本實(shí)用新型涉及標(biāo)簽生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特指一種可自動(dòng)排走廢料的雕刻刀底座。

背景技術(shù)：
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在很多標(biāo)簽的生產(chǎn)過程中，需要使用雕刻刀在表面模切出客戶需要的形狀。普通的雕刻刀包括用于模切的刀體、用于承載的底座，需要模切的標(biāo)簽放在底座上，然后刀體下壓，將標(biāo)簽?zāi)Ｇ谐隹蛻粜枰男螤?。其中，現(xiàn)有技術(shù)用于模切的雕刻刀，只起到模切作用，在模切后，不需要的廢料還粘貼在標(biāo)簽表面，需要消耗大量人工對(duì)標(biāo)簽表面不要的部分進(jìn)行清理，以排走廢料，這種人工排廢，效率極慢，導(dǎo)致生產(chǎn)效率低下，不能及時(shí)滿足客戶需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
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本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，而提供一種可自動(dòng)排走廢料的雕刻刀底座，以提高生產(chǎn)效率。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：一種可自動(dòng)排走廢料的雕刻刀底座，包括底座，底座的四角設(shè)置有用于安裝固定的螺絲孔，底座上開設(shè)有與標(biāo)簽需要排走廢料形狀對(duì)應(yīng)的孔位，底座內(nèi)開設(shè)有用于排走廢料的通道，通道位于孔位的下方，孔位的底部與通道的內(nèi)端連通，通道的外端與外部連通；通道的內(nèi)端與孔位連通處成型有斜坡，該斜坡的傾斜夾角為45度。

所述孔位為垂直走向，通道為水平走向，使孔位與通道構(gòu)成“L”型的排廢走廊；其中，孔位的高度為6.5毫米，通道的高度為12.5毫米。

所述底座是由鋼材制成。

本實(shí)用新型有益效果為：其包括底座，底座的四角設(shè)置有用于安裝固定的螺絲孔，底座上開設(shè)有與標(biāo)簽需要排走廢料形狀對(duì)應(yīng)的孔位，底座內(nèi)開設(shè)有用于排走廢料的通道，通道位于孔位的下方，孔位的底部與通道的內(nèi)端連通，通道的外端與外部連通；通道的內(nèi)端與孔位連通處成型有斜坡，該斜坡的傾斜夾角為45度。在標(biāo)簽?zāi)Ｇ械耐瑫r(shí)，切出的廢料可通過孔位落入通道內(nèi)，再從通道排出到外部，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)排走廢料，從而提高生產(chǎn)效率，節(jié)省了人工成本。

附圖說明：

圖1是本實(shí)用新型的底座的俯視圖。

圖2是圖1的A-A剖視圖。

具體實(shí)施方式：

見圖1和圖2所示，本實(shí)用新型包括底座1，底座1的四角設(shè)置有用于安裝固定的螺絲孔11。底座1上開設(shè)有與標(biāo)簽需要排走廢料形狀對(duì)應(yīng)的孔位12，以供廢料落入，例如：本實(shí)施例的一張標(biāo)簽上有17個(gè)孔，則底座1上開設(shè)有17個(gè)對(duì)應(yīng)的孔位12，如圖1所示。底座1內(nèi)開設(shè)有用于排走廢料的通道13，通道13位于孔位12的下方，孔位12的底部與通道13的內(nèi)端連通，通道13的外端與外部連通，使切出的廢料可通過孔位12落入通道13內(nèi)，再從通道13排出到外部。通道13的內(nèi)端與孔位12連通處成型有斜坡14，該斜坡14的傾斜夾角(a)為45度，使得落入孔位12內(nèi)的廢料可以更加順暢地進(jìn)入通道13內(nèi)。

優(yōu)選的，孔位12為垂直走向，通道13為水平走向，使孔位12與通道13構(gòu)成“L”型的排廢走廊；其中，孔位12的高度(b)為6.5毫米，通道13的高度(c)為12.5毫米。此結(jié)構(gòu)，充分地利用了底座1的空間，同時(shí)通道13具有足夠的高度讓廢料排出。其中，底座1是由鋼材制成，強(qiáng)度好、且耐用。

在工作時(shí)，需要模切的標(biāo)簽放在底座1上，然后雕刻刀的刀體下壓，將標(biāo)簽?zāi)Ｇ谐隹蛻粜枰男螤?，同時(shí)，切出的廢料可通過孔位12落入通道13內(nèi)，再從通道13排出到外部，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)排走廢料。

綜上所述，本實(shí)用新型可在標(biāo)簽?zāi)Ｇ械耐瑫r(shí)自動(dòng)排走廢料，不需要專門的排廢料工人，從而提高生產(chǎn)效率，節(jié)省了人工成本，符合高新技術(shù)的制造標(biāo)準(zhǔn)。

以上所述僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，故凡依本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍內(nèi)。