瓷磚脫模劑清洗機的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種瓷磚脫模劑清洗機，包括基座、驅(qū)動機構(gòu)和清洗機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)設(shè)置于所述基座側(cè)面，所述清洗機構(gòu)設(shè)置于所述驅(qū)動機構(gòu)上，且能夠受所述驅(qū)動機構(gòu)控制。本實用新型提供的瓷磚脫模劑清洗機，通過設(shè)置清洗機構(gòu)和驅(qū)動機構(gòu)，能夠?qū)⒎胖迷诨系拇纱u上的脫模劑進行清洗，驅(qū)動機構(gòu)能夠在基座上沿基座的長度方向移動，能夠不用移動瓷磚，等清洗完后將瓷磚去下即可，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。
【專利說明】
瓷磚脫模劑清洗機
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實用新型涉及瓷磚設(shè)備領(lǐng)域，特別是一種瓷磚脫模劑清洗機。
【背景技術(shù)】
[0002]瓷磚是以耐火的金屬氧化物及半金屬氧化物，經(jīng)由研磨、混合、壓制、施釉、燒結(jié)之過程，而形成之一種耐酸堿的瓷質(zhì)或石質(zhì)等之建筑或裝飾之材料。在瓷磚生產(chǎn)過程中，脫模劑是一種經(jīng)常使用而且是必須的試劑，但是脫模劑會在瓷磚上產(chǎn)生殘留，因此，需要對瓷磚進行清洗，現(xiàn)有的清洗方法多以人工清洗為主，其清洗效率低，工人勞動強度大。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型為了解決上述技術(shù)問題而提供一種能夠清洗瓷磚上的脫模劑的瓷磚脫模劑清洗機。
[0004]—種瓷磚脫模劑清洗機，包括基座、驅(qū)動機構(gòu)和清洗機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)設(shè)置于所述基座側(cè)面，所述清洗機構(gòu)設(shè)置于所述驅(qū)動機構(gòu)上，且能夠受所述驅(qū)動機構(gòu)控制。
[0005]所述基座中部、所述驅(qū)動機構(gòu)下側(cè)設(shè)置有接水盤，所述接水盤的水平投影與所述基座的水平投影重合。
[0006]所述接水盤上設(shè)置有出水口，所述出水口上設(shè)置有過濾網(wǎng)。
[0007]所述過濾網(wǎng)為離子過濾網(wǎng)。
[0008]所述驅(qū)動機構(gòu)包括往復電機、齒條、滑道和軸承，所述齒條和所述滑道設(shè)置于所述基座上，所述往復電機能夠在所述齒條上沿所述基座的長度方向自由移動，所述軸承設(shè)置于所述滑道上，且所述驅(qū)動機構(gòu)通過所述軸承在所述滑道上自由滑動。
[0009]所述齒條和所述滑道上下對稱設(shè)置于所述基座上，所述往復電機設(shè)置于所述驅(qū)動機構(gòu)下部。
[0010]所述清洗機構(gòu)包括清洗電機、清洗刷和清洗液供給裝置，所述清洗電機設(shè)置于所述清洗機構(gòu)一端，所述清洗刷設(shè)置于所述清洗機構(gòu)下側(cè)，且所述清洗刷受所述清洗電機控制轉(zhuǎn)動，所述清洗液供給裝置設(shè)置于所述清洗刷上方。
[0011 ]所述清洗液供給裝置為送液軟管，所述送液軟管的一端沿所述清洗刷的長度方向設(shè)置，且所述送液軟管的下側(cè)設(shè)置有至少一個出液口。
[0012]所述清洗刷為圓滾刷，且所述清洗機構(gòu)設(shè)置于所述圓滾刷的軸線的一端。
[0013]本實用新型提供的瓷磚脫模劑清洗機，通過設(shè)置清洗機構(gòu)和驅(qū)動機構(gòu)，能夠?qū)⒎胖迷诨系拇纱u上的脫模劑進行清洗，驅(qū)動機構(gòu)能夠在基座上沿基座的長度方向移動，能夠不用移動瓷磚，等清洗完后將瓷磚去下即可，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型提供的瓷磚脫模劑清洗機的正視圖；
[0015]圖2為本實用新型提供的瓷磚脫模劑清洗機的側(cè)視圖；
[0016]圖中:1、基座;2、驅(qū)動機構(gòu);3、清洗機構(gòu);4、接水盤;21、往復電機;22、齒條;23、滑道;24、軸承;31、清洗電機;32、清洗刷;33、清洗液供給裝置;41、出水口。
【具體實施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型做進一步詳細說明:
[0018]如圖1所示的瓷磚脫模劑清洗機，包括基座1、驅(qū)動機構(gòu)2和清洗機構(gòu)3，所述驅(qū)動機構(gòu)2設(shè)置于所述基座I側(cè)面，所述清洗機構(gòu)3設(shè)置于所述驅(qū)動機構(gòu)2上，且能夠受所述驅(qū)動機構(gòu)2控制，將瓷磚放置在基座I上，開啟清洗機，驅(qū)動機構(gòu)2帶動清洗機構(gòu)3在基座I上移動，并對瓷磚上的脫模劑進行清洗。
[0019]所述基座I中部、所述驅(qū)動機構(gòu)2下側(cè)設(shè)置有接水盤4，所述接水盤4的水平投影與所述基座I的水平投影重合。
[0020]所述接水盤4上設(shè)置有出水口 41，所述出水口 41上設(shè)置有過濾網(wǎng)。
[0021]所述過濾網(wǎng)為離子過濾網(wǎng)，通過設(shè)置過濾網(wǎng)對清洗機構(gòu)3內(nèi)部的液體進行過濾，便于再次利用，利用離子過濾網(wǎng)能夠有效的過濾清洗下去的瓷磚上的脫模劑。
[0022]所述驅(qū)動機構(gòu)2包括往復電機21、齒條22、滑道23和軸承24，所述齒條22和所述滑道23設(shè)置于所述基座I上，所述往復電機21能夠在所述齒條22上沿所述基座I的長度方向自由移動，所述軸承24設(shè)置于所述滑道23上，且所述驅(qū)動機構(gòu)2通過所述軸承24在所述滑道23上自由滑動。
[0023]所述齒條22和所述滑道23上下對稱設(shè)置于所述基座I上，所述往復電機21設(shè)置于所述驅(qū)動機構(gòu)2下部。
[0024]所述清洗機構(gòu)3包括清洗電機31、清洗刷32和清洗液供給裝置33，所述清洗電機31設(shè)置于所述清洗機構(gòu)3—端，所述清洗刷32設(shè)置于所述清洗機構(gòu)3下側(cè)，且所述清洗刷32受所述清洗電機31控制轉(zhuǎn)動，所述清洗液供給裝置33設(shè)置于所述清洗刷32上方。
[0025]所述清洗液供給裝置33為送液軟管，所述送液軟管的一端沿所述清洗刷32的長度方向設(shè)置，且所述送液軟管的下側(cè)設(shè)置有至少一個出液口，送液軟管的另一端連接有清洗液的存儲器或接水盤4的出水口 41、過濾網(wǎng)后側(cè)。
[0026]所述清洗刷32為圓滾刷，且所述清洗機構(gòu)3設(shè)置于所述圓滾刷的軸線的一端。
[0027]所述清洗刷32為鋼絲刷。
[0028]所述基座I的長度和寬度均為待清洗的瓷磚的整數(shù)倍。
[0029]本實用新型提供的瓷磚脫模劑清洗機，通過設(shè)置清洗機構(gòu)3和驅(qū)動機構(gòu)2，能夠?qū)⒎胖迷诨鵌上的瓷磚上的脫模劑進行清洗，驅(qū)動機構(gòu)2能夠在基座I上沿基座I的長度方向移動，能夠不用移動瓷磚，等清洗完后將瓷磚去下即可，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。
[0030]以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡是依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何細微修改、等同替換和改進，均應(yīng)包含在本實用新型技術(shù)方案的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種瓷磚脫模劑清洗機，其特征在于:包括基座、驅(qū)動機構(gòu)和清洗機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)設(shè)置于所述基座側(cè)面，所述清洗機構(gòu)設(shè)置于所述驅(qū)動機構(gòu)上，且能夠受所述驅(qū)動機構(gòu)控制，所述驅(qū)動機構(gòu)包括往復電機、齒條、滑道和軸承，所述齒條和所述滑道設(shè)置于所述基座上，所述往復電機能夠在所述齒條上沿所述基座的長度方向自由移動，所述軸承設(shè)置于所述滑道上，且所述驅(qū)動機構(gòu)通過所述軸承在所述滑道上自由滑動，所述清洗機構(gòu)包括清洗電機、清洗刷和清洗液供給裝置，所述清洗電機設(shè)置于所述清洗機構(gòu)一端，所述清洗刷與設(shè)置于所述清洗機構(gòu)下側(cè)，且所述清洗刷受所述清洗電機控制轉(zhuǎn)動，所述清洗液供給裝置設(shè)置于所述清洗刷上方。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚脫模劑清洗機，其特征在于:所述基座中部、所述驅(qū)動機構(gòu)下側(cè)設(shè)置有接水盤，所述接水盤的水平投影與所述基座的水平投影重合。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的瓷磚脫模劑清洗機，其特征在于:所述接水盤上設(shè)置有出水口，所述出水口上設(shè)置有過濾網(wǎng)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的瓷磚脫模劑清洗機，其特征在于:所述過濾網(wǎng)為離子過濾網(wǎng)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚脫模劑清洗機，其特征在于:所述齒條和所述滑道上下對稱設(shè)置于所述基座上，所述往復電機設(shè)置于所述驅(qū)動機構(gòu)下部。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瓷磚脫模劑清洗機，其特征在于:所述清洗液供給裝置為送液軟管，所述送液軟管的一端沿所述清洗刷的長度方向設(shè)置，且所述送液軟管的下側(cè)設(shè)置有至少一個出液口。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的瓷磚脫模劑清洗機，其特征在于:所述清洗刷為圓滾刷，且所述清洗機構(gòu)設(shè)置于所述圓滾刷的軸線的一端。
【文檔編號】B28B11/22GK205630950SQ201620077533
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年1月25日
【發(fā)明人】丁向黨, 丁航
【申請人】丁向黨