專利名稱：一種流體介質(zhì)均勻分布的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種流體介質(zhì)均勻分布的方法和裝置，屬于化工領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
紙漿在過(guò)濾洗滌、濃縮的過(guò)程中目的是用最少量的洗滌液達(dá)到最大量的脫 除存在漿中的蒸煮液(包括木素和蒸煮用化學(xué)藥品)中未溶的固形物。在蒸煮 及洗滌工段后，殘存在紙漿中的不溶固形物，會(huì)對(duì)后序工段如漂白和抄紙?jiān)斐?不利影響。同時(shí)紙漿中黑液與夾雜的大量固形物的流失將意味著堿回收系統(tǒng)熱 能回收率和化學(xué)品回收率的降低。如果無(wú)限制的使用洗滌水，理論上可以把槳 洗滌得很干凈，然而對(duì)一個(gè)工廠來(lái)說(shuō)，是不夠經(jīng)濟(jì)的。為了減少洗滌液的使用 量，需要使?jié){料在進(jìn)入脫水載體時(shí)呈均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)，目前，所使用的使 漿料均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)的裝置存在很多問(wèn)題，如用于漿料洗滌和濃縮的雙輥 擠漿機(jī)，采用一端進(jìn)漿的布漿裝置，在運(yùn)行較長(zhǎng)一段時(shí)間后，遠(yuǎn)離進(jìn)漿端的分 槳口由于壓力較小會(huì)出現(xiàn)堵塞現(xiàn)象，從而使進(jìn)入脫水載體的漿料分布不均勻， 由于漿料分布不均勻，在后序洗滌過(guò)程中將會(huì)增加洗滌液的用量，增加了生產(chǎn) 成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)以上問(wèn)題，提供一種能夠使?jié){料在進(jìn)入脫 水載體時(shí)呈均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)，降低生產(chǎn)成本的流體介質(zhì)均勻分布的方法。 為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是
一種流體介質(zhì)均勻分布的方法，其特征在于其中介質(zhì)通過(guò)縱向設(shè)置的進(jìn) 液?jiǎn)卧驮鏊傥闪鲉卧?，介質(zhì)在增速紊流單元中以先增速然后以紊流狀態(tài)的方式流動(dòng)，再溢流到橫向分布單元，使介質(zhì)進(jìn)入脫水載體前呈均勻分布和平穩(wěn)流 動(dòng)。
為實(shí)現(xiàn)上述分布的方法，本發(fā)明還提供一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，該 裝置包括進(jìn)液?jiǎn)卧驮鏊傥闪鲉卧皺M向分布單元，所述橫向分布單元的出口 位置上連接有延伸到脫水載體的入口的流道。
作為進(jìn)一步的改進(jìn)
該裝置包括縱向設(shè)置的進(jìn)液?jiǎn)卧驮鏊傥闪鲉卧皺M向設(shè)置的橫向分布單 元，所述橫向分布單元的出口位置上連接有延伸到脫水載體的入口的流道。 作為進(jìn)一步的改進(jìn)
所述進(jìn)液?jiǎn)卧ㄒ粋€(gè)進(jìn)料管，所述增速紊流單元包括紊流形成箱，紊流 形成箱與進(jìn)料管之間設(shè)有一個(gè)增速縮口，該增速縮口和紊流形成箱保證了漿料 流體形成紊流而不會(huì)絮集。
所述紊流形成箱為扁平漏斗形狀。
所述紊流形成箱與進(jìn)料管之間設(shè)有擋板，所述增速縮口設(shè)置在擋板上，增 速縮口的直徑小于進(jìn)料管直徑，以保證漿料壓力和流速在此位置得到的瞬間增 大。
所述橫向分布單元包括一個(gè)與延伸到脫水載體的入口的流道相連通的出料 通道，所述紊流形成箱的上部設(shè)有截面為矩形的出口，該出口與出料通道連通。 作為進(jìn)一步的改進(jìn)
所述出口與出料通道的連接處圓滑過(guò)渡。 作為進(jìn)一步的改進(jìn)
所述流道與脫水載體的入口連接處圓滑過(guò)渡。 作為進(jìn)一步的改進(jìn)所述連接處圓滑過(guò)渡的曲率半徑為紊流形成箱內(nèi)徑的1/2 1。
由于采用了上述的技術(shù)方案，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是由于在進(jìn)料管與紊流形成 箱之間設(shè)置有擋板，擋板上設(shè)置有增速縮口，增速縮口的直徑小于進(jìn)料管的直 徑，所以漿料在通過(guò)設(shè)置在擋板上的增速縮口時(shí)，流速和壓力突然瞬間增大， 槳料呈發(fā)散狀流入紊流形成箱，在漿料進(jìn)入紊流形成箱后，將會(huì)在紊流形成箱 內(nèi)形成紊流，從而有效的防止了漿料的絮集，使槳料均勻分布，在經(jīng)過(guò)出料通 道時(shí)，漿料呈現(xiàn)均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)，由于槳料呈現(xiàn)均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)，漿 料會(huì)洗滌的較干凈均勻，可減少后序洗滌工藝過(guò)程中洗滌液的用量，從而降低 了生產(chǎn)成本。
該裝置可單個(gè)使用亦可多個(gè)并聯(lián)使用，多個(gè)并聯(lián)使用時(shí)，漿料在進(jìn)入流道 與脫水載體的入口連接處前各工作單元是獨(dú)立而互不干涉，進(jìn)入連接處時(shí)各工 作單元聯(lián)通為一體。
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方法對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。


附圖1為本發(fā)明實(shí)施例中流體介質(zhì)均勻分布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖2為附圖1中的A-A向剖視圖； 附圖3為附圖1的俯視圖。
圖中l(wèi)-進(jìn)料管；2-擋板；3-紊流形成箱；4-出料通道；5-流道；6-脫水
載體；7、 8-連接處；9-出口； 10-增速縮口。 具體實(shí)施方法
實(shí)施例 一種流體介質(zhì)均勻分布的方法，其中介質(zhì)通過(guò)縱向設(shè)置的進(jìn)液?jiǎn)?元和增速紊流單元，介質(zhì)在增速紊流單元中以先增速然后進(jìn)入紊流狀態(tài)的方法 流動(dòng)到橫向分布單元，使介質(zhì)進(jìn)入脫水載體前呈均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)。一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，如附圖l、附圖2所示，該裝置包括進(jìn)液?jiǎn)?元和增速紊流單元及橫向分布單元，所述橫向分布單元的出口位置上連接有延 伸到脫水載體6的入口的流道5，所述進(jìn)液?jiǎn)卧ㄒ粋€(gè)控制流量和壓力的進(jìn)料 管1，所述增速紊流單元包括扁平漏斗形狀的紊流形成箱3和設(shè)置在紊流形成箱 3與進(jìn)料管1之間的擋板2，在擋板2上開(kāi)有一個(gè)口徑小于進(jìn)料管1直徑的增速 縮口 10，以保證漿料壓力和流速在此位置得到的瞬間增大，所述橫向分布單元 包括一個(gè)與延伸到脫水載體6的入口的流道5相連通的出料通道4，所述流道5 與脫水載體6的入口連接處7圓滑過(guò)渡，圓滑過(guò)渡的曲率半徑為紊流形成箱3 內(nèi)徑的1/2 1，如圖3所示，所述紊流形成箱纟的上部設(shè)有截面為矩形的出口 9， 該出口 9與出料通道4連通，所述出口 9與出料通道4的連接處8圓滑過(guò)渡， 圓滑過(guò)渡的曲率半徑為紊流形成箱3內(nèi)徑的1/2 1，所述出料通道4為矩形。
在生產(chǎn)過(guò)程中，漿料在通過(guò)設(shè)置在進(jìn)料管1與紊流形成箱3之間的擋板2 上的增速縮口 10時(shí)，由于增速縮口 10的直徑小于進(jìn)料管1的直徑，所以漿料 的流速和壓力突然瞬間增大，漿料呈發(fā)散狀流入紊流形成箱3，在漿料進(jìn)入紊流 形成箱3后，將會(huì)在紊流形成箱3內(nèi)形成紊流，從而有效的防止了衆(zhòng)料的絮集， 漿料再經(jīng)過(guò)出料通道4和流道5,使?jié){料在進(jìn)入脫水載體前呈均勻分布和平穩(wěn)流 動(dòng)。
上述實(shí)施例中，本裝置可以根據(jù)生產(chǎn)需要多個(gè)并聯(lián)使用，多個(gè)并聯(lián)使用時(shí)， 漿料在進(jìn)入流道5與脫水載體6的入口連接處7前各工作單元是獨(dú)立而互不干 涉，漿料在各個(gè)裝置內(nèi)分別經(jīng)過(guò)紊流形成箱和出料通道后，進(jìn)入連接處7時(shí)各 工作單元聯(lián)通為一體，然后進(jìn)入脫水載體。
權(quán)利要求
1、一種流體介質(zhì)均勻分布的方法，其特征在于其中介質(zhì)通過(guò)縱向設(shè)置的進(jìn)液?jiǎn)卧驮鏊傥闪鲉卧?，介質(zhì)在增速紊流單元中以先增速然后進(jìn)入紊流狀態(tài)的方式流動(dòng)到橫向分布單元，使介質(zhì)進(jìn)入脫水載體前呈均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)。
2、 一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于該裝置包括縱向設(shè)置的進(jìn) 液?jiǎn)卧驮鏊傥闪鲉卧皺M向設(shè)置的橫向分布單元，所述橫向分布單元的出 口位置上連接有延伸到脫水載體(6)的入口的流道(5)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所 述進(jìn)液?jiǎn)卧ㄒ粋€(gè)進(jìn)料管(1)，所述增速紊流單元包括紊流形成箱(3)，紊流形成箱(3)與進(jìn)料管(1)之間設(shè)有一個(gè)增速縮口 (10)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述紊流形成箱(3)為扁平漏斗形狀。
5、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述紊流形成箱(3)與進(jìn)料管(1)之間設(shè)有擋板(2)，所述增速縮口 (10) 設(shè)置在擋板(2)上，增速縮口 (10)的直徑小于進(jìn)料管(1)直徑,。
6、 根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝i，其特征在于 所述橫向分布單元包括一個(gè)與延伸到脫水載體(6)的入口的流道(5)相連 通的出料通道(4)，所述紊流形成箱(3)的上部設(shè)有截面為矩形的出口 (9)， 該出口 (9)與出料通道(4)連通。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所 述出口 (9)與出料通道(4)的連接處(8)圓滑過(guò)渡。
8、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所 述流道(5)與脫水載體(6)的入口連接處(7)圓滑過(guò)渡。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所 述連接處(8)圓滑過(guò)渡的曲率半徑為紊流形成箱(3)內(nèi)徑的1/2 1。
10、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述連接處(7)圓滑過(guò)渡的曲率半徑為紊流形成箱(3)內(nèi)徑的1/2 1。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種流體介質(zhì)均勻分布的方法，其中介質(zhì)通過(guò)縱向設(shè)置的進(jìn)液?jiǎn)卧驮鏊傥闪鲉卧橘|(zhì)在增速紊流單元中以先增速然后以紊流狀態(tài)的方式流動(dòng)，再溢流到橫向分布單元，使介質(zhì)進(jìn)入脫水載體前呈均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)，為實(shí)現(xiàn)上述分布的方法，本發(fā)明還公開(kāi)了一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，該裝置包括進(jìn)液?jiǎn)卧驮鏊傥闪鲉卧皺M向分布單元，所述橫向分布單元的出口位置上連接有延伸到脫水載體的入口的流道，本發(fā)明能夠有效的防止了漿料的絮集，使?jié){料均勻分布，在經(jīng)過(guò)出料通道時(shí)，漿料呈現(xiàn)均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)，由于漿料呈現(xiàn)均勻分布和平穩(wěn)流動(dòng)，漿料會(huì)洗滌的較干凈均勻，可減少后序洗滌工藝過(guò)程中洗滌液的用量，從而降低了生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)D21C9/02GK101525857SQ20091002005
公開(kāi)日2009年9月9日 申請(qǐng)日期2009年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月27日
發(fā)明者于佃梅, 欽 曹, 王永金, 王玉成 申請(qǐng)人:汶瑞機(jī)械(山東)有限公司