真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，包括：一真空室，內(nèi)具有輸送器并設(shè)輸送器速度控制器，將玻璃放置于輸送器上，于玻璃上端的金屬靶材可于電流控制器作用下將金屬鍍于玻璃表面上；一玻璃，置放于輸送器上；一輸送器，上放置玻璃，可由輸送速度控制器控制玻璃的輸送速度；一輸送速度控制器，可控制輸送器輸送玻璃的速度；一金屬靶材，在電流控制器輸出的電流作用下其金屬可借真空磁控濺射原理鍍于玻璃表面；一電流控制器，可依設(shè)定輸出特定電流。本實(shí)用新型金屬膜層的厚度可由電流控制器調(diào)整電流大小及輸送速度控制器控制速度來(lái)設(shè)定膜層的厚度借此即可于玻璃表面形成所設(shè)定不同膜厚的圖案。
【專(zhuān)利說(shuō)明】真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，主要包含真空室、玻 璃、輸送器、輸送速度控制器、金屬靶材及電流控制器，本實(shí)用新型是真空室中具有輸送器 并設(shè)輸送器速度控制器，將玻璃放置于輸送器上，于玻璃上端的金屬祀材可于電流控制器 作用下將金屬鍍于玻璃表面上，其金屬膜層的厚度可由電流控制器調(diào)整電流大小及輸送速 度控制器控制速度來(lái)設(shè)定膜層的厚度借此即可于玻璃表面形成所設(shè)定不同膜厚的圖案。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前的磁控濺射鍍膜在于金屬鍍膜厚度并無(wú)可程式化的厚度形成方法，即借由電 流強(qiáng)度及玻璃輸送速度來(lái)控制金屬鍍膜的厚度及圖案的形成。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 本實(shí)用新型所要解決的主要技術(shù)問(wèn)題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，而提 供一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，主要包含真空室、玻璃、輸送器、輸送速度控 制器、金屬靶材及電流控制器，本實(shí)用新型是真空室中具有輸送器并設(shè)輸送器速度控制器， 將玻璃放置于輸送器上，于玻璃上端的金屬祀材可于電流控制器作用下將金屬鍍于玻璃表 面上，其金屬膜層的厚度可由電流控制器調(diào)整電流大小及輸送速度控制器控制速度來(lái)設(shè)定 膜層的厚度借此即可于玻璃表面形成所設(shè)定不同膜厚的圖案。
[0004] 本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：
[0005] -種真空磁控溉射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，包括：一真空室，內(nèi)具有輸送器并設(shè)輸 送器速度控制器，將玻璃放置于輸送器上，于玻璃上端的金屬祀材可于電流控制器作用下 將金屬鍍于玻璃表面上，金屬膜層的厚度可由電流控制器調(diào)整電流大小及輸送速度控制器 控制速度來(lái)設(shè)定金屬膜層的厚度；一玻璃，置放于輸送器上；一輸送器，上放置玻璃，可由 輸送速度控制器控制玻璃的輸送速度；一輸送速度控制器，可控制輸送器輸送玻璃的速度； 一金屬靶材，在電流控制器輸出的電流作用下其金屬可借真空磁控濺射原理鍍于玻璃表 面；一電流控制器，可依設(shè)定輸出特定電流。
[0006] 前述的真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，其中輸送速度控制器可為連接電腦 進(jìn)行程式化控制。
[0007] 前述的真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，其中電流控制器可為連接電腦進(jìn)行 程式化控制。
[0008] 本實(shí)用新型的有益效果是，主要包含真空室、玻璃、輸送器、輸送速度控制器、金屬 靶材及電流控制器，本實(shí)用新型是真空室中具有輸送器并設(shè)輸送器速度控制器，將玻璃放 置于輸送器上，于玻璃上端的金屬祀材可于電流控制器作用下將金屬鍍于玻璃表面上，其 金屬膜層的厚度可由電流控制器調(diào)整電流大小及輸送速度控制器控制速度來(lái)設(shè)定膜層的 厚度借此即可于玻璃表面形成所設(shè)定不同膜厚的圖案。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0009] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。
[0010] 圖1是真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)的立體圖。
[0011] 圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明：
[0012] 1真空室
[0013] 2 玻璃
[0014] 3輸送器
[0015] 4輸送速度控制器
[0016] 5金屬革巴材
[0017] 6電流控制器
[0018] 7金屬膜層

【具體實(shí)施方式】
[0019] 請(qǐng)參閱圖1 一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，主要包含真空室1、玻璃2、 輸送器3、輸送速度控制器4、金屬祀材5及電流控制器6,本實(shí)用新型是真空室1中具有輸 送器3及輸送速度控制器4,將玻璃2放置于輸送器3上，于玻璃2上端的金屬祀材5可于 電流控制器6作用下將金屬鍍于玻璃2表面上，其金屬膜層7的厚度可由電流控制器6調(diào) 整電流大小及輸送速度控制器4控制速度來(lái)設(shè)定金屬膜層7的厚度借此即可于玻璃2表面 形成所設(shè)定不同膜厚的圖案。
[0020] 以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上 的限制，凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與 修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
[0021] 綜上所述，本實(shí)用新型在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、使用實(shí)用性及成本效益上，完全符合產(chǎn)業(yè)發(fā)展 所需，且所揭示的結(jié)構(gòu)亦是具有前所未有的創(chuàng)新構(gòu)造，具有新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性，符合有 關(guān)新型專(zhuān)利要件的規(guī)定，故依法提起申請(qǐng)。
【權(quán)利要求】
1. 一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制系統(tǒng)，其特征在于，包括： 一真空室，內(nèi)具有輸送器并設(shè)輸送器速度控制器，將玻璃放置于輸送器上，于玻璃上端 的金屬靶材可于電流控制器作用下將金屬鍍于玻璃表面上，金屬膜層的厚度可由電流控制 器調(diào)整電流大小及輸送速度控制器控制速度來(lái)設(shè)定金屬膜層的厚度； 一玻璃，置放于輸送器上； 一輸送器，上放置玻璃，可由輸送速度控制器控制玻璃的輸送速度； 一輸送速度控制器，可控制輸送器輸送玻璃的速度； 一金屬靶材，在電流控制器輸出的電流作用下其金屬可借真空磁控濺射原理鍍于玻璃 表面； 一電流控制器，可依設(shè)定輸出特定電流。
【文檔編號(hào)】C03C17/09GK203878060SQ201320844544
【公開(kāi)日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2013年12月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月19日
【發(fā)明者】林孟君 申請(qǐng)人:華泰(桐鄉(xiāng))玻璃明鏡有限公司