連續(xù)氣體填充工藝和用于制造絕緣玻璃單元的設(shè)備的制作方法
【專利摘要】用于以一種或多種絕緣氣體(例如，氬氣和氪氣)來填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備。絕緣氣體供送至氣體填充管，氣體填充管插入絕緣玻璃單元的一個或多個板間空間中。每一個板間空間可以填充有一種以上的絕緣氣體?？刂茊卧勒沼煽刂茊卧邮盏降臍怏w填充數(shù)據(jù)來控制絕緣氣體的注入。
【專利說明】連續(xù)氣體填充工藝和用于制造絕緣玻璃單元的設(shè)備
[0001]本申請是申請日為2011年6月15日、申請?zhí)枮?01180041678.9、發(fā)明名稱為“連續(xù)氣體填充工藝和用于制造絕緣玻璃單元的設(shè)備”的中國專利申請的分案申請。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明總體上涉及絕緣玻璃單元(insulating glass unit)的制造,并且更具體地涉及用于以絕緣氣體(insulating gas)來填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0003]隨著窗戶制造商不斷改善其產(chǎn)品的熱性能以便實現(xiàn)較高的效率和節(jié)能，發(fā)展方向是以比空氣重的惰性氣體來替換絕緣玻璃(IG)單元內(nèi)側(cè)的空氣，惰性氣體包含但不限于氬(Ar)、氪(Kr)或它們的融合物(blend)。由于氬和氪兩者都具有高于空氣的密度，故它們用作為增大IG單元的絕緣值的絕緣氣體?？諝饩哂写蠹s1.29克/升(OSTP)的密度。相反，氬具有大約1.78克/升(OSTP)的密度，并且目前具有在$0.02每升范圍內(nèi)的成本，而氪具有大約3.74克/升(OSTP)的密度，并且目前具有在$1.00每升范圍內(nèi)的成本。盡管氬和氪兩者都將改善IG單元的熱性能，但氬通常在較寬的空氣空間(1/2”至5/8”)中使用以達(dá)到其最大效率，而氪通常在較窄的空氣空間(1/4”至3/8”)中使用。
[0004]由于這兩種絕緣氣體(氬和氪)都比空氣重，當(dāng)絕緣氣體從IG單元的底部填充IG單元時，絕緣氣體將較輕的空氣氣體推動至IG單元的頂部并且推出IG單元的封閉的(enclosed)空氣空間。在填充工藝中的某一時刻，有一部分靠近IG單元的底部，其大部分(超過90%)比空氣氣體重(氬、氪或兩種氣體的混合物)，而有一部分靠近IG單元的頂部，其大部分是空氣。在絕緣氣體與空氣交接(interface with)的地方,存在空氣和絕緣氣體兩者融合的混合物。這種氣體融合的混合物由絕緣氣體與其替換的空氣的對流(convect1n)和擴(kuò)散(dissipat1n)引起。出于此原因，可能需要150%至500%的被注入絕緣氣體來使IG單元內(nèi)的空氣體積稀釋降到小于余下的10%。90%的填充速率已變成IG制造行業(yè)中的通用標(biāo)準(zhǔn)。
[0005]以絕緣氣體(例如,気、氪或它們的組合物)來填充IG單元所需的時間量受到以下影響=(I)IG單元內(nèi)的空氣空間的體積；(2)被注入絕緣氣體的流動速率；(3)填充工藝期間的對流(其受到流動速率的影響)；以及(4)填充工藝期間的擴(kuò)散(其受到這些氣體暴露于彼此的時間的影響)。
[0006]為了便于將絕緣氣體注入IG單元的玻璃板(pane)(也稱為“玻璃塊(Iite) ”)之間的空間中，一個或兩個開口或孔可以設(shè)置在將兩塊相鄰的玻璃板分離的間隔件(spacer)中。對于具有帶單孔的間隔件的IG單元，孔位于IG單元的轉(zhuǎn)角處或IG單元的轉(zhuǎn)角附近。為了將絕緣氣體注入玻璃板之間的空間中，IG單元通常以垂直方向定位，其中孔定位在IG單元的最高位置處或IG單元的最高位置附近。現(xiàn)有的“單孔”氣體填充工藝可采用若干不同的形式，包含但不限于:(I)真空填充、(2)快速填充，以及(3)緩慢填充(單孔)工藝，這是現(xiàn)在將要描述的。
[0007]真空填充:當(dāng)整個IG單元(或許多(multiple) IG單元)插入真空室中時,真空填充發(fā)生。經(jīng)過一段時間，大部分空氣從玻璃板之間的空間(即“板間(interpane)”空間)抽出(取決于期望的填充速率)，然后由期望的絕緣氣體進(jìn)行替換。盡管該方法是可靠的，但執(zhí)行起來花費昂貴。在這方面，真空室具有固定尺寸，并因此需要許多真空室來適應(yīng)不同尺寸的IG單元。如果真空室對于IG單元來說過大,就會損耗(waste)比例較高的絕緣氣體，因為其填充了在真空室內(nèi)側(cè)但是在IG單元外側(cè)的空間。用來使真空室運行的能量成本(energy cost)也很高。出于若干上述原因,真空填充方法對于在實時(just-1n-time,JIT)制造環(huán)境中制造定制(custom)尺寸的IG單元或者制造標(biāo)準(zhǔn)尺寸的IG單元是不實用的。
[0008]快速填充:為了使填充時間減至最少(導(dǎo)致勞動力(labor)成本降低，以及生產(chǎn)力(capacity)提高)，快速填充機(jī)器使用探針(probe),探針插入IG單元中并且以較高速率(例如，6至10升每分鐘)從探針的第一部分注入氣體，同時在探針的第二部分處以與注入速率基本上相同的速率抽吸出排出氣體。這種快速填充工藝不但引起對流，而且促進(jìn)對流。由于氣體被混合，經(jīng)抽吸的排出氣體經(jīng)過氧傳感器，氧傳感器監(jiān)測其中的氧濃度。由于氧大約是空氣的1/5(20.9%)，故快速填充機(jī)器能夠設(shè)定成當(dāng)經(jīng)抽吸的排出氣體的氧濃度達(dá)到預(yù)定目標(biāo)濃度時(例如，大致0.9%的氧，以在IG單元內(nèi)達(dá)到90%的絕緣氣體)停止注入氣體。快速填充工藝的優(yōu)點在于其降低勞動力成本、提高生產(chǎn)力，并且適用于在實時(JIT)制造環(huán)境中制造定制尺寸的IG單元以及制造標(biāo)準(zhǔn)尺寸的IG單元兩者?？焖偬畛涔に嚨膰?yán)重缺點在于其損耗了大量的絕緣氣體(即，200%至500%)。對于注入相對昂貴的氪氣來說，這種絕緣氣體的損耗使得快速填充工藝不切實際。
[0009]緩慢填充(單孔):緩慢填充(單孔)工藝涉及穿過IG單元的頂部處的孔插入探針或管，其中管延伸至IG單元的最低部分。如果以緩慢的速率注入絕緣氣體，則使對流減至最少，從而減少了被損耗的絕緣氣體的量。這在使用相對昂貴的絕緣氣體(諸如氪等)的情況下是有益的。緩慢填充(單孔)工藝的優(yōu)點在于減少了絕緣氣體損失(通常在3升每分鐘的注入速率時為70%，而在I升每分鐘的注入速率時小于35%)。緩慢填充(單孔)工藝的缺點在于由于延長了填充時間勞動力成本較高、資金成本較高，并且極大地降低了生產(chǎn)力。
[0010]為了填充具有帶兩個孔或開口的間隔件的IG單元，IG單元通常以垂直方向定位，其中第一孔位于IG單元頂部的鄰近處，而第二孔位于IG單元底部的鄰近處。現(xiàn)有的“雙孔”氣體填充工藝可采用若干不同形式，包含但不限于下文描述的方法I和方法2。
[0011]方法1:第一探針插入IG單元的底部孔中用于灃入絕緣氣體。如上文所討論的，氬和氪兩者都比空氣重，且因此這些氣體注入IG單元的底部中使得這些氣體與其替換的空氣的對流減至最少。絕緣氣體的注入速率能夠增大從而使時間減至最少，或者減小從而使損耗減至最少。第二探針插入IG單元的頂部孔中以便從IG單元抽吸排出氣體。當(dāng)經(jīng)抽吸的排出氣體的氧濃度達(dá)到目標(biāo)濃度時，停止絕緣氣體的注入。
[0012]方法2:在該方法中，僅使用一個探針。該探針插入IG單元的底部孔中。由于絕緣氣體比空氣重，它將通過可預(yù)測的對流和擴(kuò)散以不同的流動速率來置換空氣。這種工藝使用計時器，計時器基于流動速率、對流、擴(kuò)散和可預(yù)測的損耗而設(shè)置。當(dāng)氬為絕緣氣體時，由于意外溢出的代價不高，這種方法是適合的。然而，當(dāng)使用昂貴的絕緣氣體(諸如氪等)時，這種方法需要一種在昂貴的絕緣氣體的損耗與將IG單元填充至規(guī)定的最低水平的需求之間的平衡。
[0013]本發(fā)明提供了用于以絕緣氣體來填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其克服了現(xiàn)有技術(shù)的缺陷并且提供了附加的優(yōu)點。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0014]依照本發(fā)明，提供了用于以至少一種絕緣氣體來填充一個或多個絕緣玻璃單元的方法，每一個所述絕緣玻璃單元均具有由間隔件分離的相鄰玻璃板所限定的至少一個板間空間，所述方法包括:將相應(yīng)的氣體填充管插入一個或多個絕緣玻璃單元的每一個所述板間空間中；向控制單元提供氣體填充數(shù)據(jù)用于確定所述(多種)絕緣氣體的量以便填充所述一個或多個絕緣玻璃單元的每一個板間空間；以及使用所述控制單元來控制(多種)絕緣氣體至氣體填充管的流動，其中(多種)絕緣氣體的所述流動由所述控制單元來控制以便根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)提供所述(多種)絕緣氣體的量；根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)在每一個所述板間空間填充有(多種)絕緣氣體之后，從每一個所述板間空間移除相應(yīng)的氣體填充管；以及密封所述一個或多個絕緣玻璃單元的每一個所述板間空間。
[0015]依照本發(fā)明的另一個方面，提供了用于以至少一種絕緣氣體來填充一個或多個絕緣玻璃單元的設(shè)備，每一個所述絕緣玻璃單元具有由間隔件分離的相鄰玻璃板所限定的至少一個板間空間，所述設(shè)備包括:保持架，其具有用于保持相應(yīng)的絕緣玻璃單元的多個保持位置；一個或多個絕緣氣體源；多個氣體填充管，其與所述一個或多個絕緣氣體源能流體地連接(f luidly connected), 一個或多個氣體填充管與每一個保持位置相關(guān)聯(lián)；以及控制單元，其設(shè)定為將(多種)絕緣氣體的量供送給多個氣體填充管，以填充絕緣玻璃單元的每一個板間空間，所述控制單元使用氣體填充數(shù)據(jù)來確定(多種)絕緣氣體的量，以填充絕緣玻璃單元的每一個板間空間。
[0016]本發(fā)明的優(yōu)點在于提供了用于以氣體來填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其改善了絕緣玻璃單元制造工藝的效率。
[0017]本發(fā)明的另一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其允許減少了絕緣氣體的損耗，從而降低了制造絕緣玻璃單元的成本。
[0018]本發(fā)明的又一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其通過提供與IG生產(chǎn)結(jié)合的連續(xù)工藝流程減少了制造絕緣玻璃單元所需的總時間。
[0019]本發(fā)明的又一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其允許減少了以絕緣氣體來填充絕緣玻璃單元所需的勞動力。
[0020]本發(fā)明的又一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其允許提高了氣體填充工藝的自動化和生產(chǎn)力。
[0021]本發(fā)明的又一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其允許改善了氣體填充工藝的監(jiān)測和檢驗。
[0022]本發(fā)明的又一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其允許有效地利用了制造絕緣玻璃單元所需的空間。
[0023]本發(fā)明的再又一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其允許絕緣玻璃單元的許多空氣空間同時填充。
[0024]本發(fā)明的再又一個優(yōu)點在于提供了用于填充絕緣玻璃單元的方法和設(shè)備，其適用于手動制造工藝和自動制造工藝兩者。
[0025]這些及其它優(yōu)點從與附圖和所附權(quán)利要求合起來看的優(yōu)選實施例的以下描述中將變得顯而易見。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0026]本發(fā)明可在某些部件中和部件的布置中采用實體形式(physical form),其優(yōu)選的實施例將在說明書中進(jìn)行詳細(xì)描述并且在形成本文部分的附圖中進(jìn)行圖示，并且在附圖中:
圖1為圖示了用于制造絕緣玻璃單元的系統(tǒng)的方塊圖；
圖2為圖示了根據(jù)本發(fā)明的實施例的氣體填充和密封站(stat1n)的部件的示意圖； 圖3為根據(jù)本發(fā)明的實施例的氣體填充和密封站的支撐組件的透視圖；
圖4為圖3中所示出的支撐組件的前視平面視圖；
圖5為圖3中所示出的支撐組件的俯視平面視圖；
圖6為結(jié)合本發(fā)明所使用的絕緣玻璃單元的一部分的放大透視圖；以及圖7為根據(jù)本發(fā)明的替換實施例的氣體填充和密封站的透視圖。

【具體實施方式】
[0027]現(xiàn)在參看制圖，其中所示出的僅是出于圖示本發(fā)明的優(yōu)選實施例的目的而非出于限制本發(fā)明的目的，圖1示出了用于制造絕緣玻璃單元(IGU)的系統(tǒng)9。系統(tǒng)9包含但不限于中央計算機(jī)10、玻璃切割站12、玻璃清洗站14、間隔件組裝站16、加熱滾壓站18以及氣體填充和密封站20。應(yīng)當(dāng)理解的是，系統(tǒng)9圖示了本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的用于在制造IGU中使用的許多不同的系統(tǒng)中的一個系統(tǒng)。示出系統(tǒng)9僅是出于圖解的目的，而不被解釋為限制本發(fā)明。
[0028]中央計算機(jī)10與位于站12、14、16、18和20處的計算機(jī)進(jìn)行通信(incommunicat1n with)，并且可以包含工廠信息系統(tǒng)，工廠信息系統(tǒng)具有用于組織I⑶生產(chǎn)的調(diào)度器(scheduler)。調(diào)度器用來排定(schedule) I⑶的制造并且在各種制造階段中始終監(jiān)視I⑶。在站12、14、16、18和20中的每一處，計算機(jī)監(jiān)測器或其它顯示單元(未示出)示出了包含當(dāng)前制造的IGU以及在當(dāng)前IGU之前和之后的若干IGU的生產(chǎn)進(jìn)度的一部分。中央計算機(jī)10經(jīng)由有線或無線網(wǎng)絡(luò)與位于站12、14、16、18和20中的一處或多處的計算機(jī)進(jìn)行通信。
[0029]玻璃切割站12以已知的方式運行以使玻璃的使用最優(yōu)化，使得每一個玻璃片(sheet)的使用量最大。玻璃切割器單元(未示出)生產(chǎn)用于給定的玻璃片的切割圖型(cutting map),并且向中央計算機(jī)10提供切割圖型或相關(guān)的信息。中央計算機(jī)10確定來自于玻璃片的切片(Piece)的斷裂(breakout)次序，并因此設(shè)置I⑶生產(chǎn)的次序。
[0030]傳送系統(tǒng)(未示出)可將切割的玻璃切片(稱為玻璃板或玻璃塊)輸送至玻璃清洗站14。沿傳送系統(tǒng)的路線，玻璃板經(jīng)過識別標(biāo)記系統(tǒng)(未示出)，諸如用于貼印刷標(biāo)簽或應(yīng)用激光標(biāo)記的裝置等。識別標(biāo)記系統(tǒng)以一個或多個單元標(biāo)識符(identifier)(例如，2D或數(shù)據(jù)矩陣條形碼)來標(biāo)記每一塊玻璃板。單元標(biāo)識符可提供諸如序列號和/或客戶號等信息。結(jié)合圖像系統(tǒng)(例如，條形碼閱讀器或掃描器)，玻璃板上的單元標(biāo)識符允許在整個IG制造工藝期間追蹤玻璃板和相關(guān)聯(lián)的IGU。
[0031]將清洗過的玻璃板提供給間隔件組裝站16。在間隔件組裝站16處，兩塊或三塊玻璃板與尺寸適當(dāng)?shù)拈g隔件結(jié)合，從而分別形成了具有一個或兩個板間空間的絕緣玻璃組件。然后，將玻璃組件提供給加熱滾壓站18，加熱滾壓站18將玻璃板密封成IGU。對于非對稱的三板IGU，兩個間隔件具有不同的尺寸，使得中心板與第一板之間的板間空間(例如，1/2英寸至5/8英寸寬)大于中心板與第二板之間的板間空間(例如，1/4英寸至3/8英寸寬)。應(yīng)當(dāng)理解的是，如下文所描述的那樣，本發(fā)明適用于與由兩個或更多板(例如，雙板、三板和四板)組成的IGU的制造結(jié)合使用。
[0032]圖6不出了由第一板102、中心板104和第二板106組成的三板IGU100。第一間隔件103位于第一板102與中心板104之間以限定第一板間空間，而第二間隔件105位于中心板104與第二板106之間以限定第二板間空間。第一和第二間隔件103、105具有相應(yīng)的孔103a、105a，用于將絕緣氣體注入相應(yīng)的板間空間中，如下文將闡述的那樣。單元標(biāo)識符108在第二板106上示出。
[0033]傳送系統(tǒng)(未示出)可將組裝好的IGU輸送至氣體填充和密封站20，在氣體填充和密封站20中IGU的每一個板間空間內(nèi)的空氣均由諸如氬和/或氪等絕緣氣體來替換以便改善IGU的熱性質(zhì)。在IGU填充有絕緣氣體之后，關(guān)閉在間隔件中提供進(jìn)入板間空間的(多個)孔或(多個)開口，從而密封板間空間。本發(fā)明針對用于執(zhí)行氣體填充和密封操作的經(jīng)改善的方法和設(shè)備，并且將在下文中進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0034]盡管參照與窗戶結(jié)合使用的IGU的制造來描述本發(fā)明，但可以想到，使用本發(fā)明的方法和設(shè)備制造的I⑶可與其它類型的門窗系統(tǒng)(fenestrat1n system)(包含但不限于門、天窗等)結(jié)合使用。此外，盡管本文中參照氬氣和氪氣來描述本發(fā)明以舉例說明本發(fā)明的實施例，但認(rèn)識到的是，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的其它氣體(例如，氙(Xe)和六氟化硫)可在I⑶的制造中替代空氣。因此，本發(fā)明不限于僅僅與氬氣和氪氣一起使用，而是可以與適用于與IGU —起使用的其它氣體結(jié)合使用。
[0035]現(xiàn)在參看圖2，示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的氣體填充和密封站20的示意圖。在所圖不的實施例中，站20包含工藝填充控制裝置(process fill controller) 30、気源46、氪源48、主歧管62、多個氣體分配系統(tǒng)(gas distribut1n system) 70 (單元1-8)和支撐結(jié)構(gòu)或組件110。
[0036]在所圖示的實施例中，氪源48位于常規(guī)電子秤38上，電子秤38監(jiān)測氪源48的重量，并且將重量數(shù)據(jù)傳輸至控制裝置30。氬源46可以是氬氣源或氣化以產(chǎn)生氬氣的液氬源。在所圖示的實施例中，連帶有秤38的氪源48、主歧管62和氣體分配系統(tǒng)70安裝至支撐組件110，如下文將描述的那樣。
[0037]工藝填充控制裝置30是與下文描述的站20中的部件進(jìn)行通信的控制單元。在所圖示的實施例中，控制器30還與中央計算機(jī)10(例如，經(jīng)由無線通信線路(link))進(jìn)行通信。工藝填充控制裝置30可以采用常規(guī)的可編程邏輯控制裝置(PLC)或個人計算機(jī)的形式。電源31向控制裝置30提供電力。用戶界面32允許在站20處的操作人員與控制裝置30進(jìn)行通信。在這方面，用戶界面32可包含輸入裝置(例如，鍵盤、鼠標(biāo)或觸摸屏)和輸出裝置(例如，顯示監(jiān)測器)。掃描器34也可以與控制裝置30連接以讀取標(biāo)識I⑶、位置和其它數(shù)據(jù)的編碼數(shù)據(jù)(例如，條形碼等)，如下文將詳細(xì)描述的那樣。
[0038]氬源46和氪源48經(jīng)由相應(yīng)的輸入導(dǎo)管52和54與主歧管62流體地連接。主歧管62分別通過多個成對的輸出導(dǎo)管64a、64b分配IS氣和氪氣。每一對輸出導(dǎo)管64a、64b均與相應(yīng)的氣體分配系統(tǒng)70流體連接。在圖2中所示出的實施例中，存在八個(8)獨立的氣體分配系統(tǒng)70 (單元1-8)。僅詳細(xì)示出了第一氣體分配系統(tǒng)70 (單元I)以便簡化本發(fā)明的實施例的圖解。
[0039]每一個氣體分配系統(tǒng)70均由子歧管72，多個成對閥76a、76b，以及多個成對流動控制單元80a、80b組成。在所圖示的實施例中，每一個氣體分配系統(tǒng)70均具有三(3)組成對閥76a、76b (標(biāo)識為閥A-B、C-D和E-F)和三(3)組成對流動控制單元80a、80b (標(biāo)識為流動控制單元A-B、C-D和E-F)。閥76a和76b經(jīng)由相應(yīng)的輸出導(dǎo)管74a和74b與子歧管72流體地連接。閥76a、76b由控制裝置30控制，以選擇是否將氬氣或氪氣經(jīng)由輸入導(dǎo)管78a、78b供送至流動控制單元80a、80b。閥76a、76b優(yōu)選為電磁閥。
[0040]流動控制單元80a經(jīng)由輸入導(dǎo)管78a與閥76a流體地連接。同樣地，流動控制單元80b經(jīng)由輸入導(dǎo)管78b與閥76b流體地連接。流動控制單元80a、80b由常規(guī)的流動控制閥和流量計組成。流動控制閥根據(jù)從控制裝置30接收的信號來調(diào)節(jié)氬氣或氪氣的流動或壓力，并且響應(yīng)由流量計生成的表示所測量的氣體流動的反饋信號?？刂蒲b置30將信號傳輸至流動控制閥以實現(xiàn)期望的氣體流動速率(例如，I升/分鐘)。
[0041]相應(yīng)的填充管90a和90b流體地連接至流動控制單元80a和80b的出口。填充管90a、90b在其遠(yuǎn)端處分別包含噴嘴92a、92b用于分送氣體。
[0042]應(yīng)當(dāng)體會到的是，氣體分配系統(tǒng)70的數(shù)目可以取決于期望的生產(chǎn)力而變化。同樣地，包括每一個氣體分配系統(tǒng)70的閥和流動控制單元的數(shù)目可取決于期望的生產(chǎn)力而變化。此外，還可以想到在本發(fā)明的替換實施例中，可將主歧管62改型成直接連接至閥對76a、76b，從而消除了對子歧管72的需求。
[0043]在圖3至圖5中示出的本發(fā)明的實施例中，支撐組件110總體上由靜止底座112、可旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)臺底座140、中心組件160和多個保持架170組成。
[0044]靜止底座112包含:一對橫向的橫梁114AU14B ;垂直柱122 ;和水平柱126。高度可調(diào)整的支腿116從橫梁114AU14B的下部延伸，以便調(diào)整靜止底座112在地面上方的高度。垂直柱122從橫梁114A向上延伸。在所圖示的實施例中，含有電源31的殼體124附連至垂直柱122。面向內(nèi)的水平柱126從垂直柱122的頂端延伸。水平柱126的自由端或遠(yuǎn)端總體上位于靜止底座112的中心上方。在所圖示的實施例中，主歧管62安裝至水平柱126的遠(yuǎn)端。旋轉(zhuǎn)的氣體配件128位于水平柱126的遠(yuǎn)端處，以便接收來自位于遠(yuǎn)程的氬源46的輸入導(dǎo)管52。気源46可米用含有IS氣或氣化而形成氣態(tài)IS的液IS的罐的形式。
[0045]轉(zhuǎn)臺底座140通過軸承118安裝至靜止底座112，這允許轉(zhuǎn)臺底座140相對于靜止底座112圍繞軸線旋轉(zhuǎn)。在所圖示的實施例中，轉(zhuǎn)臺底座140包含形成八邊形框架的多個外框架構(gòu)件142。
[0046]馬達(dá)40經(jīng)由傳動裝置(未示出)使轉(zhuǎn)臺底座140旋轉(zhuǎn)。例如，傳動裝置可以由齒輪箱、鏈條和鏈輪組成。在本發(fā)明的一個實施例中，通過滑動環(huán)將動力傳輸至轉(zhuǎn)臺底座140。馬達(dá)40由與控制裝置30進(jìn)行通信的馬達(dá)驅(qū)動器36來控制。馬達(dá)驅(qū)動器36可采用變頻馬達(dá)驅(qū)動器的形式，其允許轉(zhuǎn)臺底座140以可變的速度旋轉(zhuǎn)?？刂蒲b置30將表示用于轉(zhuǎn)臺底座140的期望旋轉(zhuǎn)速度的信號傳輸至馬達(dá)驅(qū)動器。電源31將電力提供給馬達(dá)40和馬達(dá)驅(qū)動器36。
[0047]在所圖示的實施例中，轉(zhuǎn)臺底座140還支撐氪源48。因此，氪源48連同轉(zhuǎn)臺底座140 一起旋轉(zhuǎn)。氪源48可以位于電子秤38上，電子秤38將重量數(shù)據(jù)傳輸至控制裝置30。在所圖示的實施例中，氪源48采用氣罐的形式。應(yīng)當(dāng)體會到的是，氬源46和/或氪源48可以位于轉(zhuǎn)臺底座140上。
[0048]中心組件160安裝至轉(zhuǎn)臺底座140，并且由多個向上延伸的中心柱162和位于中心柱162的頂端處的上框架164組成。殼體168可以安裝至中心組件用于容納工藝填充控制裝置30。
[0049]多個保持架170也安裝至轉(zhuǎn)臺底座140。如所圖示的那樣，每一個保持架170均包含地面面板188、向上延伸的垂直框架構(gòu)件172、水平框架構(gòu)件174和連接臂178，連接臂178在水平框架構(gòu)件174與中心組件160的上框架164之間延伸。在所圖示的實施例中，多個殼體84安裝至連接臂178。每一個殼體84均容納上文所描述的氣體分配系統(tǒng)70。每一個保持架170還包含多個垂直桿182，垂直桿182在水平框架構(gòu)件174與外框架構(gòu)件142之間延伸。垂直桿182和垂直框架構(gòu)件172限定了尺寸定制為接收用于氣體填充操作的I⑶100的多個槽186。因此，槽186用作為用于I⑶100的保持位置。地面面板188給插入槽186中的IGU100提供支撐表面。每一個槽186均具有用于同時填充雙板IGU (—個板間空間)或三板IGU(兩個板間空間)的(多個)板間空間的兩個相關(guān)聯(lián)的填充管90a、90b。位置標(biāo)識符148可以與每一個槽186相關(guān)聯(lián)，以便唯一地標(biāo)識保持位置，即保持架170的特定槽186的位置。在所圖示的實施例中，位置標(biāo)識符148設(shè)置在外框架142上。
[0050]應(yīng)當(dāng)體會到的是，保持架170可采用不同于所示出的那些的替換形式。因此，所圖示的保持架170不被解釋為限制本發(fā)明。
[0051]纜線導(dǎo)管可以設(shè)置在包括支撐組件110的結(jié)構(gòu)部件的內(nèi)部，以便給在電氣與電子部件之間的互連纜線提供便利通路。
[0052]在圖3至圖5中所圖示的本發(fā)明的實施例中，支撐組件110配置二十四個(24)IGU100的最大生產(chǎn)力。然而，可以想到，支撐組件110的尺寸能被改型以提高或降低最大生產(chǎn)力。
[0053]參照圖2至圖6現(xiàn)在對根據(jù)本發(fā)明的實施例的氣體填充和密封工藝進(jìn)行描述。在組裝I⑶100之后，I⑶100被轉(zhuǎn)移至氣體填充和密封站20 (圖1)。可以想到，同一操作人員能夠?qū)GU100放置在支撐組件110上，并且將氣體填充管插入IGU100中，從而使氣體填充操作所需的操作人員數(shù)目減至最少。
[0054]在站20處，操作人員使用掃描器34來掃描與I⑶100相關(guān)聯(lián)的單元標(biāo)識碼108。操作人員選擇保持架170的槽186，并且掃描與所選的槽186相關(guān)聯(lián)的位置標(biāo)識符148。然后，操作人員將IGU100定位于所選擇的槽186中。因此，控制裝置30設(shè)置有標(biāo)示支撐組件110中I⑶100的特定保持位置的數(shù)據(jù)。
[0055]中央計算機(jī)10包含數(shù)據(jù)庫，數(shù)據(jù)庫可包含但不限于氣體填充數(shù)據(jù)中一個或多個以下項目:
a.用于每一個I⑶100的單元標(biāo)識符108；
b.每一個I⑶100的長度、寬度和(多個)板間空間厚度； C.每一個I⑶100的(多個)板間空間的體積；
d.用于每一個IGU100的每一個板間空間的氣體選擇和氣體填充順序(例如，僅填充氬氣、僅填充氪氣，或先填充氬氣后填充氪氣)；
e.用于填充每一個IGU100的(多個)板間空間的氬氣和/或氪氣的體積；
f.用于每一個IGU100的(多個)板間空間的氬氣和/或氪氣的期望濃度；
g.用于氬氣和/或氪氣的期望氣體流動速率；以及
h.用于每一個IGU100的(多個)板間空間的氬氣和/或氪氣的填充時間。
[0056]在所圖示的實施例中，中央計算機(jī)10向控制裝置30提供對于以期望的氬氣和/或氪氣量來填充每一個IGU100的(多個)板間空間來說必要的氣體填充數(shù)據(jù)。例如，控制裝置30將使用掃描器34從I⑶100掃描的單元標(biāo)識符108傳輸至控制計算機(jī)10。然后，中央計算機(jī)10向控制裝置30提供對應(yīng)于接收的單元標(biāo)識符108的用于IGU100的以下氣體填充數(shù)據(jù):用于IGU100的長度、寬度和(多個)板間空間厚度；用于IGU100的(多個)板間空間的氣體選擇和填充順序；以及用于每一種氣體的期望氣體流動速率。控制裝置30使用長度、寬度和(多個)板間空間厚度來確定IGU100的(多個)板間空間的體積，并且使用氣體流動速率和經(jīng)確定的體積來確定氣體填充時間。依照經(jīng)確定的氣體填充時間，控制裝置30使用計時器來確定何時完成氣體填充操作。
[0057]現(xiàn)在參看圖2、圖3和圖6將詳細(xì)地描述用于I⑶100的氣體填充工藝，I⑶100位于與單兀I的氣體分配系統(tǒng)70相關(guān)聯(lián)的槽186中(圖3)。如上文所描述的那樣,氣體分配系統(tǒng)70包含:子歧管72 ;閥76a (閥A)、76b (閥B);以及流動控制單元80a (流動控制器A)、80b (流動控制器B)。操作人員將填充管90a穿過孔103a插入(圖6)以使噴嘴92a定位于第一板間空間1la下端的鄰近處，如圖2中所示。同樣地，操作人員將填充管90b穿過孔105a插入(圖6)以使噴嘴92b定位于第二板間空間1lb下端的鄰近處，如圖2中所示。在所圖示的實施例中，孔103a、105a的直徑大于填充管90a、90b的直徑。因此，在板間空間1la和1lb內(nèi)側(cè)置換的空氣通過孔103a、105a逸散。應(yīng)當(dāng)理解的是，I⑶100的間隔件103和105可以具有附加的孔，用于接收用于從板間空間1la和1lb去除空氣的抽吸裝置(未示出)的抽吸管。
[0058]在填充管90a、90b被插入相應(yīng)的板間空間101a、1lb中之后,操作人員使用用戶界面32來指示控制裝置30開始?xì)怏w填充。在I⑶100已經(jīng)裝載到支撐組件110上并且氣體填充管90a、90b已被插入相應(yīng)的板間空間1laUOlb中之后，操作人員無需關(guān)注氣體填充。在這方面，由控制裝置30所接收的氣體填充數(shù)據(jù)標(biāo)示用于每一個IGU100的板間空間的期望氣體選擇和填充順序。每一個板間空間可以僅填充有氬，僅填充有氪，或填充有氬和氪的組合物。當(dāng)組合使用氬和氪時，板間空間首先填充有氬(“預(yù)填充”)，然后填充有氪(“后填充”)。在這點上，控制裝置30將信號傳輸至閥76a、76b，以將流動控制器80a、80b流體地連接至期望氣源46 (氬)和48 (氪)。在板間空間將填充有氬氣和氪氣兩者的情況下，控制裝置30在適當(dāng)?shù)臅r間將信號傳輸至閥76a、76b，以使閥76a、76b與氬源46的流體連接斷開，并且使閥76a、76b與氪源48流體地連接。
[0059]控制裝置30使用從中央計算機(jī)10接收到的單元標(biāo)識符108、位置標(biāo)識符148和氣體填充數(shù)據(jù)以使閥76a和76b運行來選擇氬氣或氪氣?？刂蒲b置30根據(jù)氣體填充數(shù)據(jù)，使用流動控制單元80a、80b的流動控制閥和流量計來調(diào)節(jié)氣體的流動。在這方面，控制裝置30將信號傳輸至流動控制單元80a、80b以實現(xiàn)期望的氣體流動速率(例如，I升/分鐘)。如上文標(biāo)示的那樣，控制裝置30可包含用于監(jiān)測氬氣或氪氣的填充時間的計時器。例如，控制裝置30可使用計時器和已知的氣體流動速率(升/分鐘)來確定何時將恰當(dāng)體積的氣體分送到I⑶100的板間空間中。
[0060]為了確定或檢驗板間空間1laUOlb內(nèi)的氣體的濃度，常規(guī)的氧傳感器(未示出)可用于監(jiān)測在氣體填充操作期間從IGU100的板間空間置換的空氣的氧濃度。在完成氣體填充操作之后，通過對板間空間內(nèi)的氣體進(jìn)行“采樣(sampling) ”還可以確定或檢驗IGU100的板間空間內(nèi)的(多種)氣體的濃度。在這方面，使用氣體濃度傳感裝置來對氣體進(jìn)行采樣，諸如熱導(dǎo)傳感器(未示出)、光學(xué)氣體傳感裝置或其它已知的氣體傳感器。通過周期性地向操作人員顯示指令可以由控制裝置30開始進(jìn)行采樣操作，以便采集特定標(biāo)識的I⑶100的氣體的樣本。
[0061]在所圖示的實施例中，板間空間1la和1lb同時填充有氣體。此外，可以想到，當(dāng)許多I⑶100裝載到支撐組件110上時，每一個I⑶100的相應(yīng)的板間空間全都可以同時填充有氣體。以此方式，許多IGUlOO的板間空間可同時填充有氬氣和/或氪氣，同時IGU100保持在槽186內(nèi)并且轉(zhuǎn)臺底座140在旋轉(zhuǎn)。
[0062]在本發(fā)明的一個實施例中，控制裝置30使馬達(dá)驅(qū)動器36運行以便使轉(zhuǎn)臺底座140連續(xù)地旋轉(zhuǎn)(例如，以大約一(I)轉(zhuǎn)每分鐘的旋轉(zhuǎn)速度)。將體會到的是，轉(zhuǎn)臺底座140的旋轉(zhuǎn)速度可以變化從而與期望的處理速度相匹配。在這點上，轉(zhuǎn)臺底座140的旋轉(zhuǎn)速度可選擇與I⑶制造線的速度相匹配。
[0063]在完成氣體填充操作之后，從板間空間移除氣體填充管，并且以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的方式關(guān)閉間隔件中的孔以氣密地密封板間空間。在氣體填充操作期間通過使轉(zhuǎn)臺底座140旋轉(zhuǎn)，IGU100位于操作人員的鄰近處，該操作人員在完成氣體填充操作時將氣體填充管從板間空間移除。該同一操作人員關(guān)閉間隔件中的孔以密封板間空間，從支撐組件110移除經(jīng)氣體填充的IGU，并且將經(jīng)氣體填充的IGU裝載到保持架(例如，常規(guī)的豎琴架(harp rack)等)上用于進(jìn)一步處理、儲存或裝運。
[0064]如上文所描述的那樣，在本發(fā)明的一個實施例中，氪源48的重量由電子秤38監(jiān)測。電子秤38將重量數(shù)據(jù)傳輸至控制裝置30。該重量數(shù)據(jù)能通過控制裝置30和/或中央計算機(jī)10來使用以便確定氪氣的實際用量、確定產(chǎn)量損失，并且用來監(jiān)測泄漏。在這方面，氪氣的經(jīng)測量的消耗量(consumpt1n) (W。)是通過計算以下之間的差來確定的:(I)在氪源38處的氪氣的初始重量(Wi)以及⑵在操作班次(operating shift)(例如，日常操作)結(jié)束時氪源38處的氪氣的重量(We)。經(jīng)測量的消耗量(W。)還可與理論消耗量數(shù)值相比較以估計系統(tǒng)效率或標(biāo)識系統(tǒng)故障?？刂蒲b置30可儲存用于若干操作班次的經(jīng)測量的消耗量(W。)以生成數(shù)據(jù)報告。
[0065]在操作班次期間通過將氪氣的經(jīng)測量的消耗量(W。)與制造的I⑶的數(shù)目進(jìn)行比較，可以確定實際的產(chǎn)量損失。此外，通過將第一時間周期(例如，第一操作班次)結(jié)束時氪源38處的氪氣的重量與第二時間周期(例如，隨后的第二操作班次)開始時氪源38處的氪氣的重量相比較來確定氣體泄漏。
[0066]還可以想到，控制裝置30可儲存表示插入特定I⑶中氣體的經(jīng)實際測量的量的數(shù)據(jù)。此類數(shù)據(jù)可用作統(tǒng)計過程控制(SPC)質(zhì)量項目(program)或用作驗證項目的一部分，以向客戶確保IGU窗戶滿足所宣傳的絕熱值。
[0067]在上文所描述的實施例中，在自動化過程中使用掃描器34將單元標(biāo)識符108和位置標(biāo)識符148輸入控制裝置30中。然而，還可以想到，在手動過程中可將單元標(biāo)識符108和位置標(biāo)識符148輸入控制裝置30中。在這方面，操作人員使用鍵盤或觸摸屏將單元和位置識別信息記錄到控制裝置30中。單元識別信息在印刷的進(jìn)度表上或在顯示于視頻監(jiān)測器上的進(jìn)度表上提供給操作人員。位置信息由印刷標(biāo)簽提供給操作人員。
[0068]還可以想到，本發(fā)明可替換地構(gòu)造成使得控制裝置30(和相關(guān)聯(lián)的部件)運行為獨立于中央計算機(jī)10 (例如，中央計算機(jī)10可省略)的“可獨立應(yīng)用的(stand alone) ”系統(tǒng)。在該實施例中，儲存在中央計算機(jī)10中的氣體填充數(shù)據(jù)可儲存在控制裝置30中。替換地，操作人員可在“手動”過程中將氣體填充數(shù)據(jù)直接輸入控制裝置30中。例如，對于每一個IGU100，操作人員可將長度、寬度和(多個)板間空間厚度，氣體選擇和填充順序，以及氣體流動速率直接輸入控制裝置30中。如上文所討論的，控制裝置30使用前述氣體填充數(shù)據(jù)來確定板間空間體積和氣體填充時間。操作人員可通過使用諸如觸摸屏、鍵盤、便攜式存儲裝置(例如，閃存驅(qū)動器)、條形碼掃描器等裝置來將氣體填充數(shù)據(jù)直接輸入控制裝置30中。
[0069]現(xiàn)在參看圖7，示出了本發(fā)明的替換實施例。與上文所描述的那些實施例相似的該替換實施例的部件已被賦予了相同的參考標(biāo)號。替換實施例包含一個或多個靜止的支撐組件210。支撐組件210總體上由底座212、多個垂直柱214、上框架216和總體上平坦的架子218組成。底座212可栓接至地面。安裝至上框架216的殼體84容納氣體分配系統(tǒng)70，如上文所描述的那樣。氣體分配系統(tǒng)70以與上文所描述的相同方式可操作地連接至控制裝置30。應(yīng)當(dāng)體會到的是，一個以上的殼體84可安裝至上框架216，以便能設(shè)置一個以上的氣體分配系統(tǒng)70。這允許大量的I⑶100同時填充有氣體。
[0070]氬源46和氪源48由架子218支撐。如結(jié)合本發(fā)明的第一實施例所描述的那樣，氪源48可位于向控制裝置30提供重量數(shù)據(jù)的電子秤38上。在所圖示的實施例中，氬源46和氪源48采用氣罐的形式。在氣體填充操作期間，保持架(諸如常規(guī)能移動的豎琴架230等)用于保持IGU100。豎琴架230包含用于使豎琴架230方便地移動至期望位置的多個輪232。豎琴架230還可包含與用作保持位置的槽196相關(guān)聯(lián)的位置標(biāo)識符148。在氣體填充操作期間，在支撐組件210的鄰近處移動豎琴架230。在完成氣體填充操作之后，從板間空間移除氣體填充管，并且關(guān)閉間隔件中的孔以氣密地密封板間空間。
[0071]應(yīng)當(dāng)體會到的是，在使用氬氣與氪氣的組合物的氣體填充操作期間，通過使用上文所描述的自動化控制器并且消除填充管的更換，能夠?qū)崿F(xiàn)期望的氪填充速率(使得與慣例的90%的氪和10%的空氣相匹配)，損耗了 0%至10%的氪。因此，本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)氣體和勞動力兩者成本的顯著降低。
[0072]當(dāng)其他人在他們閱讀和理解本說明書時，他們將會想到其它改型和變型。其旨在所有此類改型和變型都將被包涵只要它們落在本發(fā)明所要求的或其等同物的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.用于以至少兩種絕緣氣體來填充絕緣玻璃單元的至少一個板間空間的方法，所述方法包括: 從第一源提供第一絕緣氣體的供給； 從第二源提供第二絕緣氣體的供給； 獲得與所述絕緣玻璃單元的第一板間空間相關(guān)聯(lián)的氣體填充數(shù)據(jù)，所述氣體填充數(shù)據(jù)表不用以填充所述第一板間空間的第一和第二絕緣氣體的量； 根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)在第一填充操作中以所述第一絕緣氣體來填充所述第一板間空間；以及 根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)在第二填充操作中以所述第二絕緣氣體來填充所述第一板間空間，其中所述第二填充操作發(fā)生在所述第一填充操作完成之后。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述方法還包括: 經(jīng)由能插入至所述第一板間空間中的第一氣體填充管將所述第一和第二絕緣氣體供給至所述第一板間空間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述氣體填充數(shù)據(jù)包括表示所述第一板間空間的體積的數(shù)據(jù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第一絕緣氣體是氬氣并且所述第二絕緣氣體是氪氣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述氣體填充數(shù)據(jù)包括下述中的一個或多個: 單元標(biāo)識符，其標(biāo)識了所述絕緣玻璃單元； 所述絕緣玻璃單元的所述第一板間空間的長度、寬度和厚度； 所述第一板間空間的體積； 用于所述第一和第二絕緣氣體的氣體選擇； 用以填充所述第一板間空間的所述第一和第二絕緣氣體的體積； 用于在所述第一板間空間內(nèi)的所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的期望濃度；用于填充所述第一板間空間的所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的期望氣體流動速率；以及 用于填充所述第一板間空間的所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的填充次數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述方法還包括: 獲得與所述絕緣玻璃單元的第二板間空間相關(guān)聯(lián)的氣體填充數(shù)據(jù)，所述氣體填充數(shù)據(jù)表示用以填充所述第二板間空間的所述第一和第二絕緣氣體的量； 根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)在第三填充操作中以所述第一絕緣氣體來填充所述第二板間空間；以及 根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)在第四填充操作中以所述第二絕緣氣體來填充所述第二板間空間，其中所述第四填充操作發(fā)生在所述第三填充操作完成之后。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述第一板間空間填充有所述第一和第二絕緣氣體，同時以所述第一和第二絕緣氣體來填充所述第二板間空間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述第一和第二絕緣氣體經(jīng)由能插入至所述第一板間空間中的第一氣體填充管供給至所述第一板間空間，并且所述第一和第二絕緣氣體經(jīng)由能插入至所述第二板間空間中的第二氣體填充管供給至所述第二板間空間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二絕緣氣體從由下述構(gòu)成的組合中進(jìn)行選擇:氬、氪、氙和六氟化硫。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述方法還包括: 監(jiān)測流動至所述第一板間空間中的所述第一和第二絕緣氣體的體積，以便確定何時停止所述第一和第二絕緣氣體至所述第一板間空間的流動。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述方法還包括: 提供與所述絕緣玻璃單元相關(guān)聯(lián)的單元標(biāo)識符，所述單元標(biāo)識符用來獲得所述氣體填充數(shù)據(jù)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，多個絕緣玻璃單元的板間空間是同時填充有所述第一和第二絕緣氣體的，每一個絕緣玻璃單元均具有各自相關(guān)聯(lián)的氣體填充數(shù)據(jù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述方法還包括: 監(jiān)測用于供給所述第一絕緣氣體的所述第一源和用于供給所述第二絕緣氣體的所述第二源中的至少一個的重量，其中所述第一和第二源在重量上的變化表示由所述第一和第二源供給的第一和第二絕緣氣體的相應(yīng)量。
14.用于在單個氣體填充操作中以至少兩種絕緣氣體來填充絕緣玻璃單元的至少一個板間空間的方法，所述方法包括: 從第一源供給第一絕緣氣體； 從第二源供給第二絕緣氣體； 向控制單元提供氣體填充數(shù)據(jù)，用于確定所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的相應(yīng)量，以便填充所述絕緣玻璃單元的第一板間空間；以及 使用所述控制單元來控制所述第一和第二絕緣氣體以按順序的次序至所述第一板間空間中的流動，其中所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的流動均由所述控制單元控制以根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)提供所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的相應(yīng)量。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述第一和第二絕緣氣體分別是氬氣和氪氣。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述方法還包括: 向控制單元提供氣體填充數(shù)據(jù)，用于確定所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的相應(yīng)量，以便填充所述絕緣玻璃單元的第二板間空間；以及 使用所述控制單元來控制所述第一和第二絕緣氣體以按順序的次序至所述第二板間空間中的流動，其中所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的流動均由所述控制單元控制以根據(jù)所述氣體填充數(shù)據(jù)提供所述第一和第二絕緣氣體中的每一種的相應(yīng)量。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述控制單元同時以所述第一和第二絕緣氣體來填充所述第一和第二板間空間。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述控制單元監(jiān)測流動至所述第一板間空間中的所述第一和第二絕緣氣體的體積，以便確定何時停止所述第一和第二絕緣氣體的流動。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述方法還包括: 經(jīng)由第一氣體填充管將所述第一和第二絕緣氣體供給至所述第一板間空間。
20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述第一和第二絕緣氣體從由下述構(gòu)成的組合中進(jìn)行選擇:氬、氪、氙和六氟化硫。
【文檔編號】E06B3/677GK104165020SQ201410246045
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2011年6月15日 優(yōu)先權(quán)日:2010年6月28日
【發(fā)明者】M.P.麥克休 申請人:普萊克斯技術(shù)有限公司, 綜合自動化系統(tǒng)有限責(zé)任公司