一種太陽能硅片的清洗劑配方的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種太陽能硅片的清洗劑配方，按重量份計包括以下組分，還原劑 50-100份，氫氧化鈉 20-50份，防腐劑20-60份，純堿10-50份，無水硅酸鈉 30-50份，氯化鈣10-60份，二丙二醇甲醚10-50份，水50-150份，配置方便，成本低，無危害，節(jié)水，不傷手，清洗過程安全簡單，清洗效果好，對人類衛(wèi)生健康影響小。
【專利說明】一種太陽能硅片的清洗劑配方

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及工業(yè)清洗領(lǐng)域，尤其涉及一種太陽能硅片的清洗劑領(lǐng)域。

【背景技術(shù)】
[0002]太陽能硅片的清洗是指清洗硅片表面受到物理、化學(xué)或生物的作用而形成的污染層或覆蓋層使其恢復(fù)原表面的過程。太陽能硅片的清洗具有節(jié)能、降耗、節(jié)水、安全、穩(wěn)產(chǎn)、提高產(chǎn)品質(zhì)量、加快生產(chǎn)速度、延長設(shè)備使用壽命、降低環(huán)境污染以及外表美觀和人類衛(wèi)生健康等作用。目前太陽能硅片長時間會產(chǎn)生污垢，如不及時清洗，會影響產(chǎn)品生產(chǎn)，同時大部分清洗劑具有毒物質(zhì)，容易腐蝕皮膚。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種太陽能硅片的清洗劑配方，解決現(xiàn)有清洗劑容易腐蝕皮膚的問題。
[0004]本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)；
一種太陽能硅片的清洗劑配方，按重量份計包括以下組分；
還原劑50-100份
氫氧化鈉20-50份
防腐劑20-60份
純堿10-50份
無水硅酸鈉30-50份
氯化鈣10-60份
二丙二醇甲醚10-50份
水50-150 份。
[0005]上述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其中，優(yōu)選的，其組成成份按重量份數(shù)計如下:
還原劑60份
氫氧化鈉20份防腐劑20份純堿10份
無水娃酸鈉30份氯化鈣10份
二丙二醇甲醚15份水75份。
[0006]上述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其中，所述的還原劑與氫氧化鈉的重量分數(shù)比為3:1。
[0007]上述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其中，所述的防腐劑與純堿的重量分數(shù)比為 2:1。
[0008]上述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其中，所述的無水硅酸鈉與水的重量分數(shù)比為2:5。
[0009]上述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其中，所述的氯化鈣與二丙二醇甲醚的重量分數(shù)比2:3。
[0010]上述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其中，所述的防腐劑為三氯甲醛。
[0011]本方案的有益效果:
本發(fā)明提供的一種太陽能硅片的清洗劑配方，配置方便，成本低，無危害，節(jié)水，不傷手，清洗過程安全簡單，清洗效果好，對人類衛(wèi)生健康影響小。

【具體實施方式】
[0012]實施例1:一種太陽能硅片的清洗劑配方，按重量份計包括以下組分；
還原劑60份氫氧化鈉20份防腐劑20份純堿10份
無水娃酸鈉30份氯化鈣10份
二丙二醇甲醚15份水75份。
[0013]實施例2: —種太陽能硅片的清洗劑配方，按重量份計包括以下組分；
還原劑75份氫氧化鈉25份防腐劑30份純堿15份
無水硅酸鈉40份氯化鈣12份
二丙二醇甲醚18份水100份。
[0014]實施例3: —種太陽能硅片的清洗劑配方，按重量份計包括以下組分；
還原劑90份氫氧化鈉30份防腐劑40份純堿20份
無水娃酸鈉50份氯化鈣16份
二丙二醇甲醚48份水125份。
[0015]本發(fā)明提供的一種太陽能硅片的清洗劑配方，配置方便，成本低，無危害，節(jié)水，不傷手，清洗過程安全簡單，清洗效果好，對人類衛(wèi)生健康影響小。
[0016]以上所述，僅為本發(fā)明較佳的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種太陽能硅片的清洗劑配方，其特征為，按重量份計包括以下組分； 還原劑50-100份 氫氧化鈉20-50份 防腐劑20-60份 純堿10-50份 無水硅酸鈉30-50份 氯化鈣10-60份 二丙二醇甲醚10-50份 水50-150 份。
2.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其特征為，優(yōu)選的，其組成成份按重量份數(shù)計如下:還原劑60份 氫氧化鈉20份防腐劑20份純堿10份 無水娃酸鈉30份氯化鈣10份 二丙二醇甲醚15份水75份。
3.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其特征為，所述的還原劑與氫氧化鈉的重量分數(shù)比為3:1。
4.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其特征為，所述的防腐劑與純堿的重量分數(shù)比為2:1。
5.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其特征為，所述的無水硅酸鈉與水的重量分數(shù)比為2:5。
6.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其特征為，所述的氯化鈣與二丙二醇甲醚的重量分數(shù)比2:3。
7.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能硅片的清洗劑配方，其特征為，所述的防腐劑為三氯甲醛。
【文檔編號】C11D10/02GK104498231SQ201410846638
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月31日
【發(fā)明者】聶金根 申請人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司