版可以使用。如果期望用上膠保護(hù)的話，通過靜電復(fù)印法產(chǎn)生的平版印刷版也可以用于本發(fā)明。以下，將詳細(xì)解釋一些類型的前體，然而，并不意味著本發(fā)明被限制于這些類型中。
HL^印刷版前體可以是陰圖加工前體以及陽圖加工前體；依據(jù)一個(gè)實(shí)施方案，前體對(duì) UV/VIS輻射是敏感的，依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，前體對(duì)頂輻射或直接加熱是敏感的。任何類型的前體，尤其是下面所述的適合的前體的實(shí)例，可以與任何下述含有納米顆粒的組合物的實(shí)施方案組合(例如任何關(guān)于顯影劑/上膠組合物的實(shí)施方案)?；挠糜谇绑w的基材優(yōu)選是二維穩(wěn)定的版或金屬薄片狀材料，如已經(jīng)用作印刷基材的那些。所述基材的實(shí)例包括紙，用塑料材料(如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)涂布的紙，金屬版或金屬薄片如鋁(包括鋁合金)、鋅和銅版，由例如二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、丙酸纖維素、乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、硝酸纖維素、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、 聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯制成的塑料膜，和由紙或塑料膜以及上述金屬之一制成的層壓材料，或通過氣相沉積而金屬化的紙/塑料膜。在這些基材中，尤其優(yōu)選鋁版或鋁箔，因?yàn)槠滹@示出優(yōu)秀的二維穩(wěn)定度，便宜并且對(duì)輻射敏感的涂層顯示出優(yōu)秀的粘附性。而且，可以使用復(fù)合膜，其中鋁箔被層壓在塑料膜如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜上，或紙上，或已通過氣相沉積施加鋁的塑料膜上。優(yōu)選的基材是金屬基材，其中在此使用的術(shù)語“金屬基材”也包括最上層是金屬層或箔的復(fù)合膜。對(duì)金屬基材，特別是鋁基材，優(yōu)選進(jìn)行表面處理，例如通過在干燥狀態(tài)下刷涂或用磨料懸浮液刷涂而進(jìn)行?；?，或者例如用鹽酸電解液或HNO3而進(jìn)行電化學(xué)?；?，并且任選例如在硫酸或磷酸中進(jìn)行陽極化處理。依據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方案，金屬基材包含Ai203、ai0、sw2 或TiO2層，其中這里層不一定意味著覆蓋基材整個(gè)表面的總連續(xù)的層。厚度優(yōu)選為0. 1-0. 7mm,更優(yōu)選為0. 15-0. 5mm的鋁箔是尤其優(yōu)選的基材。優(yōu)選該鋁箔被?；?優(yōu)選電化學(xué)粒化)，而后顯示出0. 2-1 μ m,尤其優(yōu)選0. 3-0. 8 μ m的平均粗糙度。所述基材還可以是在其上具有可成像涂層的圓柱體表面，從而是印刷機(jī)的組成部件。例如在US 5，713，287中描述了這種成像圓柱體的應(yīng)用。依據(jù)尤其優(yōu)選的實(shí)施方案，還對(duì)粒化的鋁箔進(jìn)一步進(jìn)行陽極化處理。得到的氧化鋁的層重量?jī)?yōu)選為1. 5-5g/m2，尤其優(yōu)選2-4g/m2。金屬基材還可以用例如堿金屬硅酸鹽、氟化鈣鋯、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、聚乙烯基膦酸、乙烯基膦酸共聚物、或膦酸的水溶液進(jìn)行后處理(所謂的“密封”)，從而在其表面上提供親水層(也被稱為“中間層”)；基材還可以用磷酸鹽溶液處理，所述磷酸鹽溶液還可以含有無機(jī)氟化物。基材的背面(非成像面)可以用抗靜電劑和/或滑動(dòng)層或無光粗糙層涂布，以改善可成像部分的操作和“手感”。上述基材處理的詳細(xì)情況是本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員公知的。陰圖加工輻射敏感元件在大量文獻(xiàn)中描述了陰圖加工涂層，例如在EP 0 752 430 Bl中描述了基于陰圖重氮樹脂的UV敏感涂層，在DE 103 07 451中描述了對(duì)405nm敏感的光敏聚合物層，在EP 0 684 522 Bl中描述了對(duì)VIS敏感的光敏聚合物，和在DE 199 06 823 Al中描述了頂敏感的可聚合體系。
光致聚合(UV/VIS和 IR)施加在基材上的一類陰圖加工涂層包含(a)至少一種選自光引發(fā)劑和感光劑/共引發(fā)劑體系的吸收劑組分，其吸收波長(zhǎng)為250-1200nm的輻射，并能夠引發(fā)自由基聚合，(b) 可自由基聚合單體、低聚物和/或預(yù)聚物，以及任選存在的(c)至少一種聚合物粘合劑。吸收劑組分輻射敏感涂層還包含至少一種選自光引發(fā)劑和感光劑/共引發(fā)劑體系的吸收劑組分。選擇吸收劑組分使得其能夠在稍后成像期間使用的輻射源放射的范圍內(nèi)顯著吸收；優(yōu)選的，吸收劑在所述范圍內(nèi)顯示出最大吸收。因此，如果輻射敏感元件將例如通過頂激光成像，吸收劑應(yīng)當(dāng)基本上吸收約750-1200nm的輻射，優(yōu)選在這個(gè)范圍內(nèi)顯示出最大吸收。另一方面，如果要通過UV/VIS輻射進(jìn)行成像，吸收劑應(yīng)當(dāng)基本上吸收約250-750nm的輻射，優(yōu)選在這個(gè)范圍內(nèi)顯示出最大吸收。適合的光引發(fā)劑和/或感光劑是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的，或可以用簡(jiǎn)單的測(cè)試而很容易確定在期望的波長(zhǎng)范圍內(nèi)是否發(fā)生顯著的吸收(例如記錄吸收光譜)。在本發(fā)明中，光引發(fā)劑是當(dāng)曝光時(shí)能夠吸收輻射并自身能夠形成自由基的化合物，即，不需要添加共引發(fā)劑。適合的吸收UV或VIS輻射的光引發(fā)劑的實(shí)例包括具有1-3個(gè) QC3基團(tuán)的三嗪衍生物(其中每個(gè)X彼此獨(dú)立地選自氯或溴原子，優(yōu)選氯原子)、六芳基聯(lián)咪唑化合物、安息香醚、苯偶?？s酮、肟醚、肟酯、α-羥基或α-氨基苯乙酮、酰基膦、酰基氧膦、硫化酰基膦、茂金屬、過氧化物等。適合的三嗪衍生物的實(shí)例包括2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)-S-三嗪、2-甲基一4，6-雙(三氯甲基)_s_三嗪、2-苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(對(duì)甲氧基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(4-甲氧基萘酰-1-基)-4，6_雙(三氯甲基)-s-三嗪、和2- -乙氧基萘酰-1基)-4. 6-雙(三氯甲基)-S-三嗪以及2-[4- (2-乙氧基乙基)-萘酰-1-基]-4， 6-雙(三氯甲基)-s_三嗪。適合的肟醚和肟酯例如為衍生自安息香的那些。優(yōu)選的茂金屬例如為具有兩個(gè)五元環(huán)二烯基團(tuán)例如環(huán)戊二烯基團(tuán)以及一個(gè)或兩個(gè)具有至少一個(gè)鄰氟原子和任選存在的一個(gè)吡咯基團(tuán)的六元芳香基團(tuán)的二茂鈦；最優(yōu)選的茂金屬是雙(環(huán)戊二烯基)-雙-[2，6- 二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]鈦和二環(huán)戊二烯基-雙-2，4，6-三氟苯基鈦或鋯。在本發(fā)明中，可以使用一種光引發(fā)劑，或兩種或多種光引發(fā)劑的混合物。光引發(fā)劑可以單獨(dú)使用，或與一種或多種共引發(fā)劑組合使用；加入共引發(fā)劑可以增加光引發(fā)的效果。對(duì)光引發(fā)劑的量沒有特別限制；然而，如果存在光引發(fā)劑，基于干層重，優(yōu)選為 0. 2-25wt %，尤其優(yōu)選 0. 5-15wt %。本發(fā)明中所稱的感光劑是一種化合物，當(dāng)其曝光時(shí)，可以吸收輻射，但是其本身， 即不添加共引發(fā)劑時(shí)，不能形成自由基。所有可光致氧化或光致還原或能夠?qū)⑵浼ぐl(fā)能轉(zhuǎn)移至接受劑分子的光吸收化合物都是適合用于本發(fā)明的感光劑。這種染料的實(shí)例包括花青染料、部花青染料、oxonol染料、二芳基甲烷染料、三芳基甲烷染料、咕噸染料、香豆素衍生物、香豆素酮染料、吖啶染料、 吩嗪染料、喹喔啉染料、吡喃鐺染料或噻喃鐺染料、氮雜環(huán)烯(azaanulene)染料(如酞菁染料和紫菜堿)、靛青染料、蒽醌染料、聚亞芳基、聚芳基多烯、2，5- 二苯基異苯丙呋喃、2， 5- 二芳基呋喃、2，5- 二芳基噻吩、2，5- 二芳基吡咯、2，5- 二芳基環(huán)戊二烯、聚芳基亞苯基、 聚芳基-2-吡唑啉、羰基化合物，如芳香酮或醌，例如苯甲酮衍生物、米歇酮、噻噸酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。在WO 2004/049068 Al中公開的式(I)的香豆素感光劑例如適合用于電磁波譜的 UV范圍
權(quán)利要求
1.改善平版印刷版的抗刮性的方法，其包括(a)將平版印刷版前體進(jìn)行成像曝光，(b)在曝光后任選將所述前體顯影，(c)將水性組合物施加在成像的平版印刷版前體上，所述水性組合物包含無機(jī)的非金屬惰性顆粒，所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成，且其平均粒徑為lnm-0. 5μπι。
2.依據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述水性組合物是含水堿性顯影劑，其還包含至少一種親水性成膜聚合物，以及其中通過施加所述顯影劑將曝光前體的涂層的非成像區(qū)域去除。
3.依據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述水性組合物是水性上膠組合物，其還包含至少一種選自表面活性劑和親水性成膜聚合物的組分，以及其中將所述上膠組合物施加在成像的平版印刷版上。
4.依據(jù)權(quán)利要求1-3之一的方法，其中所述水性組合物還包含至少一種選自生物殺滅劑、絡(luò)合劑、消泡劑、著色劑、有機(jī)溶劑、緩沖劑和防腐劑的組分。
5.依據(jù)權(quán)利要求1-4之一的方法，其中所述無機(jī)的非金屬惰性顆粒的平均粒徑為 10-350nm。
6.依據(jù)權(quán)利要求2的方法，其中基于所述顯影劑的總重量，顯影劑組合物中所述無機(jī)的非金屬惰性顆粒的量為2-20wt%。
7.依據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中基于所述上膠組合物的總重量，上膠組合物中所述無機(jī)的非金屬惰性顆粒的量為0. 5-20wt%。
8.依據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中所述上膠組合物包含選自以下組中的親水性成膜聚合物阿拉伯膠，支鏈淀粉，纖維素衍生物，淀粉衍生物，聚乙烯醇，聚乙烯吡咯烷酮，多羥基化合物，丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物，乙烯基甲基醚和馬來酸酐的共聚物，乙酸乙烯酯和馬來酸酐的共聚物，苯乙烯和馬來酸酐的共聚物，和包含氨基、以及酸基和任選存在的環(huán)氧烷烴單元的聚合物。
9.依據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中在施加所述上膠組合物之前，所述成像的平版印刷版已經(jīng)用于印刷。
10.依據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中在成像后立即用所述上膠組合物處理所述成像的平版印刷版。
11.依據(jù)權(quán)利要求1-10之一的方法，其中所述平版印刷版前體是頂敏感前體。
12.水性組合物，其包含(a)水，(b)至少一種親水性成膜聚合物和/或表面活性劑，(c)無機(jī)的非金屬惰性顆粒，所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成，且其平均粒徑為lnm-0. 5 μ m，和(d)任選存在的至少一種選自表面活性劑、生物殺滅劑、絡(luò)合劑、消泡劑、著色劑、有機(jī)溶劑、緩沖劑和防腐劑的組分。
13.權(quán)利要求1-8和12之一中定義的水性組合物在改善平版印刷版的抗刮性中的用途。
14.改善平版印刷版的抗刮性的方法，其包括(a)在具有親水表面的基材上成像施加成像區(qū)域，和(b)在得到的平版印刷版上施加水性組合物，所述水性組合物包含無機(jī)的非金屬惰性顆粒，所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成，且其平均粒徑為Inm-O. 5 μ m。
全文摘要
本發(fā)明涉及改善平版印刷版的抗刮性的方法，其包括在經(jīng)曝光并任選經(jīng)顯影的平版印刷版上施加水性組合物，所述水性組合物包含無機(jī)的非金屬惰性顆粒，所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成，其平均粒徑為1nm-0.5μm。
文檔編號(hào)B41N3/08GK102227685SQ200980147554
公開日2011年10月26日 申請(qǐng)日期2009年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月2日
發(fā)明者C·薩瓦里阿-豪克, J·彭勒 申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司