專利名稱：超硬可鋼化低輻射玻璃及其制造工藝的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種玻璃以及該玻璃的制造工藝，特別涉及一種超硬可鋼化低輻射玻璃以及該玻璃的制造工藝。
現(xiàn)有技術低輻射鍍膜玻璃是指在玻璃表面沉積一層高紅外線反射材料(Ag)，使玻璃吸收太陽光光譜中的紅外線和其它物體發(fā)出的紅外線非常少，稱為低輻射鍍膜玻璃。該玻璃用于門窗及幕墻上，可有效阻擋室內(nèi)物體發(fā)出的紅外線被玻璃吸收，散發(fā)到室外，提高室內(nèi)溫度，節(jié)約取暖費用。現(xiàn)在市場上已經(jīng)有很多種低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品，這些玻璃一般的結構是在玻璃基片表面上從底層向上依次鍍有Sr^2膜層、Ag膜層、NiCr膜層，在MCr膜層表面鍍有一層SnA膜層，在SnA膜層表面鍍有一層Si3N4膜層，從而構成五層膜結構的低輻射鍍膜玻璃。但是這種玻璃具有以下這些缺陷普通LOW-E玻璃具有以下缺點1、不可以在任何種類的鋼化爐中鋼化；2、在大氣條件下極易氧化，即使在經(jīng)過包裝的條件下，稍有不慎， 如讓空氣進入包裝里，就會導致玻璃膜面氧化。3、在工人作業(yè)時須佩戴手套、口罩等防護用品。稍有不慎，就會導致玻璃膜面氧化。4、在運輸過程中，其必須密封包裝，程序繁瑣。5、 不可與普通在線玻璃工藝一樣進行生產(chǎn)，必須合成中空使用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種九層膜結構的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，使其具有膜層可以經(jīng)受鋼化爐高溫的考驗，仍然保持低輻射性能不變的特性。本發(fā)明的目的可采用如下技術方案來實現(xiàn)在玻璃基片上從底層向上依次鍍有第一 Si3N4 膜層、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜層、細膜層、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜層、Sr^2 膜層、TW2 膜層、第二 Si3N4膜層、ZnO2膜層、第三Si3N4膜層，從而構成九層膜結構的超硬可鋼化低輻射鍍膜玻璃。在制造上述玻璃時，可以采取以下工藝。所述的低輻射鍍膜玻璃是在鍍膜室抽真空至1. 1 X 10_4pa以下，充入工藝氣體( 或N2或Ar)，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0. 3pa左右，將濺射源送電，靶材開始濺射，送入玻璃將靶材原子或其化合物沉積到玻璃表面。第一個鍍膜室充入N2,靶材為Si靶，將Si3N4膜沉積到玻璃表面，形成第一 Si3N4 膜，厚度10至40納米；第二個鍍膜室充入Ar，靶材為Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在第一 Si3N4膜上面沉積第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5至10納米；第三個鍍膜室充入Ar，靶材為Ag靶，在第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上沉積Ag膜，厚度 5至10納米；第四個鍍膜室充入Ar，靶材為Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在Ag膜上沉積第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5至10納米；
第五個鍍膜室充入02，靶材為Sn靶，將SnA膜沉積到第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上， 厚度10至40納米；第六個鍍膜室充入02，靶材為Ti靶，在SnA膜上沉積TW2膜，厚度！0至15納米；第七個鍍膜室充入隊，靶材為Si靶，在TW2膜上沉積形成第二 Si3N4膜，厚度10至 15納米；第八個鍍膜室充入02，靶材為ai靶，在第二 Si3N4膜上沉積^1 膜，厚度10至15 納米；第九個鍍膜室充入隊，靶材為Si靶，在^1 膜上沉積形成第三Si3N4膜，厚度15至 50納米。上述膜層分別具有各自的作用，其中第一、七、九層膜采用Si3N4膜，可以提高膜層與玻璃的結合力，提高膜層的耐磨耐腐蝕性能；第二、四層膜采用Co-Ni-Cr-Al-Y膜，這是最為重要的膜層，它不但具有比MCr更加優(yōu)異的耐高溫抗氧化性能，還具有結合強度大， 耐腐蝕和氣蝕，涂層致密，能耐1038攝氏度高溫，抗氧化性能優(yōu)良，可以保證^Vg膜層在鋼化爐內(nèi)不被氧化或其他物質(zhì)反應，避免在鋼化過程中被高溫燒壞膜層，喪失其特有的低輻射性能；此外第三層采用Ag膜層，可以使鍍膜玻璃具有非常低的輻射率；具有這種結構的超硬可鋼化低輻射玻璃具有以下優(yōu)點1、該玻璃鍍膜後可以在輻射鋼化爐中直接進行鋼化；2、該玻璃在大氣條件下，最長可保持3個月內(nèi)不發(fā)生任何氧化； 如在外包裝完好的前提下，最長抗氧化時間可達一年；3、該玻璃在鋼化后，其反光及AB值幾乎不會發(fā)生變化；4、該玻璃可和普通鍍膜玻璃一樣操作，且運輸起來也更加方便，避免了傳統(tǒng)操作程序中玻璃氧化所造成的浪費問題；5、該玻璃可與普通在線玻璃工藝一樣進行生產(chǎn)。


圖1為本發(fā)明所述銀藍玻璃的結構示意圖。其中1、玻璃基片，2、第一 Si3N4膜層， 3、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜層，4、Ag 膜層，5、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜層，6、SnO2 膜層，7、TiO2 膜層，8、第二 Si3N4膜層，9、ZnO2膜層，10、第三Si3N4膜層。
具體實施例方式結合附圖對本發(fā)明所述的銀藍玻璃進行進一步說明。本發(fā)明的目的可采用如下技術方案來實現(xiàn)在玻璃基片1上從底層向上依次鍍有第一 Si3N4膜層2、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜層3、Ag膜層4、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜層5、SnO2膜層6、TiO2膜層7、第二 Si3N4膜層8、 ZnO2膜層9、第三Si3N4膜層10，從而構成九層膜結構的超硬可鋼化低輻射鍍膜玻璃。在制造上述玻璃時，可以采取以下工藝。所述的低輻射鍍膜玻璃是在鍍膜室抽真空至1. 1 X 10_4pa以下，充入工藝氣體( 或N2或Ar)，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0. 3pa左右，將濺射源送電，靶材開始濺射，送入玻璃將靶材原子或其化合物沉積到玻璃表面。第一個鍍膜室充入N2,靶材為Si靶，將Si3N4膜沉積到玻璃表面，形成第一 Si3N4 膜，厚度25納米左右；第二個鍍膜室充入Ar，靶材為Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在Si3N4膜上面沉積第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5納米左右；第三個鍍膜室充入Ar，靶材為Ag靶， 在第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上沉積Ag膜，厚度5納米左右；第四個鍍膜室充入Ar，靶材為Co-Ni-Cr-Al-Y靶，在Ag膜上沉積第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度5納米左右；第五個鍍膜室充入02，靶材為Sn靶，將SnA膜沉積到第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上，厚度25納米左右；第六個鍍膜室充入02，靶材為Ti靶，在SnA膜上面沉積TW2膜，厚度5納米左右；第七個鍍膜室充入N2,靶材為Si靴，在T^2膜上沉積形成第二 Si3N4膜，厚度5納米左右；第八個鍍膜室充入02，靶材為Si靶，在第二 Si3N4膜上沉積^1 膜，厚度5納米左右；第九個鍍膜室充入 N2,靶材為Si靶，在^1 膜上沉積形成第三Si3N4膜，厚度30納米左右。
權利要求
1.一種玻璃，其特征在于在玻璃基片上從底層向上依次鍍有第一 Si3N4膜層、第一 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜層、Ag 膜層、第二 Co-Ni-Cr-Al-Y 膜層、Sr^2 膜層、TW2 膜層、第二 Si3N4 膜層、ZnA膜層、第三Si3N4膜層。
2.權利要求1中所述的玻璃，其中所述第一Si3N4膜層厚度為10至40納米，所述第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜層厚度為5至10納米，所述Ag膜層厚度為5至10納米，所述第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜層厚度為5至10納米，所述SnO2膜層厚度為10至40納米，所述TW2膜層厚度為10至15納米，所述第二 Si3N4膜層厚度為10至15納米，所述SiO2膜層厚度為10 至15納米，所述第三Si3N4膜層厚度為15至50納米。
3.—種制造玻璃的方法，其特征在于將鍍膜室抽真空至1. IXlO-V以下，充入工藝氣體，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0. 3pa左右， 將濺射源送電，靶材開始濺射，送入玻璃基片，將靶材原子或其它化合物沉積到玻璃表面；第一個鍍膜室充入隊，靶材為Si靶，將Si3N4膜沉積到玻璃表面，形成第一 Si3N4膜，厚度10至40納米；第二個鍍膜室充入Ar，靶材為Co-Ni-Cr-Al-Y膜層靶，在第一 Si3N4膜上面沉積第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度1至10納米；第三個鍍膜室充入Ar，靶材為Ag靶，在第一 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上沉積Ag膜，厚度1至 10納米；第四個鍍膜室充入Ar，靶材為Co-Ni-Cr-Al-Y膜層，在Ag膜上沉積第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜，厚度1至10納米；第五個鍍膜室充入02，靶材為Sn靶，將SnO2膜沉積到第二 Co-Ni-Cr-Al-Y膜上，厚度 10至40納米；第六個鍍膜室充入02，靶材為Ti靶，在SnA膜上面沉積TiA膜，厚度1至10納米； 第七個鍍膜室充入隊，靶材為Si靶，在TiA膜上沉積第二 Si3N4膜，厚度1至10納米； 第八個鍍膜室充入02，靶材為Si靴，在第二 Si3N4膜上沉積^1 膜，厚度1至10納米； 第九個鍍膜室充入N2，靶材為Si靶，在&102膜上沉積第三Si3N4膜，厚度15至50納米。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種九層膜結構的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，使其具有膜層可以經(jīng)受鋼化爐高溫的考驗，仍然保持低輻射性能不變的特性。本發(fā)明的目的可采用如下技術方案來實現(xiàn)在玻璃基片上從底層向上依次鍍有第一Si3N4膜層、第一Co-Ni-Cr-Al-Y膜層、Ag膜層、第二Co-Ni-Cr-Al-Y膜層、SnO2膜層、TiO2膜層、第二Si3N4膜層、ZnO2膜層、第三Si3N4膜層，從而構成九層膜結構的超硬可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
文檔編號C03C17/36GK102173601SQ20111002188
公開日2011年9月7日 申請日期2011年1月20日 優(yōu)先權日2011年1月20日
發(fā)明者王進東 申請人:南京宇天玻璃有限公司