專利名稱:具有陽(yáng)光控制性能的飛機(jī)透明體的制作方法
具有陽(yáng)光控制性能的飛機(jī)透明體相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求2009年6月12日提交的美國(guó)申請(qǐng)61/186,465和2009年8月19日提交的美國(guó)申請(qǐng)61/235,130的優(yōu)先權(quán),這兩篇申請(qǐng)以其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用并入本文。
背景技術(shù):
1.發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明一般地涉及交通工具透明體,在ー種具體實(shí)施方案中,涉及具有陽(yáng)光控制性能(solar control properties)的飛機(jī)透明體。2.技術(shù)考慮因素飛機(jī)透明體、例如飛機(jī)駕駛員座艙或機(jī)艙窗戶典型地由安裝在框架中的一種或多種聚合物基材制成。聚合物基材比玻璃基材的重量更輕,這減少了飛機(jī)的總重量,從而又節(jié)省了燃料。另外,這些聚合物基材具有比玻璃基材更高的斷裂韌性,從而提供改進(jìn)的安全性。這些常規(guī)機(jī)艙窗戶允許乘客看見(jiàn)飛機(jī)外面并允許陽(yáng)光進(jìn)入機(jī)艙。然而,太陽(yáng)能傳輸通過(guò)機(jī)艙窗戶會(huì)升高機(jī)艙內(nèi)的溫度,這會(huì)增加飛機(jī)的空調(diào)系統(tǒng)的負(fù)荷。在減少傳輸通過(guò)常規(guī)機(jī)艙窗戶的熱負(fù)荷的努力中,已經(jīng)開(kāi)發(fā)出多種遮蔽裝置。這些可以涉及從簡(jiǎn)單裝置如能夠升降的不透明遮陽(yáng)板到復(fù)雜裝置如施加電勢(shì)時(shí)變暗的電致變色裝置。然而,這些遮蔽裝置也有ー些缺點(diǎn)。如果乘客使用遮陽(yáng)板或者使電致變色裝置變暗以減少輸入機(jī)艙的熱量,乘客不再能欣賞窗外的景致。另外,穿過(guò)機(jī)艙窗戶的太陽(yáng)能會(huì)加熱或損壞電致變色裝置的元件。因此,將有利的是提供與先前的飛機(jī)透明體相比具有改進(jìn)的陽(yáng)光控制性能但是不會(huì)顯著不利地影響乘客向飛機(jī)透明體外觀看的飛機(jī)透明體、例如飛機(jī)機(jī)艙窗戶。發(fā)明概述一種飛機(jī)透明體包含具有第一主表面和第二主表面的第一聚合物片層(ply),具有第三主表面和第四主表面的第二聚合物片層,以及施涂于ー個(gè)或多個(gè)所述主表面的至少一部分之上的涂層疊層。所述片層可以間隔分開(kāi)以及可以例如是拉伸丙烯酸系樹脂(stretchedacrylic)。所述涂層疊層可以包含具有一種或多種功能的功能涂層或部分,所述功能例如但不限于陽(yáng)光控制、電磁屏蔽、抗靜電、加熱、除冰、抗反射、防閃光(anti-glint)、或防眩光(anti-glare),僅以這些為例。例如,所述功能涂層可以是具有三個(gè)或更多金屬層的陽(yáng)光控制涂層。另ー種飛機(jī)透明體包含具有第一主表面和第二主表面的第一拉伸丙烯酸系樹脂片層以及具有第三主表面和第四主表面的第二拉伸丙烯酸系樹脂片層。所述片層可以間隔分開(kāi)。在一個(gè)或多個(gè)所述主表面的至少一部分之上施涂具有陽(yáng)光控制性能的涂層疊層。所述涂層疊層包含在所述主表面之一的至少一部分之上形成的第一打底層。所述第一打底層可以包含含環(huán)氧氨基硅氧烷的材料或具有介于基材和上層(ー個(gè)或多個(gè))之間的中間機(jī)械性能的任何附著促進(jìn)劑。實(shí)例還包括聚硅氧烷材料或UV固化的丙烯酸系材料。在所述第一打底層的至少一部分之上形成陽(yáng)光控制涂層,所述陽(yáng)光控制涂層包含至少三個(gè)金屬銀層。在所述陽(yáng)光控制涂層的至少一部分之上形成保護(hù)涂層(例如附著促進(jìn)涂層),所述保護(hù)涂層包含ニ氧化硅和氧化鋁??梢栽谒霰Wo(hù)涂層的至少一部分之上形成面涂層(topcoat),其包含聚硅氧烷材料。或者,可以不存在面涂層。在所述面涂層的至少一部分之上形成罩面層(overcoat),其包含類金剛石碳型涂層,例如碳氧化娃(siliconoxycarbide)涂層。制造飛機(jī)透明體的方法包括如下步驟提供具有第一主表面和第二主表面的第一拉伸丙烯酸系樹脂片層;提供具有第三主表面和第四主表面的第二拉伸丙烯酸系樹脂片層;和在一個(gè)或多個(gè)所述主表面的至少一部分之上提供具有陽(yáng)光控制性能的涂層疊層。所述涂層疊層包含在所述主表面之一的至少一部分之上形成的第一打底層,所述第一打底層包含含環(huán)氧氨基硅氧烷的材料;在所述第一打底層的至少一部分之上形成的陽(yáng)光控制涂層,所述陽(yáng)光控制涂層包含至少三個(gè)金屬銀層;在所述陽(yáng)光控制涂層的至少一部分之上形成的保護(hù)涂層,所述保護(hù)涂層包含ニ氧化硅和氧化鋁;在所述保護(hù)涂層的至少一部分之上形成的任選的面涂層,所述面涂層包含聚硅氧烷材料;和在所述面涂層的至少一部分之上
形成的罩面層,所述罩面層包含類金剛石碳型涂層。另ー種飛機(jī)透明體包含具有第一主表面和第二主表面的拉伸丙烯酸系樹脂片層。在所述片層的至少ー個(gè)主表面例如外表面的至少一部分之上形成面涂層,其包含聚硅氧烷材料、例如具有雜化共聚物的聚硅氧烷材料。在所述面涂層的至少一部分之上形成罩面層,其包含碳氧化硅涂層。例如,所述面涂層可以包含聚硅氧烷聚合物,其包含如下組分的反應(yīng)產(chǎn)物(a)包含如下単體的雜化共聚物(i)包括羥基官能的有機(jī)丙烯酸酯的第一単體和
(ii)包括有機(jī)烷氧基硅烷的第二単體,和(b)包含有機(jī)烷氧基硅烷的第二物質(zhì)。附圖
簡(jiǎn)要說(shuō)明將參照下列附圖描述本發(fā)明,其中同樣的標(biāo)記數(shù)字始終標(biāo)識(shí)同樣的部件。圖I是引入本發(fā)明特征的機(jī)艙窗戶組件形式的飛機(jī)透明體的側(cè)面剖視圖(不按比例);圖2是圖I的涂布機(jī)艙窗戶片層的橫截面圖(不按比例);圖3是可用于本發(fā)明的陽(yáng)光控制涂層的橫截面圖(不按比例);圖4是引入本發(fā)明特征的涂層疊層的一部分的橫截面圖(不按比例);圖5是引入本發(fā)明特征的涂層疊層的一部分的橫截面圖(不按比例);圖6是機(jī)艙窗戶組件形式的本發(fā)明另一非限制性飛機(jī)透明體的側(cè)面剖視圖(不按比例);圖7是圖6的涂布機(jī)艙窗戶片層的橫截面圖(不按比例);和圖8是機(jī)艙窗戶組件形式的本發(fā)明另一非限制性飛機(jī)透明體的側(cè)面剖視圖(不按比例)。優(yōu)選實(shí)施方案的說(shuō)明本文使用的空間或方向術(shù)語(yǔ)例如“左”、“右”、“內(nèi)”、“外”、“上方(above) ”、“下方(below)”等如同在附圖中所示那樣與本發(fā)明相關(guān)。然而,應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明可以采取各種備選取向,因此這些術(shù)語(yǔ)不應(yīng)認(rèn)為是限制性的。另外,本文使用的用于說(shuō)明書和權(quán)利要求書中表示尺寸、物理特性、エ藝參數(shù)、成分的量、反應(yīng)條件等的所有數(shù)值應(yīng)當(dāng)理解為在所有情形下由詞語(yǔ)“約”修飾。因此,除非有相反指示,否則在下面的說(shuō)明書和權(quán)利要求書中給出的數(shù)值可以根據(jù)試圖通過(guò)本發(fā)明獲得的所希望的性能而變化。最起碼,以及并非作為限制等同原則應(yīng)用于權(quán)利要求書的范圍的企圖,各數(shù)值應(yīng)當(dāng)至少按照所報(bào)道的有效數(shù)字的數(shù)目并采用一般舍入技術(shù)來(lái)解釋。此外,本文公開(kāi)的所有范圍應(yīng)當(dāng)理解為包括范圍的起始值和結(jié)束值以及其中所包含的任何和所有子范圍。例如,所述的“ 1-10”的范圍應(yīng)當(dāng)認(rèn)為包括在最小值I與最大值10之間(并且包含端值)的任何和所有子范圍;即,以I或更大的最小值開(kāi)始并且以10或更小的最大值結(jié)束的所有子范圍,例如1-3. 3、4. 7-7.5,5. 5_10等。此外,本文使用的術(shù)語(yǔ)“在…之上形成”、“在…之上沉積”或“在…之上提供”是指在位于下方的表面上形成、沉積或提供但是不一定與該表面直接接觸。例如,“在”基材“之上形成”的涂層不排除位于該形成的涂層與基材之間的ー個(gè)或多個(gè)具有相同或不同組成的其它涂層或膜的存在。本文使用的術(shù)語(yǔ)“膜”是指具有所希望或選擇的涂料組成的涂層區(qū)域?!皩?layer)”可以包含ー個(gè)或多個(gè)“膜”。“涂層(coating)”或“涂層疊層”可以包含ー個(gè)或多個(gè)“層”。本文使用的術(shù)語(yǔ)“聚合物”或“聚合型”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元共聚物,例如由兩類或更多類單體或聚合物形成的聚合物。術(shù)語(yǔ)“可見(jiàn)區(qū)域”或“可見(jiàn)光”是指具有380nm-780nm范
圍內(nèi)的波長(zhǎng)的電磁輻射。術(shù)語(yǔ)“紅外區(qū)域”或“紅外輻射”是指具有大于780nm至100,OOOnm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的電磁輻射。術(shù)語(yǔ)“紫外區(qū)域”或“紫外輻射”是指具有IOOnm至小于380nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的電磁能。另外,本文提及的所有文獻(xiàn),例如但不限于授權(quán)專利和專利申請(qǐng),應(yīng)當(dāng)認(rèn)為以其全部?jī)?nèi)容“通過(guò)引用并入”。為了下面的論述,將參照在交通工具透明體、特別是以飛機(jī)機(jī)艙窗戶形式的飛機(jī)透明體的情況下的應(yīng)用論述本發(fā)明。然而,應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明不限于飛機(jī)機(jī)艙窗戶情況下的應(yīng)用,而是可以在任何期望領(lǐng)域中的透明體的情況下實(shí)施,例如但不限于層疊或非層疊的住宅和/或商用窗戶、絕緣玻璃單元(insulating glass unit),和/或用于陸地、天空、太空、水上和水下交通工具的透明體。因此,應(yīng)當(dāng)理解僅僅為了說(shuō)明本發(fā)明的一般概念而給出具體公開(kāi)的示例性實(shí)施方案,本發(fā)明不限于這些具體的示例性實(shí)施方案。一種引入本發(fā)明特征的非限制性飛機(jī)透明體10(例如機(jī)艙窗戶組件或駕駛座艙窗戶組件)描述于圖I中。該透明體10可以具有任何所希望的可見(jiàn)光、紅外輻射或紫外輻射透光度(transmission)和反射度(reflection)。例如,透明體10可以具有任何所希望量的可見(jiàn)光透光度,例如550納米(nm)的參考波長(zhǎng)下大于0%至100%。在一種非限制性實(shí)施方案中,在550nm參考波長(zhǎng)下的可見(jiàn)光透光度可以為至少20%,例如至少30%,例如至少40%,例如至少50%,例如至少60%,例如至少70%,例如至少80%,例如至少90%。如圖I所不,透明體10包括具有面向飛機(jī)外部的第一主表面14、即外主表面(No. I表面)和相對(duì)的第二或內(nèi)主表面16 (No. 2表面)的第一片層12。透明體10還包括具有外(第一)主表面20 (No. 3表面)和內(nèi)(第二)主表面22 (No. 4表面)的第二片層18。片層表面的這種編號(hào)與涂覆領(lǐng)域的常規(guī)實(shí)踐一致。第一片層12和第二片層18被固定在框架組件24中并且以其間的空氣間隙26間隔分開(kāi)。任選的電致變色組件28可以被固定在框架組件24中并與第二片層18間隔。在圖I所示的非限制性實(shí)施方案中,在至少ー個(gè)主表面的至少一部分之上,例如在第一片層12的No. I表面14之上,形成具有陽(yáng)光控制性能、例如引入陽(yáng)光控制涂層或部分的涂層疊層30??梢栽诘诙瑢?8后面設(shè)置防霧板,例如用氧化銦錫涂布的窗格玻璃(glass pane)??梢栽陔娭伦兩M件28內(nèi)側(cè)設(shè)置防塵罩??蚣芙M件24在本發(fā)明中是非限制性的,可以為若干本領(lǐng)域已知類型中的任ー種??蚣芙M件24可以包括圍繞襯墊從而以隔開(kāi)關(guān)系固定片層12和18的框架??蚣芸梢杂扇魏谓Y(jié)構(gòu)穩(wěn)定的材料制成,例如但是不限于塑料或金屬如鋁,并用于保護(hù)襯墊材料不受損傷和向透明體10提供額外的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性??諝忾g隙26尤其提供飛機(jī)機(jī)艙外大氣與機(jī)艙內(nèi)氣氛之間的隔熱作用。合適框架組件24的非限制性實(shí)例在例如美國(guó)專利6,561,460和6,783,099 中有述。在本發(fā)明的廣泛實(shí)踐中,透明體10的片層12、18可以具有相同或不同的材料并且可以包括具有任何期望特征的任何期望材料。例如,片層12、18中的ー個(gè)或多個(gè)可以對(duì)可見(jiàn)光透明或半透明。“透明”是指具有大于0%至100%的可見(jiàn)光透光度。或者,片層12、18中的ー個(gè)或多個(gè)可以是半透明的。“半透明”是指允許電磁能(例如可見(jiàn)光)通過(guò),但是將該能量漫射以使得在與觀察者相對(duì)側(cè)的物體不能清楚地可見(jiàn)。適合于片層12、18的材料的實(shí)例包括但不限于塑料基材(例如丙烯酸系聚合物,例如聚丙烯酸酯;聚甲基丙烯酸烷基酯如聚甲基丙烯酸甲酷、聚甲基丙烯酸こ酷、聚甲基丙烯酸丙酯等;聚氨酯;聚碳酸酯;聚對(duì)苯ニ甲酸烷基酯如聚對(duì)苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)、聚對(duì)苯ニ甲酸丙ニ醇酷、聚對(duì)苯ニ甲酸丁ニ醇酯等;含聚硅氧烷的聚合物;或者用于制備這些的任何單體的共聚物,或者它
們的任何混合物);陶瓷基材;玻璃基材;或者任何上述材料的組合。在一種非限制性實(shí)施方案中,片層12、18都由聚合物材料制成,例如拉伸丙烯酸系樹脂(stretched acrylic)。然而,在另外的實(shí)施方案中,片層12、18中的一個(gè)或多個(gè)可以是常規(guī)的鈉鈣硅酸鹽玻璃(soda-1 ime-siIicateglass)、硼娃酸鹽玻璃、含鉛玻璃、低鐵玻璃、摻鋰玻璃或鋰招娃酸鹽玻璃(lithium alumina silicate glass)。玻璃片層中的一個(gè)或多個(gè)可以是透明玻璃,即非有色或非著色玻璃,或者可以是有色或著色玻璃。玻璃可以是經(jīng)過(guò)退火、經(jīng)過(guò)熱處理或經(jīng)過(guò)化學(xué)回火(chemicalIytempered)的玻璃。本文使用的術(shù)語(yǔ)“經(jīng)過(guò)熱處理”是指經(jīng)過(guò)回火(tempered)或至少部分回火的。玻璃可以是任何類型,例如常規(guī)的浮法玻璃,并且可以為具有任何光學(xué)性能例如任何的可見(jiàn)光透光度值、紫外光透光度值、紅外光透光度值和/或總太陽(yáng)能透光度值的任何組成。在圖I所示的非限制性實(shí)施方案中,第一和第二片層12、18都是丙烯酸系樹脂基材,例如拉伸丙烯酸系樹脂基材。第一和第二片層12、18可以具有任何期望尺寸,例如長(zhǎng)度、寬度、形狀或厚度。雖然透明體10的尺寸不限于本發(fā)明,但是在一種非限制性實(shí)施方案中,對(duì)于具有約20英寸(51cm)寬、25英寸(64cm)高的總尺寸和I. 5-2. 5英寸(3. 8_6. 4cm)的總厚度的飛機(jī)窗戶組件,I. 0英寸(2. 54cm)-2. 0英寸(5. 08cm)厚的空氣間隙26是可接受的。片層12、18可以具有任何厚度。然而,如同本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠意識(shí)到的那樣,增加片層12、18的厚度超出經(jīng)受飛行苛刻條件所需要的厚度會(huì)不合需要地増加透明體10的重量。例如以及在不限制本發(fā)明的情況下,對(duì)于許多應(yīng)用,0. 20-0. 40英寸(0. 51-1. 02cm)的片層厚度是經(jīng)受飛行苛刻條件可接受的。在ー種具體的非限制性實(shí)施方案中,片層12、18為拉伸丙烯酸系樹脂并且具有0. 31-0. 40英寸(0. 79-1. 02cm)的厚度。在片層12、18之一的主表面的至少一部分之上沉積具有陽(yáng)光控制性能的涂層疊層30。在圖I所示的非限制性實(shí)施方案中,在第一(外側(cè))片層12的外主表面14的至少一部分之上形成涂層疊層30。可用于本發(fā)明的ー種示例性涂層疊層30示于圖2。在該非限制性實(shí)施方案中,涂層疊層30包括第一打底層32,任選的第一(內(nèi))保護(hù)涂層34(例如,提供阻隔或附著促進(jìn)性能),陽(yáng)光控制涂層36,第二(外)保護(hù)涂層38 (例如,提供附著促進(jìn)性能),任選的第二(外)打底層40,面涂層42,和罩面層44。
打底層32幫助將陽(yáng)光控制涂層36附著于基材(片層)12上并且還提供介于基材如拉伸丙烯酸系樹脂片層12與后續(xù)施涂的涂層之間的中間剛度。合適的打底材料包括但不限于基于硅氧烷的打底材料、有機(jī)硅烷打底材料、環(huán)氧氨基硅氧烷打底材料、聚硅氧烷打底材料、和丙烯酸系打底材料。合適的打底材料的實(shí)例在美國(guó)專利No. 5,939,188、4,670,350,4, 816,288,4, 725,501,5, 994,452,6, 110,327 和 5,776,548 中有述??梢杂萌魏纬R?guī)方法、例如通過(guò)流涂施涂打底層32。在ー種具體的非限制性實(shí)施方案中,打底層32包含聚硅氧烷或者環(huán)氧氨基硅氧烷材料并具有0. 1-10微米,例如0. 5-8微米,例如1-5微米,例如1-3微米,例如1-2微米的厚度?;蛘?,對(duì)于ー些基材如聚氨酯,可以省去打底層32。可以在打底層32上施涂任選的第一保護(hù)涂層34。保護(hù)涂層34可以幫助保護(hù)陽(yáng)光控制涂層36免受從打底層32浸出的任何材料或者任何后續(xù)加工步驟所引起的機(jī)械和/或
化學(xué)侵襲的影響。保護(hù)涂層34可以具有任何期望的材料或者材料混合物,例如但不限于ー種或多種無(wú)機(jī)材料。合適材料的實(shí)例包括但不限于金屬氧化物、硅氧化物、鋁氧化物、鋁硅酸鹽、硅氮化物、硅碳化物、和硅碳氧化物,僅以這些為例。在一種示例性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層34可以包含ー種或多種金屬氧化物材料,例如但不限于鋯、鋁、硅的氧化物,或者它們的混合物。例如,保護(hù)涂層34可以是包含Owt% -IOOwt%的氧化鋁和/或0wt% -IOOwt%的ニ氧化硅和/或Owt % -IOOwt %氧化鋯的單ー涂層。例如,保護(hù)涂層可以包含ニ氧化硅和氧化鋁,其例如具有Iwt% -99wt%的ニ氧化硅和99wt% _lwt%的氧化鋁,例如至少70wt%的ニ氧化硅和30wt%或更少的氧化鋁,例如至少75wt%的ニ氧化硅,例如至少80wt%的二氧化硅,例如至少85wt%的ニ氧化硅。在ー種具體的非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層34包含85wt%的ニ氧化硅和15wt%的氧化鋁。其它材料,例如鋁、鉻、鉿、釔、鎳、硼、磷、鈦、鋯、和/或它們的氧化物也可以存在,從而例如調(diào)節(jié)保護(hù)涂層34的折射率。在一種非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層34的折射率可以是1-3,例如1-2,例如I. 4-2,例如I. 4-1. 8。在一種非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層34包含ニ氧化硅和氧化鋁的組合,其具有5nm-5, OOOnm,例如 5nm_3, OOOnm,例如 5nm_2, OOOnm,例如 5nm_l, OOOnm,例如 10nm-500nm,例如 20nm-300nm,例如 50nm-300nm,例如 50nm-200nm,例如 50nm-150nm,例如 50nm-120nm,例如 60nm-120nm,例如 70nm-120nm,例如 70nm-100nm,例如 70nm-80nm 的厚度。在一種具體的非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層可以具有至少50nm,例如至少60nm,例如至少70nm,例如至少75nm,例如至少IOOnm,例如至少I IOnm,例如至少120nm,例如至少150nm,例如至少200nm的厚度。在另ー非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層34包含多層結(jié)構(gòu),例如,第一層與在第一層之上形成的至少ー個(gè)第二層。在ー種特定的非限制性實(shí)施方案中,第一層包含氧化鋁或者含有氧化鋁和ニ氧化硅的混合物或合金。例如,第一層可以具有大于5wt%的氧化鋁,例如大于IOwt %的氧化鋁,例如大于15wt%的氧化鋁,例如大于30wt%的氧化鋁,例如大于40wt%的氧化鋁,例如50wt% -70wt%的氧化鋁,例如70wt% -IOOwt %的氧化鋁和30wt% -0wt%的ニ氧化硅,例如大于90wt%的氧化鋁,例如大于95wt%的氧化鋁。在ー種非限制性實(shí)施方案中,第一層全部或基本上全部包含氧化鋁。在一種非限制性實(shí)施方案中,第一層可以具有大于Onm直至I微米,例如5nm-10nm,例如10nm-25nm,例如10nm_15nm的厚度。
第二層可以包含ニ氧化硅或者含有ニ氧化硅和氧化鋁的混合物或合金。例如,第ニ層可以包含具有大于40wt%的二氧化硅的ニ氧化硅/氧化鋁混合物,例如大于50wt%的ニ氧化硅,例如大于60wt%的二氧化硅,例如大于70wt%的二氧化硅,例如大于80wt%的ニ氧化硅,例如80wt% -90wt%的ニ氧化硅和IOwt% _20wt%的氧化鋁,例如85wt%的ニ氧化硅和15wt%的氧化鋁。在一種非限制性實(shí)施方案中,第二層可以具有大于Onm直至2微米,例如 5nm-500nm,例如 5nm-200nm,例如 IOnm-IOOnm,例如 30nm-50nm,例如 35nm_40nm 的厚度。在另ー非限制性實(shí)施方案中,第二層可以具有大于Onm直至I微米,例如5nm-10nm,例如10nm-25nm,例如10nm_15nm的厚度。在另ー非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層34可以是雙層,其由在另ー含金屬氧化物的層(例如含ニ氧化硅和/或氧化鋁的第二層)上形成的ー個(gè)含金屬氧化物的層(例如含ニ氧化硅和/或氧化鋁的第一層)形成。多層保護(hù)涂層的單個(gè)層可以具有任何期望的厚度。合適的保護(hù)涂層的非限制性實(shí)例在例如美國(guó)專利申請(qǐng)No. 10/007,382、10/133,805、10/397,001、10/422,094、10/422,095 和 10/422,096 中有述??梢酝ㄟ^(guò)任何常規(guī)方法沉積保護(hù)涂層34,例如但不限于常規(guī)的化學(xué)氣相沉積(CVD)和/或物理氣相沉積(PVD)方法。CVDエ藝的實(shí)例包括噴射熱分解法。PVDエ藝的實(shí)
例包括電子束蒸發(fā)和真空濺射(例如磁控濺射真空沉積(MSVD))。也可以使用其它涂布方法,例如但不限于溶膠-凝膠沉積。在一種非限制性實(shí)施方案中,可以通過(guò)MSVD沉積保護(hù)涂層。在打底層32之上(或者在如果存在的保護(hù)涂層34之上)沉積陽(yáng)光控制涂層36。本文使用的術(shù)語(yǔ)“陽(yáng)光控制涂層”是指由一個(gè)或多個(gè)影響涂布制品的陽(yáng)光性能(solarproperties)的層或膜組成的涂層,所述陽(yáng)光性能例如但不限于自涂布制品反射、由涂布制品吸收或者通過(guò)涂布制品的太陽(yáng)輻射(如可見(jiàn)光、紅外或紫外輻射)的量;遮蔽系數(shù);發(fā)射率等。陽(yáng)光控制涂層36能夠阻擋、吸收或過(guò)濾太陽(yáng)光譜的選定部分,例如但不限于IR、UV和/或可見(jiàn)光譜??梢杂糜诒景l(fā)明實(shí)踐的陽(yáng)光控制涂層的實(shí)例參見(jiàn)例如但不限于美國(guó)專利 No. 4,898,789,5, 821,001,4, 716,086,4, 610,771,4, 902,580,4, 716,086,4, 806,220、4,898,790,4, 834,857,4, 948,677,5, 059,295 和 5,028,759 以及還有美國(guó)專利申請(qǐng)No.09/058,440。在一種非限制性實(shí)施方案中,陽(yáng)光控制涂層36包含一個(gè)或多個(gè)設(shè)置在成對(duì)介電層之間的金屬膜。陽(yáng)光控制涂層36可以是熱和/或輻射反射涂層,并可以具有ー個(gè)或多個(gè)相同或不同組成和/或功能的層或膜。例如,陽(yáng)光控制涂層36可以是單層涂層或多層涂層,以及可以包括ー種或多種金屬、非金屬、半金屬、半導(dǎo)體和/或它們的合金、化合物、組合物、組合或共混物。例如,陽(yáng)光控制涂層36可以是單層金屬氧化物涂層、多層金屬氧化物涂層、非金屬氧化物涂層、金屬氮化物或氧氮化物涂層、非金屬氮化物或氧氮化物涂層,或者包含任何上述材料中的ー種或多種的多層涂層。在一種非限制性實(shí)施方案中,陽(yáng)光控制涂層36可以是摻雜金屬氧化物涂層。適合用于本發(fā)明的陽(yáng)光控制涂層的非限制性實(shí)例可以以SUNGATE 和S0LARBAN 系列涂層從 Pittsburgh, Pennsylvania 的 PPGIndustries, Inc.購(gòu)得。所述涂層典型地包含ー個(gè)或多個(gè)對(duì)可見(jiàn)光透明的包含介電或抗反射材料(例如金屬氧化物或金屬合金的氧化物)的抗反射涂膜。這些涂層還包含ー個(gè)或多個(gè)含有反射金屬例如貴金屬如金、銅或銀、或者它們的組合或合金的紅外反射膜,以及可以進(jìn)一歩包含位于金屬反射層之上和/或之下的如本領(lǐng)域已知的犧牲打底膜或阻隔膜,例如鈦。陽(yáng)光控制涂層36可以具有任何期望數(shù)目的紅外反射膜,例如但不限于1-8個(gè)紅外反射膜。在一種非限制性實(shí)施方案中,陽(yáng)光控制涂層36可以具有I個(gè)或多個(gè)金屬銀層,例如2個(gè)或更多個(gè)銀層,例如3個(gè)或更多個(gè)銀層,例如4個(gè)或更多個(gè)銀層,例如5個(gè)或更多個(gè)銀層,例如6個(gè)或更多個(gè)銀層。具有三個(gè)銀層的合適的陽(yáng)光控制涂層的非限制性實(shí)例在美國(guó)專利申請(qǐng)No. 10/364,089 (公開(kāi)號(hào) No. 2003/0180547A1)中得到公開(kāi)??梢酝ㄟ^(guò)任何常規(guī)方法沉積陽(yáng)光控制涂層36,例如但不限于常規(guī)的化學(xué)氣相沉積(CVD)和/或物理氣相沉積(PVD)方法。CVDエ藝的實(shí)例包括噴射熱分解法。PVDエ藝的實(shí)例包括電子束蒸發(fā)、RF等離子體沉積和真空濺射(例如磁控濺射氣相沉積(MSVD))。也可以使用其它涂布方法,例如但不限于溶膠-凝膠沉積。在一種非限制性實(shí)施方案中,可以通過(guò)MSVD沉積該涂層。適合本發(fā)明的一種非限制性陽(yáng)光控制涂層36示于圖3。該示例性陽(yáng)光控制涂層36包含在打底層32(或者如果存在的話,保護(hù)涂層34)的至少一部分之上沉積的底層(baselayer)或第一介電層50。第一介電層50可以包含ー個(gè)或多個(gè)抗反射材料和/或介電材料膜,例如但不限于金屬氧化物、金屬合金的氧化物、氮化物、氧氮化物或它們的混合物。第一介電層50可以是對(duì)可見(jiàn)光透明的。適合第一介電層50的金屬氧化物的實(shí)例包括鈦、鉿、鋯、鈮、鋅、鉍、鉛、銦、錫的氧化物,以及它們的混合物。這些金屬氧化物可以具有少量其它材料,例如氧化鉍中的錳、氧化銦中的錫等。另外,可以使用金屬合金或金屬混合物的氧化物,例如含有鋅和錫的氧化物(例如錫酸鋅)、銦-錫合金的氧化物、硅氮化物、硅鋁氮化物或鋁氮化物。此外,可以使用摻雜金屬氧化物,例如銻或銦摻雜的錫氧化物或者鎳或硼摻雜的硅氧化物。第一介電層50可以是基本上單相膜,例如金屬合金氧化物膜,例如錫酸鋅,或者可以是由鋅和錫氧化物組成的相的混合物,或者可以由多個(gè)金屬氧化物膜組成,例如氧化銦錫,或者在美國(guó)專利No. 5,821,001,4, 898,789和4,898,790中公開(kāi)的那些。在圖3所示的舉例說(shuō)明的示例性實(shí)施方案中,第一介電層50包含多膜結(jié)構(gòu),其具有第一膜52、例如金屬合金氧化物膜,和在所述第一金屬合金氧化物膜之上沉積的第ニ膜54、例如金屬氧化物或氧化物混合物膜。在一種非限制性實(shí)施方案中,第一膜52可以是鋅/錫氧化物混合物或鋅/錫合金氧化物??梢詮匿\和錫的陰極由磁控濺射真空沉積得到鋅/錫合金氧化物,該陰極可以包含比例為10wt% _90被%鋅和90wt% -IOwt%錫的鋅和錫??梢源嬖谟诘谝荒ぶ械囊环N合適的金屬合金氧化物是錫酸鋅?!板a酸鋅”是指具有ZnxSrvxCVx (式I)的成分,其中“x”在大于0至小于I的范圍內(nèi)變化。例如,“X”可以大于0并且可以是大于0至小于I之間的任何分?jǐn)?shù)或小數(shù)。例如在X = 2/3的情況下,式I是Zn2/3Sn1/304/3,其被更普遍地描述為“Zn2Sn04”。含錫酸鋅的膜在所述膜中以主要量具有ー種或多種式I的形式。在一種非限制性實(shí)施方案中,第一膜52包含錫酸鋅并具有100埃(人)-1,000人,例如100人-800人,例如100人-500人,例如150人-500人,例如200人-500人,例如300人-500人,例如300人-400人,例如376人的厚度。第二膜54可以是含鋅的膜,例如氧化鋅。氧化鋅膜可由鋅陰極沉積,該鋅陰極包含一種或多種其它材料以改進(jìn)陰極的濺射特性。例如,鋅陰極可以包含少量(例如至多10wt%)的錫以改進(jìn)濺射。在該情況下,所得的氧化鋅膜將包含小百分比的氧化錫,例如至多10wt%_化錫。由具有至多10wt%的錫的鋅陰極濺射的氧化物涂層在本文中被稱為“氧化鋅”膜,盡管可能存在一些氧化錫。第二膜54可以具有10人-200 A,例如20人-200人,例如30人-200 A、40人-150ん例如50 A-100ん例如60 A-100人,例如60 A-80人,例如70 A-80人,例如73人的厚度??梢栽诘谝唤殡妼?0之上沉積第一熱和/或輻射反射膜或?qū)?6。第一反射層56包含反射金屬,例如但不限于金屬金、銅、銀,或它們的混合物或合金。在一種實(shí)施方案中,第一反射層56包含厚度為25人-300 Ao例如50人-300人,例如50人-200人,例如70 A-150人,例如70 A-100人,例如80 A-100人,例如90人-100人,例如90人的金屬銀層。可以在第一反射層之上沉積第一犧牲打底膜58。第一犧牲打底膜58可以是氧捕獲材料例如鈦,其可以在沉積過(guò)程中犧牲以防止第一反射層56在濺射過(guò)程或隨后的加熱過(guò)程中降解或氧化??梢赃x擇氧捕獲材料以在第一反射層56的材料之前氧化。如果將鈦
用作第一打底膜58,則鈦將優(yōu)先在下方的銀層氧化之前氧化成ニ氧化鈦。在一種實(shí)施方案中,第一打底膜58是厚度為5 A -50 Ao例如10 A-40人,例如15人-25人,例如15人-20人,例如15人的鈦。在第一反射層56之上(例如在第一犧牲打底膜58之上)沉積第二介電層60。第二介電層60包含ー個(gè)或多個(gè)含金屬氧化物或金屬合金氧化物的膜,例如上文關(guān)于第一介電層描述的那些。在舉例說(shuō)明的非限制性實(shí)施方案中,第二介電層60包含沉積在第一犧牲打底膜58之上的第一膜62,例如金屬氧化物膜,例如氧化鋅膜。在第一氧化鋅膜62之上沉積第二膜64,例如金屬合金氧化物膜,例如錫酸鋅膜。在錫酸鋅層之上沉積第三膜66,例如金屬氧化物膜,例如另ー鋅/錫氧化物層,從而形成多膜第二介電層60。在一種非限制性實(shí)施方案中,第二介電層的鋅氧化物膜可以各自具有約10 A-200人,例如20人-150人,例如30 A-100人,例如40人-80人,例如50人-80人,例如60人-80人,例如70 A-80人,例如73人的厚度。金屬合金氧化物層(錫酸鋅)可以具有100 A-1000人,例如200 A-1000ん例如300人-800人,例如500人-800人,例如600人-800人,例如600 A-700人,例如631人的厚度。在第二介電層60之上沉積第二熱和/或輻射反射層68。第二反射層68可以包含上文關(guān)于第一反射層56描述的任何ー種或多種反射材料。在一種非限制性實(shí)施方案中,第二反射層68包含厚度為25人-200人,例如50人-150人,例如60 A-100人,例如70 A-100人,例如80 A-90人,例如83人的銀。在第二反射層68之上可以沉積第二犧牲打底膜70。第二犧牲打底膜70可以為上文關(guān)于第一打底膜32描述的任何材料。在一種非限制性實(shí)施方案中,第二打底膜70包含厚度為約5人-50人,例如10人-25人,例如15 A-25人,例如15 A-20人,例如15人的鈦。在第二反射層68之上(例如在第二犧牲打底膜70之上)沉積第三介電層72。第三介電層72也可以包含ー個(gè)或多個(gè)含金屬氧化物或金屬合金氧化物的層,例如上文關(guān)于第一和第二介電層論述的。在一種非限制性實(shí)施方案中,第三介電層72是與第二介電層60類似的多膜層。例如,第三介電層72可以包含第一層74、例如金屬氧化物層、例如氧化鋅層,第二層76、例如含金屬合金氧化物的層、例如錫酸鋅層,和第三層78、例如金屬氧化物層、例如另ー氧化鋅層。在一種非限制性實(shí)施方案中,第三介電層72的鋅氧化物膜可以各自具有約10人-200人,例如20 A-150人,例如30 A-100人,例如40 A-80人,例如50 A-80人,例如60 A-80人,例如70 A-80人,例如73人的厚度。金屬合金氧化物層(錫酸鋅)可以具有100 A-1000人,例如200人-1000人,例如300人-800 A,例如500人-800人,例如600人-800人,例如600人-700人,例如631人的厚度。在第三介電層72之上沉積第三熱和/或輻射反射層80。第三反射層80可以為上文關(guān)于第一和第二反射層描述的任何材料。在一種非限制性實(shí)施方案中,第三反射層80包含厚度為25人-200人,例如50 A-150人,例如60 A-100人,例如70 A-100 A,例如80 A-90人,例如83人的銀。在第三反射層80之上沉積第三犧牲打底膜82。第三打底膜82可以為上文關(guān)于第一或第二打底膜描述的任何打底材料。在一種非限制性實(shí)施方案中,第三犧牲打底膜82為鈦且具有5人-50人,例如10人-25人,例如15 A-20人,例如15人的厚度。在第三反射層80之上(例如在第三犧牲打底膜82之上)沉積第四介電層84。第四介電層84包含ー個(gè)或多個(gè)含金屬氧化物或金屬合金氧化物的層,例如上文關(guān)于第一、第二或第三介電層論述的那些。在一種非限制性實(shí)施方案中,第四介電層84是多膜層,其具有沉積在第三打底膜82之上的第一層86、例如金屬氧化物層、例如氧化鋅層,沉積在氧化鋅層之上的第二層88、例如金屬合金氧化物層、例如錫酸鋅層。氧化鋅層86可以具有10人-200人,例如20人-200人,例如30人-200 A、40 A-150 A,例如50 A-100人,例如60 A-100人,例如60 A-80人,例如70 A-80人,例如73人的厚度。錫酸鋅層88可以具有100人-1,000人,例如100人-500人,例如150人-500人,例如200人-500人,例如300人-400人,例如376人的厚度。如圖2和3所示,在陽(yáng)光控制涂層36之上,例如在第四介電層84之上,施涂保護(hù)涂層38,從而參與保護(hù)下方的層如抗反射層在加工期間免受機(jī)械和化學(xué)侵襲和/或從而促進(jìn)附著作用。保護(hù)涂層38可以是氧阻隔涂層以防止或減少環(huán)境氧進(jìn)入該涂層下方的層,例如在加熱或彎曲過(guò)程中。保護(hù)涂層38可以與下文對(duì)于任選的保護(hù)涂層34描述的一祥。在一種非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層38包含ニ氧化硅和氧化鋁的組合,例如80wt% -90wt%ニ氧化硅和IOwt % -20wt%氧化鋁,例如85wt% ニ氧化硅和15wt%氧化鋁,其厚度為5nm_5,OOOnm,例如 5nm-3,OOOnm,例如 5nm-2,OOOnm,例如 5nm-l,OOOnm,例如 10nm-500nm,例如 20nm-300nm,例如 50nm-300nm,例如 50nm-200nm,例如 50nm-150nm,例如 50nm-120nm,例如 60nm-120nm,例如 70nm-120nm,例如 70nm-100nm,例如 70nm-80nm,例如 78nm。在ー種特定的非限制性實(shí)施方案中,保護(hù)涂層的厚度可以是至少50mn,例如至少60mn,例如至少70nm,例如至少75nm,例如至少lOOnm,例如至少llOnm,例如至少120nm,例如至少150nm,例如至少200nm。可以在保護(hù)涂層38之上施涂任選的第二打底層40。任選的第二打底層40可以與下文對(duì)于第一打底層32描述的一祥。在ー種具體的非限制性實(shí)施方案中,第二打底層40包含環(huán)氧氨基娃氧焼(epoxyamino siloxane)材料并具有0. 1-10微米,例如0. 5-8微米,例如1-7微米,例如1-5微米,例如1-3微米的厚度。在保護(hù)涂層38之上(或者在如果存在的任選的第二打底層40之上)施涂面涂層42。面涂層42為基材12提供耐磨損性和/或抗銀紋性。在一種非限制性實(shí)施方案中,面涂層42為聚硅氧烷材料。合適的面涂層材料在WO 2007/064792A2以及美國(guó)專利No. 5,693,422,6, 106,605,6, 180,248,5, 401,579 和 6,469,119 中得到公開(kāi)。其它合適的面涂層材料可以以商品名 LensShield 500、501、503、510和 514購(gòu)自 AdvancedMaterials andCoating Specialties。面涂層42的厚度可以是1_10微米,例如2_8微米,例如3_7微米,例如4-6微米,例如4-5微米??梢酝ㄟ^(guò)任何常規(guī)方法、例如通過(guò)流涂施涂面涂層。面涂層42的材料可以引入同時(shí)具有聚硅氧烷基硬質(zhì)涂層功能以及更柔軟的有機(jī)聚合物官能團(tuán)、例如但不限于丙烯酸系或環(huán)氧官能團(tuán)的聚合物。示例性的面涂層材料可以
按照如下和下文實(shí)施例中所述的那樣制備。制備具有至少兩種不同單體單元的雜化共聚物。在ー種具體的非限制性實(shí)施方案中,雜化共聚物為由如下組分的反應(yīng)產(chǎn)物制備的共聚物(i)包括羥基官能的有機(jī)丙烯酸酷的第一単體和(ii)包括有機(jī)官能的烷氧基硅烷的第二単體、例如具有可聚合基團(tuán)的硅燒氧基化合物(silicon alkoxide)。在一種非限制性實(shí)施方案中,第一単體包括羥基丙烯酸酯和/或丙烯酸羥基烷基酷。丙烯酸羥基烷基酯的烷基部分可以一般由式CnH2n+1表示,其中n為1-20,例如1-10,例如1-5。第一単體的具體實(shí)例包括但不限于丙烯酸羥基甲基酷、丙烯酸羥基こ基酯和丙烯酸
羥基丙基酷。第二単體為烷氧基化合物(alkoxide),例如有機(jī)官能的烷氧基硅烷,例如有機(jī)官能的三烷氧基硅烷。該烷氧基化合物可以含有烷基或芳基??梢允褂猛ㄊ絉xSi (OR' )4_x的硅烷,其中R為有機(jī)基團(tuán),R’為低分子量烷基,以及X為1-4。R的有機(jī)基團(tuán)可以是こ烯基、甲氧基こ基、3-縮水甘油氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基,僅以這些為例。在一種非限制性實(shí)施方案中,第二單體為通式RSi (OR' )3的三烷氧基硅烷,其中R為能夠進(jìn)行聚合的短至中等鏈長(zhǎng)有機(jī)基團(tuán)如こ烯基、3-縮水甘油氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基。在ー種具體的實(shí)施方案中,第二単體選自甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或こ烯基三甲氧基硅燒。將第一和第二単體與合適催化劑如偶氮ニ異丁腈(AIBN)組合以形成雜化共聚物。在本發(fā)明的廣泛實(shí)踐中,第一和第二単體可以以任何比率組合,例如基于組合單體的總重量Iwt % -99wt %的第一單體與99wt % -Iwt %的第二單體,例如40wt % -90wt %的第一單體,例如50wt % -80wt %的第一單體,例如60wt % -80wt %的第一單體,例如70wt% -80wt%的第一單體,例如75wt%的第一單體。雜化共聚物可以通過(guò)自由基聚合進(jìn)行聚合。使第二物質(zhì)在所述雜化共聚物的存在下反應(yīng),例如通過(guò)縮聚反應(yīng),從而形成聚硅氧烷聚合物。這允許第二物質(zhì)與雜化共聚物反應(yīng)以及與其自身聚合,例如通過(guò)縮聚,在兩種聚合型組分之間提供直接化學(xué)鍵合的機(jī)制。第二物質(zhì)可以包含烷氧基化合物(alkoxide),例如有機(jī)燒氧基娃燒。該有機(jī)燒氧基娃燒可以是燒基燒氧基娃燒或有機(jī)官能的燒氧基娃烷、例如有機(jī)官能的三烷氧基硅烷,或者它們的混合物。在一種非限制性實(shí)施方案中,第二物質(zhì)為通式RSi (0R/ )3的三烷氧基硅烷,其中R為短至中等鏈長(zhǎng)有機(jī)基團(tuán)如烷基、こ烯基、苯基、3-縮水甘油氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基。在ー種特定的實(shí)施方案中,第二物質(zhì)為甲基ニ甲氧基娃燒??梢酝ㄟ^(guò)任何已知技術(shù),例如常規(guī)縮合反應(yīng),使雜化共聚物和第二物質(zhì)反應(yīng)。常規(guī)技術(shù)的實(shí)例在美國(guó)專利 No. 5,693,422,5, 401,579,6, 106,605,6, 180,248 和 6,469,119中得到描述。可以將雜化共聚物和第二物質(zhì)以任何期望的比率組合,例如基于雜化共聚物和第二物質(zhì)的總重量lwt% _99wt%的雜化共聚物與99wt% _lwt%的第二物質(zhì),例如5wt% -50wt*%的雜化共聚物,例如10wt*% -40wt*%的雜化共聚物,例如10wt*% -30wt*%的雜化共聚物,例如15wt% _20wt%的雜化共聚物,例如17wt%的雜化共聚物。可以將所得的雜化共聚物(即,由第一雜化共聚物和第二物質(zhì)的反應(yīng)形成的聚合物)引入涂料組合物,該涂料組合物提供改進(jìn)的耐劃傷性、耐磨損性和耐化學(xué)品性,然而足以在沒(méi)有破裂或剝離的情況下經(jīng)受住下方塑料基材的變形或伸長(zhǎng)。丙烯酸系官能團(tuán)提供與
先前的保護(hù)硬質(zhì)涂層相比增強(qiáng)的耐候性和改進(jìn)的對(duì)丙烯酸系和聚碳酸酯基材的附著力。在本發(fā)明的實(shí)踐中,通過(guò)使羥基官能的丙烯酸系単體與三烷氧基硅烷共聚形成雜化共聚物提供如下的共聚物其能夠進(jìn)行烷氧基的進(jìn)ー步水解,從而導(dǎo)致與涂料溶液的聚硅氧烷基質(zhì)的縮合反應(yīng)。所述雜化共聚物不需要限于具有兩種單體的共聚物,而是可以包括三種或更多的単體。例如,所得的雜化共聚物可以是包含羥基官能的有機(jī)丙烯酸酷、硅烷氧基化合物(silicon alkoxide)、以及非羥基官能的単體例如但不限于甲基丙烯酸甲酯或N-こ烯基吡咯烷酮或者進(jìn)行自由基聚合的任何這類單體的三元共聚物。此外,所述雜化共聚物不限于丙烯酸烷基酯,而是可以包含其它丙烯酸系官能的物質(zhì),例如但不限于芳族丙烯酸酯或鹵代丙烯酸酯如氟代丙烯酸酷。另外,除了通過(guò)使(羥基官能的)有機(jī)丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯單體與丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯官能的娃燒氧基化合物(silicon alkoxide)共聚而形成有機(jī)/無(wú)機(jī)雜化共聚物以外,可以通過(guò)將能夠經(jīng)歷同類聚合反應(yīng)的任何有機(jī)単體與任何含有可聚合基團(tuán)的硅烷氧基化合物組合而形成這類有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化共聚物。1,3_雙(3-甲基丙烯酰氧基丙基)四(三甲基甲硅烷氧基)ニ硅氧烷是類似的甲基丙烯酰氧基丙基_ ニ甲基甲娃燒氧基化合物。例如,可以使こ稀基、鏈稀基和苯こ稀基官能的有機(jī)娃燒如こ稀基ニ甲氧基娃燒、こ稀基ニこ氧基娃燒、對(duì)_(叔丁基_■甲基甲娃燒氧基)苯こ稀和こ烯基封端的聚ニ甲基硅氧烷預(yù)聚物與有機(jī)単體通過(guò)熱或UV引發(fā)的自由基聚合共聚,如同丙烯酸系和甲基丙烯酸系官能的有機(jī)硅烷可以進(jìn)行的那樣。另外,可以使環(huán)氧和縮水甘油氧基官能的娃燒氧基化合物、雙[甲基~■甲氧基甲娃燒基]丙基]聚環(huán)氧丙燒和環(huán)氧封端的聚ニ甲基硅氧烷預(yù)聚物與有機(jī)環(huán)氧化物通過(guò)陽(yáng)離子UV聚合或胺加聚進(jìn)行共聚。此夕卜,可以將能夠進(jìn)行縮聚的単體用干與合適的胺官能的硅化合物如1,3-雙(氨基丙基)四甲基ニ硅氧烷形成雜化聚酰亞胺、聚酰胺和氨基甲酸酯共聚物??梢詫⒛軌蜻M(jìn)行取代聚合(subsitution polymerization)的單體與娃化合物例如雙(三甲基甲娃燒基)雙酹A組合以通過(guò)取代聚合形成雜化共聚物。如同本領(lǐng)域技術(shù)人員認(rèn)識(shí)的那樣,可以將各種純化雜化共聚物的技術(shù)、例如通過(guò)沉淀或分餾純化的技術(shù)用于獲得具有較窄性能分布并且由此影響涂料組合物的性能的雜化共聚物材料。下列實(shí)施例舉例說(shuō)明面涂層材料的多種非限制性實(shí)施方案。然而,應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明不限于具體實(shí)施例。
雜化共聚物的形成實(shí)施例I在玻璃瓶中合并下列成分70克(g) Dowanol PM ニ醇醚、22. 5g丙烯酸2_輕基丙基酷、7. 5g y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和0. 06g偶氮ニ異丁腈(AIBN)。溶液在真空下脫氣5分鐘,經(jīng)由鼓泡器用氮?dú)獯祾?分鐘,放在充滿氮?dú)獾暮嫦渲杏?80° F過(guò)夜。第一個(gè)小時(shí)內(nèi)振搖混合物數(shù)次。實(shí)施例2將45g丙烯酸2-羥基丙基酷、15gY_甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和0. 12g偶氮ニ異丁腈(AIBN)加入到含有磁力攪拌子的玻璃瓶?jī)?nèi)的140g Dowanol PM ニ醇醚中。
該瓶放在超聲浴中5分鐘以幫助AIBN溶解,在真空干燥器中脫氣15分鐘,轉(zhuǎn)移到氮?dú)獯祾哌^(guò)的由配備回流冷凝器、加熱罩和氮?dú)夤呐萜鞯?50毫升(mL)三頸圓底燒瓶組成的反應(yīng)裝置,并且加熱以在氮?dú)庵斜3执蠹s80°C過(guò)夜。使反應(yīng)混合物冷卻至室溫。實(shí)施例3將45g丙烯酸羥基丙基酯(異構(gòu)體混合物)、15g Y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和0. 12g偶氮ニ異丁腈(AIBN)加入到含有磁力攪拌子的玻璃瓶?jī)?nèi)的140g DowanolPMニ醇醚中。攪拌溶液2-3分鐘以溶解大部分的AIBN,放在超聲浴中5分鐘,在真空干燥器中脫氣30分鐘,轉(zhuǎn)移到氮?dú)獯祾哌^(guò)的由配備回流冷凝器、加熱罩和氮?dú)夤呐萜鞯?50mL三頸圓底燒瓶組成的反應(yīng)裝置。在10分鐘氮?dú)鈩×掖祾咄ㄟ^(guò)溶液之后,在攪拌下開(kāi)始加熱。加熱45分鐘之后,將氮?dú)獯祾邷p緩到最小并且溫度達(dá)到50°C。熱量增加以使得反應(yīng)溫度在又一 10分鐘內(nèi)達(dá)到62°C,在20分鐘內(nèi)達(dá)到78°C,此時(shí)放熱反應(yīng)在進(jìn)行中。15分鐘以后溫度達(dá)到約107-108°C的最大值,此后放熱減退,反應(yīng)混合物冷卻到70°C。8小時(shí)之后,熱量再次增加以使得反應(yīng)混合物在I小時(shí)內(nèi)達(dá)到110°C,此時(shí)除去加熱并且在用于制備涂料溶液之前使反應(yīng)混合物稍微冷卻。實(shí)施例4偶氮ニ異丁腈(AIBN)在使用之前一周已經(jīng)從甲醇中重結(jié)晶3次。以類似于上述實(shí)施例3的方式,將三種成分直接合并入配備回流冷凝器、加熱罩和氮?dú)夤呐萜鞯?00mL三頸燒瓶中。將Y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷加入到所述丙烯酸羥基丙基酯中,其接著在3分鐘內(nèi)加入到圓底燒瓶?jī)?nèi)的Dowanol PM ニ醇醚中。在室溫?cái)嚢?分鐘之后,開(kāi)始加熱。20分鐘后溶液溫度達(dá)到50°C,經(jīng)由注射器通過(guò)橡膠隔片加入溶解在10-15mL DowanolPM中的0. IOg AIBN0 40分鐘后反應(yīng)混合物的溫度達(dá)到最大值119°C (反應(yīng)開(kāi)始后60分鐘),此后溫度降至83°C,保持該溫度直至總反應(yīng)時(shí)間達(dá)到16小吋。冷卻至室溫后,將共聚物產(chǎn)物用于制備聚硅氧烷涂料溶液。將不立即使用的材料轉(zhuǎn)移到棕色玻璃瓶中并且儲(chǔ)存在冷藏室中。冷藏儲(chǔ)存7周之后,產(chǎn)物溶液的室溫粘度為61. I厘泊(cps)。實(shí)施例5將重結(jié)晶的偶氮ニ異丁腈(AIBN)在使用之前又從甲醇中重結(jié)晶I次。以類似于上述實(shí)施例3的方式,將三種成分直接合并入250mL三頸燒瓶中。首先將Y -甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷加入到所述丙烯酸羥基丙基酯中,然后將兩種單體的混合物在攪拌下加入到已經(jīng)在三頸燒瓶中用氮?dú)獯祾?小時(shí)的130g Dowanol PMニ醇醚溶劑(130g)中。立即開(kāi)始加熱,反應(yīng)溶液在24分鐘后達(dá)到56°C,此時(shí)加入0. IOgAIBN0反應(yīng)開(kāi)始后45分鐘反應(yīng)溶液達(dá)到117°C。大約I. 25小時(shí)反應(yīng)時(shí)間時(shí),溫度降至109° F,此時(shí)減少熱量以保持86°C的溫度過(guò)夜。自反應(yīng)開(kāi)始起16. 5小時(shí)的總時(shí)間之后,除去加熱以使產(chǎn)物在大約I小時(shí)內(nèi)冷卻至室溫。將產(chǎn)物接著用于制備聚硅氧烷涂料溶液或者轉(zhuǎn)移到棕色玻璃瓶以便冷藏儲(chǔ)存。冷藏儲(chǔ)存大約I周之后,室溫下產(chǎn)物的粘度為130. 6cps。實(shí)施例6將22. 5g丙烯酸2-羥基丙基酯、7. 5g Y -甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和O. 06g二甲氧基2-苯基苯乙酮(DMPA)加入到玻璃瓶?jī)?nèi)的70. Og Dowanol PM二醇醚溶劑中并且放在超聲浴中直至DMPA溶解。然后在真空中將溶液脫氣10分鐘,接著在ELC 400IUV固化單元中在氮?dú)夥諊率覝毓袒疘小時(shí)。使共聚物產(chǎn)物的中等粘稠溶液在用于制備涂料溶液之前冷卻至室溫。涂料溶液的制備方法I :在一種非限制性方法中,如下將實(shí)施例1-6所生產(chǎn)的類型的共聚物產(chǎn)物引入持久的耐磨損涂料配制物中。在典型的制備中,將15g共聚物產(chǎn)物溶液加入到72g甲基三甲氧基硅烷中。在單獨(dú)的容器中,將15g甲醇與44. Ig Snowtex O水性膠體硅溶膠(可購(gòu)自NissanChemical)和3. 6g冰醋酸以及I滴濃硝酸合并。在攪拌下將所述硅烷和共聚物混合物緩慢加入到二氧化硅水溶液中。繼續(xù)攪拌過(guò)夜。然后用125g I-丙醇、O. 3gBYK-306(可購(gòu)自BYK Chemie)和O. 75g的25%四甲基氫氧化銨的甲醇溶液(可購(gòu)自FisherScientific)稀釋該溶液。方法II :在可供選擇的非限制性方法中,將15g實(shí)施例1-6的共聚物產(chǎn)物與72g甲基三甲氧基硅烷和45g在二醇醚PM中的NPC-ST膠體硅溶膠(可購(gòu)自Nissan Chemical)合并。在單獨(dú)的容器中,將30g去離子水與3. 6g冰醋酸和I滴濃硝酸合并。在攪拌下將水-酸混合物緩慢加入到硅烷/共聚物/ 二氧化硅混合物中,繼續(xù)攪拌過(guò)夜。然后用IOOgI-丙醇、O. 3g BYK-306(可購(gòu)自BYK Chemie)和O. 75g的25%四甲基氫氧化銨的甲醇溶液(可購(gòu)自Fisher Scientific)稀釋該溶液。可以通過(guò)流涂將涂料施涂于(涂布或未涂布的)丙稀Ife系基材上,接著在環(huán)境空氣中干燥20-30分鐘,并在80°C熱固化4小時(shí)。在面涂層42之上施涂罩面層44 (耐磨涂層)。罩面層44可以例如是硅基涂層、類金剛石碳(DLC)涂層、類金剛石碳型涂層(例如碳氧化硅涂層)、或者任何這類相似的涂層。合適的罩面層涂料的實(shí)例在W02007/064792A2中得到描述。其它實(shí)例包括DIAM0NEX涂層,例如 Everscan、Scanshield、AegisPlus,和DIAM0NDSHIELD 涂層,可購(gòu)自 Allentown,Pennsylvania 的 Morgan Technical Ceramics。罩面層 44 的厚度可以是 1-10 微米,例如1-8微米,例如2-6微米,例如3-6微米,例如4-5微米??梢酝ㄟ^(guò)任何常規(guī)方法、例如通過(guò)直接離子束沉積或RF等離子體沉積施涂罩面層44?;蛘?,可以省去罩面層44,在施涂于陽(yáng)光控制涂層36之上的第二保護(hù)涂層38之上施涂面涂層42。面涂層的厚度可以是例如7微米-10微米。涂層疊層30的面涂層92和罩面層44結(jié)構(gòu)的替代實(shí)施方案90示于圖4 (僅說(shuō)明涂層疊層30的外側(cè)部分)。該實(shí)施方案90具有第一面涂層94,保護(hù)涂層96,第二面涂層98和罩面層44。第一面涂層材料可以與第二面涂層材料相同或不同。如同涂料領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)意識(shí)到的,通過(guò)常規(guī)流涂技術(shù)形成大于數(shù)微米的涂層非常有挑戰(zhàn)性。因此,在圖4所示的實(shí)施方案90中,以兩個(gè)分開(kāi)的步驟形成面涂層92。通過(guò)流涂施涂第一面涂層94 (包含如上文對(duì)于面涂層描述的材料,例如聚硅氧烷材料或環(huán)氧氨基硅氧烷材料)至大于I微米、例如I微米-5微米的厚度。通過(guò)物理沉積例如MSVD施涂保護(hù)涂層96 (包含如下文對(duì)于保護(hù)涂層描述的材料,例如85wt*%二氧化娃和15wt*%氧化招)至10nm-500nm、例如50nm-200nm、例如50nm-150nm、例如IOOnm的厚度。在保護(hù)涂層96之上通過(guò)流涂形成第二面涂層98 (例如聚硅氧烷或環(huán)氧氨基硅氧烷材料)至大于I微米、例如I微米-5微米的厚度。這種在兩個(gè)面涂層之間插入MSVD保護(hù)涂層96的技術(shù)克服了與通過(guò)流涂形成厚度大于數(shù)微米的單一整體面涂層有關(guān)的問(wèn)題。雖然只顯示一個(gè)保護(hù)涂層96,但是應(yīng)當(dāng)理解可以存在多重的面涂層/保護(hù)涂層/面涂層以增加涂層疊層的總厚度。另外,替代外部涂層是上述罩面層44,最外層可以是保護(hù)涂層材料?;蛘撸钔鈱涌梢允敲嫱繉?即,沒(méi)有上方的保護(hù)涂層或罩面層)。涂層疊層30的面涂層和罩面層結(jié)構(gòu)的另一替代實(shí)施方案100示于圖5。在該實(shí)施方案100中,在面涂層104和罩面層106之間形成保護(hù)涂層102。通過(guò)流涂施涂面涂層
104 (包含如上文對(duì)于面涂層42描述的材料,例如聚硅氧烷或環(huán)氧氨基硅氧烷材料)至大于I微米、例如I微米-5微米的厚度。通過(guò)物理沉積例如MSVD施涂保護(hù)涂層102 (包含如下文對(duì)于保護(hù)涂層34、38描述的材料,例如85wt%二氧化娃和15wt%氧化招)至10nm-500nm、例如50nm-200nm、例如50nm-150nm、例如IOOnm的厚度。通過(guò)直接離子束沉積或RF等離子體沉積,以大于I微米、例如4微米-5微米的厚度施涂罩面層106 (包含如上文對(duì)于罩面層44描述的材料,例如DIAMONDSHIELD 涂層)。在面涂層104和罩面層106之間形成保護(hù)涂層102為下方的涂層提供額外的對(duì)化學(xué)和/或機(jī)械損傷的保護(hù)。電致變色組件28 (參見(jiàn)圖I)可以包括響應(yīng)施加或除去電勢(shì)而改變光透射系數(shù)的任何常規(guī)電致變色裝置。合適的電致變色裝置的實(shí)例在美國(guó)專利No. 6,561,460和6,783, 099中得到描述。另一種窗戶組件110示于圖6。除了在不同的表面上形成涂層疊層30的部分30’和30”以外,該窗戶組件110類似于圖I所示的組件。例如,可以在No. I表面(表面14)上形成一個(gè)部分30’,可以在另一表面、例如No. 2表面(表面16)或No. 3表面(表面20)上形成另一部分30”。在圖7所示的實(shí)施方案中,在第一片層12的外表面14上形成如圖I的第一實(shí)施方案中所述的面涂層42和罩面層44。在內(nèi)表面16上(或者,任選地,在表面20上)形成打底層32、任選的保護(hù)涂層34、陽(yáng)光控制涂層36、保護(hù)涂層38和另一面涂層112 (例如,如上文對(duì)于面涂層42描述的)。如同將會(huì)意識(shí)到的,也可以將圖4和/或圖5的交替面涂層/罩面層結(jié)構(gòu)引入本發(fā)明的這一實(shí)施方案?;蛘?,可以省去面涂層42和罩面層44以使得在外表面14上沒(méi)有涂層?;蛘撸梢栽贜o. 2表面或No. 3表面上形成具有陽(yáng)光控制涂層的涂層疊層的部分30”,以及可以省去另一部分30’。本發(fā)明的另一實(shí)施方案114不于圖8。在上文實(shí)施方案中,第一和第二片層12、18被空氣間隙26分開(kāi)。然而,在圖8所示的實(shí)施方案114中,片層12、18被層疊。在該實(shí)施方案114中,第一片層12和第二片層18通過(guò)中間層116固定。中間層116可以具有任何期望材料以及可以包含一個(gè)或多個(gè)層或片層。中間層116可以是聚合物或塑料材料,例如聚乙烯醇縮丁醛、增塑聚氯乙烯、或者包括聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚氨酯等的多層熱塑性材料。合適的中間層材料例如但不限于在美國(guó)專利No. 4,287,107和3,762,988中得到公開(kāi)。中間層116將第一和第二片層固定在一起,提供能量吸收,減少噪音,提高層疊結(jié)構(gòu)的強(qiáng)度。中間層116也可以是吸音或消聲材料,如同例如在美國(guó)專利No. 5,796,055中所述的。中間層116可以具有在其上提供或并入其中的陽(yáng)光控制涂層或者可以包含著色材料以減少太陽(yáng)能透射率。在一種非限制性實(shí)施方案中,中間層116的厚度為0. 5mm-1. 5mm,例如0. 75mm-0. 8mm?;蛘?,涂層30可以如上文關(guān)于圖6和圖7描述的分開(kāi)。雖然上文已經(jīng)描述了本發(fā)明的多個(gè)方面,但是在本發(fā)明范圍內(nèi)考慮其它變型。例如但是不認(rèn)為限制地,可以省去面涂層42以及在下方的涂層上(圖2)或者在片層表面上(圖7)形成罩面層44。此外,可以在PET片材上形成陽(yáng)光控制涂層,該P(yáng)ET片材可以通過(guò)PVB層粘結(jié)到所述片層之一上或者可以與兩個(gè)PVB層進(jìn)行層疊?;蛘?,透明體可以包含在基材(例如但不限于拉伸丙烯酸系樹脂)之上、例如直接在基材上形成的面涂層42 (例如具有如上所述的雜化聚合物的面涂層),以及在面涂層42之上、例如直接在面涂層42上形成罩面層44,例如碳氧化硅涂層,例如DIAMONDSHIELD涂層。可以在基材的另一主表面上形成陽(yáng)光控制涂層(諸如上述的)。本領(lǐng)域技術(shù)人員將容易理解的是,在不偏離前述說(shuō)明書中公開(kāi)的概念的情況下可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行變換。因此,本文詳細(xì)描述的特定實(shí)施方案僅僅是說(shuō)明性的并且不在于限制本發(fā)明的范圍,將由所附權(quán)利要求書以及其任何和全部等同方式的全部寬度給出本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.飛機(jī)透明體,其包含 具有第一主表面和第二主表面的第一聚合物片層; 與所述第一片層間隔并且具有第三主表面和第四主表面的第二聚合物片層;和 在一個(gè)或多個(gè)所述主表面的至少一部分之上的具有陽(yáng)光控制性能的涂層疊層,其中所述涂層疊層包含 在所述主表面之一的至少一部分之上形成的第一打底層,所述第一打底層包含含硅氧燒的材料; 在所述第一打底層的至少一部分之上形成的陽(yáng)光控制涂層,所述陽(yáng)光控制涂層具有至少一個(gè)金屬層和至少一個(gè)介電層; 在所述陽(yáng)光控制涂層的至少一部分之上形成的保護(hù)涂層,所述保護(hù)涂層包含至少一種金屬氧化物; 在所述保護(hù)涂層的至少一部分之上形成的面涂層,所述面涂層包含聚硅氧烷材料;和 在所述面涂層的至少一部分之上形成的罩面層,所述罩面層包含碳氧化硅涂層。
2.權(quán)利要求I的透明體,其中所述第一片層和第二片層中的至少一個(gè)為拉伸丙烯酸系樹脂。
3.權(quán)利要求I的透明體,其中所述第一片層和第二片層被空氣間隙分開(kāi)。
4.權(quán)利要求I的透明體,其中所述第一片層和第二片層通過(guò)中間層層疊。
5.權(quán)利要求I的透明體,其中所述涂層疊層進(jìn)一步包含在所述第一打底層與所述陽(yáng)光控制涂層之間的內(nèi)保護(hù)涂層和在所述保護(hù)涂層與所述面涂層之間的第二打底層。
6.權(quán)利要求I的透明體,其中所述打底層包含環(huán)氧氨基硅氧烷材料。
7.權(quán)利要求I的透明體,其中所述陽(yáng)光控制涂層包含由介電層分開(kāi)的三個(gè)或更多金屬銀層。
8.權(quán)利要求I的透明體,其中所述保護(hù)涂層包含二氧化硅和氧化鋁的混合物。
9.權(quán)利要求I的透明體,其中所述罩面層包含DIAMONDSHIELD 層。
10.權(quán)利要求I的透明體,其中在所述第一主表面的至少一部分之上形成所述涂層疊層。
11.權(quán)利要求I的透明體,其進(jìn)一步包含與所述第二片層間隔的電致變色組件。
12.權(quán)利要求I的透明體,其中所述面涂層包含多層結(jié)構(gòu),其具有包含聚硅氧烷材料的第一層、包含一種或多種金屬氧化物的第二層和包含聚娃氧燒材料的第三層。
13.權(quán)利要求I的透明體,其進(jìn)一步包含在所述面涂層與所述罩面層之間的第三保護(hù)涂層。
14.飛機(jī)透明體,其包含 具有第一主表面和第二主表面的第一拉伸丙烯酸系樹脂片層; 與所述第一片層間隔并且具有第三主表面和第四主表面的第二拉伸丙烯酸系樹脂片層;和 在一個(gè)或多個(gè)所述主表面的至少一部分之上施涂的具有陽(yáng)光控制性能的涂層疊層,其中所述涂層疊層包含 在所述主表面之一的至少一部分之上形成的第一打底層,所述第一打底層包含含環(huán)氧氨基硅氧烷的材料;在所述第一打底層的至少一部分之上形成的陽(yáng)光控制涂層,所述陽(yáng)光控制涂層包含至少三個(gè)金屬銀層; 在所述陽(yáng)光控制涂層的至少一部分之上形成的保護(hù)涂層,所述保護(hù)涂層包含二氧化硅和氧化鋁; 在所述保護(hù)涂層的至少一部分之上形成的面涂層,所述面涂層包含聚硅氧烷材料;和 在所述面涂層的至少一部分之上形成的罩面層,所述罩面層包含類金剛石碳涂層。
15.權(quán)利要求14的透明體,其中所述涂層疊層進(jìn)一步包含在所述第一打底層與所述陽(yáng)光控制涂層之間的內(nèi)保護(hù)涂層和在所述保護(hù)涂層與所述面涂層之間的第二打底層。
16.權(quán)利要求14的透明體,其中在所述第一主表面的至少一部分之上形成所述涂層疊層。
17.飛機(jī)透明體,其包含 具有第一主表面和第二主表面的拉伸丙烯酸系樹脂片層; 在所述片層的第一主表面的至少一部分之上形成的并包含聚硅氧烷材料的面涂層;和 在所述面涂層的至少一部分之上形成的并包含碳氧化硅涂層的罩面層。
18.權(quán)利要求17的透明體,其中所述聚硅氧烷材料包含雜化共聚物。
19.權(quán)利要求18的透明體,其中所述面涂層包含 聚硅氧烷聚合物,其包含如下組分的反應(yīng)產(chǎn)物 (a)包含如下單體的雜化共聚物 (i)包括羥基官能的有機(jī)丙烯酸酯的第一單體;和 (i i)包括有機(jī)烷氧基硅烷的第二單體;和 (b)包含有機(jī)烷氧基硅烷的第二物質(zhì)。
20.權(quán)利要求19的透明體,其中所述第一單體選自羥基官能的丙烯酸酯和/或丙烯酸輕基燒基酷。
21.權(quán)利要求19的透明體,其中所述第一單體選自丙烯酸羥基甲基酯、丙烯酸羥基乙基酯和丙烯酸羥基丙基酯。
22.權(quán)利要求19的透明體,其中所述第二單體為三烷氧基硅烷。
23.權(quán)利要求22的透明體,其中所述第二單體為甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。
24.權(quán)利要求19的透明體,其中所述第二物質(zhì)為三烷氧基硅烷。
25.權(quán)利要求24的透明體,其中所述第二物質(zhì)為甲基三甲氧基硅烷。
26.權(quán)利要求17的透明體,其中所述罩面層包含DIAMONDSHIELD 層。
27.權(quán)利要求17的透明體,其進(jìn)一步包含在所述第二表面的至少一部分之上的涂層疊層。
28.權(quán)利要求27的透明體,其中所述涂層疊層包含 在所述第二主表面的至少一部分之上形成的第一打底層,所述第一打底層包含含環(huán)氧氨基硅氧烷的材料; 在所述第一打底層的至少一部分之上形成的陽(yáng)光控制涂層,所述陽(yáng)光控制涂層包含至少三個(gè)金屬銀層;和 在所述陽(yáng)光控制涂層的至少一部分之上形成的保護(hù)涂層,所述保護(hù)涂層包含二氧化硅和氧化招。
29.權(quán)利要求28的透明體,其中所述涂層疊層進(jìn)一步包含在所述保護(hù)涂層的至少一部分之上形成的并包含聚硅氧烷材料的面涂層。
30.權(quán)利要求29的透明體,其中所述涂層疊層進(jìn)一步包含在所述面涂層的至少一部分之上形成的并包含類金剛石碳涂層的罩面層。
31.制造飛機(jī)透明體的方法,其包括如下步驟 提供具有第一主表面和第二主表面的第一拉伸丙烯酸系樹脂片層; 提供具有第三主表面和第四主表面的第二拉伸丙烯酸系樹脂片層;和 在一個(gè)或多個(gè)所述主表面的至少一部分之上提供具有陽(yáng)光控制性能的涂層疊層,其中所述涂層疊層包含 在所述主表面之一的至少一部分之上形成的第一打底層,所述第一打底層包含含環(huán)氧氨基硅氧烷的材料; 在所述第一打底層的至少一部分之上形成的陽(yáng)光控制涂層,所述陽(yáng)光控制涂層包含至少三個(gè)金屬銀層; 在所述陽(yáng)光控制涂層的至少一部分之上形成的保護(hù)涂層,所述保護(hù)涂層包含二氧化硅和氧化鋁; 在所述保護(hù)涂層的至少一部分之上形成的面涂層,所述面涂層包含聚硅氧烷材料;和 在所述面涂層的至少一部分之上形成的罩面層,所述罩面層包含類金剛石碳涂層。
全文摘要
飛機(jī)透明體包含第一拉伸丙烯酸系樹脂片層和第二拉伸丙烯酸系樹脂片層。在一個(gè)或多個(gè)所述主表面的至少一部分之上施涂具有陽(yáng)光控制性能的涂層疊層。所述涂層疊層包含第一打底層,其包含含環(huán)氧氨基硅氧烷的材料。在所述第一打底層的至少一部分之上形成具有至少三個(gè)金屬銀層的陽(yáng)光控制涂層。在所述陽(yáng)光控制涂層的至少一部分之上形成包含二氧化硅和氧化鋁的保護(hù)涂層。在所述保護(hù)涂層的至少一部分之上形成包含聚硅氧烷材料的面涂層。在所述面涂層的至少一部分之上形成罩面層,其包含類金剛石碳型涂層。
文檔編號(hào)B32B27/30GK102791778SQ201080025789
公開(kāi)日2012年11月21日 申請(qǐng)日期2010年6月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月12日
發(fā)明者A·拉什德, C·S·哈里斯, H·布海, J·D·巴茲爾, R·M·哈尼亞 申請(qǐng)人:Ppg工業(yè)俄亥俄公司