專利名稱：：具有陽光性能的涂層組成的制作方法具有陽光性能的涂層組成發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及能施用于基板以提供涂覆基板的涂層組成，所述涂覆的基板從基板的至少一側(cè)表現(xiàn)出低的可見光透射和低的可見光反射。發(fā)明背景定義為具有低的可見光透射(即小于或等于50%)的調(diào)光玻璃(privacyglass)能用于各種應(yīng)用中，例如汽車應(yīng)用和建筑應(yīng)用。通常地，對于可在建筑物中引入調(diào)光玻璃的位置沒有限制。在一些汽車應(yīng)用中，由于美國和一些其他國家的規(guī)定，調(diào)光玻璃僅能用于后窗和后面的邊窗。典型的，用于調(diào)光玻璃的、涂覆的的或未涂覆的基板在電磁譜可見光范圍內(nèi)是高吸收或高反射的。例如，調(diào)光玻璃能夠包括未涂覆的、在可見光區(qū)域內(nèi)具有好的吸收性能的著色玻璃基板?？商鎿Q的，調(diào)光玻璃能夠包括涂覆的、在可見光區(qū)域內(nèi)具有好的反射性能的透明玻璃基板。在另一個可替換的實施方案中，調(diào)光玻璃能夠包括由例如著色基板和透明、涂覆的基板形成的疊層制品。本發(fā)明提供一種能用于使玻璃基板轉(zhuǎn)變成調(diào)光玻璃的新型涂層。本發(fā)明的涂覆的基板具有降低可見光反射，這滿足了美學(xué)要求；同時在基板的至少一側(cè)上在紅外區(qū)域提供陽光反射，這減少了熱負(fù)荷。發(fā)明概述在非限制性的實施方案中，本發(fā)明提供涂層組成，其包括紅外反射層；在紅外反射層上的底涂層；在底涂層上的介電層；和吸收層，其中吸收層可在紅外反射層下或在介電層上。在另一非限制性的實施方案中，本發(fā)明是一種涂覆的基板，包括基板；在基板上的紅外反射層；在紅外反射層上的底涂層；在底涂層上的介電層；和吸收層，其中吸收層可在紅外反射層下或在介電層上。在另一非限制性的實施方案中，本發(fā)明是一種用于形成涂層的方法，包括沉積紅外反射層；在紅外反射層上沉積底涂層；在底涂層上沉積介電層；和沉積吸收層，其中可在紅外反射層下或在介電層上沉積吸收層，且其中當(dāng)在0.16英寸厚的透明玻璃基板上沉積涂層時，從基板至少一側(cè)，基板具有小于或等于50%的Lta和等于或小于52的L*。發(fā)明描述用于說明書和權(quán)利要求中的、所有用于表示尺寸、物理特征、組分質(zhì)量、反應(yīng)條件等的數(shù)字應(yīng)理解為在所有情況下均通過術(shù)語"約"進(jìn)行修飾。因此，除非相反的說明，在下面的說明書和權(quán)利要求中提出的數(shù)值可根據(jù)通過本發(fā)明試圖獲得的所需性能而變化。至少且不限制將等同原則應(yīng)用于權(quán)利要求的范圍，至少應(yīng)考慮報道的主要數(shù)位的數(shù)字和通過應(yīng)用普通舍入技術(shù)對每個數(shù)字參數(shù)進(jìn)行解釋。此外，這里公開的所有范圍應(yīng)理解為包括任何和所有包括在其中的子區(qū)域。例如，所述"1-10"范圍應(yīng)視為包括任何和所有在最小值1和最大值10(包括端值)之間的子區(qū)域；即從最小值1或大于1開始到最大值10或小于10結(jié)束的所有的子區(qū)域，例如1.0到7.8,3.0到4.5，6.3到10.0。如這里使用的，術(shù)語"在…上"，"在____L施用"，"在…上形成"，"在____L沉積，，，"在...上覆蓋"和"在____h提供"意味著在表面上但不是必須與表面接觸進(jìn)行形成、覆蓋、沉積或者提供。例如，在基板"上形成的"涂層不排除在形成的涂層和基板之間存在一層或多層其它相同或不同組成涂層的情況。例如，基板可包括如本領(lǐng)域技術(shù)人員所知的用于涂覆基板諸如玻璃或陶資的常規(guī)涂層。在非限制性的實施方案中，本發(fā)明提供涂層組成，包括一層或多層紅外反射層、一層或多層底涂層、一層或多層介電層，和一層或多層能在電磁語可見光區(qū)域內(nèi)吸收至少部分能量的吸收層。根據(jù)本發(fā)明，一層或多層紅外反射層可包括本領(lǐng)域眾所公知的金、銅、4艮及其混合物。根據(jù)本發(fā)明，可以釆用任何本領(lǐng)域中眾所周知的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)如化學(xué)氣相沉積("CVD，，)、噴霧熱解、磁控'減射氣相沉積("MSVD，，)來沉積一層或多層紅外反射層。如果涂層由多于一層的不連續(xù)膜構(gòu)成，可使用所述沉積技術(shù)沉積構(gòu)成整個涂層的一些或所有的膜。在下面文獻(xiàn)中描述了合適的CVD沉積方法，在這里通過引用引入美國專利4，853，257、4，971，843、5，536，718、5，464,657、5，599，387和5，948，131。在下面文獻(xiàn)中描述了合適的噴霧熱解沉積方法，在這里通過引用引入美國專利4，719，126、4,719,127、4，111，150和3，660，061。在下面文獻(xiàn)中描述了合適的MSVD沉積方法，在這里通過引用引入美國專利4，379，040、4,861，669和4，900，633。該(一層或多層)紅外反射層可具有任何厚度。在非限制性的實施方案中，每層紅外反射層的厚度可在50A-200A，例如70A-160A或90A-130A的范圍。根據(jù)本發(fā)明，在該(一層或多層)紅外反射層上可以是一層或多層底涂層。底涂層用作犧牲層保護(hù)紅外反射層不處于氧化條件。作為犧牲層，底涂層氧化而不是紅外反射層氧化。在本發(fā)明非限制性的實施方案中，底涂層包括選自鈦、鋯及其混合物中的材料?？墒褂蒙鲜鲇懻摰年P(guān)于紅外反射層的任何一種標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)沉積(一層或多層)底涂層。該(一層或多層)底涂層可具有任何厚度。在非限制性的實施方案中，每層底涂層的厚度可在lA-60A，例如10A-3SA或uA-uA的范圍。根據(jù)本發(fā)明，在該(一層或多層)底涂層上可以是一層或多層介電層。介電層可由單層膜或多層膜制得。用于介電層的合適材料包括但不限于金屬氧化物、金屬合金的氧化物、氮化物、氧氮化物或其混合物。合適的金屬氧化物實例包括但不限于鈦、鉿、鋯、鈮、鋅、鉍、鉛、銦、錫的氧化物及其混合物。此外，介電層可包括金屬合金或金屬混合物的氧化物，例如但不限于含鋅和錫的氧化物、錮-錫合金氧化物、硅的氮化物、硅鋁的氮化物，氧氮化物或鋁的氮化物。在本發(fā)明非限制性的實施方案中，介電層包括含有鋅/錫合金氧化物的金屬合金氧化物膜。鋅/錫合金可包括鋅和錫，其比例為10重量%-90重量％鋅和90重量％-10重量％錫。在本發(fā)明非限制性的實施方案中，介電層包括錫酸鋅。術(shù)語"錫酸鋅"指的是ZnH(式l)的組成,其中x大于0但小于1。例如，如果x=2/3,形成的錫酸鋅將表示為Zn2/3Sn1/304/3，通常表示為"Zn2Sn(V，。含有錫酸鋅的涂層具有占主要量的一層或多層根據(jù)式1的膜，即在涂層中錫酸鋅的存在量多于任何其它材料。在本發(fā)明非限制性的實施方案中，介電層由例如銻、鎳、硼、錳、銦等摻雜的材料構(gòu)成。例如，介電層可包括銻或銦摻雜的氧化錫、鎳或硼摻雜的氧化硅、錫摻雜的氧化鋅等。如果在本發(fā)明實施方案中具有多于一層介電層，涂層中的介電層可具有相同組成或不同組成?？墒褂蒙鲜鲇懻摰年P(guān)于紅外反射層的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)沉積本發(fā)明的(一層或多層)介電層。根據(jù)本發(fā)明，該(一層或多層)介電層可具有任何厚度。在非限制性的實施方案中，每層介電層的厚度可在200A-900A，例如250A-800A的范圍。根據(jù)本發(fā)明，一層或多層吸收層可以在介電層上。吸收層能夠吸收電磁語可見光區(qū)域內(nèi)的至少部分能量，以尤其是減少涂覆基板的光透射。在本發(fā)明一非限制性的實施方案中，吸收層包括(a)在500nm處具有等于或小于1.0折射系數(shù)的金屬和(b)在1000°K下具有大于或等于-100的AG。f的材料的合金和/或混合物。在1000°K下具有大于或等于-100的AG。f的材料的實例包括但不限于錫、銦、銅、鋅及其混合物。吸收層的非限制性的實例是500nm處折射系數(shù)約0.2的銀和錫的合金和/或混合物。在本發(fā)明的另一非限制性實施方案中，吸收層包括鎳、不銹鋼、鉻、鉬、鵠、銥、鋼、鐵、鈷、鈷和其混合物及合金。在本發(fā)明另一非限制性的實施方案中，吸收層包括氧化物、氮化物和碳化物。例如，吸收層可包括一種或多種選自銅、錳、鈦、鐵和鉻的氧化物、氮化物和碳化物及其混合物和合金的材料。根據(jù)本發(fā)明，可使用上述討論的關(guān)于紅外反射層的任何標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)沉積該一層或多層吸收層。其它眾所周知的諸如等離子噴涂、電弧噴鍍、鑄造等沉積技術(shù)也可用于本發(fā)明。該(一層或多層)吸收層可具有任何厚度。在非限制性的實施方案中，每層吸收層的厚度可在20A-300A，例如50A-250A的范圍。除了上面討論的涂層組成外，本發(fā)明也包括涂覆有所述涂層的基板。根據(jù)本發(fā)明，可在基板上沉積上述涂層。合適的基板包括透明材料，例如但不限于玻璃、陶瓷等。在本發(fā)明的非限制性實施方案中，基板是通過常規(guī)浮法玻璃工藝制備的玻璃。在美國專利3，083，551、3，220，816和3，843，346中描述了合適的浮法工藝，在這里通過引用引入。在發(fā)明的另一非限制性實施方案中，基板是浮法玻璃帶。在許多情況下，希望將吸收層盡可能遠(yuǎn)離光源，以至于不損害在涂層疊層中的具有反射性能的任何涂層的性質(zhì)。在非限制性的實施方案中，本發(fā)明提供涂層，包括在基板上的吸收層；在吸收層上的第一介電層；在第一介電層上的第一紅外反射層；在第一紅外反射層上的第一底涂層；和在第一底涂層上的笫二介電層。所述的從"第一紅外反射層"到"第二介電層，，涂層結(jié)構(gòu)可重復(fù)任意次數(shù)以在基板上形成具有一層、兩層、三層或更多層紅外反射層的多層涂層。在另一非限制的實施方案中，本發(fā)明提供涂層，包括在基板上的第一紅外反射層；在第一紅外反射層上的第一底涂層；在第一底涂層上的第一介電層；和吸收層。所述的從"第一紅外層"到"第一介電層，，涂層結(jié)構(gòu)在包括吸收層前可重復(fù)任意次數(shù)以在基板上形成具有一層、兩層、三層或更多層紅外反射層的多層涂層。在一個非限制性的實施方案中，當(dāng)施用在0.16英寸(4.lmm)厚的透明玻璃基板上時，涂層具有等于或小于70%可見光透射，例如等于或小于50%，或等于或小于40%，或者等于或小于20%。如這里所用的，術(shù)語"透明玻璃，，指的是O.16英寸厚的、具有可見光透射大于90%的玻璃基板。當(dāng)施用于0.16英寸厚的透明玻璃基板時，涂層也可具有等于或小于52的亮度(根據(jù)C.I.E1931標(biāo)準(zhǔn)、使用光源D65和10。觀察者測量的L*)，例如等于或小于40，或者等于或小于30。盡管在本發(fā)明中不需要，但本領(lǐng)域眾所周知的保護(hù)性外涂層可以是涂層疊層中的最后的涂層。在一個非限制性的實施方案中，保護(hù)性外涂層可以是氧化鋁和氧化硅的混合物，如在2001年10月22日提交的美國專利申請10/007382中描述的，該文獻(xiàn)通過引用引入這里。保護(hù)性外涂層也可作為對某些材料如氧的阻擋層。通過改變涂層疊層中各涂層的厚度，可以調(diào)整諸如反射色、透射色等涂覆的基板的各種性能。本發(fā)明涂層的一個主要優(yōu)點在于，能夠在基板兩側(cè)顯示出多種反射色。因為本發(fā)明涂層吸收可見光譜并減少涂層反射，因此涂覆的基板的各面可顯示出不同的顏色。本發(fā)明涂覆的基板可用于各種汽車和建筑應(yīng)用中。例如，涂覆的基板可用于汽車或卡車上的遮陽篷頂。涂覆的基板也可用于民用住宅和商用建筑中。在非限制性的實施方案中，在隔熱玻璃(IG)單元中引入本發(fā)明的涂覆的基板，如本
技術(shù)領(lǐng)域：
所公知的。IG單元可包括通過間隔物組件而與第二玻璃基板間隔的第一玻璃基板。如本
技術(shù)領(lǐng)域：
所公知的，通過密封劑系統(tǒng)在適當(dāng)位置保持基板以在兩玻璃基板之間形成腔室。在美國專利4，193，236、4,464,874、5，088，258和5，106，663中/〉開合適的IG單元實例，所述文獻(xiàn)通過引用引入這里。根據(jù)本發(fā)明的涂覆的基板可用于IG單元中的第一和/或第二玻璃基板。在非限制性的實施方案中，本發(fā)明涂覆的基板是第一基板，并且涂層在面向第二玻璃基板的表面上。本發(fā)明也包括制備上述涂覆的基板的方法。方法可包括在基板上沉積紅外反射層；在紅外反射層上沉積底涂層；在底涂層上沉積介電層；和在介電層上沉積吸收層。在非限制性的可替換的實施方案中，可在涂層疊層中的不同位置處沉積吸收層。本發(fā)明也包括在沉積涂層后，在涂覆的基板中形成吸收層的方法。更具體的，在非限制性的實施方案中，該方法包括沉積第一介電層；在第一介電層上沉積第一紅外反射層；在第一紅外反射層上沉積第一底涂層；在第一底涂層上沉積第二介電層，其中第二介電層包括在1000°K具有大于或等于-100的AG。f的材料；在第二介電層上沉積第二紅外反射層；在第二紅外反射層上沉積第二底涂層；在紅外反射層上沉積可作為對氧的阻擋層的保護(hù)性外涂層；并加熱涂層使得在第二介電層中的金屬離子擴(kuò)散遍及第二紅外反射層。在加熱步驟后包含擴(kuò)散金屬離子的紅外反射層成為本發(fā)明的吸收層。依賴吸收層中擴(kuò)散的金屬離子的數(shù)量，吸收層的紅外吸收性能將減小。通常，吸收層中的金屬離子越多，層對紅外輻射的反射越少。因此，通過控制擴(kuò)散到吸收層中金屬離子的數(shù)量，可以調(diào)節(jié)吸收層的吸收和反射性能。為了調(diào)節(jié)來自介電層的金屬離子的數(shù)量，金屬離子例如在加熱過子，可在提供金屬離子的介電層和金屬離子擴(kuò)散到其中P的紅外反射層之間沉積阻隔層。在非限制性的實施方案中，阻隔層包括具有足夠厚度以阻止金屬離子擴(kuò)散到紅外反射層中的金屬氧化物層。在本發(fā)明的非限制性實施方案中，阻隔層選自鈦、鋁、鋯、鋅和鉿的氧化物。阻隔層可具有任何厚度。典型的，阻隔層具有最多60A，例如最多40A，例如最多20A的厚度。實施例包括下面非限制性的實施例以說明本發(fā)明。進(jìn)行4組實施例。在實施例中，不沉積吸收層，而是通過錫酸鋅介電層中的錫離子遷移進(jìn)入第一紅外反射層中形成吸收層，如下討論的。通過下面方式進(jìn)行實施例。在0.16英寸厚透明玻璃基板上通過MSVD沉積包括錫酸鋅的第一膜和氧化鋅覆蓋膜的第一介電層。第一介電層的錫酸鋅膜的厚度是276A，且氧化鋅膜的厚度是160A。在第一介電層上沉積厚度118A的銀第一紅外反射層。在第一銀層上沉積厚度30A的鈦第一底涂層。在第一底涂層上沉積包括130A厚氧化鋅膜和470A厚錫酸鋅膜的第二介電層。在第二介電層上沉積厚度119A的銀第二紅外反射層。在第二底涂層上沉積厚度27A的鈦第二底涂層。在第二底涂層上沉積包括130A厚氧化鋅膜、483A厚錫酸鋅膜和130A厚氧化鋅膜的第三介電層。在第三介電層上沉積厚度為30A的包括40%氧化鋁和60%氧化硅的外層。在第二介電層上(在笫二介電層和第二銀層之間)沉積不同厚度的包括氧化鈦(Ti02)的阻隔層。對于實施例l，阻隔層的厚度是20A。對于實施例2,該層的厚度是40A。對于實施例3，該層的厚度是60A。然后根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)鋼化條件加熱涂覆的基板。認(rèn)為在加熱工藝中，第二介電層中的錫酸鋅減少，且錫酸鋅層的錫離子變得可移動并擴(kuò)散到第二銀層中。錫離子的擴(kuò)散賦予銀層的吸收性能并導(dǎo)致本發(fā)明吸收層的形成。如先前討論的，阻隔層減少擴(kuò)散到紅外反射層中的錫離子的量。使用各種術(shù)語表征根據(jù)本發(fā)明的玻璃基板的性能。術(shù)語描述如下。在380-780nm波長范圍以10nm間隔根據(jù)ASTM308E-90，使用C.I.E1931標(biāo)準(zhǔn)光源"A"測量光透射(LTA)。太陽紫外反射(SUVR)是由表面反射的紫外能量，并且在300-40Onm波長范圍以5nm間隔進(jìn)4亍測量。太陽紅外反射(SIRR)是由表面反射的紅外能量，并且在800-21OOnm波長范圍以50nm間隔進(jìn)行測量?？偺柲芰客干?TSET)是透過基板的總的太陽能量，并且使用基于從300-2100nm以50nm間隔測量的透射的、ParryMoon氣團(tuán)(airmass)2.0陽光數(shù)據(jù)進(jìn)行計算。使用基于測量的透射的ParryMoon氣團(tuán)2.Q陽光數(shù)據(jù)計算SUVR、SIRR和TSET。L'、a'、b'值基于CIE標(biāo)準(zhǔn)光源D65和10。觀察者。在下表1中顯示根據(jù)本發(fā)明涂覆的玻璃基板的性能。在表中，在選擇測量的性能前出現(xiàn)"R1"或"R2"。"Rl，,指的是從基板涂覆側(cè)觀察而測量的性能。"R2"指的是從基板未涂覆側(cè)觀察而測量的性能。表l.根據(jù)本發(fā)明涂覆的基板的性能<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>如表l中可以看出，0.16英寸厚度的根據(jù)本發(fā)明的涂覆的基板能表現(xiàn)出下面性能組合。通常，阻隔層越厚，擴(kuò)散進(jìn)入紅外反射層中金屬離子越少，且Lta越高，且SIRR越高(即，銀層作為吸收層效果越差，其作為紅外反射層的效果越好)。對于具有涂層的基板，其中涂層最初包括兩層銀層，其中一層隨后轉(zhuǎn)變?yōu)槲諏覮ta可在30-65%，例如33-61%;Rl-L'可在35-50，例如37-48;且R2-L'可在41-47，例如42-45。也記錄其它陽光性能，例如UV能量反射、IR能量反射和總的太陽光能量透射。對于實施例l-3涂覆側(cè)，R1SUVR的范圍在7-12。/。，例如8-11°/。，且R1SIRR的范圍在28-55%，例如30-53%。對于實施例l-3未涂覆側(cè)，R2SUVR的范圍在4-6%，例如4.5-5.5%,且R2SIRR的范圍在12-21%，例如13-18。/。。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解的是，在沒有脫離上述說明書公開的概念范圍內(nèi)可進(jìn)行改變。認(rèn)為這種改變包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。因此，上述詳細(xì)描述的特別實施方案僅是用于說明而不限制由附加權(quán)利要求和其任何和全部等同范圍給出的本發(fā)明范圍。權(quán)利要求1.涂層組成，包括a.紅外反射層；b.在紅外反射層上的底涂層；c.在底涂層上的介電層；和d.吸收層，其中吸收層可以在紅外反射層下或是在介電層上。2.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層包括(a)在500mn處具有等于或小于1.0的折射系數(shù)的金屬和(b)在1000°K下具有大于或等于-100的AG。f的材料的合金和/或混合物。3.根據(jù)權(quán)利要求2的涂層，其中在1000°K下具有大于或等于-100的AG。f的材料選自錫、銦、銅、鋅及其混合物。4.根據(jù)權(quán)利要求2的涂層，其中所述金屬是銀且所述材料是錫。5.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層包括一種或多種選自銅、錳、鈦、鈷、鐵和鉻的氧化物、氮化物和碳化物的材料及其混合物和合金。6.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層包括一種或多種選自鎳、鈷、鉻、鋼和及氧化物和其混合物的材料。7.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中使用選自CVD、噴霧熱解和MSVD的方法沉積吸收層。8.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層具有20A-300A的厚度。9.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中介電層包括選自金屬氧化物、金屬合金氧化物、氮化物、氧氮化物和其混合物的材料。10.根據(jù)權(quán)利要求9的涂層，其中介電層包括選自鈦、鉿、鋯、鈮、鋅、鉍、鉛、銦、錫的氧化物和其混合物的金屬氧化物。11.根據(jù)權(quán)利要求9的涂層，其中介電層包括范圍在10重量％-90重量％鋅和90重量％-10重量％錫的鋅/錫合金氧化物。12.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中紅外反射層包括選自銀、金和銅的材料。13.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其沉積在0.16英寸厚的透明玻璃基板上，其中從基板至少一側(cè)，基板具有小于或等于50%的Lta和等于或小于52的L'。14.涂覆的基板，包括a.基板；b.在基板上的紅外反射層；c.在紅外反射層上的底涂層；d.在底涂層上的介電層；和e.吸收層，其中吸收層可以在紅外反射層下或在介電層上。15.根據(jù)權(quán)利要求14的涂覆的基板，其中吸收層包括(a)在500nm處具有等于或小于l.O折射系數(shù)的金屬和(b)在1000。K下具有大于或等于-100的AG。f的材料的合金和/或混合物。16.根據(jù)權(quán)利要求14的涂覆的基板，其中基板是玻璃。17.形成涂層的方法，包括a.在基板上沉積紅外反射層；b.在紅外反射層上沉積底涂層；c.在底涂層上沉積介電層；和d.沉積吸收層，其中吸收層可沉積在紅外反射層下或在介電層上，且其中當(dāng)在0.16英寸厚的透明玻璃基板上沉積涂層時，從基板至少一側(cè)，基板具有小于或等于50。/。的Lta，等于或小于52的"。18.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中通過MSVD完成紅外反射層的沉積。19.制備涂覆基板的方法，包括a.在基板上沉積包括在1000。K下具有大于或等于-100的AG。f材料的第一介電層；b.在第一介電層上沉積第一紅外反射層；c.在第一紅外反射層上沉積第一底涂層；d.在底涂層上沉積第二介電層；e.在第二介電層上沉積第二紅外反射層；f.在第二紅外反射層上沉積第二底涂層；g.在第二底涂層上沉積氧阻擋層；和h.加熱沉積的涂層使得金屬離子從至少一介電層擴(kuò)散到至少一紅外反射層中以形成吸收層。20.根據(jù)權(quán)利要求19的方法，還包括在介電層之一和紅外反射層之一之間沉積阻隔層。全文摘要公開了涂層組成。涂層組成包括紅外反射層；在紅外反射層上的底涂層；在底涂層上的介電層；和吸收層，其中吸收層可在紅外反射層下或在介電層上。文檔編號C03C17/36GK101146750SQ200680009337公開日2008年3月19日申請日期2006年3月20日優(yōu)先權(quán)日2005年3月21日發(fā)明者H·布海,J·J·芬雷,J·P·蒂爾申請人:Ppg工業(yè)俄亥俄公司