專利名稱：：制造平版印刷版用鋁合金板的方法,由其得到的平版印刷版用鋁合金板,以及平版印刷版載體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種制造平版印刷版用鋁合金板的方法。本發(fā)明還涉及一種通過(guò)上述制造方法得到的平版印刷版用鋁合金板，一種平版印刷版載體，以及一種預(yù)敏化版。
背景技術(shù)：
：與包括直接冷鑄步驟、修整步驟、浸漬步驟、均熱步驟以及熱軋步驟的制造平版印刷版載體用鋁合金板的常規(guī)方法相比，通過(guò)連續(xù)鑄造制造平版印刷版用鋁合金板的方法，更具體地，包括鑄造步驟且還包括冷軋步驟、中間退火步驟、精整冷軋步驟以及平直度校正步驟，并且得到厚度為0.1至0.5mm的鋁合金板的平版印刷版用鋁合金板的制造方法步驟簡(jiǎn)單，并且因此具有下列優(yōu)點(diǎn)，例如，減少的損失、更高的收率、對(duì)步驟變量的不敏感性、更低的最初設(shè)備成本以及更低的操作成本，其中，所述鑄造步驟包括使鋁原料熔化以得到鋁熔體，過(guò)濾鋁熔體，通過(guò)熔體供給噴嘴將過(guò)濾的鋁熔體供給到一對(duì)冷卻輥之間，并且在將它在所述一對(duì)冷卻輥之間固化時(shí)，對(duì)其進(jìn)行軋制，從而形成鋁合金板。平版印刷版用鋁合金板通常在使它的表面粗糙化以后使用，以控制對(duì)圖像形成層的粘合以及水保持性和墨水保持性之間的平衡。在這種表面粗糙化處理中，鋁合金板的表面性質(zhì)起著極為重要的作用?？梢詻Q定表面粗糙化處理中的性質(zhì)的重要因素不僅包括表面粗糙化處理中的條件，而且包括鋁合金板的表面組成以及它的均勻性。不均勻的表面組成可能導(dǎo)致不均勻的處理，從而造成表面缺陷，例如表面不均勻性。為了解決此問(wèn)題，必須開(kāi)發(fā)一種生產(chǎn)具有均勻表面組成的鋁合金板的方法。本領(lǐng)域中已知的改善表面均勻性的代表性方法包括其中使用具有高熱導(dǎo)率的噴嘴來(lái)增強(qiáng)橫截面寬度方向上的固化均勻性的方法(參見(jiàn)JP2006-15361A)，以及其中將從輥中心的法線與正好在輥的上游形成的彎月面(meniscus)之間形成的角度設(shè)置在某個(gè)范圍內(nèi)以抑制冷卻速率的周期變化的方法(參見(jiàn)JP2006-130545A)。在另一個(gè)方面中，已知的是控制熔體液面的高度，以使鑄造穩(wěn)定?？梢杂糜谑挂后w液面穩(wěn)定的代表性的已知方法包括其中將電磁感應(yīng)系統(tǒng)的非接觸型或接觸型液體液面?zhèn)鞲衅饔糜谶B續(xù)撿測(cè)液體液面，并且對(duì)用于控制熔體流動(dòng)(流入)速率的機(jī)構(gòu)(例如，用于阻止熔體流動(dòng)的可移動(dòng)閥門)提供反饋的方法(參見(jiàn)JP3781211B)，以及其中插入可以在垂直方向上移動(dòng)的緩沖容積(dummyvolume)并且使其根據(jù)熔融金屬的量的變化而垂直移動(dòng)以使熔體液面高度穩(wěn)定的方法(參見(jiàn)JB8-238541A)。這些方法可以用于在至少幾秒或幾十秒內(nèi)使液體液面高度穩(wěn)定。然而，這些方法對(duì)于改善表面缺陷都不充分。在再一個(gè)方面中，JP7-132689A描述了，鐵濃度為至少1%的鋁表面的一些部分占整個(gè)表面積的0.01至10%。此現(xiàn)有技術(shù)發(fā)明旨在通過(guò)電解粒化(electrolyticgraining)處理而改善在表面上形成的凹坑的不均勻形狀。由于如JP7-132689A中所述，用于分析鐵分布的面積在微米的數(shù)量級(jí)上并且因此極為窄，因此可以預(yù)期改善電解?；幚磉^(guò)程中的電解蝕刻時(shí)的均勻性的效果，但是不能改善幾微米至幾十厘米寬的在視覺(jué)上可注意到的范圍上的偏析以及不能改善表面缺陷，這表明這樣的表面缺陷沒(méi)有被充分改
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的發(fā)明人詳細(xì)分析了鋁合金熔體的冷卻期間的固化過(guò)程，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在將鋁合金熔體從熔體供給噴嘴供給到一對(duì)冷卻輥之間時(shí)，由該噴嘴供給的熔體的量發(fā)生改變，使得形成的鋁合金板的表面組成不均勻，從而導(dǎo)致表面缺陷。歸因于從噴嘴供給的熔體的量的改變的這種表面缺陷不能通過(guò)JP2006-15361A和JP2006-130545A中所述的方法改善。本發(fā)明的發(fā)明人進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)，當(dāng)容納在用于對(duì)噴嘴供給熔體的容器中的熔體的表面不振動(dòng)時(shí)，由此得到的鋁合金板具有均勻的表面組成，并且經(jīng)受了表面粗糙化處理的表面沒(méi)有缺陷。換言之，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，存在于對(duì)噴嘴供給熔體的容器內(nèi)的熔體的液面的變化，并且具體地，以每秒幾次至每秒超過(guò)幾十次的頻率(amplitude)出現(xiàn)的微小液體液面變化，被認(rèn)為是可以改變從噴嘴供給的熔體的量的變化，從而造成表面缺陷的振動(dòng)。通過(guò)如JP3781211B和JP8-238541A中所述的控制熔體液面高度的方法，可以在至少幾秒或幾十秒內(nèi)穩(wěn)定熔體液面高度，但是不能控制上述以每秒幾次至每秒超過(guò)幾十次的頻率出現(xiàn)的微小的液體液面振動(dòng)。因此，這些方法沒(méi)有改善歸因于從噴嘴供給的熔體的量的變化的表面缺陷的效果，所述從噴嘴供給的熔體的量的變化由存在于對(duì)噴嘴供給熔體的容器內(nèi)的熔體的表面振動(dòng)所引起。本發(fā)明在這些情形下進(jìn)行，并且本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種制造平版印刷版用鋁合金板的方法，此制造方法能夠得到具有均勻表面組成的平版印刷版用鋁合金板，并且能夠制造沒(méi)有表面缺陷的平版印刷版載體。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種通過(guò)上述制造方法得到的平版印刷版用鋁合金板。本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種平版印刷版載體。本發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一種預(yù)敏化版?；谏鲜霭l(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的發(fā)明人進(jìn)一步進(jìn)行了深入細(xì)致的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過(guò)流入口流入到容器中的鋁合金熔體的一部分直接流向熔體表面，從而引起熔體表面的振動(dòng)，并且熔體的流動(dòng)在容器中形成穩(wěn)定的渦流，從而引起熔體表面的振動(dòng)。本發(fā)明的發(fā)明人重復(fù)進(jìn)行深入細(xì)致的研究以抑制這些現(xiàn)象，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過(guò)提供具有特定形狀特征的容器，可以抑制存在于對(duì)噴嘴供給熔體的容器內(nèi)的熔體的液面的振動(dòng)?；诒景l(fā)明人的發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明提供一種通過(guò)連續(xù)鑄造制造平版印刷版用鋁合金板的方法，所述方法包括通過(guò)熔體供給噴嘴將鋁合金熔體供給到一對(duì)冷卻輥之間，并且在所述鋁合金熔體在所述一對(duì)冷卻輥之間固化的同時(shí)，軋制所述鋁合金熔體，其中，用于對(duì)熔體供給噴嘴供給鋁合金熔體的容器容納鋁合金瑢體，所述鋁合金熔體以使得存在于容器內(nèi)的鋁合金熔體的液面的垂直振幅為10mm以下的方式被調(diào)節(jié)。在本發(fā)明的制造平版印刷版用鋁合金板的方法中，優(yōu)選在容器中安置一個(gè)或多個(gè)堰板，所述的堰板作為用于將存在于容器內(nèi)的鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。在本發(fā)明的制造平版印刷版用鋁合金板的方法中，容器安置有具有起伏結(jié)構(gòu)(bumpystmcture)的內(nèi)壁，所述具有起伏結(jié)構(gòu)的內(nèi)壁作為用于將存在于容器內(nèi)的鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。在本發(fā)明的制造平版印刷版用鋁合金板的方法中，在所述容器的外壁側(cè)安置流入口的閥門，其中所述鋁合金熔體通過(guò)所述的流入口流入到所述容器中，并且將所述閥門用作用于將存在于所述容器內(nèi)的所述鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。在本發(fā)明的制造平版印刷版用鋁合金板的方法中，將上部開(kāi)口面積為至少50x50cr^的容器用作用于將存在于容器內(nèi)的鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。本發(fā)明還提供一種通過(guò)本發(fā)明的上述制造方法得到的平版印刷版用鋁合金板。本發(fā)明還提供一種通過(guò)對(duì)平版印刷版用鋁合金板進(jìn)行表面粗糙化處理得到的平版印刷版載體。本發(fā)明還提供一種具有形成在本發(fā)明的平版印刷版載體上的圖像記錄層的預(yù)敏化版。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)連續(xù)鑄造可以得到具有均勻表面組成的平版印刷版用鋁合金板。在通過(guò)對(duì)得到的鋁合金板進(jìn)行表面粗糙化處理而制造平版印刷版載體的過(guò)程中，鋁合金板的表面被均勻地粗糙化，從而使得到的平版印刷版載體可以沒(méi)有表面缺陷。圖1是顯示本發(fā)明中用于連續(xù)鑄造和軋制的裝置的一個(gè)實(shí)施方案的正視圖2是圖1中所示的用于連續(xù)鑄造和軋制的裝置的平面圖；圖3是顯示熔體供給噴嘴的形狀以及熔體供給噴嘴與冷卻輥的位置關(guān)系的一個(gè)優(yōu)選實(shí)例的示意圖4A是示意性顯示其頂端具有可移動(dòng)結(jié)構(gòu)的熔體供給噴嘴的另一個(gè)實(shí)例的平面圖4B是圖4A中所示的熔體供給噴嘴的側(cè)視圖5A是顯示本發(fā)明中的一種容器的結(jié)構(gòu)的正視圖5B是圖5A中所示的容器的平面圖6A是顯示本發(fā)明中的另一種容器的結(jié)構(gòu)的正視圖6B是圖6A中所示的容器的平面圖7A是顯示本發(fā)明中的又一種容器的結(jié)構(gòu)的正視圖7B是圖7A中所示的容器的平面圖8A是顯示本發(fā)明中的再一種容器的結(jié)構(gòu)的正視圖8B是圖8A中所示的容器的平面圖9A是顯示普通容器的結(jié)構(gòu)的正視圖9B是圖9A中所示的容器的平面圖IO是顯示可以用于冷軋的冷軋機(jī)的一個(gè)實(shí)例的示意圖；和圖11是顯示校平機(jī)的實(shí)例的示意圖。具體實(shí)施例方式以下參考附圖描述根據(jù)本發(fā)明的制造平版印刷版用鋁合金板的方法的優(yōu)選實(shí)施方案。圖1是顯示用于連續(xù)鑄造和軋制的裝置的一個(gè)實(shí)施方案的正視圖，所述裝置可以被用于根據(jù)本發(fā)明的制造平版印刷版用鋁合金板的方法。圖2是圖1中所示的裝置的平面圖。在圖1中省略了正面上的壁表面。對(duì)于本申請(qǐng)中的全部的正視圖，都是該情況。在圖1和2中所示的用于連續(xù)鑄造和軋制的裝置1中，熔化和容納爐2容納通過(guò)下列方法制備的鋁合金熔體(以下稱為"鋁熔體")100:熔化鋁錠以得到熔體，并且向該熔體中加入鐵、硅和其它元素，以調(diào)節(jié)到期望的組成。用于加入元素例如鐵和硅的代表性方法包括加入鋁和鐵(25重量％)的母合金的方法以及加入鋁和硅(25重量％)的母合金的方法。以下描述本發(fā)明中的鋁熔體的優(yōu)選組成。作為用作原料的鋁錠中的非有意加入的(inadvertent)雜質(zhì)，硅是以約0.03至0.1重量％的量包含的元素。經(jīng)常有意地加入非常少量的硅，以防止歸因于原料差別的變化。硅在鋁中以固溶體的狀態(tài)存在或作為金屬間化合物或單一沉積物。在本發(fā)明的實(shí)踐中，鋁熔體中的硅含量?jī)?yōu)選為0.04至0.15重量％。這里應(yīng)當(dāng)注意的是，除鋁錠中的硅以外，通過(guò)單獨(dú)地加入母合金得到不小于0.1重量％的值。大多數(shù)的鐵沒(méi)有進(jìn)入到鋁中的固溶體中，而是保持作為金屬間化合物。鐵增加鋁合金的機(jī)械強(qiáng)度，從而對(duì)平版印刷版載體的強(qiáng)度施加大的影響。當(dāng)鐵含量過(guò)低時(shí)，載體將具有過(guò)低的機(jī)械強(qiáng)度。結(jié)果，當(dāng)將平版印刷版安裝到印刷機(jī)的印版滾筒上時(shí)，其邊緣可能容易破裂。當(dāng)以高的速度進(jìn)行大量壓印時(shí)，也容易發(fā)生這種破裂。另一方面，當(dāng)鐵含量過(guò)高時(shí)，載體將具有比必需強(qiáng)度高的強(qiáng)度。結(jié)果，當(dāng)被安裝到印刷機(jī)的印版滾筒上時(shí)，平版印刷版可能沒(méi)有很好地安裝在滾筒上，并且其邊緣在印刷過(guò)程中可能容易破裂。例如，在鐵含量超過(guò)1.0重量％時(shí)，軋制過(guò)程中容易出現(xiàn)裂紋。在本發(fā)明的實(shí)踐中，鋁熔體中的鐵含量?jī)?yōu)選為0.1至0.50重量％。銅是用于控制電解?；幚淼闹匾?。銅非常容易進(jìn)入到固溶體中，并且僅銅的一部分作為金屬間化合物存在。本發(fā)明的鋁熔體中的銅含量考慮到均勻的電解?；鴥?yōu)選為至少0.01重量％，并且考慮到硝酸溶液中通過(guò)電解?；纬傻陌伎拥闹睆健伎又睆降木鶆蛐砸约翱蛊鸶≡远鴥?yōu)選最高為0.050重量％。為了防止鑄造過(guò)程中的裂紋形成，鋁熔體可以包含具有晶粒細(xì)化效果的元素，例如鈦和硼。在鑄造(casing)過(guò)程中充分累化的晶體使得晶粒即使在精整冷軋以后，也具有較小的寬度，因此是優(yōu)選的。例如，可以在0.003至0.05重量％的范圍內(nèi)包含鈦，并且可以在0.001至0.02重量％的范圍內(nèi)包含硼。鋁熔體的余量是鋁和非有意加入的雜質(zhì)。這種雜質(zhì)的實(shí)例包括鎂、錳、鋅、鉻、鋯、釩和鈹。這些可以以最高0.05重量％的相應(yīng)量存在。大多數(shù)的非有意加入的雜質(zhì)將源于鋁錠。如果該非有意加入的雜質(zhì)是8存在于鋁純度為99.7重量％的錠中的雜質(zhì)，它們將不危及本發(fā)明想要的效果。該非有意加入的雜質(zhì)例如可以是以L.F.MondoIfo所著的《鋁合金結(jié)構(gòu)禾口性質(zhì)》(AluminumAlloys:StructureandProperties)(1976)中提及的量包含的雜質(zhì)。將熔化和容納爐2內(nèi)的鋁熔體100通過(guò)第一通道3送到過(guò)濾裝置4中。在過(guò)濾裝置4內(nèi)安置用于過(guò)濾鋁熔體100的過(guò)濾器41，以移除混入鋁熔體100中的雜質(zhì)以及保留在熔化爐和熔體通道中的污染物。可以優(yōu)選使用的過(guò)濾裝置是JP354卯80B中所述的過(guò)濾裝置。優(yōu)選將起晶粒細(xì)化材料作用的含TiB2母合金加入到第一通道3中的鋁熔體100中。這是因?yàn)椋Я＜?xì)化材料的加入有助于在連續(xù)鑄造過(guò)程中細(xì)化晶粒，從而使得能夠在用于制造平版印刷版載體的表面處理步驟中抑制歸因于粗晶粒所導(dǎo)致的在表面處理后的不均勻性的出現(xiàn)?？梢詢?yōu)選使用的代表性的含1^2母合金包括以含鈦(5%)和硼(1%)，并且余量為鋁和非有意加入的雜質(zhì)的線材形式的母合金。理想的是在過(guò)濾裝置4的上游側(cè)加入晶粒細(xì)化材料，以抑制TiB2聚集粒子的流出?？梢詫?duì)已經(jīng)調(diào)節(jié)到期望組成的鋁熔體100進(jìn)行凈化處理?？梢杂糜谝瞥X熔體中的不必要?dú)怏w例如氫的代表性凈化處理包括熔劑處理以及使用例如氬氣或氯氣的脫氣處理。凈化處理可以通過(guò)普通方法進(jìn)行。凈化處理不是必須的，但是為了防止歸因于鋁熔體中的外來(lái)雜質(zhì)例如非金屬夾雜物和氧化物的缺陷以及歸因于鋁熔體中的溶解氣體的缺陷，優(yōu)選進(jìn)行凈化處理。熔體的過(guò)濾通常通過(guò)使熔體通過(guò)過(guò)濾器例如陶瓷管過(guò)濾器或陶瓷泡沫過(guò)濾器來(lái)進(jìn)行。該過(guò)濾例如在JP6-57432A、JP3-162530A、JP5-140659A、JP4-231425A、JP4-276031A、JP5-311261A和JP6-136466A中有描述。鋁熔體的脫氣通常通過(guò)下列方法或通過(guò)熔劑處理進(jìn)行，所述方法包括通過(guò)轉(zhuǎn)子將惰性氣體例如氬氣吹送到鋁熔體中，從而將熔體中的氫氣捕獲在氬氣氣泡中并且將其升至熔體表面。該脫氣例如在JP5-51659A和JP5-49148U中有描述。本申請(qǐng)人在JP7-40017A中提出了涉及鋁熔體的脫氣的技術(shù)。盡管未示出，但是優(yōu)選在第一通道3的中途安置脫氣單元，并且在過(guò)濾處理以前進(jìn)行鋁熔體100的脫氣處理(氫氣移除處理)?？梢詫⑸藤?gòu)的旋轉(zhuǎn)脫氣單元例如SNIFF和GBF用于脫氣單元。已經(jīng)通過(guò)了過(guò)濾裝置4的鋁熔體100進(jìn)一步通過(guò)第二通道5，以進(jìn)入用于對(duì)熔體供給噴嘴7供給熔體100的容器6中。容器6安置有液體液面控制機(jī)構(gòu)，所述液體液面控制機(jī)構(gòu)是用于調(diào)節(jié)鋁熔體100的流入量的結(jié)構(gòu)。參考圖1，在容器6中的鋁熔體100的液面處的浮標(biāo)65與安置在容器6的流入口的閥門61連接，并且通過(guò)根據(jù)容器6中的鋁熔體100的液面的高度變化而開(kāi)啟或關(guān)閉閥門61，或改變閥門的開(kāi)啟程度，調(diào)節(jié)流入到容器6中的鋁熔體100的量。容器6內(nèi)的鋁熔體100的液面被保持在基本上固定的高度。然后將從容器6供給到熔體供給噴嘴7的鋁熔體100供給到相互以規(guī)定的距離(例如，約幾毫米至10毫米)安置的一對(duì)冷卻輥8之間。從熔體供給噴嘴7排出的鋁熔體100與冷卻輥8的表面接觸，在此處開(kāi)始熔體的固化。在鋁熔體從熔體供給噴嘴7的頂端到冷卻輥8的表面的運(yùn)動(dòng)過(guò)程中，形成熔體彎月面。熔體彎月面的振動(dòng)引起熔體彎月面與冷卻輥8的接觸點(diǎn)振動(dòng)，其結(jié)果是，在冷卻輥表面上形成具有不同固化歷程的部分，并且很可能出現(xiàn)結(jié)晶組織的不均勻性以及痕量元素的偏析。這種缺陷還稱為"波紋痕跡(ripplemark)"，其可以容易地引起歸因于在對(duì)鋁合金板進(jìn)行冷軋、中間退火和精整冷軋以后，為了制造平版印刷版載體所進(jìn)行的表面處理導(dǎo)致的不均勻性。在這種波紋痕跡的減少方面，優(yōu)選使熔體供給噴嘴7的頂端傾斜，使得至少在該頂端的下側(cè)的外表面與鋁熔體的排放方向形成銳角，從而將鋁熔體從一個(gè)點(diǎn)始終如一地釋放。例如，可以有利地使用JP10-58094A中所述的方法。圖3是顯示熔體供給噴嘴的形狀以及熔體供給噴嘴與冷卻輥之間的位置關(guān)系的一個(gè)優(yōu)選實(shí)例的示意圖。圖3僅顯示了噴嘴的上端側(cè)的噴嘴板以及上冷卻輥，但是噴嘴的下端側(cè)的噴嘴板以及下冷卻輥具有與圖3中所示的位置關(guān)系相同的位置關(guān)系。圖3顯示了凹口(倒棱)71，其形成用于避免熔體供給噴嘴7的唇部的外部周邊與冷卻輥8接觸，并且用于使得熔體供給噴嘴7的唇部的外部邊緣與冷卻輥8接觸。換言之，熔體供給噴嘴7僅在它的頂端T與冷卻輥8接觸。優(yōu)選在熔體供給噴嘴7的整個(gè)寬度上提供凹口(倒棱)。這種結(jié)構(gòu)防止了作為用于熔體彎月面振動(dòng)的空間的間隙的形成，從而使得能夠形成沒(méi)有外觀缺陷的鋁合金板，以及因此能夠形成具有大大減少的外觀缺陷的平版印刷版載體。優(yōu)選減小噴嘴7的頂端與冷卻輥8的表面之間的距離，以減小彎月面振動(dòng)過(guò)程中的振幅。因此，理想地，噴嘴7的頂端總是與冷卻輥8的表面接觸，其中在所述噴嘴7的頂部，下側(cè)(并且優(yōu)選下側(cè)和上側(cè))的外表面與鋁熔體的排放方向形成銳角。更具體地，在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，在形成熔體供給噴嘴7的構(gòu)件中，自上側(cè)與鋁熔體接觸的頂板構(gòu)件和自下側(cè)與鋁熔體接觸的底板構(gòu)件可垂直移動(dòng)，并且在來(lái)自鋁熔體的壓力下，所述頂板構(gòu)件和底板構(gòu)件被壓制在鄰接的冷卻輥8的表面上。例如，可以有利地使用JP2000-117402A中所述的實(shí)施方案。以此方式，熔體供給噴嘴7的頂端總是與冷卻輥8接觸，其結(jié)果是，將熔體彎月面保持為固定的形狀，從而使得能夠得到具有大大減少的外觀缺陷的平版印刷版載體。即使熔體彎月面被以此方式穩(wěn)定，通過(guò)連續(xù)鑄造而得到的鋁合金板也很可能歸因于熔體供給噴嘴中的熔體的不均勻流動(dòng)而不均勻。因此，必須使熔體供給噴嘴內(nèi)的熔體的流動(dòng)均勻。然而，由于冷卻輥之間的間隙在尺寸上是幾毫米至約10毫米，并且因而非常小，因此向其供給熔體的噴嘴也具有非常窄的構(gòu)造，因此鋁熔體所通過(guò)的噴嘴的內(nèi)部中的空間也窄。因此，噴嘴內(nèi)部中的鋁熔體的平滑流動(dòng)的任何破壞將立即導(dǎo)致鋁熔體流動(dòng)的不均勻性。為了保證鋁熔體平滑流過(guò)噴嘴，優(yōu)選噴嘴的內(nèi)壁具有低的鋁熔體潤(rùn)濕性。為此目的，優(yōu)選噴嘴的內(nèi)壁由具有相對(duì)于鋁熔體的低的潤(rùn)濕性且還具有適當(dāng)?shù)牟灰?guī)則性程度的材料制成。JP10-225750A描述了一種用于確定噴嘴內(nèi)壁上粗糙度的方法。具體地，在與鋁熔體接觸的內(nèi)表面上，預(yù)先對(duì)熔體供給噴嘴涂布含有ii填料粒子的脫模劑，所述填料粒子具有中位直徑為5至20Mm且最常見(jiàn)的直徑(modaldiameter)為4至12pm的粒度分布。促進(jìn)鋁烙體的平滑流動(dòng)的脫模劑的示意性實(shí)例包括其中使用化合物例如氧化鋅或氮化硼(BN)作為填料的脫模劑。在這些中，優(yōu)選其中使用氮化硼作為填料的脫模劑。例如，可以有利地使用JP11-192537A中所述的方法。圖4是示意性地顯示其頂端具有可移動(dòng)結(jié)構(gòu)的熔體供給噴嘴的另一個(gè)實(shí)例的平面圖。圖4B是圖4A中所示的熔體供給噴嘴的側(cè)視圖。在圖4A和4B中所示的熔體供給噴嘴7B中，頂板構(gòu)件72和底板構(gòu)件73以這樣的方式與銷釘74固定，所述的方式使得頂板構(gòu)件72的頂端和底板構(gòu)件73的頂端能夠響應(yīng)于來(lái)自鋁熔體的壓力而圍繞各個(gè)銷釘74輕微樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。從而在來(lái)自鋁熔體的壓力下，可以使頂板構(gòu)件72和底板構(gòu)件73的各個(gè)頂端與冷卻輥接觸。冷卻輥不受任何特別限制。例如，可以使用具有鐵芯/殼構(gòu)造的已知冷卻輥。當(dāng)使用具有鐵芯-殼構(gòu)造的冷卻輥時(shí)，通過(guò)具有流過(guò)安置在芯和殼之間的通道的冷卻水，可以提高在冷卻輥表面的冷卻能力。而且，通過(guò)進(jìn)一步軋制固化了的鋁，可以將鋁合金板精確設(shè)置到期望的厚度。已經(jīng)在冷卻輥表面固化的鋁在此狀態(tài)下可能具有粘附到冷卻輥上的趨勢(shì)，從而使得難以連續(xù)進(jìn)行穩(wěn)定的鑄造。因此，在本發(fā)明的實(shí)踐中，優(yōu)選將脫模劑涂敷到冷卻輥的表面上。脫模劑優(yōu)選是具有優(yōu)異耐熱性的脫模劑。適當(dāng)?shù)膶?shí)例包括含有碳石墨的脫模劑。涂敷方法不受任何特別限制。適當(dāng)?shù)膶?shí)例是其中其上噴涂了碳石墨粒子的懸浮液(優(yōu)選水性懸浮液)的方法。優(yōu)選噴涂，原因在于可以在不與冷卻輥直接接觸的情況下將脫模劑供給到冷卻輥上。這里，如果涂敷的脫模劑的厚度在冷卻輥的寬度方向和/或圓周方向上不同，則這將對(duì)對(duì)于冷卻輥的傳熱速率具有影響，并且在鐵和硅的存在下，導(dǎo)致晶粒不均一性和不均勻性。因而，在本發(fā)明的實(shí)踐中，優(yōu)選使已經(jīng)涂敷的脫模劑的厚度均勻。具體地，用于實(shí)現(xiàn)此目的的一種優(yōu)選方法是，在均勻的壓力下，使由耐火材料或耐熱織物制成的擦具與冷卻輥的表面接觸。備選地，如果不存在與熔體直接接觸的危險(xiǎn)，可以使用由棉等制成的織物類似地使涂敷的脫模劑的厚度均勻。由于脫模劑被擦具或其它厚度均勻化裝置捕集，或其移動(dòng)到連續(xù)鑄造鋁合金板的表面上，因此理想的是周期性地將新的脫模劑供給到冷卻輥的表面上。如果熔體供給噴嘴在寬度方向上與冷卻輥非均勻接觸，則在一些區(qū)域內(nèi)，冷卻輥表面上的脫模劑將被刮掉，其結(jié)果是輥表面上的脫模劑的厚度將趨于變得不均勻，這將趨于損害晶粒的均勻性。因此，在本發(fā)明的實(shí)踐中，熔體供給噴嘴具有擁有不接觸冷卻輥的外部邊緣的開(kāi)口。更優(yōu)選僅在噴嘴頂端接觸冷卻輥，其原因在于可以因而使上述波紋痕跡最小化。在本發(fā)明的實(shí)踐中，通過(guò)使用移動(dòng)模具的連續(xù)鑄造法進(jìn)行鑄造。熔體以100至1,00(TC/s的冷卻速率固化。連續(xù)鑄造法通常具有比直接冷鑄法更快的冷卻速率，并且因而其特征是獲得在鋁基體中的更高的合金成分的固溶度的能力。當(dāng)進(jìn)行連續(xù)鑄造，例如通過(guò)包括使用冷卻輥的方法(例如，亨特法(Hunterprocess)),可以將熔體直接并連續(xù)地鑄造成為厚度為1至10mm的板，從而可以省略熱軋步驟。相對(duì)于要稍后進(jìn)行的冷軋的效率，通過(guò)鑄造并軋制得到的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200優(yōu)選具有更小的厚度，并且通常具有1至10mm的厚度。連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200被以巻的形狀巻繞在巻取單元9上，并且被切割機(jī)(未示出)適當(dāng)?shù)厍懈睢１景l(fā)明的制造平版印刷版載體用鋁合金板的方法抑制了存在于容器6內(nèi)的鋁熔體100的液面的振動(dòng)。更具體地，通過(guò)將在鋁熔體100的液面的垂直方向上的振幅減小到不大于10mm，抑制了來(lái)自熔體供給噴嘴7的鋁熔體100的流量變化，從而使得得到的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200具有均勻的表面組成。圖9A是顯示普通容器6的結(jié)構(gòu)的正視圖，并且圖9B是圖9A中所示的容器6的平面圖。如箭頭所述，已經(jīng)通過(guò)安置在流入口的閥門61流入到容器6中的鋁熔體100的一部分直接流向鋁熔體100的上表面，從而在熔體液面引起振動(dòng)。鋁熔體100的流動(dòng)在容器6內(nèi)形成穩(wěn)定的渦流，從而在烙體液面引起振動(dòng)。由于這些因素，在熔體液面振動(dòng)的鋁熔體100被從流出口62供給到熔體流動(dòng)噴嘴7，從而改變了從熔體供給噴嘴7供給的鋁烙體100的量，使得通過(guò)鑄造和軋制得到的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200具有不均勻的表面組成。在本發(fā)明的實(shí)踐中，容器6具有將稍后所述的特定形狀特征，從而抑制容器6內(nèi)鋁熔體100的液面振動(dòng)，同時(shí)將鋁烙體100的液面的垂直振幅減小到10mm以下。圖5A是顯示本發(fā)明中的容器6a的結(jié)構(gòu)的正視圖，并且圖5B是圖5A中所示容器的平面圖。圖5A和5B中所示的容器6a在它的內(nèi)部安置有堰板63，所述堰板63起著用于抑制存在于容器6a內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)的裝置的作用。安置在圖5A和5B中所示的容器6a內(nèi)的堰板63使得振動(dòng)在鋁熔體100的液面擴(kuò)散，因此抑制了存在于容器6a內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)，從而可以將鋁熔體100的液面的垂直振幅減小到10mm以下。在圖5A中，堰板63具有比鋁熔體100的液面更高的高度。然而，對(duì)堰板63的高度沒(méi)有強(qiáng)加特別限制，只要可以抑制存在于容器6a內(nèi)的鋁熔體100液面的振動(dòng)即可，并且堰板63可以低于鋁熔體100的液面。參考圖5B，堰板63被安置在垂直于容器6的縱向的方向上，即軸(縱軸)通過(guò)流入口和流出口62。然而，這不是本發(fā)明的唯一情況，只要可以抑制存在于容器6a內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)即可，并且堰板63可以相對(duì)于容器6a的縱軸傾斜安置。備選地，堰板63可以平行于容器6a的縱軸安置。在圖5A和5B中的容器6a內(nèi)安置了兩塊堰板63。然而，這不是本發(fā)明的唯一情況，只要可以抑制存在于容器6a內(nèi)的鋁熔體100的液面的振動(dòng)即可，并且堰板63的數(shù)量可以是1或不少于3。圖6A是顯示本發(fā)明中的另一種容器6b的結(jié)構(gòu)的正視圖，并且圖6B是圖6A中所示容器的平面圖。圖6A和6B中所示的容器6b具有起伏結(jié)構(gòu)64的內(nèi)壁，所述起伏結(jié)構(gòu)64起著用于抑制存在于容器6b內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)的裝置的作用。圖6A和6B中所示的容器6b中的這種起伏結(jié)構(gòu)64的內(nèi)壁使得能夠抑制在容器6b內(nèi)可能出現(xiàn)的鋁熔體100的穩(wěn)定的渦流，因此，能夠抑制存在于容器6b內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)，從而可以將鋁熔體100的液面的垂直振幅減小到10mm以下。在圖6B中，容器6b的所有內(nèi)壁，更具體地，在上游側(cè)的內(nèi)壁，在下游側(cè)的內(nèi)壁以及側(cè)內(nèi)壁全部都具有起伏結(jié)構(gòu)64。然而，這不是本發(fā)明的唯一情況，只要通過(guò)在容器6b中安置起伏結(jié)構(gòu)64的內(nèi)壁，能夠抑制存在于容器6b內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)即可。例如，可以僅在上游側(cè)的內(nèi)壁和在下游側(cè)的內(nèi)壁具有起伏結(jié)構(gòu)64。備選地，可以僅側(cè)內(nèi)壁具有起伏結(jié)構(gòu)64，或者可以在上游內(nèi)壁、下游內(nèi)壁和側(cè)內(nèi)壁中的至少一個(gè)內(nèi)壁具有起伏結(jié)構(gòu)64。內(nèi)壁在圖6A中的高度方向上的全部面積上且在圖6B中的寬度方向上的全部面積上具有起伏結(jié)構(gòu)64。然而，這不是本發(fā)明的唯一情況，只要通過(guò)在容器6b中安置起伏結(jié)構(gòu)64的內(nèi)壁能夠抑制存在于容器6b內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)即可?？梢詢H高度方向上的內(nèi)壁的一部分或僅寬度方向上的內(nèi)壁的一部分具有起伏結(jié)構(gòu)64。在圖6A和6B中，突部在截面上是三角形(處于四邊金字塔的形狀)。然而，這不是本發(fā)明的唯一情況，只要通過(guò)在容器6b中安置起伏結(jié)構(gòu)64的內(nèi)壁能夠抑制存在于容器6b內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)即可。該突部在截面上可以具有圓形、橢圓形、長(zhǎng)方形、五角形或其它多角形形狀。對(duì)在容器6b的內(nèi)壁上形成的起伏結(jié)構(gòu)64的突部的高度和間距沒(méi)有強(qiáng)加特別限制，只要通過(guò)容器6b的內(nèi)壁的起伏結(jié)構(gòu)64能夠抑制存在于容器6b內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)即可。起伏結(jié)構(gòu)64中的突部的高度和間距可以為約幾厘米。圖7A是顯示本發(fā)明中的又一種容器6c的結(jié)構(gòu)的正視圖，并且圖7B是圖7A中所示容器的平面圖。圖7A和7B中所示的容器6c具有閥門61'，所述閥門61，具有與圖9A和9B中所示的閥門61不同的形狀，并且被安置在與圖9A和9B中所示的閥門61不同的位置。在圖7A和7B中所示的容器6c中，閥門61，起著用于抑制存在于6c內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)的裝置的作用。如在圖9A和9B中所示的安置在容器6的流入口的閥門61中，通常在容器6的內(nèi)壁側(cè)安置具有截錐形狀的閥門，使得在開(kāi)啟時(shí)，所述閥門處于閥門61內(nèi)部。然而，在使用圖9A和9B中所示的閥門61的情況下，流入口朝向容器6的內(nèi)部張開(kāi)，并且隨后是閥門61，使得如通過(guò)箭頭所示，已經(jīng)流過(guò)流入口的鋁熔體100在所有的方向上在容器6中擴(kuò)散。結(jié)果，容器6內(nèi)的鋁熔體100的流動(dòng)具有直接使鋁熔體100的上表面振動(dòng)的矢量。相反，圖7A和7B中所示的容器6c具有安置在容器6c的外壁側(cè)的截錐形狀的閥門61'。換言之，安置閥門61'，使其在開(kāi)啟時(shí)位于容器6c的外部。在使用圖7A和7B中所示的閥門61'的情況下，流入口朝向容器6c的內(nèi)部逐漸減小，并且之前是閥門61'，使得如通過(guò)箭頭所示，已經(jīng)流過(guò)流入口的鋁熔體100到達(dá)容器6c的中心，并且容器6c內(nèi)的鋁熔體100的流動(dòng)幾乎沒(méi)有可以引起鋁熔體100的液面的振動(dòng)的矢量。結(jié)果，鋁熔體100的液面振動(dòng)被抑制，同時(shí)將鋁熔體100的液面的垂直振幅減小到10mm以下。圖8A是顯示本發(fā)明中的再一種容器6d的結(jié)構(gòu)的正視圖，并且圖8B是圖8A中所示容器的平面圖。圖8A和8B中所示的容器6d具有比圖9A和犯中所示的容器6更大的開(kāi)口面積。通過(guò)增大圖8A和8B中所示容器6d的開(kāi)口面積，容器6d可以對(duì)鋁熔體100的液面振動(dòng)的各種原因具有更高的抵抗性。以此方式，鋁熔體100的液面的振動(dòng)被抑制，同時(shí)將鋁熔體100的液面的垂直振幅減小到100mm以下。從上述要點(diǎn)清楚的是，圖8A和8B中所示的容器6d具有增大的開(kāi)口面積，其起著用于抑制存在于容器6d內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)的裝置的作用。為了抑制存在于容器6d內(nèi)的鋁熔體100的液面振動(dòng)，容器6d具有優(yōu)選至少50x50cm2，更優(yōu)選至少60x60cm2，并且再優(yōu)選至少70x70cm2的開(kāi)口面積。圖9A和9B中所示的常用容器6具有約30x30cm2的開(kāi)口面積。圖8B中所示的容器6d的開(kāi)口面積通過(guò)在縱向和橫向上增加容器尺寸而增大。然而，這不是本發(fā)明的唯一情況，只要容器6d具有至少50x50cm2的開(kāi)口面積即可。即使在通過(guò)在縱向和橫向中的一個(gè)方向上增加容器尺寸而將開(kāi)口面積增大到50x50cm2時(shí)，也可以達(dá)到相同的效果。在本發(fā)明的實(shí)踐中，可以使用用于抑制存在于容器內(nèi)的熔體的液面振動(dòng)的上述裝置中的任何一種，或可以組合使用兩種以上的裝置?？紤]到抑制存在于容器內(nèi)的熔體的液面的振動(dòng)效果，優(yōu)選組合使用兩種以上的裝置。在制造平版印刷版用鋁合金板的本發(fā)明方法中，根據(jù)上述程序進(jìn)行鑄造步驟，以制備連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200，并且在此之后，根據(jù)普通程序進(jìn)行冷軋、中間退火、精整冷軋和平直度校正。以下描述這些程序。<冷軋>然后，對(duì)在圖1中所示的用于連續(xù)鑄造和軋制的裝置1中被切割機(jī)(未示出)適當(dāng)?shù)厍懈畈⒁詭喌男螤顜喞@在巻取單元9上的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200進(jìn)行冷軋。冷軋是用于減小由圖1中所示的用于連續(xù)鑄造和軋制的裝置1生產(chǎn)的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200的厚度的步驟。連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200可以因而具有期望的厚度。冷軋可以通過(guò)本領(lǐng)域中已知的任何方法進(jìn)行。圖10是顯示可以在冷軋中使用的冷軋機(jī)的一個(gè)實(shí)例的示意圖。圖10中所示的冷軋機(jī)11通過(guò)一對(duì)軋制輥14對(duì)在供給巻12和巻取巻13之間行進(jìn)的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200施加壓力而進(jìn)行冷軋，所述一對(duì)軋制輥14由它們的支撐輥15旋轉(zhuǎn)。<中間退火〉冷軋之后是中間退火，所述中間退火是其中將冷軋以后的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)熱處理的步驟。與使用固定模具的常規(guī)方法不同，連續(xù)鑄造法可以非常迅速地將熔體充分冷卻和固化。結(jié)果，與使用固定模具的常規(guī)方法相比，通過(guò)連續(xù)鑄造得到的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)可以具有相當(dāng)細(xì)化的晶粒。然而，在沒(méi)有進(jìn)一步處理的情況下，晶粒尺寸仍舊大，并且在通過(guò)在進(jìn)行了精整冷軋的鋁合金板上進(jìn)行表面粗糙化處理而得到的平版印刷版載體上，更容易出現(xiàn)歸因于晶粒尺寸而導(dǎo)致的外觀缺陷(表面處理之后的不均勻性)。因此，當(dāng)在上述冷軋步驟中的應(yīng)變聚集以后進(jìn)行中間退火時(shí)，釋放了冷軋步驟中積聚的位錯(cuò)，發(fā)生再結(jié)晶，并且可以進(jìn)一步細(xì)化晶粒。具體地，17通過(guò)冷軋步驟中的壓縮比以及中間退火步驟中的熱處理?xiàng)l件(尤其是溫度、時(shí)間和升溫速率)，可以控制晶粒。例如，在進(jìn)行連續(xù)退火時(shí)，通常在300至600。C進(jìn)行加熱長(zhǎng)達(dá)10分鐘，優(yōu)選在400至600'C進(jìn)行加熱長(zhǎng)達(dá)6分鐘，并且更優(yōu)選在450至55(TC進(jìn)行加熱長(zhǎng)達(dá)2分鐘。而且，通常將升溫速率設(shè)置到約0.5至50(TC/分鐘，但是通過(guò)將升溫速率設(shè)置到10至20(TC/s并且通過(guò)將升溫以后的保持時(shí)間縮短到至多10分鐘且優(yōu)選2分鐘以下，可以促進(jìn)較小晶粒的形成。在間歇退火的情況下，連續(xù)鑄造板通常在300至55(TC加熱至少5小時(shí)，優(yōu)選在300至50(TC加熱至少10小時(shí)，并且更優(yōu)選在350至49(TC加熱至少10小時(shí)。對(duì)于每一個(gè)溫度，退火時(shí)間的上限理想長(zhǎng)達(dá)40小時(shí)。中間退火可以通過(guò)本領(lǐng)域中已知的任何方法進(jìn)行。更具體地，可以使用JP6-220593A、JP6-210308A、JP7-54111A和JP8-92709A中所述的方法。<精整冷軋>中間退火之后是精整冷軋，所述精整冷軋是用于減小中間退火之后的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)的厚度的步驟。己經(jīng)經(jīng)歷了精整冷軋的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)優(yōu)選具有0.1至0.5mm的厚度。冷軋可以通過(guò)本領(lǐng)域中已知的任何方法進(jìn)行，并且例如通過(guò)與中間退火之前的上述冷軋中相同的方法進(jìn)行。<平直度校正>平直度校正是用于校正連續(xù)鑄造板(鋁合金板)的平直度的步驟。平直度校正可以通過(guò)本領(lǐng)域中已知的任何方法進(jìn)行。例如，此步驟可以通過(guò)使用校平機(jī)例如輥校平器或張力校平器進(jìn)行。可以在將鋁合金板切割成不連續(xù)的片材以后校正平直度。然而，為了增加生產(chǎn)率，優(yōu)選校正處于連續(xù)巻的狀態(tài)的鋁合金板的平直度。圖11是顯示校平機(jī)的一個(gè)實(shí)例的示意圖。圖11中所示的校平機(jī)20在用包括工作輥24的校平器21對(duì)在供給巻22和巻取巻23之間行進(jìn)的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200施加張力的同時(shí)，改善了所述板的平直度。然后所述板被縱切器25切割成特定的寬度。為了將板切割成特定的寬度，也可以進(jìn)行其中使所述板通過(guò)縱切器流水線的縱切?？梢允褂帽绢I(lǐng)域中已知的任何方法進(jìn)行縱切。還可以進(jìn)行其中在鋁合金板表面上提供油薄膜的油膜形成步驟，以防止歸因于鄰接鋁合金板之間的摩擦導(dǎo)致的磨損。在需要時(shí)，可以適當(dāng)使用揮發(fā)性或非揮發(fā)性油膜。對(duì)根據(jù)上述程序制備的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)在由其制造平版印刷版載體時(shí)進(jìn)行要在以下所述的表面處理。并不總是必須進(jìn)行所有這些表面處理，但是表面粗糙化處理和陽(yáng)極化處理是必不可少的。對(duì)于這些表面處理的次數(shù)沒(méi)有特別限制，并且可以進(jìn)行兩次以上。<表面粗糙化處理>通常，將機(jī)械粒化處理、化學(xué)粒化處理和電化學(xué)?；幚?以下也稱為"電解?；幚?)單獨(dú)地或以兩種以上的組合用于表面粗糙化處理。在要在以下描述的優(yōu)選實(shí)施方案中，表面粗糙化處理包括下列三種基本處理電解?；幚?、其后的液膜形成處理以及其后的堿蝕刻處理，但是可以包括其它處理。在本發(fā)明的實(shí)踐中，電解粒化處理之后是液膜形成處理，并且例如，不包括其中在電解?；幚砗鸵耗ば纬商幚碇g進(jìn)行的漂洗處理的實(shí)施方案。表面粗糙化處理的優(yōu)選實(shí)施方案包括其中以下列順序進(jìn)行第一堿蝕刻處理、第一去污點(diǎn)處理、在含硝酸的電解溶液中的電解粒化處理、液膜形成處理、第二堿蝕刻處理以及第二去污點(diǎn)處理的第一實(shí)施方案；其中在第一實(shí)施方案中，機(jī)械?；幚硐扔诘谝粔A蝕刻處理的第二實(shí)施方案；其中以下列順序進(jìn)行第一堿蝕刻處理、第一去污點(diǎn)處理、在含硝酸的電解溶液中的第一電解粒化處理、第一液膜形成處理、第二堿蝕刻處理、第二去污點(diǎn)處理、在含鹽酸的電解溶液中的第二電解?；幚?、第二液膜形成處理、第三堿蝕刻處理以及第三去污點(diǎn)處理的第三實(shí)施方案；其中在第三實(shí)施方案中，機(jī)械?；幚硐扔诘谝粔A蝕刻處理的第四實(shí)施方案；以及其中以下列順序進(jìn)行第一堿蝕刻處理、第一去污點(diǎn)處理、在含鹽酸的電解溶液中的電解粒化處理、液膜形成處理、第二堿蝕刻處理以及第二去污點(diǎn)處理的第五實(shí)施方案。以下描述可以包括在表面粗糙化處理中的各種處理。<機(jī)械?；幚怼禐榱藢X合金板表面的平均表面粗糙度調(diào)節(jié)在0.35至1.0pm的范圍內(nèi)，通常進(jìn)行機(jī)械粒化處理。例如，可以將JP6-135175A和JP50-40047B中所述的方法用于機(jī)械?；幚怼C(jī)械?；幚碇髢?yōu)選是電化學(xué)?；幚?或?qū)⒃谶M(jìn)行電化學(xué)?；幚磉M(jìn)行多次的情況下的第一電化學(xué)粒化處理)。以下描述可以被有利地用于機(jī)械粒化處理的刷致?；?Brushgraining)。刷致粒化通常用通過(guò)在圓筒形輥芯的表面上設(shè)置剛毛例如塑料剛毛(例如，由塑料例如尼龍、聚丙烯或聚氯乙烯制成的剛毛)而得到的輥刷進(jìn)行。刷致粒化通過(guò)在將含磨料的漿液噴射到旋轉(zhuǎn)輥刷上的同時(shí)，摩擦鋁合金板的一側(cè)或兩側(cè)而進(jìn)行。所述輥刷和漿液可以由拋光輥代替，所述拋光輥是在其表面上形成有拋光層的輥。在使用輥刷的情況下，可以使用的刷上的剛毛具有優(yōu)選為10,000至40,000kg/cm2，并且更優(yōu)選為15,000至35,000kg/cm2的撓曲模量，以及優(yōu)選為500g以下，并且更優(yōu)選為400g以下的勁度。剛毛通常具有0.2至0.9mm的直徑。剛毛長(zhǎng)度可以取決于輥刷的外徑以及輥芯的直徑而適當(dāng)確定，但是剛毛通常具有IO至100mm的長(zhǎng)度。在本發(fā)明中，優(yōu)選使用多個(gè)尼龍刷，更優(yōu)選使用至少3個(gè)尼龍刷，并且最優(yōu)選使用至少4個(gè)尼龍刷。刷的數(shù)量的調(diào)節(jié)使得能夠調(diào)節(jié)在鋁合金板表面上形成的凹坑的波長(zhǎng)成分(wavelengthcomponents)。將刷輥按壓在鋁合金板上，直至旋轉(zhuǎn)刷的驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)上的負(fù)荷比將所述輥按壓在所述板上以前大優(yōu)選lkW，更優(yōu)選2kW，并且進(jìn)一步優(yōu)選8kW為止。負(fù)荷的調(diào)節(jié)使得能夠調(diào)節(jié)在鋁合金板表面上形成的凹坑的深度。刷的旋轉(zhuǎn)速度優(yōu)選為至少100rpm并且更優(yōu)選為至少200rpm。可以使用己知磨料，包括浮石、硅砂、氫氧化鋁、氧化鋁粉末、碳化硅、氮化硅、火山灰、金剛砂、鋼砂，以及它們的混合物。在這些中，優(yōu)選浮石和硅砂。硅砂比浮石更硬并且更少脆性，因此在粒化效率上優(yōu)異。過(guò)量的負(fù)荷可以使氫氧化鋁的粒子破裂，因此在不期望局部深凹坑的形成的情況下，氫氧化鋁是適當(dāng)?shù)??？紤]到?；蕛?yōu)異并且能夠使?；g距變窄，磨料優(yōu)選具有2至100jam,并且更優(yōu)選20至60pm的中位直徑。磨料中位直徑的調(diào)節(jié)使得能夠調(diào)節(jié)在鋁合金板表面上形成的凹坑的深度。磨料被懸浮在例如水中，以用作漿液。除磨料以外，漿液可以包括增稠劑、分散劑(例如，表面活性劑)和防腐劑。漿液優(yōu)選具有0.5至2的比重。JP2002-211159A中所述的設(shè)備可以被用作用于進(jìn)行使用上述刷和磨料的機(jī)械?；幚淼脑O(shè)備。代替通過(guò)刷致?；臋C(jī)械粒化處理，或除通過(guò)刷致粒化的機(jī)械?；幚硪酝?，在本發(fā)明中還可以使用其中用在其表面上具有規(guī)定的不規(guī)則性圖案的轉(zhuǎn)印輥將所述不規(guī)則性轉(zhuǎn)印到鋁合金板的表面上的方法。在本發(fā)明的實(shí)踐中，通過(guò)在上述精整冷軋結(jié)束時(shí)進(jìn)行轉(zhuǎn)印，可以進(jìn)行這樣的機(jī)械?；幚?并且具體地，使用轉(zhuǎn)印輥的?；幚?，以在所述板表面上形成不規(guī)則性。<第一堿蝕刻處理>在第一堿蝕刻處理中，將鋁合金板與堿溶液接觸，從而溶解表面層。在電解?；幚?其稱為第一電解?；幚?，除非在進(jìn)行第一和第二電解粒化處理的情況下另外規(guī)定；在下列描述中也同樣適用)以前進(jìn)行第一堿蝕刻處理的目的是，在進(jìn)行機(jī)械?；幚淼那闆r下，使粗糙化的表面平滑；在沒(méi)有進(jìn)行機(jī)械粒化處理的情況下，在電解粒化處理中形成均勻的凹坑，并且從鋁合金板的表面移除物質(zhì)例如軋制油、污染物以及自然氧化的膜。在第一堿蝕刻處理中移除的材料的量(以下也稱為"蝕刻量")優(yōu)選為至少0.1g/m2,更優(yōu)選為至少0.5g/m2，并且進(jìn)一步優(yōu)選為至少1g/m2，但是優(yōu)選不大于10g/m2，更優(yōu)選不大于8g/m2，并且進(jìn)一步優(yōu)選不大于5g/m2。當(dāng)蝕刻量的下限落入以上范圍內(nèi)時(shí)，可以在電解?；幚碇行纬删鶆虻陌伎?，從而防止處理不均勻性出現(xiàn)。當(dāng)蝕刻量的上限落入以上范圍內(nèi)時(shí)，使用的堿性水溶液的量減小，這在經(jīng)濟(jì)上是有利的?？梢栽趬A溶液中使用的堿示例的是苛性堿和堿金屬鹽。適當(dāng)?shù)目列詨A的具體實(shí)例包括氫氧化鈉和氫氧化鉀。適當(dāng)?shù)膲A金屬鹽的具體實(shí)例包括堿金屬硅酸鹽，例如偏硅酸鈉、硅酸鈉、偏硅酸鉀和硅酸鉀；堿金屬碳酸鹽，例如碳酸鈉和碳酸鉀；堿金屬鋁酸鹽，例如鋁酸鈉和鋁酸鉀；堿金屬醛糖酸鹽，例如葡糖酸鈉和葡糖酸鉀；以及堿金屬磷酸氫鹽，例如磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸二氫鈉和磷酸二氫鉀。在這些中，考慮到高的蝕刻速率和低的成本，優(yōu)選苛性堿溶液以及同時(shí)含有苛性堿和堿金屬鋁酸鹽的溶液。尤其優(yōu)選氫氧化鈉的水溶液。在第一堿蝕刻處理中，堿溶液的濃度優(yōu)選為至少30g/L，并且更優(yōu)選為至少300g/L，但是優(yōu)選不大于500g/L，并且更優(yōu)選不大于450g/L。理想的是，堿溶液含有鋁離子。鋁離子濃度優(yōu)選為至少1g/L，并且更優(yōu)選為至少50g/L，但是優(yōu)選不大于200g/L，并且更優(yōu)選不大于150g/L。這種堿溶液可以使用例如水、48重量％的氫氧化鈉水溶液以及鋁酸鈉制備o在第一堿蝕刻處理中，堿溶液的溫度優(yōu)選為至少3(TC，并且更優(yōu)選為至少50。C，但是優(yōu)選不高于80。C，并且更優(yōu)選不高于75。C。在第一堿蝕刻處理中，處理時(shí)間優(yōu)選為至少l秒，并且更優(yōu)選為至少2秒，但是優(yōu)選不超過(guò)30秒，并且更優(yōu)選不超過(guò)15秒。在連續(xù)蝕刻鋁合金板時(shí)，堿溶液中的鋁離子濃度升高，并且從鋁合金板蝕刻的材料的量改變。因而，理想的是，將蝕刻溶液組成控制如下。首先，相對(duì)于氫氧化鈉濃度和鋁離子濃度的矩陣(matrix)，制定電導(dǎo)率、比重和溫度的矩陣或電導(dǎo)率、超聲波傳播速度和溫度的矩陣。然后基于電導(dǎo)率、比重和溫度或基于電導(dǎo)率、超聲波傳播速度和溫度，測(cè)量溶液組成，并且加入氫氧化鈉和水，以控制溶液組成的目標(biāo)值。接著，使得隨著氫氧化鈉和水的加入而體積增加的蝕刻溶液從循環(huán)槽溢出，從而保持溶液的量不變。加入的氫氧化鈉可以是工業(yè)級(jí)的40至60重量％的氫氧化鈉。使用的電導(dǎo)率計(jì)和比重計(jì)優(yōu)選是溫度補(bǔ)償儀器。比重計(jì)優(yōu)選是壓差比重計(jì)。用于將鋁合金板與堿溶液接觸的方法的示意性實(shí)例包括使鋁合金板通過(guò)裝有堿溶液的槽，將鋁合金板浸入裝有堿溶液的槽，以及用堿溶液噴射鋁合金板的表面。這些中最理想的是包括用堿溶液噴射鋁合金板的表面的方法。理想的是這樣的方法，在所述方法中，以每條噴射管(spmyline)10至100L/分鐘的速率，從至少一條噴射管，并且優(yōu)選兩個(gè)以上的噴射管噴射蝕刻溶液，所述噴射管的每一條具有以10至50mm的間距間隔的2至5mm直徑的開(kāi)口。在堿蝕刻處理完成以后，理想的是用壓料輥移除保留在鋁合金板上的蝕刻溶液，用水對(duì)所述板進(jìn)行1至10秒漂洗處理，然后用壓料輥移除水。漂洗處理優(yōu)選通過(guò)使用自由落下的水幕(free-fallingcurtainofwater)的漂洗設(shè)備漂洗而進(jìn)行，并且還通過(guò)噴射管漂洗進(jìn)行。備選地，可以用具有多個(gè)噴射頭的噴射管進(jìn)行漂洗，所述多個(gè)噴射頭排放出扇樣的水噴射流，并且被沿鋁合金板的寬度布置。噴射頭之間的間隔優(yōu)選為20至100mm，并且每個(gè)噴射頭排放的水的量?jī)?yōu)選為0.5至20L/分鐘。優(yōu)選使用多條噴射管。<第一去污點(diǎn)處理>在第一堿蝕刻處理以后，優(yōu)選進(jìn)行酸浸(第一去污點(diǎn)處理)，以移除保留在鋁合金板的表面上的污染物(污點(diǎn))。去污點(diǎn)處理通過(guò)將酸性溶液與鋁合金板接觸而進(jìn)行?？梢允褂玫乃岬膶?shí)例包括硝酸、硫酸、磷酸、鉻酸、氫氟酸和四氟硼酸。在第一堿蝕刻處理以后的第一去污點(diǎn)處理中，在使用硝酸的電解隨后被作為第一電解?；幚矶M(jìn)行時(shí)，優(yōu)選使用來(lái)自在使用硝酸的電解中所使用的電解溶液的溢流。通過(guò)選擇并使用基于相對(duì)于酸性溶液濃度和鋁離子濃度的矩陣的電導(dǎo)率和溫度的控制方法，基于相對(duì)于以上矩陣的電導(dǎo)率、比重和溫度的控制方法，或基于相對(duì)于以上矩陣的電導(dǎo)率、超聲波傳播速度和溫度的控制方法，可以控制去污點(diǎn)處理溶液的組成。在第一去污點(diǎn)處理中，優(yōu)選使用含有1至400g/L的酸以及5g/L的鋁23離子的酸性溶液。酸性溶液的溫度優(yōu)選為至少2(TC，并且更優(yōu)選為30°C，但是優(yōu)選不高于7(TC，并且更優(yōu)選不高于6(TC。在第一去污點(diǎn)處理中，處理時(shí)間優(yōu)選為至少l秒，并且更優(yōu)選為至少4秒，但是優(yōu)選不長(zhǎng)于60秒，并且更優(yōu)選不長(zhǎng)于40秒。用于將鋁合金板與酸性溶液接觸的方法的示意性實(shí)例包括使鋁合金板通過(guò)裝有酸性溶液的槽，將鋁合金板浸入裝有酸性溶液的槽，以及用酸性溶液噴射鋁合金板的表面。在這些中，優(yōu)選其中將酸性溶液噴射在鋁合金板的表面上的方法。理想的是，其中以每條噴射管IO至100L/分鐘的速率，從至少一條噴射管，并且優(yōu)選兩條以上的噴射管噴射去污點(diǎn)溶液的方法，所述噴射管的每一個(gè)具有以10至50mm的間距間隔的2至5mm直徑的開(kāi)口。在去污點(diǎn)處理完成以后，理想的是用壓料輥移除保留在鋁合金板上的溶液，用水對(duì)所述板進(jìn)行1至10秒漂洗處理，然后用壓料輥移除水。這里的漂洗處理與堿蝕刻處理以后的漂洗處理相同。然而，每個(gè)噴射頭排放出的水的量?jī)?yōu)選為1至20L/分鐘。如果將來(lái)自隨后進(jìn)行的通過(guò)硝酸的電解中使用的電解溶液的溢流用作第一去污點(diǎn)處理中的去污點(diǎn)溶液，而不是在去污點(diǎn)處理以后進(jìn)行通過(guò)壓料輥的溶液移除和漂洗處理，則優(yōu)選根據(jù)需要，通過(guò)用去污點(diǎn)溶液適當(dāng)?shù)貒娚滗X合金板而對(duì)其持續(xù)進(jìn)行操作，直至使用硝酸的電解步驟，從而使得鋁合金板的表面不干燥。<電解粒化處理>'電解?；幚硎窃诤跛峄螓}酸的水溶液中進(jìn)行的處理。在本發(fā)明的實(shí)踐中，電解?；幚砜梢詢H包括在含有硝酸的水溶液中的電解?；幚聿襟E(以下也稱為"硝酸電解")和在含有鹽酸的水溶液中的電解?；幚聿襟E(以下也稱為"鹽酸電解")中的一種。在本發(fā)明的實(shí)踐中，優(yōu)選作為第一電解?；幚淼南跛犭娊庵笫亲鳛榈诙娊饬；幚淼柠}酸電解，原因在于鋁合金板可以在它的表面上具有通過(guò)將均勻粗糙化的結(jié)構(gòu)疊加在另一個(gè)的頂部而形成的粒狀形狀，同時(shí)得到優(yōu)異的抗起浮渣性和長(zhǎng)的印刷壽命。已經(jīng)經(jīng)歷電解?；幚淼匿X合金板優(yōu)選具有0.2至1.0pm的平均表面粗糙度Ra。(硝酸電解)硝酸電解使得能夠在鋁合金板的表面上形成適當(dāng)粗糙化的結(jié)構(gòu)。如果本發(fā)明中的鋁合金板具有相對(duì)高的銅含量，則硝酸電解在鋁合金板的表面上形成相對(duì)大并且均勻的凹穴。結(jié)果，使用通過(guò)本發(fā)明得到的平版印刷版載體制造的平版印刷版具有長(zhǎng)的印刷壽命。可以使用用于包括使用直流電或交流電的常規(guī)電化學(xué)?；幚淼娜魏魏跛崴芤?。含硝酸水溶液可以通過(guò)下列方法制備將含有硝酸根離子的至少一種硝酸鹽化合物，例如硝酸鋁、硝酸鈉或硝酸銨，在lg/L至飽和的范圍內(nèi)，加入到硝酸濃度為1至100g/L的水溶液中。存在于鋁合金中的金屬如鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂和硅也可以溶解在含硝酸水溶液中?？梢砸?至100g/L的量加入次氯酸或過(guò)氧化氫。更具體地，優(yōu)選使用通過(guò)將硝酸鋁溶解在硝酸濃度為5至15g/L的硝酸水溶液中而得到的鋁離子濃度被調(diào)節(jié)到3至7g/L的溶液。含硝酸水溶液優(yōu)選具有2(TC至55"C的溫度。硝酸電解使得能夠形成平均開(kāi)口直徑為1至10(im的凹坑。然而，相對(duì)增加的電量引起電解反應(yīng)的集中，從而導(dǎo)致還形成幵口直徑超過(guò)10pm的蜂窩形凹坑。為了得到這種?；砻妫刂怪岭娊夥磻?yīng)完成，供應(yīng)鋁合金板上的陽(yáng)極反應(yīng)的總電量?jī)?yōu)選為至少150C/dm2，并且更優(yōu)選為至少170C/dm2，但是優(yōu)選不大于600C/dm2，并且更優(yōu)選不大于500C/dm2。峰電流密度在使用交流電的情況下優(yōu)選為20至100A/dm2，并且在使用直流電的情況下優(yōu)選為20至100A/dm2。(鹽酸電解)可以使用用于包括使用直流電或交流電的常規(guī)電化學(xué)?；幚淼娜魏魏}酸水溶液。含鹽酸水溶液可以通過(guò)下列方法制備將含有硝酸根離子的至少一種硝酸鹽化合物，例如硝酸鋁、硝酸鈉或硝酸銨，或含有氯離子的至少一種氯化物化合物，例如氯化鋁，氯化鈉或氯化銨，在lg/L至飽和的范圍內(nèi)，加入到鹽酸濃度為1至30g/L，并且優(yōu)選2至10g/L的水溶液中?？梢砸?至200g/L的量加入與銅形成配合物的化合物。存在于鋁合金中的金屬如鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂和硅也可以溶解在含鹽酸水溶液中?？梢砸詌至100g/L的量加入次氯酸或過(guò)氧化氫?？梢蕴貏e優(yōu)選的含鹽酸水溶液是通過(guò)下列方法制備的水溶液將鋁鹽(氯化鋁AlCly6H20)加入到含有2至10g/L的鹽酸的水溶液中，以將鋁離子濃度調(diào)節(jié)到3至7g/L，并且優(yōu)選4至6g/L。使用這種鹽酸水溶液的電化學(xué)?；幚硎沟秒娊饬；谋砻娓泳鶆?，并且該?；幚聿灰鹛幚聿痪鶆蛐裕徽撌欠袷褂玫图兌然蚋呒兌鹊能堉其X板。結(jié)果，通過(guò)使用這種鋁合金板得到的平版印刷版可以具有更長(zhǎng)的印刷壽命以及更優(yōu)異的抗起浮渣性。含鹽酸水溶液的溫度優(yōu)選為至少2(TC，并且更優(yōu)選為至少3(TC，但是優(yōu)選不高于55'C，并且更優(yōu)選不高于5(TC。對(duì)于加入到含鹽酸水溶液中的物質(zhì)、設(shè)備、電源、電流密度、流量和溫度，可以使用用于已知電化學(xué)?；幚淼臈l件。在電化學(xué)?；校褂肁C電源或DC電源，但是特別優(yōu)選AC電源。由于鹽酸本身具有強(qiáng)的溶解鋁的能力，因此通過(guò)輕微進(jìn)行電解可以在表面上形成細(xì)小的不規(guī)則性。這些細(xì)小的不規(guī)則性具有0.01至0.4pm的平均開(kāi)口直徑，并且在鋁合金板的整個(gè)表面上均勻形成。通過(guò)增加電量(至供應(yīng)陽(yáng)極反應(yīng)的總電量為150至2000C/dm2)，產(chǎn)生平均開(kāi)口直徑為1至30jam的大凹坑，所述大凹坑的表面上形成有平均開(kāi)口直徑為0.01至0.4)Lim的小凹坑。為了得到這種?；砻?，截止至電解反應(yīng)完成，供應(yīng)鋁合金板上的陽(yáng)極反應(yīng)的總電量?jī)?yōu)選為至少10C/dm2，更優(yōu)選為至少50C/dm2，并且進(jìn)一步優(yōu)選為至少100C/dm2，但是優(yōu)選不大于2000C/dm2，并且更優(yōu)選不大于600C/dm2。峰電流密度優(yōu)選為20至100A/dm2。鋁合金板在大電量情況下的鹽酸電解使得能夠同時(shí)形成大的起伏和細(xì)小不規(guī)則性。通過(guò)在要稍后所述的第二堿蝕刻處理中使所述大的起伏均勻，可以改善抗起浮渣性。根據(jù)例如JP48-28123B和GB896,563B中所述的電化學(xué)?；?電解粒化法)，可以進(jìn)行使用含硝酸水溶液的電解粒化處理以及使用含鹽酸水溶液的電解?；幚?。這些電解?；ㄊ褂镁哂姓也ㄐ蔚慕涣麟?，盡管它們還可以使用如JP52-58602A中所述的那些特殊波形來(lái)進(jìn)行。還可以使用JP3-79799A中所述的波形?？梢詾榇四康亩皇褂玫钠渌椒òㄏ铝袑＠兴龅哪切?JP55-158298A、JP56-28898A、JP52-58602A、JP52-152302A、JP54-85802A、JP60-1卯392A、JP58-120531A、JP63-176187A、JP1-5889A、JP1-280590A、JP1-118489A、JP1-148592A、JP1-178496A、JP1-188315A、JP1-154797A、JP2-235794A、JP3-260100A、JP3-253600A、JP4-72079A、JP4-72098A、JP3-267400A和JP1-141094A。除以上以外，還可以使用例如關(guān)于用于制造電解電容器的方法而被提出的特殊頻率的交流電進(jìn)行電解。這些例如在US4，276，129和US4，676，879中有描述。己經(jīng)提出了用于這些電解?；幚聿襟E的各種電解池和電源?？梢允褂孟铝袑＠兴龅哪切├鏤S4，203，637、JP56-123400A、JP57-59770A、JP53-12738A、JP53-32821A、JP53-32822A、JP53-32823A、JP55-122896A、JP55-132884A、JP62-127500A、JP1-52100A、JP1-52098A、JP60-67700A、JP1-230800A、JP3-257199A、JP52-58602A、JP52-152302A、JP53-12738A、JP53-12739A、JP53-32821A、JP53-32822A、JP53-32833A、JP53-32824A、JP53-32825A、JP54-85802A、JP55-122896A、JP55-132884A、JP48-28123B、JP51-7081B、JP52-133838A、JP52-133840A、JP52-133844A、JP52-133845A、JP53-149135A和JP54-146234A。使用的電導(dǎo)率計(jì)和比重計(jì)優(yōu)選是溫度補(bǔ)償儀器。比重計(jì)優(yōu)選是壓差比重計(jì)。為了在高的準(zhǔn)確度上測(cè)量溶液組成，優(yōu)選首先在使用與用于電解溶液的熱交換器不同的熱交換器將從用于電解組成測(cè)量的目的的電解溶液收集的試樣控制到固定的溫度(例如，40士0.5X:)以后，將所述試樣供應(yīng)于測(cè)對(duì)用于電化學(xué)粒化處理的交流電的波形不強(qiáng)加特別限制。例如，可以使用正弦、方形、梯形或三角形波形?？梢允褂秘?fù)載比(dutyratio)為1:2至2:1的交流電。然而，如JP5-195300A中所指出的，在沒(méi)有使用導(dǎo)輥對(duì)鋁合金板供給電流的間接功率供給系統(tǒng)中，優(yōu)選使用負(fù)載比為1:1的交流電。可以使用頻率為0.1至120Hz的交流電，但是考慮到設(shè)備，優(yōu)選50至70Hz的頻率。在低于50Hz的頻率，起主要電極作用的碳電極趨于更容易溶解。另一方面，在高于70Hz的頻率，電源電路更容易遭受其上的電感成分的影響，從而增加電源成本?？梢詫⒂糜诒砻嫣幚淼娜魏我阎碾娊獬赜糜谶M(jìn)行電解?；幚恚鲆阎娊獬匕ù怪?、平面和徑向型電解池。尤其優(yōu)選徑向型電解池，例如在JP5-195300A中所述的那些。電解溶液與鋁合金板(鋁料片)前進(jìn)的方向平行或相反地通過(guò)電解池?？梢詫⒂糜谑褂弥绷麟姷某Ｒ?guī)電化學(xué)?；幚淼碾娊馊芤河糜谑褂弥绷麟姷碾娀瘜W(xué)?；幚?。更具體地，可以使用與用于上述使用交流電的電化學(xué)粒化處理的電解液相同類型的電解液。對(duì)用于電化學(xué)粒化處理的直流電沒(méi)有特別限制，只要使用的電流的極性不改變即可?？梢允褂玫膶?shí)例包括具有梳(comb)狀波形的DC、連續(xù)DC以及通過(guò)用硅可控整流器(thyristor)將商業(yè)AC完全整流而得到的電流，并且優(yōu)選使用平滑化的連續(xù)DC?？梢允褂瞄g歇法、半連續(xù)法和連續(xù)法中的任何一種進(jìn)行使用直流電的電化學(xué)?；幚?，但是優(yōu)選使用連續(xù)法。對(duì)用于使用直流電的電化學(xué)?；幚淼脑O(shè)備沒(méi)有特別限制，只要將該設(shè)備配置成在橫過(guò)交替布置的陽(yáng)極和陰極施加dc電壓，并且在保持成對(duì)的陽(yáng)極和陰極之間的距離的同時(shí)，使得鋁合金板在它們之間通過(guò)即可。對(duì)電極沒(méi)有特別限制，但是可以使用用于電化學(xué)?；幚淼某Ｒ?guī)已知電極。可以優(yōu)選使用的陽(yáng)極的實(shí)例包括通過(guò)用鉑族金屬鍍敷(plating)或包覆(cladding)電子管金屬(valvemetal)例如鈦、鉭和鈮形成的陽(yáng)極；通過(guò)在電子管金屬上涂布或燒結(jié)鉑族金屬氧化物形成的陽(yáng)極；鋁；和不銹鋼。在這些中，優(yōu)選使用通過(guò)用鉑包覆電子管金屬形成的陽(yáng)極。例如，陽(yáng)極可以通28過(guò)其中使水通過(guò)電極內(nèi)部而冷卻電極的方法而具有進(jìn)一步延長(zhǎng)的使用壽命。在負(fù)電極電勢(shì)下不溶解的金屬可以被選擇并用于基于波爾貝克斯線圖(Pourbaixdiagrams)的陰極。特別優(yōu)選碳。電極的布置可以適于波狀結(jié)構(gòu)(wavystmcture)而適當(dāng)選擇。該波狀結(jié)構(gòu)可以通過(guò)改變?cè)阡X合金板的行進(jìn)方向上的陽(yáng)極和陰極的長(zhǎng)度、鋁合金板的通過(guò)速度、電解溶液的流量、溫度和組成以及電流密度而調(diào)節(jié)。在使用包括分開(kāi)的用于陽(yáng)極和陰極的電解池的情況下，還可以改變各個(gè)池中的電解條件。已經(jīng)經(jīng)歷這種電解?；幚淼匿X合金板不進(jìn)行如上所述的漂洗處理，而是在任選用壓料輥移除保留在所述板上的電解溶液以后，被運(yùn)送到隨后的用于液膜形成處理的步驟。在進(jìn)行第一和第二液膜形成處理的情況下，除非另外規(guī)定，液膜形成處理是指"第一液膜形成處理"；在下列描述中也同樣適用。<液膜形成處理>液膜形成處理是在上述電解粒化處理以后，使用pH小于5的酸性溶液在經(jīng)歷了電解粒化處理的表面(電解粗糙化表面)上形成液膜的處理。可以被有利地使用的代表性酸性溶液包括含硝酸或硫酸的水溶液。可以被優(yōu)選使用的用于在粗糙化表面上形成酸性溶液的液膜的代表性方法包括其中使用噴射管將酸性溶液供給(施加)到粗糙化表面上的方法，以及其中將粗糙化表面浸漬到酸性溶液中的方法。通過(guò)在粗糙化表面上提供這種酸性溶液的液膜，可以抑制歸因于不均勻表面處理導(dǎo)致的外觀缺陷的出現(xiàn)。特別地，在進(jìn)行用于電解粒化處理的鹽酸電解的情況下，還可以通過(guò)液膜形成處理，由pH小于5的含有硝酸或硫酸的酸性溶液取代存在于鹽酸電解之后的粗糙化表面上的鹽酸水溶液，以防止粗糙化表面的化學(xué)腐蝕。外觀缺陷出現(xiàn)的原因據(jù)推測(cè)是，當(dāng)將通過(guò)連續(xù)鑄造制備的鋁合金板用于生產(chǎn)平版印刷版載體時(shí)，在電解?；幚砥陂g，在與對(duì)于連續(xù)鑄造構(gòu)件特有的缺陷對(duì)應(yīng)的部分容易產(chǎn)生污點(diǎn)，所述缺陷例如為不均勻結(jié)晶組織以及痕量元素在鋁合金板上的偏析，即上述波紋痕跡，從而導(dǎo)致歸因于表面處理的不均勻性。在電解?；幚磉^(guò)程中可能產(chǎn)生的氫氧化鋁-基污點(diǎn)通過(guò)暴露到中性環(huán)境中而牢固地粘附在鋁合金板表面上，從而使外觀缺陷更加顯著地引人注意。液膜形成處理抑制這種外觀缺陷出現(xiàn)，其原因據(jù)推測(cè)是，可以使歸因于表面處理的不均勻性更不引人注意，所述歸因于表面處理的不均勻性可能由對(duì)于連續(xù)鑄造構(gòu)件特有的缺陷例如上述波紋痕跡引起，并且具體地由晶體取向引起。<第二堿蝕刻處理>在液膜形成處理以后進(jìn)行的第二堿蝕刻處理的目的是溶解在電解?；幚碇谐霈F(xiàn)的污點(diǎn)，并且溶解通過(guò)電解?；幚硇纬傻陌伎拥倪吘墶５诙A蝕刻處理引起由電解?；幚硇纬傻拇蟀伎拥倪吘壢芙?，從而使板表面平滑，結(jié)果，墨水不容易粘附在邊緣上。因此，可以得到具有優(yōu)異抗起浮渣性的預(yù)敏化版。由于第二堿蝕刻處理與第一堿蝕刻處理基本上相同，因此以下僅描述那些不同的特征。在第二堿蝕刻處理中從鋁合金板移除的材料的量?jī)?yōu)選為至少0.05g/m2，并且更優(yōu)選為至少O.lg/m2，但是優(yōu)選不大于4g/m2，并且更優(yōu)選不大于3.5g/m2。在0.05g/i^以上的蝕刻量，第一電解粒化處理中形成的凹坑的邊緣被平滑化，并且墨水不容易粘附在凹坑的邊緣上，從而增強(qiáng)了平版印刷版的非圖像區(qū)域中的抗起浮渣性。在不大于4g/n^的蝕刻量，在第一電解?；幚碇行纬傻牟灰?guī)則性變得更大，從而獲得長(zhǎng)的印刷壽命。在第二堿蝕刻處理中，堿溶液的濃度優(yōu)選為至少30g/L，并且更優(yōu)選為至少300g/L，但是優(yōu)選不大于500g/L，并且更優(yōu)選不大于450g/L。理想的是，堿溶液含有鋁離子。鋁離子濃度優(yōu)選為至少1g/L，并且更優(yōu)選為至少50g/L，但是優(yōu)選不大于200g/L，并且更優(yōu)選不大于150g/L。這種堿溶液可以使用例如水、48重量％的氫氧化鈉水溶液以及鋁酸鈉制備。<第二去污點(diǎn)處理〉在第二堿蝕刻處理以后，優(yōu)選進(jìn)行酸浸(第二去污點(diǎn)處理)，以移除保留在鋁合金板的表面上的污染物(污點(diǎn))。第二去污點(diǎn)處理可以以與第一去污點(diǎn)處理相同的方式進(jìn)行。在第二去污點(diǎn)處理中，優(yōu)選使用硝酸或硫酸。在第二去污點(diǎn)處理中，優(yōu)選使用含有1至400g/L的酸以及0.1至8g/L的鋁離子的酸性溶液。在使用硫酸的情況下，更具體地，可以使用通過(guò)下列方法制備的溶液將硫酸鋁溶解在硫酸濃度為100至350g/L的硫酸水溶液中，使其具有0.1至5g/L的鋁離子濃度。還可以使用來(lái)自要稍后描述的陽(yáng)極化處理中使用的電解溶液的溢流。在第二去污點(diǎn)處理中，處理時(shí)間優(yōu)選為至少l秒，并且更優(yōu)選為至少4秒，但是優(yōu)選不超過(guò)60秒，并且更優(yōu)選不超過(guò)20秒。在第二去污點(diǎn)處理中，酸水溶液的溫度優(yōu)選為至少2(TC以上，并且更優(yōu)選為至少3(TC，但是優(yōu)選不高于7(TC，并且更優(yōu)選不高于60。C。<第二電解?；幚?gt;第二電解?；幚硎窃诤}酸的水溶液中用交流電或直流電進(jìn)行的電解粒化處理(第二鹽酸電解)。在本發(fā)明中可以僅進(jìn)行上述電解?；幚?第一電解粒化處理)。然而，與第二鹽酸電解的組合使得能夠在鋁合金板表面形成更加復(fù)雜的表面形態(tài)結(jié)構(gòu)，從而獲得長(zhǎng)的印刷壽命。第二鹽酸電解與關(guān)于電解?；幚硭龅柠}酸電解基本上相同。在電化學(xué)?；幚硗瓿蓵r(shí)，在第二鹽酸電解中，通過(guò)在含鹽酸水溶液中的電化學(xué)?；?，供應(yīng)鋁合金板上的陽(yáng)極反應(yīng)的總電量可以從10至200C/dm2的范圍選擇。為了基本上保持被第二電解?；幚泶植诨谋砻?，總電量?jī)?yōu)選為10至100C/dm2，并且更優(yōu)選為50至80C/dm2。在根據(jù)印刷壽命和抗起浮渣性可以有利地進(jìn)行的表面粗糙化處理包括第一堿蝕刻處理、第一去污點(diǎn)處理、在含硝酸電解溶液中的第一電解?；幚?第一硝酸電解)、第一液膜形成處理、第二堿蝕刻處理、第二去污點(diǎn)處理、第二鹽酸電解、第二液膜形成處理、第三堿蝕刻處理和第三去污點(diǎn)31處理的情況下，在含硝酸的電解溶液中的陽(yáng)極反應(yīng)中，優(yōu)選以65至500C/dm2的總電量進(jìn)行第一硝酸電解；并且在含鹽酸的電解溶液中的陽(yáng)極反應(yīng)中，優(yōu)選以25至100C/dn^的總電量進(jìn)行第二鹽酸電解。在任選使用壓料輥移除電解溶液以后，對(duì)已經(jīng)經(jīng)歷第二鹽酸電解的鋁合金板進(jìn)行用于第二液膜形成處理的隨后步驟，而不進(jìn)行如上所述的漂洗處理。<第二液膜形成處理>第二液膜形成處理是在上述第二鹽酸電解以后的處理，從而使用pH小于5的酸性溶液在經(jīng)歷了第二鹽酸電解的表面(粗糙化表面)上形成液膜，并且基本上與上述液膜形成處理(第一液膜形成處理)相同。<第三堿蝕刻處理>在第二液膜形成處理以后進(jìn)行的第三堿蝕刻處理的目的是溶解在第二鹽酸電解中出現(xiàn)的污點(diǎn)，并且溶解由第二鹽酸電解形成的凹坑的邊緣。由于第三堿蝕刻處理與第一堿蝕刻處理基本上相同，因此以下僅描述不同的那些特征。在第三堿蝕刻處理中從鋁合金板移除的材料的量?jī)?yōu)選為至少0.05g/m2，并且更優(yōu)選為至少0.1g/m2，但是優(yōu)選不大于0.3g/m2，并且更優(yōu)選不大于0.25g/m2。在0.05g/n^以上的蝕刻量，第二鹽酸電解中形成的凹坑的邊緣被平滑化，并且墨水不容易粘附在凹坑的邊緣上，從而增強(qiáng)了平版印刷版的非圖像區(qū)域中的抗起浮渣性。在不大于0.3g/n^的蝕刻量，在第二鹽酸電解中形成的不規(guī)則性變得更大，從而獲得長(zhǎng)的印刷壽命。在第三堿蝕刻處理中，堿溶液的濃度優(yōu)選為至少30g/L。然而，為了阻止在用交流電的前述鹽酸電解中形成的不規(guī)則性變得過(guò)小，該濃度優(yōu)選不高于100g/L，并且更優(yōu)選不高于70g/L。理想的是，堿溶液含有鋁離子。鋁離子濃度優(yōu)選為至少1g/L，并且更優(yōu)選為至少3g/L，但是優(yōu)選不大于50g/L，并且更優(yōu)選不大于8g/L。這種堿溶液可以使用例如水、48重量％的氫氧化鈉水溶液以及鋁酸鈉制備。在第三堿蝕刻處理中，堿溶液的溫度優(yōu)選為至少25。C，并且更優(yōu)選為至少3(TC，但是優(yōu)選不高于6(TC，并且更優(yōu)選不高于50。C。在第三堿蝕刻處理中，處理時(shí)間優(yōu)選為至少l秒，并且更優(yōu)選為至少2秒，但是優(yōu)選不超過(guò)30秒，并且更優(yōu)選不超過(guò)10秒。<第三去污點(diǎn)處理>在第三堿蝕刻處理以后，優(yōu)選進(jìn)行酸浸(第三去污點(diǎn)處理)，以移除保留在鋁合金板的表面上的污染物(污點(diǎn))。第三去污點(diǎn)處理可以以與第一去污點(diǎn)處理相同的方式進(jìn)行。然而，考慮到以更高的水平移除在電解粒化處理過(guò)程中，在鋁合金板上與對(duì)于連續(xù)鑄造構(gòu)件特有的缺陷例如波紋痕跡相對(duì)應(yīng)的部分形成的污點(diǎn)，優(yōu)選使用含有10至400g/L的硫酸和0.5至8g/L的鋁離子的硫酸溶液，并且更優(yōu)選使用通過(guò)將硫酸鋁溶解在硫酸濃度為100至350g/L的硫酸水溶液中而將鋁離子濃度調(diào)節(jié)到1至5g/L的溶液。在第三去污點(diǎn)處理中，處理時(shí)間優(yōu)選為至少l秒，并且更優(yōu)選為至少4秒，但是優(yōu)選不超過(guò)60秒，并且更優(yōu)選不超過(guò)15秒。當(dāng)?shù)谌ノ埸c(diǎn)處理中使用的去污點(diǎn)溶液是與隨后進(jìn)行的陽(yáng)極化處理中使用的電解溶液相同類型的溶液時(shí)，可以省略要在第三去污點(diǎn)處理以后進(jìn)行的使用壓料輥的溶液移除以及漂洗。<陽(yáng)極化處理>在本發(fā)明的實(shí)踐中，進(jìn)一步對(duì)已經(jīng)經(jīng)歷了表面粗糙化處理的鋁合金板進(jìn)行陽(yáng)極化處理。陽(yáng)極化處理可以通過(guò)本領(lǐng)域中常用的任何方法進(jìn)行。更具體地，通過(guò)使電流通過(guò)在例如硫酸濃度為50至300g/L并且鋁離子濃度高達(dá)5重量％的溶液中的作為陽(yáng)極的鋁合金板，可以在鋁合金板的表面上形成陽(yáng)極化層。對(duì)用于陽(yáng)極化處理的溶液沒(méi)有特別限制，只要可以在鋁合金板上形成氧化物膜即可，并且可以單獨(dú)或以兩種以上的組合使用酸例如硫酸、磷酸、鉻酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸和氨基磺酸。至少可以接受的是，將在電解溶液中存在的、通常存在于鋁合金板、電極、自來(lái)水、地下水等中的成分。另外，可以加入第二和第三成分。本文中，"第二和第三成分，，包括例如，金屬例如鈉、鉀、鎂、鋰、轉(zhuǎn)、鈦、鋁、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅和鋅的離子；陽(yáng)離子例如銨離子；以及陰離子例如硝酸根離子、碳酸根離子、氯離子、磷酸根離子、氟離子、亞硫酸根離子、鈦酸根離子、硅酸根離子和硼酸根離子。這些可以以約0至IO，OOOppm的濃度存在。陽(yáng)極化處理?xiàng)l件根據(jù)所使用的電解溶液而根據(jù)經(jīng)驗(yàn)變化，但是通常適當(dāng)?shù)氖?，溶液具?至80重量％的電解質(zhì)濃度以及5至70"的溫度，并且電流強(qiáng)度為0.5至60A/dm2，電壓為1至100伏，并且電解時(shí)間為15秒至50分鐘?？梢詫?duì)這些條件進(jìn)行調(diào)節(jié)，以得到期望的陽(yáng)極化層重量?？梢杂糜谶M(jìn)行陽(yáng)極化處理的方法包括下列專利中所述的那些JP54-81133A、JP57-47894A、JP57-51289A、JP57-51290A、JP57-54300A、JP57-136596A、JP58-107498A、JP60-200256A、JP62-136596A、JP63-176494A、JP4-176897A、JP4-280997A、JP6-207299A、JP5-24377A、JP5-32083A、JP5-125597A和JP5-195291A。在這些中，如JP54-12853A和JP48-45303A中所述，優(yōu)選使用硫酸溶液作為電解溶液。電解溶液具有優(yōu)選10至300g/L(l至30重量％)并且更優(yōu)選50至200g/L(5至20重量％)的硫酸濃度，以及優(yōu)選1至25g/L(0.1至2.5重量％)并且更優(yōu)選2至10g/L(0.2至1重量％)的鋁離子濃度。這種電解溶液可以通過(guò)將化合物例如硫酸鋁加入到硫酸濃度為50至200g/L的稀硫酸中而制備。電解溶液組成的控制典型地使用與上述硝酸電解中使用的方法類似的方法進(jìn)行。即，優(yōu)選相對(duì)于硫酸濃度和鋁離子濃度的矩陣，借助于電導(dǎo)率、比重和溫度，或借助于電導(dǎo)率、超聲波傳播速度和溫度，實(shí)現(xiàn)控制。電解溶液的溫度優(yōu)選為25至55°C，并且更優(yōu)選為30至50°C。當(dāng)在含有硫酸的電解溶液中進(jìn)行陽(yáng)極化處理時(shí)，可以在鋁合金板和對(duì)電極上施加直流電或交流電。當(dāng)對(duì)鋁合金板施加直流電時(shí)，電流密度優(yōu)選為1至60A/dm2，并且更優(yōu)選為5至40A/dm2。為了阻止歸因于作為連續(xù)工藝進(jìn)行陽(yáng)極化處理時(shí)的電流集中而在部分的鋁合金板上出現(xiàn)灼燒沉積物(比周圍區(qū)域厚的陽(yáng)極化層的區(qū)域)，優(yōu)選的是，在陽(yáng)極化處理開(kāi)始時(shí)，以5至10八/1112的低密度施加電流，并且隨著陽(yáng)極化處理進(jìn)行，將電流密度增大到30至50A/dm2。通過(guò)在這樣的條件下進(jìn)行陽(yáng)極化處理，可以得到具有眾多孔(微孔)的多孔膜。這些微孔通常具有約5至50nm的平均直徑以及約300至800個(gè)孔/^m2的平均孔密度。陽(yáng)極化層的重量?jī)?yōu)選為1至5g/m2。在小于1g/m2，板上容易形成刮痕。另一方面，大于5g/lT^的重量需要大量的電能，這在經(jīng)濟(jì)上是不利的。更優(yōu)選1.5至4g/r^的陽(yáng)極化層重量。還理想的是，以使得鋁合金板的中心和接近邊緣的區(qū)域之間的陽(yáng)極化層重量之差不大于1g/n^的方式進(jìn)行陽(yáng)極化處理。在本發(fā)明的實(shí)踐中，考慮到進(jìn)一步改善的外觀，陽(yáng)極化層的重量為至少2g/m2，并且更優(yōu)選為至少2.5g/m2，其原因據(jù)推測(cè)是，陽(yáng)極化處理在溶解鋁合金板的同時(shí)形成陽(yáng)極化膜，因此，可以以較高的水平移除在電極?；幚磉^(guò)程中，可能在鋁合金板上與對(duì)于連續(xù)鑄造構(gòu)件所特有的缺陷例如波紋痕跡對(duì)應(yīng)的部分形成的污點(diǎn)。可以用于電解處理的電解設(shè)備的實(shí)例包括JP48-26638A、JP47-18739A、JP58-24517B和JP2001-11698A中所述的那些。<密封處理>在本發(fā)明的實(shí)踐中，必要時(shí)，可以進(jìn)行密封處理，以閉合存在于陽(yáng)極化層中的微孔。密封處理可以根據(jù)己知方法如沸水處理、熱水處理、蒸汽處理、硅酸鈉處理、亞硝酸鹽處理或乙酸銨處理進(jìn)行。例如，密封處理可以使用JP56-12518B、JP4-4194A、JP5-202496A和JP5-179482A中所述的設(shè)備和方法進(jìn)行。<親水化處理>在陽(yáng)極化處理以后或在密封處理以后，可以進(jìn)行親水化處理。適當(dāng)?shù)挠H水化處理的示意性實(shí)例包括US2,946,638中所述的六氟鋯酸鉀處理，US3，201,247中所述的磷鉬酸鹽處理，GB1,108,559B中所述的鈦酸垸基酯處理，DE1,091,433B中所述的聚丙烯酸處理，DE1,134,093B禾口GB1,230,447B中所述的聚乙烯基膦酸處理，JP44-6409B中所述的膦酸處理，US3,307,951中所述的肌醇六磷酸處理，JP58-16893A和JP58-18291A中所述的包括親油有機(jī)聚合物的二價(jià)金屬鹽的處理，與在US3，860，426中所述的、其中提供含水性金屬鹽(例如乙酸鋅)的親水性纖維素(例如羧甲基纖維素)底涂層的處理類似的處理，以及與在JP59-101651A中所述的、其中涂敷具有磺基的水溶性聚合物的底涂處理類似的處理。適當(dāng)?shù)挠H水化處理的另外實(shí)例包括用下列物質(zhì)對(duì)鋁合金板進(jìn)行底涂的處理JP62-19494A中提及的磷酸鹽，JP62-33692A中提及的水溶性環(huán)氧化合物、JP62-97892A中提及的磷酸改性淀粉，JP63-56498A中提及的二胺化合物，JP63-130391A中提及的氨基酸的無(wú)機(jī)或有機(jī)鹽，JP63-145092A中提及的具有羧基或羥基的有機(jī)膦酸，JP63-165183A中提及的含氨基和膦酸酯基團(tuán)的化合物，JP2-316290A中提及的特定羧酸衍生物，JP3-215095A中提及的磷酸酯，JP3-261592A中提及的具有一個(gè)氨基和一個(gè)亞磷含氧酸(phosphomsoxoacid)基團(tuán)的化合物，JP3-215095A中提及的磷酸酯，JP5-246171A中提及的脂族或芳族膦酸(例如苯基膦酸)，JP1-307745A中提及的含硫原子的化合物(例如，硫代水楊酸)，以及JP4-282637A中提及的具有亞磷含氧酸基團(tuán)的化合物。還可以進(jìn)行使用如JP60-64352A中提及的酸性染料的著色。優(yōu)選通過(guò)下列方法進(jìn)行親水處理，在所述方法中，將鋁合金板浸入到堿金屬硅酸鹽例如硅酸鈉或硅酸鉀的水溶液中，或?qū)X合金板用親水性烯類聚合物或親水性化合物涂布，從而形成親水性底涂層。用堿金屬硅酸鹽例如硅酸鈉或硅酸鉀的水溶液的親水化處理可以根據(jù)US2，714,066和US3,181，461中所述的方法和程序進(jìn)行。適當(dāng)?shù)膲A金屬硅酸鹽的示意性實(shí)例包括硅酸鈉、硅酸鉀和硅酸鋰。堿金屬硅酸鹽的水溶液還可以包括適當(dāng)量的例如氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化鋰。堿金屬硅酸鹽的水溶液還可以包括堿土金屬鹽或第4族(第IVA族)金屬鹽。適當(dāng)?shù)膲A土金屬鹽的實(shí)例包括硝酸鹽，例如硝酸鈣、硝酸鍶、硝酸鎂和硝酸鋇；以及還有硫酸鹽、鹽酸鹽、磷酸鹽、乙酸鹽、草酸鹽和硼酸鹽。代表性的第4族(第IVA族)金屬鹽包括四氯化鈦、三氯化鈦、氟化鈦鉀、草酸鈦鉀、硫酸鈦、四碘化鈦、二氯氧化鋯、二氧化鋯和四氯化鋯。這些堿土金屬鹽和第4族(第IVA族)金屬鹽可以單獨(dú)使用，或以它們的兩種以上的組合使用。作為堿金屬硅酸鹽處理的結(jié)果而吸附的硅的量可以用熒光x-射線分析儀測(cè)量，并且優(yōu)選為約1.0至15.0mg/m2。堿金屬硅酸鹽處理具有下列效果..增強(qiáng)平版印刷版的表面對(duì)在堿性顯影劑中溶解的抵抗力；抑制鋁成分瀝濾到顯影劑中；以及減少由顯影劑疲勞所引起的顯影浮渣的產(chǎn)生。<干燥>在通過(guò)進(jìn)行上述表面處理得到平版印刷版載體以后，有利的是，在將圖像記錄層提供在所述載體的表面上以前，干燥載體的表面。優(yōu)選在最后的表面處理以后，在用水沖洗載體并且用壓料輥移除水以后，進(jìn)行干燥。干燥溫度優(yōu)選為至少7(TC，并且更優(yōu)選為至少8(TC，但是優(yōu)選不高于110°C，并且更優(yōu)選不高于IOO'C。干燥時(shí)間優(yōu)選為至少l秒，并且更優(yōu)選為至少2秒，但是優(yōu)選不超過(guò)20秒，并且更優(yōu)選不超過(guò)15秒。<溶液組成的控制>在本發(fā)明的實(shí)踐中，優(yōu)選通過(guò)JP2001-121837A中所述的方法控制用于上述表面處理的各種溶液的組成。這典型地包括首先將大量的處理溶液試樣制備成各種濃度，然后測(cè)量每一個(gè)試樣在兩個(gè)溶液溫度的超聲波傳播速度，并且基于結(jié)果構(gòu)成矩陣型數(shù)據(jù)表。在處理過(guò)程中，優(yōu)選實(shí)時(shí)測(cè)量溶液溫度和超聲波傳播速度，并且基于這些測(cè)量控制濃度。特別是在將硫酸濃度為250g/L以上的電解溶液用于去污點(diǎn)處理的情況下，尤其優(yōu)選用過(guò)上述方法控制濃度。用于電解?；幚砗完?yáng)極化處理的各種電解溶液優(yōu)選具有不大于100ppm的銅濃度。如果銅濃度過(guò)高，則在生產(chǎn)線停止時(shí)，銅將沉淀到鋁合金板上。當(dāng)生產(chǎn)線再次開(kāi)始移動(dòng)時(shí)，沉淀的銅將被轉(zhuǎn)印到路徑輥(pathroller)上，這可能引起不均勻處理。<平版印刷版載體的表面輪廓〉考慮到使用平版印刷版載體的平版印刷版的優(yōu)異的印刷性質(zhì)，具體地，長(zhǎng)的印刷壽命以及良好的抗起浮渣性，通過(guò)本發(fā)明的制造方法得到的平版印刷版載體的表面輪廓優(yōu)選具有如下所述的物理性質(zhì)值。通過(guò)原子力顯微鏡(AFM)測(cè)量表面輪廓，以確定三維數(shù)據(jù)，并且從所述三維數(shù)據(jù)計(jì)算下列物理性質(zhì)值。通過(guò)AFM的測(cè)量可以例如在下列條件下進(jìn)行。從平版印刷版載體切下l平方cm的試樣，并且將其放置在安裝在壓電掃描器上的水平試樣支架上。然后使懸臂接近試樣的表面。當(dāng)懸臂到達(dá)可以感知原子間力的區(qū)域時(shí)，在X和Y方向上掃描試樣的表面，并且基于Z方向上的位移讀取試樣的表面形態(tài)。使用在X和Y方向上能夠掃描150pm并且在Z方向上能夠掃描10pm的壓電掃描器。使用共振頻率為120至400kHz并且彈簧常數(shù)為12至90N/m的懸臂(例如，SI-DF20，由日本精工電子有限公司(SeikoInstrumentsInc.)制造；NCH-IO，由納米傳感器公司(Nanosensors)制造；或AC-160TS，由奧林巴斯公司(OlympusCorporation)制造)，并且以動(dòng)力模式(DFM)進(jìn)行。通過(guò)最小二乘法近似得到的三維數(shù)據(jù)，以補(bǔ)償試樣的輕微傾斜并且確定參比平面。在本發(fā)明中，測(cè)量包括得到試樣表面上的50平方j(luò)am的區(qū)域在512x512個(gè)點(diǎn)的值。在X和Y方向上的分辨率為O.lpm，并且在Z方向上的分辨率為1nm。掃描速率為60pm/s。由使用通過(guò)校正三維數(shù)據(jù)得到的數(shù)據(jù)(f(x,y))的下列等式所確定的Ra5Q為至少0.35|im:。0Jo在此等式中，Lx和Ly分別表示在長(zhǎng)方形測(cè)量區(qū)域的x方向上的長(zhǎng)度以及在y方向上的長(zhǎng)度，并且Lx-Ly:50pm，并且Sc表示幾何測(cè)量面積，由So-L^xLy確定。表面積比AS^為30至60%，所述的表面積比AS^是使用下列等式AS5G=(SX5G-SG)/SQx100(%)，從通過(guò)三點(diǎn)近似的三維數(shù)據(jù)確定的實(shí)際表面積SX5Q以及幾何測(cè)量表面積So計(jì)算的。陡度a455Q(Q》2)為10至30%，所述的陡度a45,'^是在通過(guò)用三維數(shù)據(jù)提取(extmcting)波長(zhǎng)為0.2至2的分量所得到的數(shù)據(jù)中，梯度為至少45。的部分的表面積比。通過(guò)表面粗糙度計(jì)測(cè)量的平均表面粗糙度Ra、最大粗糙度Rmax、間隔Rsm以及平均傾角Aa分別是0.25至0.60nm、2.5至6.0jim、40至60和8至12。。通過(guò)白度計(jì)測(cè)量的白度為0.30至0.40。[預(yù)敏化版]可以通過(guò)在通過(guò)本發(fā)明的制造方法得到的平版印刷版載體上提供圖像記錄層而得到預(yù)敏化版?？梢詫⒐饷艚M合物用于形成圖像記錄層。可以優(yōu)選用于本發(fā)明的光敏組合物的優(yōu)選實(shí)例包括含有堿溶性聚合物和光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)的熱陽(yáng)圖型(thermalpositive-type)光敏組合物(這種組合物和通過(guò)使用這些組合物得到的圖像記錄層以下被稱為"熱陽(yáng)圖型"組合物和圖像記錄層)；含有可固化化合物和光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)的熱陰圖型(thermalnegative-type)光敏組合物(這種組合物和由其得到的圖像記錄層以下被類似地稱為"熱陰圖型"組合物和圖像記錄層)；可光致聚合的光敏組合物(以下稱為"光致聚合物型"組合物)；含有重氮樹(shù)脂或可光致交聯(lián)樹(shù)脂的陰圖型光敏組合物(以下稱為"常規(guī)陰圖型"組合物)；含有醌二疊氮化物(quinonediazidecompound)的陽(yáng)圖型光敏組合物(以下稱為"常規(guī)陽(yáng)圖型"組合物)；以及不需要特殊顯影步驟的光敏組合物(以下稱為"非處理型"組合物)。在這些中，通過(guò)其通過(guò)激光直接成像而形成圖像記錄層的熱陽(yáng)圖型、熱陰圖型、光致聚合物型和非處理型光敏組合物是優(yōu)選的，并且更優(yōu)選熱陽(yáng)圖型和光致聚合物型組合物。以下描述這些優(yōu)選的光敏組合物。<熱陽(yáng)圖型光敏組合物><光敏層>熱陽(yáng)圖型光敏組合物包含堿溶性聚合物和光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)。在熱陽(yáng)圖型圖形記錄層中，光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)將例如來(lái)自紅外線激光器的光能轉(zhuǎn)化成熱量，這有效地消除了降低堿溶性聚合物的堿溶解性的相互作用。堿溶性聚合物可以是，例如，在分子上具有酸性團(tuán)的樹(shù)脂或兩種以上的這種樹(shù)脂的混合物。考慮到在堿性顯影劑中的樹(shù)脂的溶解性，尤其優(yōu)選具有酸性團(tuán)例如酚式羥基、磺酰胺基團(tuán)(-S02NH-R，其中R是烴基)或活性亞氨基(-S02NHCOR、-S02NHS02R或-CONHS02R，其中R與以上定義的相同)的樹(shù)脂。為了在來(lái)自紅外線激光器的光曝光的情況下的優(yōu)異的圖像可形成性，尤其理想的是具有酚式羥基的樹(shù)脂。這種樹(shù)脂的優(yōu)選實(shí)例包括酚醛清漆樹(shù)脂例如苯酚-甲醛樹(shù)脂、間甲酚-甲醛樹(shù)脂、對(duì)甲酚-甲醛樹(shù)脂、其中甲酚是間甲酚和對(duì)甲酚的混合物的甲酚-甲醛樹(shù)脂，以及其中甲酚是間甲酚、對(duì)甲酚或是間甲酚和對(duì)甲酚的混合物的苯酚/甲酚混合物-甲醛樹(shù)脂(苯酚-甲酚-甲醛共縮合樹(shù)脂)。另外的優(yōu)選實(shí)例包括JP2001-305722A(具體地，第至段)中所述的聚合物、JP2001-215693A中所述的具有通式(l)的重復(fù)單元的聚合物，以及P2002-311570A(具體地，第段)中所述的聚合物。為了提供良好的記錄靈敏性，光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)優(yōu)選是吸收在700至1200nm的紅外波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光的顏料或染料。適當(dāng)?shù)娜玖系氖疽庑詫?shí)例包括偶氮染料、金屬配合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鑰染料、醌亞胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸鐵染料(squaryliumdye)、吡喃錄鹽和金屬-硫醇鹽配合物(例如，鎳-硫醇鹽配合物)。在這些中，優(yōu)選花青染料。尤其優(yōu)選JP2001-305722A中所述的通式(I)的花青染料。熱陽(yáng)圖型光敏組合物中可以包括溶解抑制劑。溶解抑制劑的優(yōu)選實(shí)例包括JP2001-305722A的第至段中所述的那些。熱陽(yáng)圖型光敏組合物還優(yōu)選包括作為添加劑的靈敏性調(diào)節(jié)劑、用于在來(lái)自曝光的加熱以后立即得到可視圖像的印出劑(print-outagents)、化合物例如作為圖像著色劑的染料，以及用于增強(qiáng)可涂布性和處理穩(wěn)定性的表面活性劑。JP2001-305722A的第至段中所述的化合物是優(yōu)選的添加劑?？紤]到另外的優(yōu)點(diǎn)，JP2001-305722A中詳細(xì)描述的光敏組合物的使用也是理想的。熱陽(yáng)圖型圖像記錄層不限于單層，而是可以具有兩層構(gòu)造。具有兩層構(gòu)造的圖像記錄層(也稱為"多層型圖像記錄層")的優(yōu)選實(shí)例包括，包含被提供在接近于載體的側(cè)面上的具有優(yōu)異的印刷壽命和耐溶劑性的底層("A層")以及被提供在A層上的具有優(yōu)異的陽(yáng)圖型圖像可形成性的層("B層")的那些。此類型的圖像記錄層具有高的靈敏性，并且可以提供寬的顯影寬容度。B層通常包含光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)。光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)的優(yōu)選實(shí)例包括以上提及的染料?？梢员挥糜贏層的樹(shù)脂的優(yōu)選實(shí)例包括含有作為可共聚組分的具有磺酰胺基、活性亞氨基或酚式羥基的單體的聚合物；這種聚合物具有優(yōu)異的印刷壽命和耐溶劑性。可以被用于B層的樹(shù)脂的優(yōu)選實(shí)例包括在堿性水溶液中可溶的具有酚式羥基的樹(shù)脂。除以上樹(shù)脂以外，必要時(shí)，在用于形成A層和B層的組合物中可以包括各種添加劑。例如，可以使用JP2002-323769A的第至段中所述的各種添加劑。如上在JP2001-305722A的第至段中所述的添加劑也適于使用。A層和B層的每一層中的組分及其比例優(yōu)選根據(jù)JP11-218914A中所述選擇。<中間層>有利的是，在熱陽(yáng)圖型圖像記錄層和載體之間提供中間層?？梢杂糜谥虚g層的成分的優(yōu)選實(shí)例包括JP2001-305722A的第段中所述的各種有機(jī)化合物。有利的是使用如JP2001-108538A中所述的包括具有酸性基團(tuán)的單體和具有鎗基的單體的聚合物的中間層。此中間層還有利地用于除熱陽(yáng)圖型以外的其它類型的任何一種的圖像記錄層。<其它>可以將JP2001-305722A中詳細(xì)描述的方法用于形成熱陽(yáng)圖型圖像記錄層，并且用于制備具有這種層的印刷版。<熱陰圖型光敏組合物>熱陰圖型光敏組合物含有可固化的化合物以及光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)。熱陰圖型圖像記錄層是其中被例如來(lái)自紅外線激光器的光輻照的區(qū)域固化，從而形成圖像區(qū)域的陰圖型光敏層。<可聚合層〉優(yōu)選的熱陰圖型圖像記錄層的實(shí)例是可聚合的圖形記錄層(可聚合層)。可聚合層包含光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)、自由基產(chǎn)生劑、作為可固化化合物的可自由基聚合化合物，以及粘合劑聚合物。在可聚合層中，光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)將吸收的紅外光轉(zhuǎn)化成熱量，并且所述熱量分解自由基產(chǎn)生劑，從而產(chǎn)生自由基。然后該自由基觸發(fā)可自由基聚合化合物的鏈聚合以及固化。光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)的示意性實(shí)例包括可以用于上述熱陽(yáng)圖型光敏組合物的光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)。尤其優(yōu)選的花青染料的具體實(shí)例包括JP2001-133969A的第至段中所述的那些。優(yōu)選的自由基產(chǎn)生劑包括鑰鹽。尤其優(yōu)選JP2001-133969A的第至段中所述的鑰鹽。代表性的可自由基聚合化合物包括具有一個(gè)并且優(yōu)選兩個(gè)以上的末端烯鍵式不飽和鍵的化合物。優(yōu)選的粘合劑聚合物包括線型有機(jī)聚合物。優(yōu)選在水中或在弱堿性水溶液中可溶解或可溶脹的線型有機(jī)聚合物。在這些中，尤其優(yōu)選在側(cè)鏈中具有不飽和基團(tuán)(例如，烯丙基、丙烯?；?或芐基和羧基的(甲基)丙烯酸類樹(shù)脂，原因在于它們提供了膜強(qiáng)度、敏感性和可顯影性的優(yōu)異平衡?？梢允褂玫目勺杂苫酆匣衔锖驼澈蟿┚酆衔锇ㄔ赑2001-133969A的第至段中具體描述的那些。熱陰圖型光敏組合物優(yōu)選包含JP2001-133969A的第至段中所述的添加劑(例如，用于增強(qiáng)可涂布性的表面活性劑)?？梢詫P2001-133969A中詳細(xì)描述的方法用于形成可聚合層，并且用于制備具有這種層的印刷版。<可酸交聯(lián)層>另一種優(yōu)選的熱陰圖型圖形記錄層是可酸交聯(lián)的圖形記錄層(以下簡(jiǎn)稱為"可酸交聯(lián)層")。可酸交聯(lián)層含有光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)、熱酸產(chǎn)生劑(thermalacidgenerator)、在酸的影響下可固化并且交聯(lián)的化合物(交聯(lián)劑)，以及在酸的存在下能夠與交聯(lián)劑反應(yīng)的堿溶性聚合物。在可酸交聯(lián)層中，光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)將吸收的紅外光轉(zhuǎn)化成熱量。該熱量分解熱酸產(chǎn)生劑，從而產(chǎn)生酸，所述酸引起交聯(lián)劑和堿溶性聚合物反應(yīng)并固化。光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)由與可以用于可聚合層的物質(zhì)相同的物質(zhì)所示例。代表性的熱酸產(chǎn)生劑包括用于光致聚合的光敏引發(fā)劑、染料光致變色物質(zhì)，以及可熱分解化合物，例如用于微抗蝕劑(microresists)等的酸產(chǎn)生劑。代表性的交聯(lián)劑包括羥甲基-或垸氧基甲基-取代的芳族化合物、具有N-羥甲基、N-垸氧基甲基或N-酰氧基甲基的化合物，以及環(huán)氧化合物。代表性的堿溶性聚合物包括酚醛清漆樹(shù)脂以及在側(cè)鏈中具有羥基芳基的聚合物。<光致聚合物型光敏組合物〉光致聚合物型光敏組合物包含可加成聚合的化合物、光致聚合引發(fā)劑和聚合物粘合劑。優(yōu)選的可加成聚合的化合物包括可加成聚合的含有烯鍵式的不飽和鍵的化合物。含烯鍵式不飽和鍵的化合物是具有末端烯鍵式不飽和鍵的化合物。這種化合物可以具有單體、預(yù)聚物或它們的混合物的化學(xué)形式。單體示例的有不飽和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來(lái)酸)和脂族多元醇的酯，以及不飽和羧酸和脂族多胺的酰胺。優(yōu)選的可加成聚合的化合物還包括氨基甲酸酯型可加成聚合的化合物。光致聚合引發(fā)劑可以是根據(jù)要使用的光源的波長(zhǎng)而適當(dāng)選擇的各種光致聚合引發(fā)劑中的任何一種，或兩種以上的光致聚合引發(fā)劑體系(光引發(fā)體系)。優(yōu)選實(shí)例包括JP2001-22079A的第至段中所述的引發(fā)體系。聚合物粘合劑，由于它必須起可光致聚合光敏組合物的成膜劑的作用，并且同時(shí)，必須使得圖形記錄層溶解在堿性顯影劑中，因此應(yīng)當(dāng)是在堿性水溶液中可溶解或可溶脹的有機(jī)聚合物。這種有機(jī)聚合物的優(yōu)選實(shí)例包括JP2001-22079A的第至段中所述的那些。光致聚合物型光敏組合物優(yōu)選包括JP2001-22079A的第至段中所述的添加劑(例如，用于改善可涂布性的表面活性劑、著色劑、增塑劑、熱聚合引發(fā)劑)。為了防止氧抑制聚合，優(yōu)選在光致聚合物型圖形記錄層的頂部上提供阻氧保護(hù)層。存在于阻氧保護(hù)層中的聚合物示例的有聚乙烯醇及其共聚物。還理想的是，提供如JP2001-228608A的第至段中所述的那些一樣的中間層或粘合層。<常規(guī)陰圖型光敏組合物>常規(guī)陰圖型光敏組合物包含重氮樹(shù)脂或可光致交聯(lián)樹(shù)脂。除此之外，優(yōu)選含有重氮樹(shù)脂和堿溶性或可溶脹的聚合物(粘合劑)的光敏組合物。重氮樹(shù)脂示例的有芳族重氮鹽與具有活性羰基的化合物例如甲醛的縮合產(chǎn)物；以及可溶于有機(jī)溶劑的重氮樹(shù)脂無(wú)機(jī)鹽，所述可溶于有機(jī)溶劑的重氮樹(shù)脂無(wú)機(jī)鹽是六氟磷酸鹽或四氟硼酸鹽與對(duì)重氮苯胺和甲醛的縮合產(chǎn)物的反應(yīng)產(chǎn)物。尤其優(yōu)選JP59-78340A中所述的高分子量重氮化合物，其中六聚物和更高級(jí)的聚合物的含量為至少20摩爾％。代表性的粘合劑包括含有丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸或馬來(lái)酸作為主要組分的共聚物。具體實(shí)例包括JP50-118802A中所述的例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯腈和(甲基)丙烯酸之類的單體的多組分共聚物，以及JP56-4144A中所述的丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯腈和不飽和羧酸的多組分共聚物。常規(guī)陰圖型光敏組合物優(yōu)選含有作為添加劑的印出劑、染料、用于對(duì)44涂敷的涂層賦予撓性和耐磨性的增塑劑、顯影促進(jìn)劑和其它化合物，以及用于增強(qiáng)可涂布性的表面活性劑，它們描述于JP7-281425A的第至段中。在常規(guī)陰圖型光敏層的下面，有利的是提供JP2000-105462A中所述的含有聚合物的中間層，所述的聚合物具有酸性團(tuán)的組分和具有鐵基的組分。<常規(guī)陽(yáng)圖型光敏組合物>常規(guī)陽(yáng)圖型光敏組合物包含醌二疊氮化物。尤其優(yōu)選含有鄰醌二疊氮化物和堿溶性聚合物的光敏組合物。鄰醌二疊氮化物的示例性實(shí)例包括US3,635,709中所述的1,2-萘醌-2-二疊氮基_5_磺酰氯和苯盼-甲醛樹(shù)脂或甲酷-甲醛樹(shù)脂的酯，以及1,2-萘醌-2-二疊氮基-5-磺酰氯和焦掊酚-丙酮樹(shù)脂的酯。堿溶性聚合物的示例性實(shí)例包括苯酚-甲醛樹(shù)脂、甲酚-甲醛樹(shù)脂、苯酚_甲酚_甲醛共縮合樹(shù)脂、聚羥基苯乙烯、N-(4-羥基苯基)甲基丙烯酰胺共聚物、JP7-36184A中所述的具有羧基的聚合物、JP51-34711A中所述的具有酚式羥基的丙烯酸類樹(shù)脂、JP2-866A中所述的具有磺酰胺基的丙烯酸類樹(shù)脂，以及聚氨酯樹(shù)脂。常規(guī)陽(yáng)圖型光敏組合物優(yōu)選包含作為添加劑的化合物例如靈敏性調(diào)節(jié)劑、JP7-92660A的第至段中所述的印出劑和染料，以及用于增強(qiáng)可涂布性的表面活性劑，例如在JP7-92660A的第段中所述的那些。在常規(guī)陽(yáng)圖型光敏層的下面，有利的是，提供與在上述常規(guī)陰圖型光敏層的情況下所優(yōu)選使用的中間層類似的中間層。<非處理型光敏組合物>非處理型光敏組合物的示例性實(shí)例包括熱塑性聚合物粉末-基光敏組合物、微膠囊-基光敏組合物，以及含磺酸產(chǎn)生聚合物的光敏組合物。這些都是含有光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)的熱敏性組合物。光熱轉(zhuǎn)化物質(zhì)優(yōu)選是與可以用于上述熱陽(yáng)圖型光敏組合物的那些相同類型的染料。熱塑性聚合物粉末-基光敏組合物由分散在親水性聚合物基體中的疏水的、可熱熔的細(xì)粒聚合物組成。在熱塑性聚合物粉末-基圖像記錄層中，疏水聚合物的細(xì)粒在由曝光產(chǎn)生的熱量的影響下熔化并且相互熔合，從而形成起圖像區(qū)作用的疏水性區(qū)域。細(xì)粒的聚合物優(yōu)選是其中粒子在熱量的影響下熔化并熔合在一起的聚合物。尤其優(yōu)選其中單獨(dú)的粒子具有親水表面，使得它們能夠在親水組分例如潤(rùn)版水(dampeningwater)中分散的細(xì)粒聚合物。優(yōu)選實(shí)例包括在研究公開(kāi)33303號(hào)(ResearchDisclosureNo.33303)(1992年1月)、JP9-123387A、JP9-131850A、JP9-171249A、JP9-171250A和EP931,647A中所述的細(xì)粒熱塑性聚合物。在這些中，優(yōu)選聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯。具有親水表面的細(xì)粒聚合物的示例性實(shí)例包括，其中聚合物本身是親水性的那些，以及其中通過(guò)在聚合物粒子的表面上吸附親水性化合物例如聚乙烯醇或聚乙二醇而使得聚合物粒子的表面親水性的那些。細(xì)粒聚合物優(yōu)選具有反應(yīng)性官能團(tuán)。微膠囊型光敏組合物的優(yōu)選實(shí)例包括JP2000-118160A中所述的那些，以及與JP2001-277740A中所述的那些一樣的組合物，其中在微膠囊中包封具有熱反應(yīng)性官能團(tuán)的化合物?？梢杂糜诤撬岙a(chǎn)生聚合物的光敏組合物的磺酸產(chǎn)生聚合物的示例性實(shí)例包括JP10-282672A中所述的聚合物，其在側(cè)鏈中具有磺酸酯基團(tuán)、二砜基團(tuán)或仲-或叔-磺酰胺基。非處理型光敏組合物中包括親水樹(shù)脂不僅提供了良好的機(jī)上可顯影性(on-pressdevelopability)，而且它還增強(qiáng)了光敏層本身的膜強(qiáng)度。優(yōu)選的親水性樹(shù)脂包括具有親水性基團(tuán)例如羥基、羧基、羥乙基、羥丙基、氨基、氨基乙基、氨基丙基或羧甲基的樹(shù)脂；以及溶膠-凝膠轉(zhuǎn)化類型親水性粘合劑樹(shù)脂。非處理型圖像記錄層可以在印刷機(jī)上被顯影，因而不需要特殊的顯影步驟?？梢詫P2002-178655A中詳細(xì)描述的方法用于形成非處理型圖像記錄層，并且用于制備具有這種層的印刷版。<背面涂層>必要時(shí)，通過(guò)在根據(jù)本發(fā)明得到的平版印刷版載體上提供各種圖像記錄層中的任何一種而得到的預(yù)敏化版，可以在背面一側(cè)上提供有由有機(jī)聚合物組成的涂層，以防止在將預(yù)敏化版層疊在另一個(gè)的頂部時(shí)的圖像記錄層的刮擦。然后對(duì)使用通過(guò)本發(fā)明的制造方法得到的平版印刷版載體制備的預(yù)敏化版進(jìn)行取決于圖像記錄層的類型的各種處理方法中的任何一種，從而得到平版印刷版?？梢杂糜诔上衿毓?imagewiseexposure)的光合光(actiniclight)的光源的示例性實(shí)例包括汞蒸氣燈、金屬鹵化物燈、氙燈和化學(xué)燈?？梢允褂玫募す馐膶?shí)例包括來(lái)自氦-氖激光器(He-Ne激光器)、氬激光器、氪激光器、氦-鎘激光器、KrF受激準(zhǔn)分子激光器、半導(dǎo)體激光器、YAG激光器和YAG-SHG激光器的那些。在以上曝光以后，如果圖像記錄層是熱陽(yáng)圖型、熱陰圖型、常規(guī)陰圖型、常規(guī)陽(yáng)圖型或光致聚合物型圖像記錄層，則優(yōu)選使用顯影劑進(jìn)行顯影，以制備平版印刷版。顯影劑優(yōu)選是堿性顯影劑，并且優(yōu)選是基本上沒(méi)有有機(jī)溶劑的堿性水溶液。還優(yōu)選基本上沒(méi)有堿金屬硅酸鹽的顯影劑。使用基本上沒(méi)有堿金屬硅酸鹽的顯影劑的適宜顯影方法的一個(gè)實(shí)例是JPU-109637A中詳細(xì)描述的方法。還可以使用含有堿金屬硅酸鹽的顯影劑。實(shí)施例以下，經(jīng)由實(shí)施例更充分地描述本發(fā)明，盡管本發(fā)明不限于所述實(shí)施將圖1中所示的用于連續(xù)鑄造和軋制的裝置1用于在如下所述的實(shí)施例1至4和比較例1中制備連續(xù)鑄造板(鋁合金板)。在熔化和容納爐2中制備含有0.1重量％的硅、0.4重量％的鐵和0.015重量％的銅，以及余量的鋁和非有意加入的雜質(zhì)的熔體100。在此步驟中，使用的鋁不限于具有這種組成的鋁，而是可以根據(jù)預(yù)期用途而使當(dāng)?shù)剡x擇。例如，在該板被用作用于平版印刷版載體的材料的情況下，通常廣泛使用1050材料的組成。其它的1000系列材料和3000系列材料也是熟知的，并且基于本發(fā)明的原理，即使使用這些材料中的任何一種，也可以預(yù)期相同的效果。在根據(jù)上述程序制備熔體100以后，將線材的式(直徑10mm)的含有5重量％的鈦和1重量％的硼以及余量的鋁和非有意加入的雜質(zhì)的晶粒細(xì)化材料加入到第一通道3中，使得鋁合金含有0.015重量％的鈦。此步驟中的熔體100的組成顯示于下表1中。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage48</column></row><table>然后，使熔體100通過(guò)過(guò)濾裝置4、第二通道5、安置有液體液面控制器的容器6、熔體供給噴嘴7和冷卻輥8，以制備板寬度為約1100mm并且板厚度為約5mm的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)。冷卻輥8以約1.5m/min的速率旋轉(zhuǎn)。由于理想的是使熔體供給噴嘴7和冷卻輥8之間的距離最小化，以使熔體彎月面穩(wěn)定(理想的是，在可以繼續(xù)正常鑄造的條件下，使熔體供給噴嘴7和冷卻輥8相互接觸)，因此在使熔體供給噴嘴7與冷卻輥8接觸的情況下進(jìn)行鑄造。對(duì)于此步驟，所使用的是包括熔體供給噴嘴7的單元，熔體供給噴嘴7由自上側(cè)與熔體100接觸的頂板構(gòu)件和自下側(cè)與熔體100接觸的底板構(gòu)件組成，這些頂板構(gòu)件和底板構(gòu)件可以在垂直方向上移動(dòng)，并且在來(lái)自熔體的壓力下，被按壓在鄰接的冷卻輥的表面上。如此制備的板厚度為5mm的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)200然后被通過(guò)冷軋軋制成1.5mm的厚度，在55(TC經(jīng)受中間退火IO小時(shí)，通過(guò)精整冷軋進(jìn)一步軋制到0.3mm的厚度，并且經(jīng)受平直度校正和脫脂，以得到最終的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)。接著，最終的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)的表面上進(jìn)行下列表面處理，以得到平版印刷版載體。<表面處理〉將各個(gè)表面處理(a)至(h)以所述的順序相繼進(jìn)行。(a)機(jī)械?；幚碓诠┙o以磨料(中位直徑為40pm的浮石)在水中的懸浮液(比重，1.12)的形式的磨料漿液的同時(shí)，用旋轉(zhuǎn)輥型尼龍刷對(duì)鋁合金板的表面進(jìn)行機(jī)械?；幚恚敝恋玫?.50iam的平均表面粗糙度Ra。尼龍刷由6/10尼龍制成，并且具有35mm的剛毛長(zhǎng)度和0.3mm的剛毛直徑。每一個(gè)刷由300mm直徑的不銹鋼圓筒構(gòu)成，在所述圓筒中，形成有孔，并且剛毛致密地設(shè)置(刷的剛毛密度為450根/cm2)。使用3個(gè)旋轉(zhuǎn)刷。將刷輥按壓在鋁合金板上，直至旋轉(zhuǎn)刷的驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)上的負(fù)荷比將所述輥按壓在所述板上以前大7kW。刷旋轉(zhuǎn)的方向與鋁板移動(dòng)的方向相同。刷的旋轉(zhuǎn)速度為200rpm。(b)堿蝕刻處理通過(guò)下列方法對(duì)鋁合金板進(jìn)行蝕刻處理噴射氫氧化鈉濃度為20重量%、鋁離子濃度為7重量％并且溫度為7(TC的水溶液，從而從鋁合金板溶解4.5g/m2的材料。隨后通過(guò)用水噴射來(lái)漂洗所述板。(c)去污點(diǎn)處理通過(guò)用硫酸濃度為1重量％(鋁離子含量，0.5重量％)并且溫度為35°C的水溶液噴射所述板4秒，進(jìn)行去污點(diǎn)處理。隨后通過(guò)用水噴射來(lái)漂洗所述板。(d)硝酸電解49使用60.0HzAC電壓連續(xù)地進(jìn)行電化學(xué)?；幚怼Ｊ褂玫碾娊庖菏且后w溫度為35i:的1重量％硝酸的水溶液(含有0.5重量％的鋁離子)。使用具有梯形波形的交流電，并且在碳電極作為對(duì)電極的情況下，以1:1的負(fù)載比進(jìn)行電化學(xué)?；幚?，歷時(shí)時(shí)間TP的時(shí)期，直至電流從零達(dá)到0.8ms的峰值。將鐵素體用作輔助陽(yáng)極。作為電流的峰值的電流密度是30A/dm2。作為陽(yáng)極反應(yīng)期間在鋁合金板上的總電量的電量為180C/dm2。對(duì)于流自電源的電流，5%被轉(zhuǎn)移到輔助陽(yáng)極。(e)液膜形成處理在上述硝酸電解以后，不漂洗已經(jīng)經(jīng)歷了硝酸電解的表面，而是從噴頭對(duì)所述表面提供pH為4的含硝酸的酸性溶液，以在其上形成液膜。(f)蝕刻處理通過(guò)下列方法對(duì)鋁合金板進(jìn)行蝕刻處理噴射氫氧化鈉濃度為20重量%、鋁離子濃度為7重量。/。并且溫度為7(TC的水溶液，從而從鋁合金板溶解0.6g/m2的材料。隨后通過(guò)用水噴射來(lái)漂洗所述板。(g)去污點(diǎn)處理通過(guò)用硫酸濃度為17重量％(鋁離子含量，0.5重量％)并且溫度為50°C的水溶液噴射所述板4秒，進(jìn)行去污點(diǎn)處理。隨后通過(guò)用水噴射來(lái)漂洗所述板。(h)陽(yáng)極化處理步驟然后使用陽(yáng)極化設(shè)備對(duì)已經(jīng)經(jīng)歷了上述表面處理(a)至(g)的鋁合金板進(jìn)行陽(yáng)極化處理，從而得到平版印刷版載體。使用的電解液是溫度為35。C并且硫酸濃度為17重量％(并且含有0.5重量％的鋁離子)的水溶液。隨后通過(guò)用水噴射來(lái)漂洗所述板。陽(yáng)極化層的最終重量為2.5g/m2。實(shí)施例1在實(shí)施例1中，將圖5A和5B中所示的容器6a，即安置有堰板63的容器6a，用作用于抑制在根據(jù)上述程序制造連續(xù)鑄造板(鋁合金板)中的熔體100的液面振動(dòng)的裝置。證實(shí)，每次熔體在容器6a的堰板63上通過(guò)，熔體液面的振動(dòng)都被弱化，并且在正好在熔體供給噴嘴7以前的位置沒(méi)有振動(dòng)。通過(guò)下列步驟測(cè)量容器6a內(nèi)的熔體100的液面的振動(dòng)。<熔體液面振動(dòng)的測(cè)量>測(cè)量熔體液面振動(dòng)的方法包括對(duì)1分鐘內(nèi)觀察到的液體表面部分的液體液面高度的波動(dòng)范圍(最大高度和最小高度之間的差別)精密測(cè)量io次，并且計(jì)算平均值，所述液體表面部分與容器中的熔體的流出口最接近。波動(dòng)范圍通過(guò)制備具有毫米刻度的陶瓷棒并且將所述棒浸入熔體中來(lái)測(cè)量。該棒理想地具有最小的可能厚度，以使對(duì)熔體流動(dòng)的不利影響最小化，并且所述厚度被設(shè)置為3mm。通過(guò)下列步驟評(píng)價(jià)通過(guò)上述步驟得到的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)的表面組成的均勻性以及通過(guò)上述步驟得到的平版印刷版載體的表面均勻性。<表面組成均勻性的評(píng)價(jià)〉使用簡(jiǎn)寫為"EPMA，，(型號(hào)JXA-8800M)的電子探針微分析儀，在下列測(cè)量條件下評(píng)價(jià)脫脂以后的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)的表面組成的均勻性。觀lj量面積(9mmx9mm);要測(cè)量的元素鐵和硅；加速電壓20kV;探針直徑30pm;停留時(shí)間50ms;點(diǎn)的數(shù)量300x300個(gè)；間隔30測(cè)量點(diǎn)的數(shù)量5個(gè)，隨機(jī)選取。表面組成是否均勻是基于通過(guò)使用EPMA在整個(gè)目標(biāo)表面(9mmx9mm)上分析得到的平均強(qiáng)度評(píng)價(jià)的。當(dāng)存在其中平均強(qiáng)度比整個(gè)表面的平均強(qiáng)度大至少1.2倍或最多0.8倍的切割成尺寸為0.5mmx0.5mm的區(qū)域時(shí)，該表面組成被評(píng)價(jià)為"不均勻"，而當(dāng)不存在這樣的區(qū)域時(shí)，該表面組成被評(píng)價(jià)為"均勻"。<表面均勻性的評(píng)價(jià)>平版印刷版在表面不均勻性在視覺(jué)上能被察覺(jué)時(shí)被評(píng)價(jià)為"差"，而在表面不均勻性在視覺(jué)上不能被察覺(jué)時(shí)被評(píng)價(jià)為"好"。結(jié)果顯示于以下表2中。實(shí)施例2在實(shí)施例2中，將圖6A和6B中所示的容器6b，即具有起伏結(jié)構(gòu)64的內(nèi)壁的容器6b，用作用于抑制在根據(jù)上述程序制造連續(xù)鑄造板(鋁合金板)中的熔體100的液面振動(dòng)的裝置。實(shí)施例3在實(shí)施例3中，將圖7A和7B中所示的容器6c，即具有安置在外壁側(cè)的閥門61，的容器6c，用作用于抑制在根據(jù)上述程序造連續(xù)鑄造板(鋁合金板)中的熔體100的液面振動(dòng)的裝置。實(shí)施例4在實(shí)施例4中，將圖8A和8B中所示的容器6d，即開(kāi)口面積為50x50cr^的容器6d，用作用于抑制在根據(jù)上述程序制造連續(xù)鑄造板(鋁合金板)中的熔體100的液面振動(dòng)的裝置。比較例1在比較例1中，將圖9A和9B中所示的容器6，即沒(méi)有用于抑制熔體100的液面振動(dòng)的裝置的容器6，用于根據(jù)上述程序制造連續(xù)鑄造板(鋁合金板)。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table>通過(guò)本發(fā)明得到的具有均勻表面組成的連續(xù)鑄造板(鋁合金板)可以被用作平版印刷版用鋁載體的材料。權(quán)利要求1.一種通過(guò)連續(xù)鑄造制造平版印刷版用鋁合金板的方法，所述方法包括通過(guò)熔體供給噴嘴將鋁合金熔體供給到一對(duì)冷卻輥之間，并且在所述鋁合金熔體在所述一對(duì)冷卻輥之間固化的同時(shí)，軋制所述鋁合金熔體，其中用于對(duì)所述熔體供給噴嘴供給所述鋁合金熔體的容器容納所述鋁合金熔體，所述的鋁合金熔體以使得存在于所述容器內(nèi)的所述鋁合金熔體的液面的垂直振幅為10mm以下的方式被調(diào)節(jié)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在所述容器中安置一個(gè)或多個(gè)堰板，所述的堰板作為用于將存在于所述容器內(nèi)的所述鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述容器安置有具有起伏結(jié)構(gòu)的內(nèi)壁，所述具有起伏結(jié)構(gòu)的內(nèi)壁作為用于將存在于所述容器內(nèi)的所述鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述容器的外壁側(cè)安置流入口的閥門，其中所述鋁合金熔體通過(guò)所述的流入口流入到所述容器中，并且將所述閥門用作用于將存在于所述容器內(nèi)的所述鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。5.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中將上部開(kāi)口面積為至少50x50cm2的容器用作用于將存在于所述容器內(nèi)的所述鋁合金熔體的液面的垂直振幅減小到10mm以下的裝置。6.—種通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法得到的平版印刷版用鋁合金板。7.—種通過(guò)對(duì)根據(jù)權(quán)利要求6所述的平版印刷版用鋁合金板進(jìn)行表面粗糙化處理得到的平版印刷版載體。8.—種具有形成在根據(jù)權(quán)利要求7所述的平版印刷版載體上的圖像記錄層的預(yù)敏化版。全文摘要本發(fā)明提供一種通過(guò)連續(xù)鑄造制造平版印刷版用鋁合金板的方法，所述方法包括通過(guò)熔體供給噴嘴將鋁合金熔體供給到一對(duì)冷卻輥之間，并且在所述鋁合金熔體在所述一對(duì)冷卻輥之間固化的同時(shí)，軋制所述鋁合金熔體，其中用于對(duì)熔體供給噴嘴供給鋁合金熔體的容器容納鋁合金熔體，所述的鋁合金熔體以使得存在于容器內(nèi)的鋁合金熔體的液面的垂直振幅為10mm以下的方式被調(diào)節(jié)。此制造方法能夠得到具有均勻表面組成的平版印刷版用鋁合金板，并且能夠制造沒(méi)有表面缺陷的平版印刷版載體。文檔編號(hào)B41N3/00GK101524710SQ20091000799公開(kāi)日2009年9月9日申請(qǐng)日期2009年3月6日優(yōu)先權(quán)日2008年3月6日發(fā)明者三輪英樹(shù),澤田宏和,鈴木信也申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社