本發(fā)明屬于硅片線切割技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種硅片線切割的切割頭。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)的硅片線切割設(shè)備的切割頭，軸承箱的中心距比較寬，中心距寬，導(dǎo)輪的轉(zhuǎn)動(dòng)速度慢，切割效率低，切割的過(guò)程容易斷線，硅片容易碎裂，更嚴(yán)重會(huì)導(dǎo)致整個(gè)硅棒斷裂。原有的砂漿噴嘴是直接噴在硅片或線網(wǎng)上，砂漿對(duì)硅片撞擊力度較大，容易造成硅片破裂，線網(wǎng)上也不能均勻地分布砂漿；另外傳統(tǒng)的砂漿噴嘴使用數(shù)量多，安裝繁瑣。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決現(xiàn)有技術(shù)和實(shí)際情況中存在的上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種硅片線切割的切割頭，包括切割頭底座、位于切割頭底座兩端的切割頭立柱、砂漿噴嘴、碎片盒，所述切割頭立柱上設(shè)有兩個(gè)用于安裝切割頭軸承箱的軸承的切割頭安裝孔；所述砂漿噴嘴位于所述切割頭立柱中間，兩側(cè)各一個(gè)，相對(duì)設(shè)置；兩個(gè)所述砂漿噴嘴之間位于砂漿噴嘴下面設(shè)有碎片盒。

優(yōu)選地，所述砂漿噴嘴包括蓄水槽，所述蓄水槽上設(shè)有進(jìn)水口，所述蓄水槽兩側(cè)設(shè)有支撐架，所述蓄水槽側(cè)面設(shè)有出水孔，所述出水孔下面設(shè)有傾斜的導(dǎo)流板。

優(yōu)選地，所述碎片盒，包括盒體，所述盒體設(shè)有開(kāi)口，所述盒體的兩端面下部設(shè)有碎片盒出水口。

所述切割頭底座用于與機(jī)臺(tái)安裝。

在切割導(dǎo)輪的兩側(cè)設(shè)置砂漿噴嘴，砂漿在盒子里面裝滿(mǎn)后，勻速流出，對(duì)硅片沖擊力不大，位于兩側(cè)砂漿也可以在線網(wǎng)上均勻分布。

碎片盒上方有切割線組和硅棒，在切割的過(guò)程中，有部分硅片會(huì)掉落，硅片會(huì)掉落在碎片盒里面，有部分可以進(jìn)行回收利用；碎片盒位于線網(wǎng)下部，有效保護(hù)碎片，便于收集。

本發(fā)明硅片線切割設(shè)備的切割頭，安裝孔的中心距縮小了，線網(wǎng)縮小了，更穩(wěn)定不容易斷線，切割質(zhì)量更高，提高生產(chǎn)效率和硅片的合格率。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例的一種硅片線切割的切割頭的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示，一種硅片線切割的切割頭，包括切割頭底座4、位于切割頭底座4兩端的切割頭立柱5、砂漿噴嘴1、碎片盒7，所述切割頭立柱5上設(shè)有兩個(gè)用于安裝切割頭軸承箱的軸承的切割頭安裝孔2；所述砂漿噴嘴1位于所述切割頭立柱5中間，兩側(cè)各一個(gè)，相對(duì)設(shè)置；兩個(gè)所述砂漿噴嘴1之間位于砂漿噴嘴1下面設(shè)有碎片盒7。

所述砂漿噴嘴1包括蓄水槽10，所述蓄水槽10上設(shè)有進(jìn)水口11，所述蓄水槽10兩側(cè)設(shè)有支撐架12，所述蓄水槽側(cè)面設(shè)有出水孔，所述出水孔下面設(shè)有傾斜的導(dǎo)流板9。

所述碎片盒7，包括盒體，所述盒體上面設(shè)有開(kāi)口，所述盒體的兩端面下部設(shè)有碎片盒出水口6。

最后應(yīng)說(shuō)明的是：以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。