專利名稱：曝光方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過將由在主掃描方向配置的多個曝光頭形成的曝光頭列，在副掃描方向上配置多列而成的曝光部使得感光材料曝光的曝光方法及裝置。
背景技術(shù)：
以前，利用DMD(數(shù)字微反射鏡器件)等空間光調(diào)制元件，對應(yīng)圖像數(shù)據(jù)調(diào)制激光，采用該被調(diào)制的激光將感光材料曝光的曝光裝置已有各種提案。
而且，作為上述所述曝光裝置，例如，在專利文件1等中提出的，通過設(shè)有所述空間調(diào)制元件的多個曝光頭來掃描并曝光感光材料的曝光裝置。具體地，已提出，將由在主掃描方向配置的多個上述所述曝光頭形成的曝光頭列，在副掃描方向配置多列，將配置了多列該曝光頭列的曝光部，通過使之在副掃描方向上相對移動，來對感光材料進行曝光的曝光裝置。
其中，通過上述所述曝光裝置進行曝光時，例如可以將由激光二極管等曝光光源所射出的曝光光線入射到曝光頭上，該曝光光線通過曝光頭調(diào)制和成像，并照射到感光材料上，但是，由在副掃描方向排列所述多列曝光頭列的曝光部進行曝光時，在曝光開始以及曝光結(jié)束時，存在在感光材料上沒有曝光光線的照射范圍的曝光頭列。因此，現(xiàn)有技術(shù)中，在曝光開始及曝光結(jié)束時，用機械快門遮斷入射在所述曝光頭列的曝光光線，來停止該曝光頭列的曝光光線照射，或者，在所述曝光頭列中控制DMD，來防止從該曝光頭列射出的曝光光線的照射。
特開2001-338867號公報

發(fā)明內(nèi)容
然而，如上所述，即使停止從所述曝光頭列所照射的曝光光線，也會造成來自曝光光源的無用的曝光光線的射出，因此，使得那些曝光光源的工作時間增加而使得曝光光源壽命變短，曝光光源的更換周期變短，提高了成本。尤其，在用多個昂貴的激光二極管等構(gòu)成曝光光源的情況下，上述成本提高的問題更加顯著。
本發(fā)明的目的是為了解決上述問題，而提供一種曝光方法及裝置，其由在副掃描方向上所排列的上述所述多個曝光頭列形成的曝光部進行曝光，可通過延長曝光光源壽命、延緩更換周期實現(xiàn)成本的降低。
本發(fā)明的第1曝光方法，將曝光部對著感光材料，使之在副掃描方向相對移動由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光，其中，上述曝光部具有多列由在主掃描方向上配置的多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開并被排列在副掃描方向上，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，能夠以上述曝光頭列單元，向各曝光頭列射出上述曝光光線，向上述感光材料的曝光開始時，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，開始上述曝光光線的照射。
本發(fā)明的第2曝光方法，將曝光部對著感光材料，使之在副掃描方向相對移動由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光，其中，曝光部具有多列由在主掃描方向上配置多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開而被排列在副掃描方向上，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，能夠以上述曝光頭列單元，停止向各曝光頭列射出上述曝光光線，向上述感光材料的曝光結(jié)束時，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，停止上述曝光光線的照射。
另外，在第1及第2曝光方法中，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，能夠以上述曝光頭單元，向各曝光頭射出上述曝光光線，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，僅通過對應(yīng)于上述感光材料的上述主掃描方向的寬度的范圍的上述曝光頭，進行上述曝光光線的照射。
另外，可檢測由上述曝光光源射出的曝光光線，對應(yīng)該被檢測的曝光光線的光量，控制上述曝光光源的驅(qū)動電流，使該光量成為預(yù)定量。
本發(fā)明的第1曝光裝置，包括，具有多列由在主掃描方向上配置的多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，且該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開并被排列在副掃描方向上的曝光部；使該曝光部和上述感光材料在上述副掃描方向上相對移動并由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光的掃描組件，其特征在于，上述曝光光源是可以用被驅(qū)動控制的上述曝光頭列單元向各曝光頭列射出上述曝光光線的設(shè)備，上述曝光裝置還包括在向上述感光材料的曝光開始時，驅(qū)動控制上述曝光光源，使以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，開始上述曝光光線的照射的曝光光源控制組件。
本發(fā)明的第2曝光裝置，包括，具有多列由在主掃描方向上配置的多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，且該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開并被排列在副掃描方向上的曝光部；使該曝光部和上述感光材料在上述副掃描方向上相對移動并由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光的掃描組件，其特征在于，上述曝光光源是可以用被驅(qū)動控制的上述曝光頭列單元向各曝光頭列射出上述曝光光線的設(shè)備，上述曝光裝置還包括在向上述感光材料的曝光結(jié)束時，驅(qū)動控制上述曝光光源，使以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，停止上述曝光光線的照射的曝光光源控制組件。
另外，在第1及第2曝光裝置中，上述曝光光源是可以用被驅(qū)動控制的上述曝光頭列單元向各曝光頭列射出上述曝光光線的設(shè)備，以及上述曝光光源控制組件驅(qū)動控制上述曝光光源，僅通過對應(yīng)于上述感光材料的上述主掃描方向的寬度范圍的上述曝光頭，進行上述曝光光線照射。
另外，可包括包括檢測從上述曝光光源射出的曝光光線的光量的曝光光線檢測組件，以及根據(jù)該曝光光線檢測組件所檢測的曝光光線的光量，控制上述曝光光源的驅(qū)動電流，使該光量變?yōu)轭A(yù)定量的驅(qū)動電流控制組件。
根據(jù)本發(fā)明的第1及第2曝光方法及裝置，因為在向感光材料的曝光開始或結(jié)束之際，通過對射出曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，以曝光頭列單元在副掃描方向上并列的順序，進行了曝光光線照射的開始或停止，故不存在曝光光源的無效作業(yè)而可使那些曝光光源壽命延長，及使其更換周期延長，故可實現(xiàn)成本降低。
另外，與在所述曝光頭列中通過控制DMD，從而防止從該曝光頭列照射曝光光線的情況相比較，由于可縮短曝光光線到DMD反射鏡面的照射時間，故可保護那些反射鏡面，可延長DMD的壽命。
另外，在本發(fā)明的第1及第2曝光方法及裝置中，在通過射出曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，使得僅對與感光材料主掃描方向?qū)挾确秶鷮?yīng)的曝光頭進行曝光光線的照射的情況下，例如，感光材料主掃描方向?qū)挾缺绕毓忸^列主掃描方向?qū)挾刃〉那闆r下，可防止與從感光材料露出的范圍中的曝光頭對應(yīng)的曝光光源做無用功。
另外，例如，在將激光二極管等利用作為曝光光源的情況下，由于驅(qū)動之后光量不穩(wěn)定，有必要等待曝光光線的照射直到光量穩(wěn)定，然而，在上述曝光方法及裝置中，檢測曝光光源所射出的曝光光線，對應(yīng)該被檢測曝光光線的光量來控制曝光光源的驅(qū)動電流使其光量成為預(yù)定量的情況下，由于可以縮短上述等待時間，故可縮短那些曝光光源的作業(yè)時間，可延長曝光光源的壽命。


圖1表示本發(fā)明一實施形態(tài)曝光裝置外觀立體圖。
圖2表示圖1所示曝光裝置掃描器結(jié)構(gòu)立體圖。
圖3(A)表示感光材料上所形成的已曝光區(qū)俯視圖，(B)為各曝光頭曝光區(qū)的排列示圖，(C)為相鄰的已曝光區(qū)部分重合的圖。
圖4表示圖1所示曝光裝置曝光頭概略結(jié)構(gòu)立體圖。
圖5表示數(shù)字微反射鏡器件(DMD)結(jié)構(gòu)局部放大圖。
圖6(A)及(B)為用于說明DMD操作的說明圖。
圖7表示光纖陣列光源結(jié)構(gòu)立體圖。
圖8表示圖1所示曝光裝置電氣結(jié)構(gòu)塊圖。
圖9圖1所示曝光裝置作用說明圖。
圖10圖1所示曝光裝置作用說明圖。
圖11用于說明現(xiàn)有技術(shù)激光模塊操作圖。
圖12表示圖4所示曝光頭光學(xué)系統(tǒng)67的其他實施形態(tài)示圖。
圖13用于說明圖1所示曝光裝置激光模塊的驅(qū)動方法的一個實施形態(tài)的圖。
圖中30，31多模光纖，50數(shù)字微反射鏡器件(DMD)，51擴大成像光學(xué)系統(tǒng)，64激光模塊，66光纖陣列光源，80濾光器，81光學(xué)元件，150感光材料，152載臺，162掃描器，163曝光頭列，166曝光頭，164傳感器，166曝光頭，168曝光區(qū)，170已曝光區(qū)。
具體實施例方式
接下來，參照附圖對實施本發(fā)明曝光方法的曝光裝置的一實施形態(tài)進行說明。盡管本發(fā)明曝光裝置在曝光光源驅(qū)動控制方法方面具有特點，但首先就曝光裝置的總體結(jié)構(gòu)進行說明。
本曝光裝置包括，如圖1所示，將片狀感光材料150吸附保持在表面上的平板狀移動載臺152。在4根腳部154上所支持的厚板狀的設(shè)置臺156的上表面上，設(shè)置有沿著載臺移動方向延伸的2條導(dǎo)軌158。載臺152配置成使其長軸方向向著載臺移動方向，同時通過導(dǎo)軌158可以往復(fù)移動的被支持。
在設(shè)置臺156的中央部，設(shè)置有橫跨載臺152的移動路徑的コ字狀門160。每個コ字狀門160的端部被固定在設(shè)置臺156的兩個側(cè)面上。在夾持該門160的一側(cè)設(shè)有掃描器162作為曝光部，另一側(cè)設(shè)有多個(例如2個)用于檢測感光材料150的前端及后端的傳感器164。掃描器162及傳感器164分別都安裝在門160上，并被固定設(shè)置在載臺152的移動路徑的上方。掃描器162及傳感器164被連接在未圖示的控制它們的控制器上。
掃描器162，如圖2及圖3(B)所示，具有多列由在主掃描方向上配置的多個將曝光光線射出到感光材料150上的曝光頭166形成的曝光頭列163，且該多列曝光頭列163在主掃描方向上被錯開并被排列在副掃描方向上。曝光頭166mn表示排列在第m行第n列的曝光頭。
曝光頭166的曝光區(qū)168是以副掃描方向作為短邊的矩形。
因此，隨著載臺152的移動，在感光材料150上由每個曝光頭166形成帶狀已曝光區(qū)170。此外，要表示由配置在第m行第n列的各個曝光頭所造成的曝光區(qū)時，采用曝光區(qū)168mn表示。
另外，如圖3(A)及圖3(B)所示，為了使帶狀已曝光區(qū)170在主掃描方向上成無間隙并列，需要使得配置成線狀的曝光頭列163的每一個曝光頭在主掃描方向上錯開規(guī)定間隔(曝光區(qū)的長邊的自然數(shù)倍，在本實施形態(tài)中為1倍)的進行配置。為此，第1行的曝光區(qū)16811不能曝光的部分可通過第2行曝光區(qū)16821曝光。嚴格來講，如圖3(C)所示，各曝光頭列163的曝光頭被排列在主掃描方向上，使相鄰帶狀已曝光區(qū)170部分重合。
每個曝光頭16611～166mn，如圖4所示，作為根據(jù)圖像數(shù)據(jù)對入射光束按照每個像素進行調(diào)制的空間光調(diào)制元件，包括數(shù)字微反射鏡器件(DMD)50。
DMD50是，如圖5所示，在SRAM單元(存儲器單元)60上，將微小反射鏡(微反射鏡)62用支柱支撐來配置的器件，構(gòu)成像素(pixel)的多個(例如1024×768個)微小反射鏡排列成網(wǎng)格狀，構(gòu)成微反射鏡器件。在各像素中，在最上部設(shè)置由支柱支撐的微反射鏡62。
當(dāng)向DMD50的SRAM單元60中寫入數(shù)字信號時，由支柱支撐的微反射鏡62，以對角線為中心相對于配置DMD50的基板側(cè)在±α度(例如±10度)的范圍傾斜。圖6(A)表示微反射鏡62處于ON狀態(tài)傾斜了+α度時的狀態(tài)，圖6(B)表示微反射鏡62處于OFF狀態(tài)傾斜了-α度時的狀態(tài)。因此，對應(yīng)于像素信號，DMD50的各像素中微反射鏡62的傾斜，通過按照圖6所示那樣控制，使得入射到DMD50的激光B分別向微反射鏡62的傾斜方向反射。此外，微反射鏡62的ON/OFF控制，由與DMD50連接的后述控制器302進行。
另外，DMD50，優(yōu)選配置成其短邊與副掃描方向形成規(guī)定角度θ(例如1°～5°)那樣稍微有所傾斜的樣子。通過使上述DMD50傾斜，由各微反射鏡形成的曝光光束的掃描軌跡(掃描線)的間距，比DMD50不傾斜時的掃描線的間距要狹窄，可以大幅度提高分辨率。
另外，在DMD50的光入射側(cè)依次配置，如圖4所示，將由光纖陣列光源66射出的激光進行校正后聚光在DMD上的透鏡系統(tǒng)67，使透過該透鏡系統(tǒng)67的激光向DMD50反射的反射鏡69。
另外，在DMD50的光反射側(cè)，配置使由DMD50反射的激光在感光材料150上成像的成像光學(xué)系統(tǒng)51。
向曝光頭166射出激光的光纖陣列光源66，在該光纖的出射端部(發(fā)光點)沿著與曝光區(qū)168的長邊方向?qū)?yīng)的方向成一列配置。光纖陣列光源66，如圖7所示，包括多個(例如14個)激光模塊64，在各激光模塊64，與多模光纖30的一端連接。在多模光纖30的另一端上，連接了纖芯直徑和多模光纖30的相同而包層直徑比多模光纖30小的光纖31。另外，光纖陣列光源66對應(yīng)各曝光頭166設(shè)置，通過后述的LD驅(qū)動回路303驅(qū)動控制，能夠以上述曝光頭列163單元射出或停止向各曝光頭列163的激光。另外，在本實施形態(tài)中，上述所述光纖陣列光源66對應(yīng)各曝光頭166而設(shè)置的，但也可以采用能夠以上述所述曝光頭列163單元射出或停止向各曝光頭列163的激光的任何結(jié)構(gòu)。
接下來，參照圖8，對本曝光裝置電氣結(jié)構(gòu)進行說明，如圖8所示，全部控制部300與調(diào)制回路301連接，該調(diào)制回路301與控制DMD50的控制器302連接。另外，全部控制部300連接著，驅(qū)動光纖陣列光源66的激光模塊64、并作為曝光光源控制組件的LD驅(qū)動回路303。另外，本實施形態(tài)的LD驅(qū)動回路303在由曝光頭列163射出的激光在感光材料150上沒有照射范圍的情況下，驅(qū)動控制光纖陣列光源66，使基于該曝光頭列163的激光照射停止。全部控制部300連接有驅(qū)動載臺152的載臺驅(qū)動裝置304。
接下來，對本曝光裝置的操作進行說明。
首先，將感光材料吸附在表面上的載臺152，通過圖8所示的載臺驅(qū)動裝置304，沿著導(dǎo)軌158以一定速度從門160的上游側(cè)向下游側(cè)移動。載臺152在通過門160下時，由安裝在門160的傳感器164檢測到感光材料150的前端，根據(jù)該檢測，對應(yīng)曝光頭列163的第1列163a設(shè)置的光纖陣列光源66的激光模塊64(以下稱為第1激光模塊組)由LD驅(qū)動回路303驅(qū)動控制，從第1激光模塊組射出激光，該激光入射到曝光頭列163a，基于曝光頭列163a的曝光光線照射開始。另外，在感光材料150前端被檢測時的曝光頭列163a的位置相對感光材料150的位置設(shè)定為如圖9(A)所示的位置。圖9(A)所示的距離L優(yōu)選根據(jù)激光模塊64中激光二極管的發(fā)光量穩(wěn)定的時間與載臺152的移動速度設(shè)定。
另外曝光頭列163為如圖9(A)所示的位置時，對應(yīng)曝光頭列163的第2列163b設(shè)置的光纖陣列光源66的激光模塊64(以下稱為第2激光模塊組)由LD驅(qū)動回路303驅(qū)動控制，使其不射出激光，曝光頭列163b的曝光光線的照射尚未開始。
而且，載臺152進一步移動，曝光頭列163a為如圖9(B)所示的位置時，曝光頭列163a開始對感光材料150曝光，載臺152進一步移動，曝光頭列163b相對感光材料150為如圖9(C)所示的位置時，即，到感光材料150的前端距離為L的位置時，第2激光模塊組由LD驅(qū)動回路303驅(qū)動控制，由第2激光模塊組中射出激光，該激光入射到曝光頭列163b，曝光頭列163b的曝光光線照射開始。而且，載臺152進一步移動，曝光頭列163a為如圖9(D)所示的位置時，曝光頭列163b開始對感光材料150曝光。
另一方面，在向上述曝光頭列163入射激光的同時，順次讀出幀存儲器中所存儲的圖像數(shù)據(jù)，基于該圖像數(shù)據(jù)，相對各曝光頭166輸出控制信號。
光纖陣列光源66出來的激光一入射到曝光頭166的DMD50上，DMD50的微反射鏡處于ON狀態(tài)時所反射的激光通過透鏡系統(tǒng)54、58在感光材料150上成像，OFF狀態(tài)時反射的激光在感光材料150上沒有成像。通過上述方式，從光纖陣列光源66所射出的激光相對每個像素被ON/OFF，使得感光材料150以預(yù)定圖樣被曝光。
另外，進一步使感光材料150與載臺152一起以一定速度移動，感光材料150通過掃描器162在與載臺移動方向相反的方向被副掃描，利用每個曝光頭166形成帶狀已曝光區(qū)170。
而且，隨著曝光結(jié)束的臨近采用傳感器164檢測感光材料150的后端，此時，曝光頭列163a設(shè)定成相對感光材料150來到如圖10(A)所示位置。而且，上述所述傳感器164一檢測到感光材料150的后端，第1激光模塊組出射的激光由LD驅(qū)動回路303驅(qū)動控制被停止。而且，載臺152進一步移動，曝光頭列163b來到如圖10(B)所示位置時，第2激光模塊組出射的激光由LD驅(qū)動回路303驅(qū)動控制被停止。
另外，當(dāng)掃描器162對感光材料150的副掃描結(jié)束時，載臺152通過載臺驅(qū)動裝置304，沿著導(dǎo)軌158返回到門160的最上游側(cè)的原來的位置，再次沿導(dǎo)軌158以一定速度從門160的上游側(cè)向下游側(cè)移動。
由于采用了本曝光裝置，在對感光材料150的曝光開始或結(jié)束時，因為驅(qū)動控制第1激光模塊組及第2激光模塊組以使以曝光頭列單元在副掃描方向上并列的順序，進行在處的曝光光線的照射的開始或停止，故可不存在激光模塊64的浪費作業(yè)可延長激光模塊64的壽命，并可延長更換周期以期實現(xiàn)成本降低。
具體地講，例如，在感光材料150的曝光區(qū)副掃描距離為600mm，載臺152的移動速度為(或掃描器162副掃描速度)30mm/s、曝光頭166中心間隔為120mm，同時驅(qū)動以及停止上述第1激光模塊組和第2激光模塊組的情況下，其作業(yè)時間為(600+120)/30＝24s，然而，采用本發(fā)明曝光裝置，驅(qū)動控制第1激光模塊組及第2激光模塊組的場合，第1激光模塊組及第2激光模塊組作業(yè)時間為600/30＝20s，可消減16.7％的作業(yè)時間。另外，在感光材料150的曝光區(qū)的副掃描距離為300mm的較短的情況下是(300+120)/30＝14s，而如上述驅(qū)動控制第1激光模塊組及第2激光模塊組的場合為300/30＝10，可消減28.6％的作業(yè)時間，效果進一步顯著。而且，為了提高副掃描方向的分辨率，在上述移動速度放慢的場合還可得到進一步顯著的效果。
另外，例如，如特開2002-202442號公報所公開，在使用多個通過聚光光學(xué)系統(tǒng)在多模光纖中合成由多個激光二極管射出的激光的激光模塊的情況等中，由于昂貴的激光二極管數(shù)很龐大，上述成本降低的效果會更顯著。
另外，在上述實施形態(tài)的曝光裝置中，在曝光開始及結(jié)束之際，像上述那樣驅(qū)動控制第1激光模塊組和第2激光模塊組，但是，也可以僅在曝光開始之際或僅在曝光結(jié)束之際對第1激光模塊組和第2激光模塊組進行驅(qū)動控制。
另外，在上述實施形態(tài)的曝光裝置中，雖然利用了激光模塊64作為曝光光源，但激光模塊64中的激光二極管，如圖11(A)、(B)所示，由于驅(qū)動后光量不穩(wěn)定，需要等待曝光光線的照射直到光量穩(wěn)定的時間t1。因此，在本曝光裝置中，也可以檢測由激光模塊64射出的曝光光線，并控制激光模塊64的驅(qū)動電流，以對應(yīng)該檢測的曝光光線光量使該光量成為預(yù)定量。在上述情況下，由于可縮短上述等待時間，故可縮短那些曝光光源的作業(yè)時間，可延長曝光光源壽命。
具體地，在曝光頭166的透鏡系統(tǒng)67中，如圖12所示，設(shè)有使從光纖陣列光源66射出并通過聚光透鏡71的光透過的同時將其部分反射的濾光器80，以及檢測由濾光器80反射的光的光學(xué)元件81，基于該光學(xué)元件81中所光電轉(zhuǎn)換的電氣信號的大小，例如可以通過LD驅(qū)動回路303控制流過激光模塊64的驅(qū)動電流以使該電氣信號大小達到規(guī)定值。就驅(qū)動電流的控制方法，如果是，例如，如圖13(B)所示，驅(qū)動電流逐步的逼近規(guī)定電流值I樣控制的話，如圖13(A)所示，由于激光模塊64驅(qū)動后光量穩(wěn)定，因此可將上述等待時間縮短為時間t2。另外，圖示光學(xué)系統(tǒng)67由，將光纖陣列光源66射出的激光B聚光的聚光透鏡71、通過該聚光透鏡71的光的光路上所插入的桿狀的光學(xué)積分器72以及該桿狀積分器72前方即反射鏡69側(cè)所配置的成像透鏡74構(gòu)成，聚光透鏡71、桿狀積分器72以及成像透鏡74將光纖陣列光源66射出的激光近似成平行光，并使其成為光束截面強度均一化的光束，然后使其入射到DMD50上。另外，基于進一步縮短上述等待時間方面的考慮，優(yōu)選采用專利申請JP2003-083225號所示的復(fù)合波模塊光源。具體地，如果采用將從多個激光二極管射出的激光準直并將該激光合成耦合到光纖的、其合成激光束徑大致為光纖芯徑1/2的復(fù)合模塊光源的話，則可使速度迅速提高1秒左右，使上述等待時間降到1秒以下。因此，可進一步縮短驅(qū)動后光量穩(wěn)定時間，可進一步消減曝光光源的作業(yè)時間。
另外，如上述實施形態(tài)的曝光裝置，光纖陣列光源66對應(yīng)各曝光頭166設(shè)置的情況下，也可以驅(qū)動控制光纖陣列光源66以使僅對與感光材料150主掃描方向?qū)挾确较驅(qū)?yīng)的范圍的曝光頭166進行曝光光線的照射。在驅(qū)動控制上述光纖陣列光源66的情況中，就感光材料150主掃描方向?qū)挾?，可以由事先預(yù)定的輸入組件輸入，也可以用光學(xué)傳感器等自動檢測。
權(quán)利要求
1.一種曝光方法，將曝光部對著感光材料，使之在副掃描方向相對移動由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光，其中，上述曝光部具有多列由在主掃描方向上配置的多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開并被排列在副掃描方向上，其特征在于通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，能夠以上述曝光頭列單元，向各曝光頭列射出上述曝光光線，向上述感光材料的曝光開始時，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，開始上述曝光光線的照射。
2.一種曝光方法，將曝光部對著感光材料，使之在副掃描方向相對移動由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光，其中，曝光部具有多列由在主掃描方向上配置多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開而被排列在副掃描方向上，其特征在于通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，能夠以上述曝光頭列單元，停止向各曝光頭列射出上述曝光光線，向上述感光材料的曝光結(jié)束時，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，停止上述曝光光線的照射。
3.如權(quán)利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，能夠以上述曝光頭單元，向各曝光頭射出上述曝光光線，通過對射出上述曝光光線的曝光光源的驅(qū)動控制，僅通過對應(yīng)于上述感光材料的上述主掃描方向的寬度的范圍的上述曝光頭，進行上述曝光光線的照射。
4.如權(quán)利要求1-3任一項所述曝光方法，其特征在于，檢測由上述曝光光源射出的曝光光線，根據(jù)該檢測出的曝光光線光量，控制上述曝光光源的驅(qū)動電流使該光量成為預(yù)定量。
5.一種曝光裝置，包括，具有多列由在主掃描方向上配置的多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，且該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開并被排列在副掃描方向上的曝光部；使該曝光部和上述感光材料在上述副掃描方向上相對移動并由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光的掃描組件，其特征在于，上述曝光光源是可以用被驅(qū)動控制的上述曝光頭列單元向各曝光頭列射出上述曝光光線的設(shè)備，上述曝光裝置還包括在向上述感光材料的曝光開始時，驅(qū)動控制上述曝光光源，使以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，開始上述曝光光線的照射的曝光光源控制組件。
6.一種曝光裝置，包括，具有多列由在主掃描方向上配置的多個接收并照射從曝光光源所射出的曝光光線的曝光頭形成的曝光頭列，且該多列曝光頭列在上述主掃描方向上錯開并被排列在副掃描方向上的曝光部；使該曝光部和上述感光材料在上述副掃描方向上相對移動并由此將上述感光材料用上述曝光光線曝光的掃描組件，其特征在于，上述曝光光源是可以用被驅(qū)動控制的上述曝光頭列單元向各曝光頭列射出上述曝光光線的設(shè)備，上述曝光裝置還包括在向上述感光材料的曝光結(jié)束時，驅(qū)動控制上述曝光光源，使以上述曝光頭列單元在上述副掃描方向上并列的順序，停止上述曝光光線的照射的曝光光源控制組件。
7.如權(quán)利要求5或6所述的曝光裝置，其特征在于，上述曝光光源是可以用被驅(qū)動控制的上述曝光頭列單元向各曝光頭列射出上述曝光光線的設(shè)備，以及上述曝光光源控制組件驅(qū)動控制上述曝光光源，僅通過對應(yīng)于上述感光材料的上述主掃描方向的寬度范圍的上述曝光頭，進行上述曝光光線照射。
8.如權(quán)利要求5-7任一項所述曝光裝置，其特征在于，包括檢測從上述曝光光源射出的曝光光線的光量的曝光光線檢測組件，以及根據(jù)該曝光光線檢測組件所檢測的曝光光線的光量，控制上述曝光光源的驅(qū)動電流，使該光量變?yōu)轭A(yù)定量的驅(qū)動電流控制組件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用在副掃描方向上排列有多列曝光頭列的曝光部進行曝光的曝光方法，通過延長曝光光源壽命、延長更換周期來實現(xiàn)成本降低，通過對射出曝光光線的激光模塊的驅(qū)動控制，能夠照射或停止曝光頭列(163a、163b)單元的曝光光線，在感光材料(150)上不存在曝光頭列(163b)所照射的曝光光線的照射范圍的情況下，通過驅(qū)動控制激光模塊來停止該曝光頭列(163b)的曝光光線的照射。
文檔編號B41J2/465GK1766736SQ20051008179
公開日2006年5月3日 申請日期2005年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月30日
發(fā)明者橋口昭浩 申請人:富士膠片株式會社