包括水處理裝置的熨燙設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種熨燙設(shè)備，所述熨燙設(shè)備包括儲水器(4)，蒸汽發(fā)生器(5)和水處理裝置，所述蒸汽發(fā)生器通過供水回路與所述儲水器連接，所述水處理裝置包括用于沉淀碳酸鈣的陰極(10)和陽極(11)，所述熨燙設(shè)備的特征在于，所述陰極(10)和所述陽極(11)設(shè)置在獨(dú)立于所述儲水器(4)的容器(7)中，所述容器設(shè)置在將所述儲水器(4)與所述蒸汽發(fā)生器(5)連接的所述供水回路中，所述供水回路通過更靠近所述陽極(11)而不是所述陰極(10)的開口(70)從所述容器(7)中吸水，并且在所述開口(70)處的水流量小于70g/min。
【專利說明】包括水處理裝置的熨燙設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種熨燙設(shè)備，所述熨燙設(shè)備包括儲水器，蒸汽發(fā)生器和水處理裝置，所述蒸汽發(fā)生器通過供水回路與儲水器連接，所述水處理裝置包括用于使存在于水中的碳酸鈣沉淀的陽極和陰極。

【背景技術(shù)】
[0002]根據(jù)專利申請W001/44116，已知一種熨燙設(shè)備，該熨燙設(shè)備包括儲水器和蒸汽發(fā)生器，該蒸汽發(fā)生器通過供水回路與儲水器連接，送到蒸汽發(fā)生器中的水借助處理裝置來處理，處理裝置包括陰極和陽極，所述陰極和陽極與電源連接，陽極和陰極直接安置在儲水器中并且彼此通過陽離子膜分開。
[0003]這種熨燙設(shè)備具有的優(yōu)點(diǎn)是具有用于處理儲水器中的水的裝置，該裝置允許限制在發(fā)生器中和在熨斗中的結(jié)水垢現(xiàn)象。然而，這種設(shè)備具有的缺點(diǎn)是借助非常脆弱和相對昂貴的離子交換膜。另外，這種設(shè)備具有的缺點(diǎn)是具有直接在設(shè)備的主要儲水器中起作用的水處理裝置，使得用于處理儲水器中全部的水所需的時間相對較長。因此如果使用者想要享用凈化設(shè)備的最大效率并且避免將摻有礦物質(zhì)的水送到蒸汽發(fā)生器中，那么使用者在可以使用設(shè)備之前應(yīng)等待相對長的時間。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]因此，本發(fā)明的目的是提供一種熨燙設(shè)備，所述熨燙設(shè)備包括允許避免在蒸汽發(fā)生器中形成水垢的水處理裝置，所述裝置使用起來是簡單、安全和經(jīng)濟(jì)的。本發(fā)明的另一個目的是提供一種熨燙設(shè)備，所述熨燙設(shè)備配備有水處理裝置，在該裝置中，使用者在可以使用設(shè)備之前不用等待以便受益于水處理裝置的效率。
[0005]為此，本發(fā)明的目的是提供一種熨燙設(shè)備，所述熨燙設(shè)備包括儲水器、蒸汽發(fā)生器和水處理裝置，所述蒸汽發(fā)生器通過供水回路與儲水器連接，所述水處理裝置包括用于沉淀存在于水中的碳酸鈣的陰極和陽極，其特征在于，所述陰極和所述陽極設(shè)置在獨(dú)立于所述儲水器的容器中，所述容器設(shè)置在將所述儲水器與所述蒸汽發(fā)生器連接的所述供水回路中，所述供水回路通過位于更靠近陽極而不是陰極的開口從所述容器中吸水，并且在所述開口處的水流量小于70g/min。
[0006]這種特征的組合允許通過使用起來簡單且經(jīng)濟(jì)的裝置來獲得脫礦質(zhì)水，該脫礦質(zhì)水可被用于產(chǎn)生蒸汽而沒有損壞蒸汽發(fā)生器的危險。事實(shí)上，在陽極端部處以小流量吸水允許獲得硬度被大大降低的水。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述供水回路通過設(shè)置在所述容器的底部中的開口從容器中吸水。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述容器的底部的開口設(shè)置在所述陽極的豎直垂線上。
[0009]這種特征允許從更接近陽極的容器的底部中吸水。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的又一個特征，所述供水回路包括由所述容器的開口供水的儲水池，并且所述供水回路包括從所述儲水池中吸水用于將水向所述蒸汽發(fā)生器運(yùn)送的泵。
[0011]這種儲水池具有的優(yōu)點(diǎn)是構(gòu)成用于脫礦質(zhì)水的緩沖空間，在該緩沖空間中泵可吸水。具體地，該用于脫礦質(zhì)水的緩沖空間允許按時地(ponctuelIement)以大于容器的水處理裝置的生產(chǎn)能力的流量為蒸汽發(fā)生器供水。事實(shí)上，當(dāng)設(shè)備被供電時，水處理裝置持續(xù)地工作，由于儲水池，以大于通過處理裝置提供的脫礦質(zhì)水的流量的流量為泵供水是可行的，所述泵僅在幾秒鐘的階段中按時地使用，以便為所述蒸汽發(fā)生器給水。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述容器通過重力以優(yōu)選約50g/min的水流量向儲水池供水。
[0013]這種特征允許限制容器朝向儲水池的水流量，以便保證水處理裝置的足夠的效率。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述陽極在所述容器中占據(jù)中央位置，所述陰極抵靠所述容器的周邊壁固定。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，30V的直流電壓被施加在所述陽極和所述陰極的端子上。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述陰極由石墨或摻有鈦的不銹鋼制成。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述陰極由石墨實(shí)現(xiàn)并且包括連接件，當(dāng)連接件靠近陰極時，所述連接件逐漸地變化并且越來越大。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述陽極由摻有鈦的不銹鋼或涂覆有釕或鉬的不銹鋼實(shí)現(xiàn)。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，當(dāng)所述儲水器不為空時，所述容器的供水被調(diào)節(jié)以便在所述容器中具有恒定的水平面H。
[0020]這種特征允許獲得通過重力穿過容器的開口而流出的水的被控制的流量。
[0021]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述儲水器包括封閉的殼體，所述殼體包括通到所述容器中的輸出孔，所述輸出孔構(gòu)成所述儲水器的唯一的出水孔。
[0022]這種儲水器具有的優(yōu)點(diǎn)是構(gòu)成實(shí)施起來簡單且經(jīng)濟(jì)的方案，該方案允許在容器中獲得恒定的水平面，儲水器中的水通過重力流入容器中，直到容器中的水平面達(dá)到輸出孔處。
[0023]根據(jù)本發(fā)明的另一個特征，所述容器包括過濾器，所述過濾器使水通過并且根據(jù)存在于水中的微粒的尺寸攔截微粒，所述過濾器在收納所述陰極的第一室和收納所述陽極的第二室之間形成過濾柵，所述第一室使用所述儲水器的水來供水，所述第二室包括為所述蒸汽發(fā)生器供水的輸出孔。
[0024]這種特征允許避免水垢晶體向儲水池運(yùn)送，這些水垢晶體通過過濾器被阻擋在第一室中。
[0025]根據(jù)本發(fā)明的又一個特征，所述過濾器具有多孔性，所述多孔性適合于僅使具有小于50 μ m且優(yōu)選小于或等于30 μ m的尺寸的微粒通過。
[0026]這種特征允許獲得用于水垢晶體的良好的過濾，同時減慢過濾器的阻塞速度。
[0027]根據(jù)本發(fā)明的又一個特征，所述過濾器被安裝為可不借助工具從所述容器中拆下。
[0028]這種特征允許容易地取出過濾器用于過濾器的清洗。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的又一個特征，所述過濾器圍繞所述陽極豎直地延伸并且包括下端部，所述下端部支撐用于回收水垢晶體的回收池，所述回收池在所述過濾器的外部側(cè)向地延伸。
[0030]這種特征允許當(dāng)過濾器從容器中取出用于過濾器的清潔時，在取出過濾器的同時取出水垢晶體。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的又一個特征，所述輸出孔被確定尺寸以便允許約50g/min的水流量。
[0032]這種特征允許借助過濾器的輸出孔來確保在容器的出口處的流量的限制。
[0033]根據(jù)本發(fā)明的又一個特征，所述設(shè)備包括通過纜線與熨斗連接的蒸汽產(chǎn)生基部，所述基部集成了所述蒸汽發(fā)生器和所述儲水器。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0034]通過參照附圖，根據(jù)以下以非限定性示例方式給出的本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】的描述，將更好地了解本發(fā)明的目的，特征和優(yōu)點(diǎn)，在附圖中:
[0035]-圖1示出根據(jù)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】的熨燙設(shè)備的示意圖，其中，過濾器安置在用于處理水的容器中。
[0036]-圖2是根據(jù)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】的熨燙設(shè)備的蒸汽發(fā)生基部的縱向剖視圖。
[0037]-圖3是圖2的熨燙設(shè)備配備的過濾器的立體圖。
[0038]-圖4是圖3的過濾器的縱向剖視圖。
[0039]-圖5是圖1的設(shè)備的示意圖，其中，過濾器從用于處理水的容器中取出。

【具體實(shí)施方式】
[0040]僅示出對本發(fā)明的理解必要的元件。為了便于閱讀附圖，相同的元件在不同的附圖之間米用相同的標(biāo)號。
[0041]圖1示意性地示出熨燙設(shè)備，所述熨燙設(shè)備包括用于產(chǎn)生蒸汽的基部I和熨斗2，該熨斗2包括配備有蒸汽輸出孔的底板，熨斗2通過纜線3與基部I連接。
[0042]根據(jù)圖1和2，基部I包括容量約為1.5升的可拆卸的儲水器4和由箱5構(gòu)成的蒸汽發(fā)生器，所述箱包括功率約1400W的加熱電阻50，這允許在約4至6巴的壓力下產(chǎn)生蒸汽，箱5包括僅在圖1上示出的電動閥門51，所述電動閥門與熨斗的纜線連接并且由設(shè)置在熨斗2上的按鈕20控制。
[0043]箱5借助供水回路由來自儲水器4的水供水，所述供水回路包括剛好設(shè)置在箱5的上游的循環(huán)泵6，該泵6由附圖中未示出的控制卡控制，并且允許在可達(dá)到15巴的壓力下將水注入到箱5中。
[0044]用于箱5的供水回路在泵6的上游包括水處理裝置，該水處理裝置包括容器7，所述容器7收納用于沉淀碳酸鈣的機(jī)構(gòu)和可拆卸的過濾器8，所述過濾器通過容器7的上開放端部在各器7中就位。
[0045]因此設(shè)置在容器中的過濾器8在環(huán)形的外部第一室71和設(shè)置在過濾器8內(nèi)部的第二室72之間形成過濾柵，儲水器4的輸出孔40通到所述第一室中，所述第二室72在容器7底部的中央?yún)^(qū)域上方延伸，所述容器底部的中央?yún)^(qū)域包括開口 70，該開口 70通到設(shè)置在容器7的底部之下的儲水池9中。
[0046]作為示例，容器7具有圓柱體形狀，該圓柱體形狀具有圓形截面，所述圓柱體具有約55mm的直徑和約10mm的高度,形成約200cm3的體積,過濾器8由優(yōu)選地?fù)接锈伒牟讳P鋼制成，并且具有約35mm的直徑，約10mm的高度，和約30 μ m的孔隙。
[0047]容器7的供水被有利地調(diào)節(jié)為當(dāng)水存在于儲水器4中時，在容器7中具有恒定的水平面H。為此，儲水器4具有封閉殼體形式，在該殼體中，輸出孔40構(gòu)成儲水器4的唯一出水孔。儲水器4還包括填充孔，該填充孔由圖1所示的密封塞41封閉，并且填充孔允許在翻轉(zhuǎn)位置容易地填充儲水器4。
[0048]根據(jù)圖3和4，過濾器8包括下端部，該下端部支撐杯(coupelle) 80，該杯80具有直徑稍微小于容器7的直徑的圓盤形狀，杯80包括在過濾器的外部徑向地延伸的部分，該部分由加高的周邊邊緣81形成邊界，該部分限定用于回收水垢微粒的回收池82。
[0049]優(yōu)選地，杯80包括中央孔83，所述中央孔被定直徑用于當(dāng)容器7中的水平面與水平面H相等時，使水通過重力以約50g/min的流量通過，該中央孔83與設(shè)置在容器7底部的開口 70相對，并且具有約2mm的直徑。
[0050]如在圖1和2中可見，儲水池9包括出水管道90，該出水管道沿著容器7延伸直到高于容器7中水平面H的高度，泵6包括進(jìn)水管道60，該進(jìn)水管道從儲水池9中吸水。優(yōu)選地，進(jìn)水管道60的下端部遠(yuǎn)離儲水池9的底部幾厘米，以便避免吸入通過傾析沉積在儲水池9底部的可能的微粒。作為示例，進(jìn)水管道60的下端部遠(yuǎn)離儲水池9的底部至少1cm，該儲水池具有約150cm3的體積。
[0051]用于沉淀碳酸鈣的機(jī)構(gòu)由安置在第一室71中的陰極10和安置在第二室72中的陽極11構(gòu)成，陽極11和陰極10通過電壓控制電單元13來供電，電壓控制單元提供30V的直流電壓和IA的最大電流強(qiáng)度。
[0052]優(yōu)選地，陰極10由石墨或摻有鈦的不銹鋼制成，并且具有與容器7的內(nèi)壁形狀貼合的圓柱體形狀，同時在約10mm的高度上延伸。
[0053]陰極10通過連接件與電壓控制單元13連接，該連接件在容器7的外部延伸并且優(yōu)選地具有這樣的截面，當(dāng)連接件將要接觸陰極10時該截面逐漸地改變且越來越大。這種特征具有的優(yōu)點(diǎn)是避免在與陰極10的連接處的電流的集中，當(dāng)陰極10由石墨制成時，該電流的集中會導(dǎo)致逐漸地將陰極10破壞。
[0054]陽極11優(yōu)選地由摻有鈦的不銹鋼或涂覆有釕或鉬的不銹鋼制成，以便避免陽極的腐蝕，并且該陽極具有直徑為1mm和高度為90mm的在容器7的中央豎直地延伸的桿的形式，陽極11的下端部與容器7的底部間隔約1mm的距離。
[0055]現(xiàn)在將描述如此實(shí)現(xiàn)的設(shè)備的工作和優(yōu)點(diǎn)。
[0056]當(dāng)使用設(shè)備時，使用者填充可拆卸的儲水器4，然后將其安置在基部I上，以便容納在儲水器4中的水通過重力流入容器7中直到達(dá)到儲水器4的輸出孔40的水平面H，以致水平面阻止空氣進(jìn)入儲水器4中，這自動地使儲水器4中的水停止流向容器7。
[0057]然后使用者起動設(shè)備，這引起在調(diào)節(jié)電子裝置的控制之下對箱5的加熱電阻50供電，該調(diào)節(jié)電子裝置與圖中未示出的溫度傳感器連接，并且引起在陽極11端子和陰極10的端子處恒定地施加30V的直流電壓。
[0058]已知地，在陽極11和陰極10之間施加的電壓引起正離子Ca2+和Ma2+朝陰極10移動，同時如有必要則穿過過濾器8的孔，然后引起碳酸鈣在該時間以尺寸為5至50 μ m的方解石結(jié)晶或六方碳鈣石結(jié)晶的形式在第一室71中沉淀，在該第一室中由于產(chǎn)生OH—離子而形成堿性環(huán)境。
[0059]為了避免陰極10過快地結(jié)水垢，設(shè)備有利地包括幾秒鐘的工作階段，在該工作階段期間，陰極10和陽極11的極性被倒置，該極性的倒置可每十分鐘發(fā)生一次。
[0060]在第二室72中、在陽極11附近產(chǎn)生的脫礦質(zhì)的水通過重力流入中央孔83中，然后通過容器7的底部的開口落入儲水池9中。在第一室71中逐漸形成的具有大于30 μ m的尺寸的水垢晶體通過過濾器8被阻擋在第一室中，穿過中央孔83的小的水流量具有的優(yōu)點(diǎn)是通過在過濾器8附近只產(chǎn)生小的吸入來限制阻塞過濾器8的危險。
[0061]優(yōu)選地，通過周期性地使過濾器8極化，過濾器8的阻塞也被延遲，過濾器8是由導(dǎo)電材料實(shí)現(xiàn)的，通過暫時地將過濾器8連接陽極11的電勢來實(shí)現(xiàn)該極化，以便在過濾器8和陰極10之間建立的電場將水垢微粒推向陰極10。作為示例，過濾器8每40秒與陽極11的電勢連接10秒。
[0062]由于電流的存在和小的吸入，尺寸小于30 μ m的水垢晶體大部分還保留在第一室71中，所述電流將水垢晶體向陰極10吸引，所述小的吸入是通過脫礦質(zhì)的水穿過中央孔83小流量地流出而引起的，穿過過濾器8的可能的結(jié)晶通過重力沉積在儲水池9的底部。
[0063]當(dāng)需要給箱5供水以便產(chǎn)生蒸汽時，控制卡控制泵8的工作，該泵6通過進(jìn)水管道60抽吸儲水池9中的脫礦質(zhì)的水，進(jìn)水管道與底部間隔一定距離以便避免吸入沉積在儲水池9底部的水垢晶體。
[0064]水向箱5的該發(fā)送通過泵6的時序工作階段來實(shí)現(xiàn)，甚至當(dāng)使用者持續(xù)地驅(qū)動熨斗2的蒸汽按鈕20時也是這樣，泵6例如每12秒工作3秒。泵6的這種時序工作通過建立泵6的停止階段允許避免泵6的無效工作(fonct1nnement ? vide),在該停止階段中，儲水池9中的水平面的降低可通過脫礦質(zhì)的水的到來而補(bǔ)償，該脫礦質(zhì)的水的到來是通過重力穿過容器7的底部的開口 70而實(shí)現(xiàn)。
[0065]當(dāng)容器7中的水平面小于水平面H時，通過容器7的第一室71自動地填充來自儲水器4的水，容器7的脫礦質(zhì)的水向儲水池9的流動被自動地補(bǔ)償，設(shè)備有利地配備有附圖中未示出的用于檢測空的容器的傳感器，當(dāng)儲水器4為空時該傳感器中止泵6的工作，這種泵6的停止允許保證容器7中水的存在，并且因此當(dāng)設(shè)備通電時時保證持續(xù)地產(chǎn)生脫礦質(zhì)的水。
[0066]當(dāng)儲水器4為空時，使用者將儲水器從基部I中取出以便填充儲水器，并且還可利用該操作以便通過穿過容器7上部的開口將過濾器豎直地平移而取出過濾器8，且這在圖5中示出。
[0067]在該過濾器8的豎直移動期間，所有的在第一室71中存在的碳酸鈣結(jié)晶被回收在位于過濾器8基部處的杯80的回收池82中。在將過濾器8重新安置在容器7中之前，使用者可通過將過濾器8和回收池82置于水龍頭下面來沖洗過濾器8和回收池82。當(dāng)然，設(shè)備可配備有用于檢測過濾器8的存在的裝置，并且當(dāng)容器7中缺少過濾器8時阻止設(shè)備的工作。
[0068]如此實(shí)現(xiàn)的設(shè)備具有的優(yōu)點(diǎn)是具有實(shí)現(xiàn)起來簡單且經(jīng)濟(jì)的水處理裝置，該裝置允許提供脫礦質(zhì)的水，該脫礦質(zhì)的水可在蒸汽發(fā)生器中使用用于設(shè)備的更長的壽命。
[0069]該設(shè)備還具有的優(yōu)點(diǎn)是具有獨(dú)立于儲水器的，用于脫礦質(zhì)的水的儲水池，在該儲水池中，泵可在該儲水池中抽水用于供應(yīng)蒸汽發(fā)生器。具體地，該用于脫礦質(zhì)的水的儲水池具有的優(yōu)點(diǎn)是當(dāng)設(shè)備被供電時持續(xù)地產(chǎn)生脫礦質(zhì)的水，并且被存儲在設(shè)備中、在與設(shè)備的主要儲水器分開的地方，使得一旦再次使用設(shè)備，當(dāng)設(shè)備起動時儲水池立即可用。因此，如果使用者在每次使用之后將設(shè)備的主要儲水器排空或者如果在設(shè)備的延長使用之后儲水器變空，使用者可重新填充主要儲水器并且使用設(shè)備而不用等待水處理裝置對包含在儲水器中的全部水起作用。
[0070]最后，這種設(shè)備具有的優(yōu)點(diǎn)是易于保養(yǎng)，過濾器可容易地從容器中取出，用于對該過濾器進(jìn)行清洗并且排放水垢晶體。
[0071]當(dāng)然，本發(fā)明絕非限于僅以示例的形式描述的和示出的實(shí)施方式。在不脫離本發(fā)明保護(hù)范圍的情況下，能夠進(jìn)行變更，特別是在不同元件的構(gòu)成方面或者通過等同技術(shù)的替換。
[0072]因此，在未示出的實(shí)施變型例中，在第二室和儲水池之間的流量的限制是通過限制在容器底部中的開口的通過截面而不是中央孔的通過截面來實(shí)現(xiàn)的，因此中央孔可具有更大的通過截面。
[0073]因此，在未示出的實(shí)施變型例中，儲水池的底部可包括由可拆卸的塞子封閉的排出孔，塞子例如通過基部的下面被觸及，這種排出孔允許沉積在儲水池中的可能的水垢晶體的排出。
[0074]因此，在未示出的另一個實(shí)施變型例中，容器可借助泵使用來自儲水器的水被供水。
【權(quán)利要求】
1.一種熨燙設(shè)備，所述熨燙設(shè)備包括儲水器(4)，蒸汽發(fā)生器(5)和水處理裝置，所述蒸汽發(fā)生器通過供水回路與所述儲水器連接，所述水處理裝置包括用于沉淀碳酸鈣的陰極(10)和陽極(11)，其特征在于，所述陰極(10)和所述陽極(11)設(shè)置在獨(dú)立于所述儲水器(4)的容器(7)中，所述容器設(shè)置在將所述儲水器(4)與所述蒸汽發(fā)生器(5)連接的所述供水回路中，所述供水回路通過更靠近所述陽極(11)而不是所述陰極(10)的開口(70)從所述容器(7)中吸水，并且在所述開口(70)處的水流量小于70g/min。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述開口(70)設(shè)置在所述容器(7)的底部中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述開口(70)設(shè)置在所述陽極(11)的豎直垂線上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述供水回路包括由所述容器(7)的開口(70)供水的儲水池(9)，并且所述供水回路包括從所述儲水池(9)中吸水用于將水向所述蒸汽發(fā)生器(5)運(yùn)送的泵(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述容器(7)通過重力以優(yōu)選約50g/min的水流量向所述儲水池(9)供水。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述陽極(11)在所述容器(7)中占據(jù)中央位置，所述陰極(10)抵靠所述容器(7)的周邊壁固定。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述儲水器(4)不為空時，所述容器(7)的供水被調(diào)節(jié)以便在所述容器(7)中具有恒定的水平面H。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述儲水器(4)包括封閉的殼體，所述殼體包括通到所述容器(7)中的輸出孔(40)，所述輸出孔(40)構(gòu)成所述儲水器(4)的唯一的出水孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述容器(7)包括過濾器(8)，所述過濾器使水通過并且根據(jù)存在于水中的微粒的尺寸攔截微粒，所述過濾器(8)在收納所述陰極(10)的第一室(71)和收納所述陽極(11)的第二室(72)之間形成過濾柵，所述第一室使用所述儲水器(4)的水來供水，所述第二室包括為所述蒸汽發(fā)生器(5)供水的輸出孔(83)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述過濾器(8)具有多孔性，所述多孔性適合于僅使具有小于50 μ m且優(yōu)選小于或等于30 μ m的尺寸的微粒通過。
11.根據(jù)權(quán)利要求9至10中任一項(xiàng)所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述過濾器(8)被安裝為可不借助工具從所述容器(4)中拆下。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述過濾器(8)圍繞所述陽極(11)豎直地延伸并且包括下端部，所述下端部支撐用于回收水垢晶體的回收池(82)，所述回收池在所述過濾器(8)的外部側(cè)向地延伸。
13.根據(jù)權(quán)利要求9至12中任一項(xiàng)所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述輸出孔(83)被確定尺寸以便允許約50g/min的水流量。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的熨燙設(shè)備，其特征在于，所述熨燙設(shè)備包括通過纜線(3)與熨斗(2)連接的蒸汽產(chǎn)生基部(I)，所述基部(I)集成了所述蒸汽發(fā)生器(5)和所述儲水器(4)。
【文檔編號】D06F75/14GK104164778SQ201410176149
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年4月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月16日
【發(fā)明者】多米尼克·格呂斯 申請人:Seb公司