專利名稱：：電解處理裝置和電解處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及電解處理裝置和電解處理方法。
背景技術(shù)：
：正如將鋁料片的單面進(jìn)行電解粗糙化以制造平版印刷版用的支撐體料片的情況那樣，當(dāng)在電解液中僅對金屬帶狀體的單面進(jìn)行電化學(xué)處理時，必須抑制因電流繞入到相反側(cè)的面而生成被膜的背面蔓延(金屬片另一面的電解)。作為控制鋁料片的背面形成的被膜的厚度的方法，有下述的帶狀金屬板的電解處理方法，該方法中，在供電槽中對帶狀金屬板給電，在電解槽中在所述帶狀金屬板的兩面上分別相向配置電極，在所述帶狀電極和其背面對置的電極之間平行地配置電絕緣片材，以進(jìn)行電解處理，該方法的特征在于，使所述電絕緣片材平行移動調(diào)節(jié)到所述帶狀金屬板的行進(jìn)方向的任意位置上，或者在所述電絕緣片材上設(shè)置任意的孔，從而對所述帶狀金屬板的所述背面實(shí)施所期望厚度的電解處理幕(日本特開平8-060397號公報)。但是，絕緣片材與板狀的絕緣板不同，并非剛直的。因此，在電解液中無論怎樣對絕緣片材施加張力，絕緣片材都會因?yàn)閹罱饘侔搴徒^緣片材之間進(jìn)入的電解液的重量而下垂，使得帶狀金屬板和絕緣片材之間大開。所以，電流繞入到帶狀金屬板和絕緣片材之間，從而存在著在帶狀金屬板的背面形成超過預(yù)想范圍的被膜的問題。特別是在背面的側(cè)緣部上述傾向較強(qiáng)，所以針對減少背面蔓延的目的，還沒有獲得充分的效果。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的，目的在于提供對帶狀金屬板那樣的帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理、并能夠有效抑制背面蔓延(裏回"9)發(fā)生的電解處理裝置。用于解決上述課題的第1形態(tài)涉及一種電解處理裝置，將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理，所述電解處理裝置具備電解槽，貯存所述電解液，并在內(nèi)部輸送帶狀體；電極，沿著所述帶狀體的所述電解槽中的輸送路徑配設(shè)在所述輸送路徑的上方；絕緣片材，以位于所述輸送路徑的下方的方式配設(shè)于所述電解槽的內(nèi)部的所述電極的下方；噴射噴嘴，設(shè)置在所述絕緣片材的下方，朝向所述絕緣片材噴射所述電解液。在第l形態(tài)的電解處理裝置中，通過從噴射噴嘴朝向絕緣片材的下表面噴射電解液來對絕緣片材施以浮力，使其與帶狀體微接觸。因此，在電解槽中，即便萬一帶狀體上發(fā)生抖動，由于絕緣片材維持與帶狀體的微接觸狀態(tài)，所以也能夠獲得高的背面蔓延抑制效果。用于實(shí)現(xiàn)上述課題的第2形態(tài)，在涉及上述第1形態(tài)的電解處理裝置中，所述噴射噴嘴形成為朝向所述絕緣片材的兩側(cè)緣部噴射所述電解液。在本發(fā)明的電解處理裝置中以高速輸送帶狀體時，由于隨伴流而在帶狀體的周邊產(chǎn)生負(fù)壓，因此絕緣片材被帶狀體吸引，中央部成為與帶狀體微接觸的狀態(tài)。但是，在兩側(cè)緣部附近，電解液出入絕緣片材和帶狀體之間而產(chǎn)生間隙。但是，在上述第2形態(tài)的電解處理裝置中，絕緣片材的兩側(cè)緣部被從噴射噴嘴噴出的電解液朝向帶狀體擠壓，所以即便在兩側(cè)緣部也能維持帶狀體和絕緣片材的微接觸狀態(tài)。因此，即使在帶狀體的輸送速度高的情況下，也能獲得髙的背面蔓延抑制效果。用于解決上述課題的第3形態(tài)涉及，在上述第1或第2形態(tài)的電解處理裝置中，其具備液膜噴嘴，在所述電解槽中輸送帶狀體時，所述液膜噴嘴在所述帶狀體和所述絕緣片材之間噴出所述電解液以形成液膜。在上述第3形態(tài)的電解處理裝置中，由于在所述電解槽內(nèi)輸送帶狀體時,由液膜形成噴嘴在所述帶狀體和所述絕緣片材之間噴出所述電解液而形成液膜，所以帶狀體和絕緣片材的接觸電阻減小。因此，即使在帶狀體的輸送速度高的情況或從噴射噴嘴噴出的電解液噴射量大的情況等帶狀體與絕緣片材之間的接觸電阻大的情況下，也能有效防止絕緣片材的破損。'用于解決上述課題的第4形態(tài)涉及上述第1第3中任一形態(tài)的電解處理裝置，所述絕緣片材在所述電解槽的內(nèi)部以施加了規(guī)定張力的狀態(tài)被架設(shè)。根據(jù)上述第4形態(tài)的電解處理裝置，由于絕緣片材以規(guī)定張力架設(shè)在電4解槽內(nèi)，所以帶狀體所產(chǎn)生的隨伴流、或由于帶狀體本身的抖動的影響使得連絕緣片材都發(fā)生抖動的現(xiàn)象可以得到有效抑制。用于解決上述課題的第5形態(tài)涉及一種電解處理方法，在貯存有電解液并在內(nèi)部配設(shè)有電極的電解槽中，對所述電極施加直流或交流，同時在所述電極的下方，沿規(guī)定方向輸送帶狀體，進(jìn)行電化學(xué)處理，其中，在所述帶狀體的輸送路徑的下方配設(shè)絕緣片材，同時，從所述絕緣片材的下方朝向所述絕緣片材噴射所述電解液，對所述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理。根據(jù)上述第5形態(tài)的電解處理方法，由于與對第1形態(tài)的電解處理裝置說明的理由相同，所以也能獲得高的背面蔓延抑制效果。圖1是表示實(shí)施形態(tài)1的電解粗糙化裝置的電解槽及其附近的構(gòu)成的示意圖。圖2是表示實(shí)施形態(tài)1的電解粗糙化裝置及其周邊的構(gòu)成的示意圖。圖3是實(shí)施形態(tài)1的電解粗糙化裝置所具備的電解槽的沿寬度方向的截面圖。具體實(shí)施方式1、實(shí)施形態(tài)l下面對本發(fā)明的電解處理裝置的一個例子即鋁料片單面的電化學(xué)粗糙化中使用的電解粗糙化裝置進(jìn)行說明。[構(gòu)成]實(shí)施形態(tài)l的電解粗糙化裝置100如圖l所示，其具有內(nèi)部貯存酸性電解液，同時沿水平方向輸送要進(jìn)行電解粗糙化的鋁料片w，上面敞開的有底容器即電解槽1;在電解槽1的內(nèi)部的鋁料片W的輸送路徑P的上方配設(shè)的一組電極2;在電解槽1的內(nèi)部的輸送路徑P的下方配設(shè)的絕緣片材3;在電解槽1的內(nèi)部沿著輸送路徑P引導(dǎo)鋁料片W的引導(dǎo)輥4。在電解槽1的絕緣片材3的下方設(shè)置有朝向絕緣片材3噴射酸性電解液的噴射噴嘴7。另外，相對于絕緣片材3的與輸送路徑P相對的部分沿著輸送方向a在下游側(cè)，在沿著輸送路徑P輸送的鋁料片W和絕緣片材3之間，配設(shè)有相對于輸送方向a朝向下游側(cè)噴出酸性電解液的液膜形成噴嘴8。在電解槽1上還設(shè)置有用于排出剩余的酸性電解液的電解液排出管9。如圖2所示，電解液排出管9與貯存酸性電解液的電解液罐20連接。另外，在電解液罐20上連接有向噴射噴嘴7和液膜形成噴嘴8供給酸性電解液的電解液供給管路40。在電解液供給管路40上安裝有泵30，同時在泵30的下游側(cè)分支為向噴射噴嘴7供給酸性電解液的第1給液管路和向液膜形成噴嘴8供給酸性電解液的第2給液管路。在第1給液管路41上安裝有壓力調(diào)節(jié)閥41A和流量調(diào)節(jié)閥41B，在第2給液管路42上安裝有壓力調(diào)節(jié)閥42A和流量調(diào)節(jié)閥42B。在電解槽1的內(nèi)側(cè)和附近設(shè)置有一組支承輥5，用于在電解槽1內(nèi)將絕緣片材3保持在規(guī)定位置上。電極2在圖1中沿著箭頭a所示的鋁料片W的輸送方向配設(shè)有多個例如4個，分別與交流電源(未圖示)連接。電極2由石墨燒結(jié)體等形成。在鄰接的2個電極2之間，也可以如圖1所示那樣設(shè)置間隙，此外，也可以安裝絕緣板。絕緣片材3如圖3所示，寬度比鋁料片W寬，是電絕緣性的柔軟的片材。絕緣片材3被一組支承輥5支撐，在電解槽1的內(nèi)部，沿著輸送路徑P被保持在輸送路徑P的下方。絕緣片材3的兩端被重物6向下方牽引，由此，絕緣片材3被施加規(guī)定的張力而保持為緊張狀態(tài)。對絕緣片材3施加的張力優(yōu)選為515kgf7cm2的范圍。作為絕緣片材3，可以使用軟質(zhì)聚氯乙烯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯樹脂以及乙烯-丙烯共聚物等軟質(zhì)樹脂的片材，除此以外，還可以使用在聚乙烯布或尼龍布等化纖布帛中浸漬上述軟質(zhì)樹脂、聚四氟乙烯樹脂或偏氟乙烯樹脂等含氟樹脂等而得到的片材。對噴射噴嘴供給的酸性電解液的供給量優(yōu)選為120300升/分鐘的范圍，對液膜形成噴嘴8供給的酸性電解液的供給量優(yōu)選為630升/分鐘的范圍。噴射噴嘴7的噴出孔7A如圖3所示那樣，在絕緣片材3的兩個側(cè)緣部的下方，沿著輸送方向a以規(guī)定間隔設(shè)置。噴出孔7A的間隔可以根據(jù)絕緣片材3的寬度以及每個噴出孔7A1的電解液的噴射量來確定，但通常優(yōu)選為6絕緣片材3的寬度的1/51倍左右。通過將噴出孔7A設(shè)置在絕緣片材3的兩個側(cè)緣部的下方，可以從噴射噴嘴7朝向絕緣片材3的兩個側(cè)緣部噴射電解液。另外，噴出孔7A也可以是沿著輸送方向a設(shè)置的狹縫。液膜形成噴嘴8在絕緣片材3和輸送路徑P之間，沿著絕緣片材3的寬度方向，換言之沿著與輸送方向a正交的方向設(shè)置。在液膜形成噴嘴8上也可以以一定間隔設(shè)置噴出酸性電解液的噴出孔，也可以沿長度方向設(shè)置1條或多條噴出狹縫。以下對電解粗糙化裝置100的作用進(jìn)行說明。首先，在電解槽l中裝滿酸性電解液。作為酸性電解液，使用選自鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸以及磺酸中的無機(jī)或有機(jī)的強(qiáng)酸即酸性電解質(zhì)的溶液。也可以并用2種以上的酸性電解質(zhì)。另外，酸性電解質(zhì)的濃度優(yōu)選為110質(zhì)量％左右。接著，將絕緣片材3巻繞在支承輥5上，用重物6牽引絕緣片材3的兩端，從而用規(guī)定張力保持絕緣片材3。然后，將鋁料片W用引導(dǎo)輥4引導(dǎo)并沿著輸送路徑P在電解槽1內(nèi)部輸送，同時，在電解槽l外使其與接地輥(未圖示)接觸以成為接地狀態(tài)。在該狀態(tài)下對各個電極2施加交流電壓，從而對鋁料片W的與電極2相對一側(cè)的面進(jìn)行電解粗糙化。在電解粗糙化中，由于鋁料片W的下表面保持為與絕緣片材3表面微接觸的狀態(tài)，所以流向鋁料片W的下表面即與電極2相對一側(cè)的相反側(cè)的面的電流被屏蔽，阻礙了電流的繞入。另外，如果因某些理由鋁料片W上下移動，則絕緣片材3也保持著與鋁料片W微接觸的狀態(tài)，跟隨鋁料片W上下移動。因此，能夠減小上述面被粗糙化的發(fā)生背面蔓延(裏回19)的寬度即背面蔓延量。此外，作為絕緣片材3,即使使用軟質(zhì)聚氯乙烯樹脂等軟質(zhì)樹脂的片材，也不會因與鋁料片W的摩擦而產(chǎn)生損傷。實(shí)施例1.實(shí)施例l、參考例l、實(shí)施例2、比較例l使用圖1所示形態(tài)的電解粗糙化裝置100對鋁料片進(jìn)行粗糙化。作為鋁料片，使用厚度為0.3mm、寬度為1000mm的純鋁料片，輸送速度為50m/min，7對電極2分別施加75125A/dm2、60Hz的正弦波電流，將粗糙化面的表面粗糙度的目標(biāo)值定為0.5um來進(jìn)行電解粗糙化。作為酸性電解液，使用濃度為1018g/升的鹽酸水溶液。在電解粗糙化裝置100中，將電極2的寬度設(shè)定為1500mm，絕緣片材3使用厚度為lmm、寬度為1200mm的軟質(zhì)聚氯乙烯樹脂片材，在兩端垂吊100kg的重物，施加8.3kgf/cm2的張力使其張緊。從噴射噴嘴7噴出的酸性電解液的噴射量以及從液膜形成噴嘴8噴出的酸性電解液的噴出量如表1所示地設(shè)定。在上述條件下進(jìn)行鋁料片W的表面粗糙化，有關(guān)背面蔓延量，通過用刻度尺測定鋁料片W的面向絕緣片材3—側(cè)的面的側(cè)緣部上形成的粗糙化部的寬度來求出。此外，用目視評價鋁料片W的上述面的損傷和變形。結(jié)果示于表l中。<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>如表1所示，在從噴射噴嘴7以200升/分鐘的流量、從液膜形成噴嘴8以20升/分鐘的流量噴出酸性電解液的實(shí)施例1中，鋁料片W與絕緣片材3的間隔為02mm，保持了鋁料片W與絕緣片材3的微接觸狀態(tài)。因此，背面蔓延量較少，為5mm，此外，鋁料片W的損傷以及絕緣片材3的破損均未發(fā)生。另一方面，在從噴射噴嘴7以200升/分鐘的流量噴出酸性電解液、而從液膜形成噴嘴8不噴出酸性電解液的參考例1中，由于鋁料片W與絕緣片材3的間隔為Omm，所以背面蔓延量較少，為3mm，另夕卜，也未見到鋁料片W的損傷。但是，發(fā)生了絕緣片材3的破損。與此，在使噴射噴嘴7的噴射量降低為140升/分鐘的實(shí)施例2中，鋁料片W與絕緣片材3的間隔為05mm，盡管背面蔓延量稍多，為10mm，但未見到鋁料片W的損傷以及絕緣片材3的破損。從參考例1和實(shí)施例2的比較可以認(rèn)為，參考例1中由于從噴射噴嘴7噴出的酸性電解液的噴射量過大，所以鋁料片W與絕緣片材3產(chǎn)生粘著，引起絕緣片材3的破損。因此，如果將從噴射噴嘴7噴出的酸性電解液的噴射量如實(shí)施例2所示那樣設(shè)定得比參考例1低，則可以將背面蔓延量抑制得較低，還能防止絕緣片材3的破損。另外，在從噴射噴嘴7和液膜形成噴嘴8中均不噴出酸性電解液的比較例中，鋁料片W與絕緣片材3之間的間隔達(dá)到20mm，背面蔓延量也達(dá)到50mm。能夠使用本發(fā)明的電解處理裝置和電解粗糙化方法的帶狀體不限于鋁料片，也包括普通鋼板或不銹鋼板、鈦板等各種金屬的帶狀體等。另外，還包括在聚酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚砜樹脂、聚醚醚酮樹脂、乙烯丙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物等各種塑料薄膜的表面通過蒸鍍或鍍金等形成了鋁或銀、銅等金屬層或氧化錫等導(dǎo)電性氧化物被膜的帶狀體。另外，能夠使用本發(fā)明的電解處理裝置和電解粗糙化方法的電化學(xué)處理不限于酸性電解液中利用交流進(jìn)行的鋁料片的電解粗糙化，例如利用直流在鋁料片表面形成陽極氧化被膜或著色氧化鋁膜處理法、在普通鋼板或不銹鋼板的帶狀體上進(jìn)行的各種鍍金處理等也包括在上述電化學(xué)處理中。權(quán)利要求1、一種電解處理裝置，對沿規(guī)定方向輸送的帶狀體通過電解液進(jìn)行電化學(xué)處理，所述電解處理裝置具備電解槽，貯存所述電解液，并在內(nèi)部輸送帶狀體，電極，沿著所述帶狀體的所述電解槽中的輸送路徑配設(shè)在所述輸送路徑的上方，并被施加直流或交流，絕緣片材，以位于所述輸送路徑的下方方式配設(shè)于所述電解槽的內(nèi)部的所述電極的下方，噴射噴嘴，設(shè)置在所述絕緣片材的下方，朝向所述絕緣片材噴射所述電解液。2、根據(jù)權(quán)利要求l所述的電解處理裝置，形成為，所述噴射噴嘴朝向所述絕緣片材的兩側(cè)緣部噴射所述電解液。3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解處理裝置，具備液膜噴嘴，在所述電解槽內(nèi)輸送帶狀體時，所述液膜噴嘴在所述帶狀體和所述絕緣片材之間噴出所述電解液以形成液膜。4、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解處理裝置，所述絕緣片材在所述電解槽的內(nèi)部以施加了規(guī)定張力的狀態(tài)被架設(shè)。5、根據(jù)權(quán)利要求3所述的電解處理裝置，所述絕緣片材在所述電解槽的內(nèi)部以施加了規(guī)定張力的狀態(tài)被架設(shè)。6、一種電解處理方法，在貯存有電解液并在內(nèi)部配設(shè)有電極的電解槽中，一邊對所述電極施加直流或交流，一邊在所述電極的下方，沿規(guī)定方向輸送帶狀體，進(jìn)行電化學(xué)處理，所述電解處理方法包括在所述帶狀體的輸送路徑的下方配設(shè)絕緣片材，并且，從所述絕緣片材的下方朝向所述絕緣片材噴射所述電解液，對所述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理。全文摘要一種電解處理裝置，其將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體通過電解液進(jìn)行電化學(xué)處理，其具備電解槽，貯存所述電解液，并在內(nèi)部輸送帶狀體；電極，沿著所述帶狀體的所述電解槽中的輸送路徑配設(shè)在所述輸送路徑的上方，并被施加直流或交流；絕緣片材，以位于所述輸送路徑的下方的方式配設(shè)于所述電解槽的內(nèi)部的所述電極的下方；噴射噴嘴，設(shè)置在所述絕緣片材的下方，朝向所述絕緣片材噴射所述電解液。文檔編號B41N3/03GK101538730SQ200910126298公開日2009年9月23日申請日期2009年3月11日優(yōu)先權(quán)日2008年3月18日發(fā)明者增田明申請人:富士膠片株式會社