表面處理設備的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種表面處理設備，包括：用于對工件表面進行清洗的清洗部（1）；前段烘干部（2），用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體；前段冷卻部（3），用于將工件冷卻到預定溫度；預處理部（4），用于對工件表面進行預處理以增加硅化保護層與工件表面的粘合力；中段烘干部（5），用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體；中段冷卻部（6），用于將工件冷卻到預定溫度；硅化處理部（7），用于對工件表面進行硅化處理以在工件表面形成硅化保護層；和后段烘干部（8），用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體。根據本實用新型的表面處理設備，可以全自動、一次成型的執(zhí)行工件表面硅化處理工藝，環(huán)境污染小，操作方便，具有很高的合格率和生產效率。
【專利說明】表面處理設備
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及到一種表面處理設備，特別的，涉及用于對塑料制品表面進行硅化處理的表面處理設備。
【背景技術】
[0002]目前，玻璃制品已經廣泛應用于人類社會的各個方面。但是，玻璃先天性的具有密度大、隔熱性差、抗沖擊性差等缺陷，導致很多場合無法應用。透明塑料工件作為玻璃制品的替代品，具有高透光率、質輕、耐候、耐撞擊、易于成型、成本低廉等優(yōu)點，正在代替玻璃制品越來越普遍的應用于光學儀器和電子工業(yè)方面。例如，常見的塑料制品包括PC、亞克力(PMMA)、尼龍(PA)、PET等工程塑料，已經廣泛應用于眼鏡鏡片，鏡頭，儀表盤，顯示屏等領域。
[0003]另一方面，塑料制品也存在一些先天性的缺陷，例如硬度低，易刮花，經不起刮碰；耐磨性差，易擦傷；易老化，容易發(fā)黃；耐化學性差，易腐蝕；以及透光率不夠等。因此，為保證塑料制品的使用安全性，需要對透明塑料制品進行表面處理，增加表面硬度和強度，防止刮花，防老化，防化學腐蝕。
[0004]目前，常用的表面處理設備采用紫外線(UV)噴涂工藝，這種工藝的工件表面平整度差、光澤較暗、易附著灰塵，UV噴涂設備主要采用人工或半自動化生產，生產設備潔凈度低，工件合格率低。
[0005]其他類型的表面處理設備通常是半自動化的，設備機構復雜，各個工序相互獨立，用人多，人員因素影響大，無法實現自動化生產，無法保障產品的品質和合格率，成本高，浪費大。
[0006]因此，需要提供一種新型的表面處理設備，這種處理設備能夠實現全自動化處理，集成多種處理工藝，能夠提供符合要求的工藝環(huán)境參數，實現全自動、一次成型的表面處理工藝。
實用新型內容
[0007]本實用新型的目的是提供一種表面處理設備，用于對塑料制品的表面進行硅化處理，可以實現全自動、一次成型的表面處理工藝。
[0008]根據本實用新型的一個方面，提供了一種表面處理設備，包括:清洗部1，用于對工件表面進行清洗，去除工件表面附著的雜質；前段烘干部2，設置在清洗部I之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體；前段冷卻部3，設置在前段烘干部2之后，用于將工件冷卻到預定溫度；預處理部4，設置在前段冷卻部3之后，用于對工件表面進行預處理以增加硅化保護層與工件表面的粘合力；中段烘干部5，設置在預處理部4之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體；中段冷卻部6，設置在中段烘干部5之后，用于將工件冷卻到預定溫度；硅化處理部7，設置在中段冷卻部6之后，用于對工件表面進行硅化處理以在工件表面形成硅化保護層；和后段烘干部8，設置在硅化處理部7之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體。
[0009]其中，所述清洗部I包括多個清洗槽11-18，依次對工件進行表面清洗操作，每個所述清洗槽在靠近工件輸入端側壁的一定距離處設置有隔板112，將清洗槽隔離成主槽110和副槽111，靠近工件輸入端的槽體為副槽111，副槽111右側為主槽110。
[0010]其中，每個所述清洗槽中，在所述副槽11后側側壁且低于主槽110液面的位置設有一個溢流口 113。
[0011]優(yōu)選的，所述清洗槽的主槽110底部設置有超聲波發(fā)生裝置114，用于產生變頻超聲波以清洗掉工件表面的雜質，所述超聲波的頻率在20KHZ — 120KHZ范圍內連續(xù)變化。
[0012]其中，多個所述清洗槽還設置有給排水系統(tǒng)，包括:主槽110底部設置的用于補給新水的進水口，副槽111的底部設置的用于排水的出水口，出水口連接到水泵P，水泵P的出水端連接到單向閥V，單向閥V的出水端連接到過濾器F，過濾器F的出水端連接到主槽110底部的進水口。
[0013]其中，每個所述清洗槽中，主槽110中設置有補水口，在副槽111側壁高于槽體底部的位置處設置有第一水位感應器，在第一水位感應器上方低于主槽液面的位置設置有第二水位感應器，當副槽液面低于第二水位感應器的位置時，通過所述主槽110的補水口向主槽補水。
[0014]優(yōu)選的，所述清洗部I包括8個清洗槽11-18，依次對工件進行表面清洗操作，其中，第一清洗槽11中放置PH值為12-14的強堿性第一清洗藥水，用于清除附著在工件表面的油污和顆粒物；第二清洗槽12中放置PH值為8-10的弱堿性第二清洗藥水，用于進一步去除附著在工件表面的油污和顆粒物；第三清洗槽13中放置PH值為2-5的強酸性第三清洗藥水，用于清除附著在工件表面的堿性殘留物；第四清洗槽14和第五清洗槽15形成為連體槽，其中放置PH值為8-8.5的弱堿性第四清洗藥水，用于去除殘留在工件表面的酸性藥水；第六清洗槽16和第七清洗槽17形成為連體槽，其中放置常溫超純水，用于去除殘留在工件表面的弱堿性第四清洗藥水及其產生物；以及第八清洗槽18中放置溫度在60— 75度之間的高溫超純水，用于進一步去除殘留在工件表面的雜質；所述第一至第七清洗槽中的超聲波開啟時間在60秒至180秒之間。
[0015]其中，所述第四清洗槽14和第五清洗槽15形成的連體槽包括:第一隔板142，設置在第四清洗槽14靠近工件輸入端側壁的一定距離處，將第四清洗槽14隔離成第四副槽140和第四主槽141 ;第二隔板143，設置在第四清洗槽14與第五清洗槽15之間，固定在槽體前后側壁上，使其下邊緣與槽體底部保持一定間隙；第三隔板152，設置在第二隔板143右側3-5CM處，固定在槽體底面和前后側面；第二隔板143與第三隔板152之間形成為第五清洗槽15的第五副槽150，第三隔板152右側形成第五主槽151 ;其中，第四清洗槽14的第一隔板142高度設置為低于第五清洗槽15的第三隔板152的高度。
[0016]其中，所述第六清洗槽16和第七清洗槽17形成為連體槽與所述第四清洗槽14和第五清洗槽15形成的連體槽具有相同的結構。
[0017]其中，所述前段烘干部2和中段烘干部5具有相同的結構，均設置有多個烘干槽21-23、51-53，每個所述烘干槽包括:紅外管210，510，設置在烘干槽的底部，用于發(fā)射紅外線烘干工件；反射板211，511，設置在烘干槽的底部中間以及左右兩側的側壁上，用于反射紅外管所發(fā)出的紅外線；和網板212，512設置在紅外管210，510上方位置，用于發(fā)散紅外線。
[0018]優(yōu)選的，形成在烘干槽底部中間處的反射板形成為凸起狀，形成在烘干槽左右兩側的側壁上的反射板形成為凹入狀。
[0019]其中，所述前段冷卻部3和中段冷卻部6具有相同的結構，均設置有多個冷卻槽31-33，61-63，每個所述冷卻槽包括:開孔310，610，設置在冷卻槽側面的前后兩側的靠底部的四個角部位置處；網板311，611，設置在冷卻槽中間靠底板附近。
[0020]其中，所述預處理部4和硅化處理部7具有相同的結構，都形成為一個處理槽，其包括:外槽41，71，形成為上部開口的長方體，構成處理槽的外殼；內槽42，72，形成為上部開口的長方體，設置在靠近外槽一端的短邊附近，距離外槽的該短邊及兩側長邊一定距離處，用于容納處理液以用于對工件表面進行處理；冷卻槽44，74，由內槽42和外槽41在彼此靠近的3個側面之間的間隙形成的U型密閉空間構成，用于將內槽42內處理液的溫度控制在預定范圍內；儲液槽43，73，形成在內槽42與外槽41另一端短邊之間，用于盛放處理液以補充到內槽42中。
[0021]其中，所述冷卻槽44通過下述方式形成:在內槽42靠近外槽41的3個側面之間的間隙并在低于內槽一定距離的位置處，設置隔板45，75將內槽外壁和外槽內壁密封性連接起來；以及在內槽42另一短邊平齊的左右兩面，隔板45將內槽的外壁、外槽的內壁以及外槽底部密封性連接起來，使得外槽41和內槽42在彼此靠近的三個側面附近形成U型密閉空間。
[0022]其中，所述預處理部4的內槽42中容納預處理液，用于對工件表面進行預處理以增加硅化保護層與工件表面的粘合力。
[0023]其中，所述硅化處理部7的內槽72中容納硅化處理液，用于對工件表面進行硅化處理以在工件表面形成硅化保護層。
[0024]優(yōu)選的，所述內槽的上端設置為低于外槽的上端。
[0025]其中，所述后段烘干部8形成為一個長方體狀的烘干槽，所述烘干槽中包括:多個紅外管81，設置在烘干槽的底部，用于發(fā)射紅外線烘干工件；多個反射板82，設置在紅外管底部及旁邊，形成為平板狀或凸起形狀；和網板83，設置在紅外管，81的上方位置，用于發(fā)散紅外線。
[0026]優(yōu)選的，所述后段烘干部8還包括多個蓋板84，設置在烘干槽頂部，所述蓋板內側設置有反射涂層以用于反射槽體底部發(fā)射出來的紅外線。
[0027]其中，所述表面處理設備的上部還設置有空氣供給系統(tǒng)10，其形成為空心的長方體形狀以構成空氣通道，用于將純凈空氣輸送到表面處理設備的各個處理部。
[0028]其中，所述空氣供給系統(tǒng)10包括:一個或多個進氣口 101，設置在所述空氣通道的頂部或背側，其外接到純凈空氣產生裝置以輸入純凈空氣；多個隔板102，形成為中間設置有開口的擋板，設置在所述空氣通道內部各個處理部或處理槽的交界位置處，使得相鄰兩個隔板102之間的空間與某個處理部或處理槽的位置對應；多個分流孔103，形成為具有多個小孔的網板，設置在所述空氣通道底部，用于使空氣通道內的空氣能夠從底部的分流孔流出。
[0029]優(yōu)選的，所述進氣口 101設置在硅化處理部7的上方，使得硅化處理部7上方始終具有足夠的純凈空氣。[0030]其中，所述空氣供給系統(tǒng)10還設置有空氣流出通道104，其形成為沿著各處理部排列方向延伸的空心長方體，用于將設備內部的空氣排出，所述空氣流出通道104還包括:多個排氣口 1041，開設在空氣流出通道104朝向處理部的側壁，用于處理使得部上方的空氣進入空氣流出通道104 ;和一個或多個出氣孔1042，開設在空氣流出通道104的底部，用于排出空氣。
[0031 ] 其中，所述表面處理設備還設置有透明可拆卸的門窗系統(tǒng)11，用于實現設備內部與外部環(huán)境的隔尚。
[0032]如上所述，根據本實用新型的表面處理設備，尤其適用于硅化表面處理工藝，集成了多種處理工藝，能夠提供符合要求的工藝環(huán)境參數，實現了全自動、一次成型的表面處理工藝。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0033]圖1顯示了本實用新型的表面處理設備的系統(tǒng)結構示意圖；
[0034]圖2a顯示了本實用新型表面處理設備的清洗部的結構示意圖，圖2b顯示了清洗部中清洗槽的內部結構圖，圖2c顯示了清洗部中連體清洗槽的內部結構圖；
[0035]圖3顯示了本實用新型表面處理設備的前段烘干部的結構示意圖；
[0036]圖4a顯示了本實用新型表面處理設備的前段冷卻部的結構示意圖，圖4b顯示了前段冷卻部中冷卻槽的結構示意圖；
[0037]圖5顯示了本實用新型表面處理設備的預處理部的結構示意圖，圖5a顯示了預處理部的槽體結構透視圖，圖5b顯示了預處理部的側視圖，圖5c顯示了預處理部的左視圖；
[0038]圖6顯示了本實用新型表面處理設備的中段烘干部的結構示意圖；
[0039]圖7a顯示了本實用新型表面處理設備的中段冷卻部的結構示意圖，圖7b顯示了中段冷卻部中冷卻槽的結構示意圖；
[0040]圖8顯示了本實用新型表面處理設備的硅化處理部的結構示意圖，圖8a顯示了硅化處理部的槽體結構透視圖，圖8b顯示了硅化處理部的側視圖，圖Sc顯示了硅化處理部的左視圖；
[0041]圖9顯示了本實用新型表面處理設備的后段烘干部的結構示意圖；
[0042]圖10顯示了本實用新型表面處理設備的空氣通道的結構示意圖；
[0043]圖11顯示了本實用新型表面處理設備的門窗系統(tǒng)結構示意圖。
【具體實施方式】
[0044]為使本實用新型的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚明了，下面結合【具體實施方式】并參照附圖，對本實用新型進一步詳細說明。應該理解，這些描述只是示例性的，而并非要限制本實用新型的范圍。這些圖并非是按比例繪制的，其中為了清楚的目的，放大了某些細節(jié)，并且可能省略了某些細節(jié)。圖中所示出的各種結構，部件的形狀以及它們之間的相對大小、位置關系僅是示例性的，實際中可能由于制造公差或技術限制而有所偏差，并且本領域技術人員根據實際所需可以另外設計具有不同形狀、大小、相對位置的部件。
[0045]圖1顯示了本實用新型的表面處理設備的系統(tǒng)結構示意圖。
[0046]參見圖1，本實用新型的表面處理設備主要用于對塑料表面進行硅化處理，表面處理設備執(zhí)行的表面處理工藝包括清洗、前段烘干、前段冷卻、預處理、中段烘干、中段冷卻、硅化處理、后段烘干等步驟，與上述各個工藝步驟相對應，表面處理設備按照工藝流程分別包括清洗部1、前段烘干部2、前段冷卻部3、預處理部4、中段烘干部5、中段冷卻部6、硅化處理部7、后段烘干部8以及控制臺9。
[0047]清洗部I用于對工件表面進行清洗，去除工件表面附著的油污、灰層等雜質。工件表面經清洗干凈后，在后續(xù)預處理和表面硅化處理的階段，能夠使藥水能與工件充分接觸以提高膜層間的附著力，同時能夠確保工件表面在處理后無任何雜質，塵點。如果工件表面清洗不干凈，可能會造成工件在完成處理后，表面出現雜點以及硅化膜容易脫落。
[0048]前段烘干部2設置在清洗部I之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體。如果烘干不徹底，工件表面殘留的液體會污染預處理藥水，導致藥水很快失效。
[0049]前段冷卻部3設置在前段烘干部2之后，用于將工件冷卻到預定溫度。如果冷卻不充分，會造成處理工件表面的膜層易脫落。
[0050]預處理部4設置在前段冷卻部3之后，用于對工件表面進行預處理，以增加硅化保護層與工件表面的粘合力。
[0051]中段烘干部5設置在預處理部4之后，用于對工件表面進行烘干處理，去除工件表面殘留的液體。
[0052]中段冷卻部6設置在中段烘干部5之后，用于將工件冷卻到預定溫度。
[0053]硅化處理部7設置在中段冷卻部6之后，用于對工件表面進行硅化處理，在工件表面形成硅化保護層。
[0054]后段烘干部8設置在硅化處理部7之后，用于對工件表面進行烘干處理，去除工件表面殘留的液體。
[0055]控制臺9電連接到上述各個部件，用于控制這些部件的工作參數。
[0056]可選的，在設備上部還設置有空氣供給系統(tǒng)10，用于提供純凈空氣給設備的各個處理部。
[0057]可選的，在設備外部還設置有門窗系統(tǒng)11，用于實現設備內部與外部環(huán)境的隔離。
[0058]圖2a顯示了本實用新型表面處理設備的清洗部的結構示意圖，圖2b顯示了清洗部中清洗槽的內部結構圖，圖2c顯示了清洗部中連體清洗槽的內部結構圖。
[0059]參見圖2a，本實用新型表面處理設備的清洗部I包括多個清洗槽11_18，依次對工件進行表面清洗操作。在圖2a所示的優(yōu)選實施例中示出了第一至第八共8個清洗槽，但本實用新型不限制于此，根據實際工藝需要可以設置更少或更多的清洗槽。
[0060]圖2b顯示了所述每個清洗槽的內部結構。參見圖2b，構成清洗部I的清洗槽包括主槽110、副槽111和隔板112。如圖所示，靠近工件輸入端側壁的10-15CM距離處設置有隔板112，將清洗槽隔離成主槽110和副槽111，靠近工件輸入端的槽體為副槽111，副槽111右側為主槽110。隔板112固定在清洗槽槽體的底面和前后側面，隔板的高度設置為低于槽體頂端。在副槽后側側壁且低于主槽液面N的位置設有一個溢流口 113，溢流口通過一個管道與排水管相連，該溢流口用于保持副槽的液面M始終處于主槽液面之下，從而使得在水泵運行的時候形成一個液面差，使得主槽的液面的懸浮物能夠自動流向副槽。
[0061 ] 參見圖2b，主槽110底部設置有超聲波發(fā)生裝置114，用于產生超聲波并傳遞給主槽110內的液體,使得液體分子在超聲波的驅動下高頻振動,清洗掉工件表面的雜質。本實用新型中，超聲波發(fā)生裝置114產生的超聲波的頻率在20KHZ — 120KHZ范圍內連續(xù)變化。超聲波發(fā)生裝置114可以設置在槽體內部(即主槽內部的底部)，也可以設置在槽體外部(SP主槽外部的底部)。
[0062]可選的，部分清洗槽中設置有溫度控制系統(tǒng)。本實用新型中，優(yōu)選的在第二清洗槽12和第八清洗槽18中設置有溫度控制系統(tǒng)，參見圖2a，但本實用新型不限制于此。參見圖2b，溫度控制系統(tǒng)包括在清洗槽的主槽110前后兩側的外部設置的加熱板115，用于加熱槽體內的液體。可選的，主槽內部設置有溫度傳感器(未示出)，用于探測主槽內的液體溫度。溫度傳感器和加熱板115可以連接到表面處理設備的控制臺9，通過控制臺9控制槽體內液體的溫度。另外，溫度傳感器也可以設置在槽體外部。
[0063]進一步，如圖2a所示，部分清洗槽上設置有給排水系統(tǒng)。本實用新型中，在第一、第二、第三、第六和第七連體槽，第八清洗槽上設置有給排水系統(tǒng)。圖2b詳細顯示了清洗槽上的給排水系統(tǒng)，如圖2b所示，主槽110底部設置有用于補給新水的進水口，副槽111的底部設置有用于排水的出水口。出水口連接到水泵P，水泵P的出水端連接到單向閥V，單向閥V的出水端連接到過濾器F，過濾器F的出水端連接到主槽110底部的進水口。通過上述給排水系統(tǒng)的工作，副槽111中臟水不斷的被水泵P抽出，經單向閥V到過濾器F過濾之后，形成的干凈的凈水進入到主槽110，從而實現副槽和主槽之間的液體循環(huán)與過濾，使得主槽內的液體始終保持較高的潔凈度。此外，主槽中優(yōu)選的設置有補水口(未示出)，用于在主槽內液體不夠時補充干凈的清洗液。
[0064]優(yōu)選的，在副槽111側壁高于槽體底部的位置處設置有第一水位感應器，在第一水位感應器上方低于主槽液面的位置設置有第二水位感應器。當副槽液面低于第二水位感應器的位置時，上述補水口處的補水閥門打開，開始向主槽補水。當副槽液面低于第一水位感應器時，表示該清洗槽缺水，控制臺9會控制該清洗槽的水泵P停止工作，對水泵起到保護作用。
[0065]下面，對第一至第八清洗槽11-18分別進行介紹。
[0066]第一清洗槽11中放置強堿性第一清洗藥水，用于清除附著在工件表面的油污和顆粒物。在本實用新型的優(yōu)選實施例中，第一清洗藥水的PH值為12-14，例如采用NAOH，KOH等溶液。藥水溫度控制在40— 65°C之間，優(yōu)選值為43°C，52°C，58°C。第一清洗藥水的清洗時間(即超聲波開啟時間)在60秒至180秒之間，優(yōu)選值為80秒，100秒，150秒。該清洗時間可以根據工件表面的潔凈狀況以及表面處理工藝要求來靈活設置。此外，第一清洗槽的工作溫度優(yōu)選的為常溫即可，不需要額外的加熱裝置。
[0067]優(yōu)選的，第一清洗槽11中的超聲波發(fā)生裝置產生的超聲波為變頻超聲波，超聲波的頻率在40KHZ-120KHZ之間連續(xù)波動。具體來說，超聲波的振動頻率在每分鐘內40KHZ變化到120KHZ，再從120KHZ變化到40KHZ的次數是100-500次，也即超聲波頻率的變化頻率范圍 100-500Hz。
[0068]現有技術中，超聲波發(fā)生裝置產生的超聲波頻率為恒定值，這種定頻超聲波清洗方式存在下述缺點:(I)只能清洗到工件的固定位置，清洗面積非常有限；(2)需要通過不停在槽內上下抖動工件來使其洗到更多的部位，但是現有上下抖動的技術的抖動頻率不高，仍然不能滿足清洗要求，實際上造成工件的部分位置被打傷，或則部分位置清洗不徹底；(3)工件在抖動中容易掉落在槽中，造成工件合格率低；(4)工件上下抖動過程存在機械摩擦會產生灰塵,該灰塵會污染空氣；(5)工件上下抖動過程需要機械摩擦，機械配合部分需要潤滑油，該潤滑油會揮發(fā)，揮發(fā)的油分子會污染空氣；(6)在抖動過程中不能取出和放入工件，不便于觀察每槽的清洗狀況。
[0069]本實用新型中采用變頻清洗方式，該方式完全避免了上述缺陷，至少具有下述效果:(1)清洗過程中，工件在槽中靜止不動，通過變換超聲波的頻率來提高清洗效果，由于超聲波的頻率變化很快，所以能夠均勻地清洗到工件的每一個部位，清洗效果非常徹底；
(2)變頻超聲波清洗過程中，可以隨時取放工件，隨時觀察清洗狀況和調整工藝，大大提高生產效率和提高清洗效果。
[0070]另外，通過控制臺9的控制作用，可以設置為清洗槽的超聲波發(fā)生器和水泵交替工作。也即，超聲波發(fā)生器工作時，水泵停止工作；超聲波發(fā)生器停止工作時，水泵開始工作。超聲波發(fā)生器工作時水泵停止工作，可以避免液體的流動導致超聲波的能量大量損失。超聲波發(fā)生器停止工作時水泵開始工作，可以保持液體的均勻性和將液體中的雜質帶出主槽，確保主槽內的液體均勻和無大顆粒物。
[0071]第二清洗槽12中放置弱堿性第二清洗藥水，用于進一步去除附著在工件表面的油污和顆粒物。本實用新型中，第二清洗藥水的PH值為8-10，優(yōu)選的采用ΝΑΟΗ,ΚΟΗ溶液。這里，采用弱堿性清洗藥水可以防止殘留在工件表面的堿性藥水對第三清洗槽13中的酸性藥水造成破壞，延長第三清洗槽13中清洗藥水的使用壽命，保障清洗效果。第二清洗槽12的超聲波發(fā)生器頻率、清洗時間等特征與第一清洗槽11的相同。另外，第二清洗槽12優(yōu)選的設置溫度控制系統(tǒng)(含加熱板115)，用于將第二清洗槽12中的液體保持在預定溫度范圍內，例如35攝氏度至65攝氏度范圍內。
[0072]第三清洗槽13中放置強酸性第三清洗藥水，用于清除附著在工件表面的堿性殘留物。本實用新型中，第三清洗藥水優(yōu)選的采用PH值為2-5的HCL或草酸等酸性藥水。第三清洗槽13的超聲波發(fā)生器頻率、清洗時間、清洗溫度等特征與第一清洗槽11的相同。
[0073]第四清洗槽14和第五清洗槽15形成為連體槽。如圖2c所示，連體槽包括第四副槽140、第四主槽141、第一隔板142、第二隔板143、第五副槽150、第五主槽151、第三隔板152。另外，每個主槽上設置有超聲波發(fā)生器。
[0074]第四清洗槽14靠近工件輸入端側壁的10-15CM距離處設置有第一隔板142，將第四清洗槽14隔離成第四副槽140和第四主槽141，靠近工件輸入端的槽體為第四副槽140，第四副槽140右側為第四主槽141。第一隔板142固定在第四清洗槽14槽體的底面和前后側面，隔板的高度設置為低于槽體頂端。在副槽后側側壁且低于主槽液面N的位置設有一個溢流口 144，溢流口通過一個管道與排水管相連，該溢流口用于保持副槽的液面M始終處于主槽液面N之下，從而使得在水泵運行的時候形成一個液面差，使得主槽的液面的懸浮物能夠自動流向副槽。
[0075]第四清洗槽14與第五清洗槽15之間由兩塊隔板隔開，即第二隔板143和第三隔板152。第二隔板143與第三隔板152之間形成為第五清洗槽15的第五副槽150，第三隔板152右側形成第五主槽151。第二隔板143固定在槽體前后側壁上，使其下邊緣與槽體底部保持5-10CM間隙，第三隔板152固定在槽體底面和前后側面，第三隔板與第二隔板之間間隔3-5CM。另外，第四清洗槽14的第一隔板142高度設置為低于第五清洗槽15的第三隔板152的高度。這樣使得第五清洗槽15的液體能夠流到第四清洗槽14，第五清洗槽15主槽液面的懸浮物能夠自動流向第二隔板143與第三隔板152之間的夾層。第五清洗槽的液體能夠通過該夾層下面的通道流向第四清洗槽，第四清洗槽的液面的懸浮物能夠自動流向第四副槽140。
[0076]第四副槽140底部設置有一個排水口，直接與排水管相連，將副槽內部的液體直接排出。第四清洗槽和第五清洗槽的底部分別有一個排水口，分別通過管道與不同的排水閥門相連。此外，第五清洗槽底部設有一個補水，用于補給新水。
[0077]第四清洗槽和第五清洗槽中放置弱堿性第四清洗藥水，用于去除殘留在工件表面的酸性藥水。本實用新型中，第四清洗藥水優(yōu)選的采用PH值為8-8.5的NaHC03溶液。該NaHC03溶液極易溶解于水，與酸物質容易反應生成Na2C03，該Na2C03也極易溶解于水，容易去除。第四、第五清洗槽14、15的超聲波發(fā)生器頻率、清洗時間、清洗溫度等特征與第一清洗槽11的相同。
[0078]第六清洗槽16和第七清洗槽17為連體槽，該連體槽的結構與上述第四清洗槽14和第五清洗槽15的連體槽結構相同，參見圖2c的描述，此處不再贅述。另外第六清洗槽16和第七清洗槽17還設置有如圖2a和圖2b所示的給排水系統(tǒng)。所不同的是，給排水系統(tǒng)的出水口設置在第六清洗槽16的副槽底部，給排水系統(tǒng)的進水口設置在第七清洗槽17的主槽底部。給排水系統(tǒng)的其他特征與圖2b的描述相同。
[0079]第六清洗槽16和第七清洗槽17中放置常溫超純水，用于去除殘留在工件表面的弱堿性第四清洗藥水及其產生物。例如，可以去除NaHC03及其與酸性物質反應產生的Na2C03。本實用新型中，超純水優(yōu)選的采用電阻率為12-18兆歐姆的超純水。第六、第七清洗槽16、17的超聲波發(fā)生器頻率、清洗時間、清洗溫度等特征與第一清洗槽11的相同。
[0080]第八清洗槽18中放置高溫超純水，用于進一步去除殘留在工件表面的雜質。本實用新型中，超純水優(yōu)選的采用阻率為12-18兆歐姆的超純水。另外，第八清洗槽18中設置有溫度控制系統(tǒng)(包括加熱板和溫度傳感器)，用于將第八清洗槽18中的超純水溫度保持在60—75度之間。通過使用高溫超純水，當工件脫離液面(該脫離純水的過程可稱作“切水”)時，水分更容易揮發(fā)，工件表面不會殘留過多水分，在保障清洗效果的同時縮短烘干時間，提高生產效率。另外，如果水溫過高，可能會造成設備內部濕度過高，難于控制，溫度過低不能達到切水的效果。第八清洗槽18中可以不設置超聲波發(fā)生器。
[0081]圖3顯示了本實用新型表面處理設備的前段烘干部的結構示意圖。
[0082]如圖3所示，前段烘干部2包括多個烘干槽21、22、23，沿工件前進方向依次設置。下面以烘干槽21為例介紹烘干槽的內部結構，其他烘干槽具有相同的形狀和結構。參見圖3，烘干槽21包括紅外管210、反射板211、網板212?？蛇x的，還包括溫度傳感器213，用于檢測烘干槽的溫度。
[0083]紅外管210設置在烘干槽的底部，用于發(fā)射紅外線烘干工件。在底部左右兩側各設有一個紅外管，紅外管通過外接控制器來控制紅外發(fā)熱時間，時間在I一5分鐘之間。
[0084]反射板211設置在烘干槽的底部中間以及左右兩側的側壁上。在底部中間處的反射板形成為凸起狀，例如凸起的三角形；在左右兩側的側壁上的反射板形成為凹入狀，例如凹入的三角形。反射板可以有效反射紅外管所發(fā)出的紅外線，確保烘干得更均勻，縮短烘干時間，提聞效率和降低能耗。[0085]網板212設置在紅外管210上方位置，用于發(fā)散紅外線。通過網板的網孔來發(fā)散紅外線，可以確保烘干的均勻性。另外，網板還起到保護紅外管的作用，防止工件或其他東西掉進槽體內部砸壞紅外管。
[0086]優(yōu)選的，烘干槽的內表面(包括底部和側壁)形成為鏡面，可以更有效的反射紅外光，確保烘干效果更加均勻，縮短烘干時間，提高效率和降低能耗。
[0087]本實用新型的優(yōu)選實施例中，前段烘干部2設置有3個烘干槽21、22、23，但本實用新型不限制于此，例如可以設置1-5個相同的烘干槽。設置更多的烘干槽可以縮短每個槽的停留時間，縮短流程周期。例如，如果前段烘干部2的烘干作業(yè)時間為10分鐘，如果是設置一個烘干槽，則該一個烘干槽的作業(yè)周期長達10分鐘，即工件需要在一個烘干槽內停留時間長達10分鐘，導致后面的工件需要等待至少10分鐘才能進入下一個處理部，客觀上使得工件在前段烘干部2的滯留等待時間延長到10分鐘以上。如果設置5個烘干槽，則單個烘干槽的作業(yè)周期僅為2分鐘，工件需要在一個烘干槽內停留的時間也僅為2分鐘，后面的工件只需要等待2分鐘就可以前進到下一個處理部，使得工件在前段烘干部2的滯留等待時間僅為2分鐘，從而明顯提高了工件在整個設備上的前進速度，在保證烘干效果的同時大大提聞了生廣效率。
[0088]圖4a顯示了本實用新型表面處理設備的前段冷卻部的結構示意圖，圖4b顯示了前段冷卻部中冷卻槽的結構示意圖。
[0089]如圖4a所示，前段冷卻部3包括多個冷卻槽31、32、33，沿工件前進方向依次設置。下面以冷卻槽31為例介紹冷卻槽的內部結構，其他冷卻槽具有相同的形狀和結構。
[0090]參見圖4b，冷卻槽底部封口，上部開口，從冷卻槽上部空氣通道流出的空氣從冷卻槽上部進入冷卻槽內，通過空氣的流動冷卻槽內部的工件。在冷卻槽側面的前后兩側的靠底部四角設置有開孔310，例如4個直徑為4-8CM的圓孔或邊長為4-8CM的方形小孔，用于排出進入冷卻槽的空氣，以形成流暢的空氣流。槽體中間靠底板附近設有網板311，用于分流從槽體上端往下流動的空氣,使得空氣流均勻，同時可以避免工件跌落到槽體底部。本實用新型中，冷卻槽可以設置1-4個，冷卻槽越多，可以縮短單個槽的冷卻停留時間，加快工件前進速度，提高設備處理效率。
[0091]圖5顯示了本實用新型表面處理設備的預處理部的結構示意圖。其中，圖5a顯示了預處理部的槽體結構透視圖，圖5b顯示了預處理部的側視圖，圖5c顯示了預處理部的左視圖。
[0092]如圖5所示，預處理部4形成為一個預處理槽，其中存放有預處理液，用于對工件表面進行預處理，以增加硅化保護層與工件表面的粘合力。所述預處理槽包括外槽41、內槽42、儲液槽43和冷卻槽44。
[0093]外槽41形成為上部開口的長方體，構成預處理槽的外殼。
[0094]內槽42形成為上部開口的長方體，設置在外槽41的內部，內槽42設置在靠近在外槽一端短邊并距離該短邊大約5-lOcm處的位置，以及設置在靠近外槽兩側長邊并距離外槽的兩個長邊大約20-40cm處的位置，并固定在外槽41的底板上。
[0095]參見圖5a，冷卻槽44由內槽42和外槽41在彼此靠近的3個側面之間的間隙形成的U型密閉空間構成。具體的說，在內槽42靠近外槽41的一端短邊以及兩側長邊的間隙并在低于內槽3-8CM的位置處，設置有隔板45將內槽外壁和外槽內壁密封性連接起來。進一步，在內槽另一短邊(與外槽另一短邊對應的短邊)平齊的左右兩面，隔板45將內槽的外壁、外槽的內壁以及外槽底部密封性連接起來，使得外槽41和內槽42在彼此靠近的三個側面附近形成一個U字型的密閉空間，該密閉的U型槽里面放置有冷卻液，用于冷卻內槽42內的液體，使其保持在預定溫度范圍，即冷卻槽44。
[0096]外槽和內槽在相對距離遠的短邊之間的空間形成上部開口的儲液槽43。
[0097]儲液槽43底部設置有出水口，其通過管道連接到外部的給排水系統(tǒng)，進而連接到內槽42底部的入水口。給排水系統(tǒng)的結構組成參見前文圖2中有關給排水系統(tǒng)的描述，同樣包括泵、單向閥以及過濾器等。通過給排水系統(tǒng)的工作，儲液槽43內的液體不斷的循環(huán)到內槽42內，確保內槽42內的液面始終保持在預定位置以上。另外，給排水系統(tǒng)的工作能夠過濾掉儲液槽43內液體中的空氣以及顆粒物和其他雜質，使得處理藥水充分混合。
[0098]內槽42用于容納預處理液，以用于對工件表面進行預處理。經過預處理液浸泡處理后，可以顯著增加硅化保護層與工件表面的粘合力，從而提高后面的硅化處理工藝的成功率。可選的，預處理液可以增加一些功能性的成分，例如感光變色色粉等，使得工件表面具有彩色效果或感光變色效果。通過冷卻槽44的作用，可以使得內槽42內的預處理液的溫度始終控制在10攝氏度到25攝氏度之間，該溫度范圍內具有最佳的預處理效果。另外，內槽42的底部設置有排水口，用于排放內槽42內液體，使得內槽42內的液體不停的循環(huán)更新。
[0099]如圖5a中箭頭處所示，冷卻槽44的一側靠近儲液槽43的底部設有入水口，另一側靠近儲液槽43的上部設有出水口，出水口和入水口之間與冷水機相連。優(yōu)選的，內槽42側壁上設有溫度探頭，通過溫度探頭對槽體液體的溫度檢測信號來控制循環(huán)水的溫度和流量達到快速精準地控制內槽42和儲液槽43里面處理液的溫度。
[0100]預處理槽與下文中的硅化處理槽具有相同的結構和工藝參數，所不同的主要是內槽中放置的處理液不同。
[0101]圖6顯示了本實用新型表面處理設備的中段烘干部的結構示意圖。
[0102]如圖6所示，中段烘干部5設置在預處理部4之后，用于對工件表面進行烘干，去除工件表面殘留的液體。中段烘干部5包括多個烘干槽51、52和53，沿工件前進方向依次設置。以烘干槽51為例，其包括紅外管510、反射板511、網板512?？蛇x的，還包括溫度傳感器513，用于檢測烘干槽的溫度。
[0103]中段烘干部5與前段烘干部2具有完全相同的結構和工藝要求，關于其詳細描述請參見圖3中關于前段烘干部2的描述。
[0104]圖7a顯示了本實用新型表面處理設備的中段冷卻部的結構示意圖，圖7b顯示了中段冷卻部中冷卻槽的結構示意圖。
[0105]如圖7所示，中段冷卻部6設置在中段烘干部5之后，用于將工件冷卻到預定溫度。中段冷卻部6包括多個冷卻槽61、62、63，沿工件前進方向依次設置，各個冷卻槽具有相同的形狀和結構。每個冷卻槽側面的前后兩側的靠底部四角設置有開孔610，槽體中間靠底板附近設有網板611，用于分流從槽體上端往下流動的空氣，形成流暢的空氣流。
[0106]中段冷卻部6與前段冷卻部3具有完全相同的結構和工藝要求，關于其詳細描述請參見圖4中關于前段冷卻部3的描述。
[0107]圖8顯示了本實用新型表面處理設備的硅化處理部的結構示意圖。其中，圖8a顯示了硅化處理部的槽體結構透視圖，圖8b顯示了硅化處理部的側視圖，圖Sc顯示了硅化處理部的左視圖。
[0108]如圖8所示，硅化處理部7設置在中段冷卻部6之后，用于對工件表面進行硅化處理，在工件表面形成硅化保護層。硅化處理部7形成為一個硅化槽，所述硅化槽包括外槽71、內槽72、儲液槽73和冷卻槽74。
[0109]外槽71形成為上部開口的長方體,構成娃化槽的外殼。
[0110]內槽72形成為上部開口的長方體，設置在外槽71的內部，內槽72設置在靠近在外槽一端短邊并距離該短邊大約5-lOcm處的位置，以及設置在靠近外槽兩側長邊并距離外槽的兩個長邊大約20-40cm處的位置，并固定在外槽71的底板上。
[0111]參見圖8a，冷卻槽74由內槽72和外槽71在彼此靠近的3個側面之間的間隙形成的U型密閉空間構成。具體的說，在內槽72靠近外槽71的一端短邊以及兩側長邊的間隙并在低于內槽3-8CM的位置處，設置有隔板75將內槽外壁和外槽內壁密封性連接起來。進一步，在內槽另一短邊(與外槽另一短邊對應的短邊)平齊的左右兩面，隔板75將內槽的外壁、外槽的內壁以及外槽底部密封性連接起來，使得外槽71和內槽72在彼此靠近的三個側面之間形成一個U型的密閉空間，該密閉的U型槽里面放置有冷卻液，用于冷卻內槽72內的液體，使其保持在預定溫度范圍。
[0112]外槽和內槽在相對距離遠的短邊之間的空間形成上部開口的儲液槽73。
[0113]儲液槽73底部設置有出水口，其通過管道連接到外部的給排水系統(tǒng)，進而連接到內槽72底部的入水口。給排水系統(tǒng)的結構組成參見前文圖2中有關給排水系統(tǒng)的描述，同樣包括泵、單向閥以及過濾器等。通過給排水系統(tǒng)的工作，儲液槽73內的液體不斷的循環(huán)到內槽72內，確保內槽72內的液面始終保持在預定位置以上。另外，給排水系統(tǒng)的工作能夠過濾掉儲液槽73內液體中的空氣以及顆粒物和其他雜質，使得處理藥水充分混合。
[0114]內槽72用于容納娃化處理液，以用于對工件表面進行娃化處理。娃化處理液的主要成分為有機硅化物，經過硅化處理液浸泡處理后的工件表面會涂覆有一層硅化保護層，經過紅外線烘干固化處理后，硅化保護層形成為均勻而致密的硅化薄膜，用于保護工件表面。通過冷卻槽74的作用，可以使得內槽72內的硅化處理液的溫度始終控制在10攝氏度到25攝氏度之間，該溫度范圍內具有最佳的硅化處理效果。另外，內槽72的底部設置有排水口，用于排放內槽72內液體，使得內槽72內的液體不停的循環(huán)更新。
[0115]如圖8a中箭頭處所示，冷卻槽74的一側靠近儲液槽73的底部設有入水口，另一側靠近儲液槽73的上部設有出水口，出水口和入水口之間與冷水機相連。優(yōu)選的，內槽72側壁上設有溫度探頭，通過溫度探頭對槽體液體的溫度檢測信號來控制循環(huán)水的溫度和流量達到快速精準地控制內槽72和儲液槽73里面處理液的溫度。
[0116]現有技術中，通常是在內槽72、儲液槽73內部設置有冷卻管道，通過液體在管道中循環(huán)，達到冷卻效果，該冷卻方式具有下述明顯缺陷:第一，冷卻效率低，由于管道的接觸面積較小，所以熱交換面積很小，冷卻速度慢；第二，接觸管道部分液體溫度低，未接觸冷卻管道的部分溫度高，造成槽體內部溫度不均勻，溫差大，從而難保證處理效果；第三，現有冷卻方式不便于槽體內部清洗，由于槽體內部管道纏繞太多，死角很多，很難清洗干凈，不能保證工件質量；第四，管道與槽體的接口處容易滲漏。
[0117]相對的，本實用新型的冷卻槽結構完全解決了以上問題，最大程度上保證了工藝的要求，而且非常穩(wěn)定，大大提高了效率和工件品質。
[0118]另外，內槽的上端設置為低于外槽的上端，優(yōu)選的低3 — 8CM。這種結構的技術效果在于:在準備工作的時候，泵打開，可以不斷循環(huán)，此時需要蓋上一個蓋子，防止其他雜質掉進去，減少液體揮發(fā)，循環(huán)的時候內槽液體不會接觸到上蓋；在停止工作的時候，可以蓋上蓋子，減少液體揮發(fā)。
[0119]圖9顯示了本實用新型表面處理設備的后段烘干部的結構示意圖。
[0120]后段烘干部8設置在硅化處理部7之后，用于對工件表面進行烘干，去除工件表面殘留的液體。如圖9所示，后段烘干部8形成為一個長方體狀的烘干槽。該烘干槽底部設置有多個紅外管81，例如10至20個。
[0121]紅外管底部優(yōu)選的設置有多個反射板82，用于反射紅外線，提高烘干效率。該反射板可以形成為平板狀，也可以形成為凸起形狀，例如凸起的三角形。
[0122]烘干槽內紅外管上方位置設置有多個網板83，用于發(fā)散紅外線。通過網板的網孔來發(fā)散紅外線，可以確保烘干的均勻性。另外，網板可以起到保護紅外管的作用，防止工件或其他東西掉進槽體內部砸壞紅外管。
[0123]烘干槽頂部設有多個蓋板84，例如5— 8個。蓋板84具有保溫和節(jié)能的作用，避免紅外管的熱量向設備內部的其它部位擴散。優(yōu)選的，蓋板內側設置有反射涂層，用于反射槽體底部發(fā)射出來的紅外線，使其能夠干燥到工件的上端。
[0124]優(yōu)選的，烘干槽槽體前后兩側裝有傳動鏈條，通過齒輪和傳動裝置運輸工件緩慢前進，使得工件在緩慢前進中被烘干，提高了設備的加工先考慮。
[0125]工件在后段烘干部中的烘干時間優(yōu)選的為10 — 20分鐘。
[0126]圖10顯示了本實用新型表面處理設備的空氣通道的結構示意圖。
[0127]本實用新型表面處理設備的上部設置有空氣供給系統(tǒng)10，用于提供純凈空氣給設備的各個處理部。
[0128]如圖10所示，空氣供給系統(tǒng)10形成為空心的長方體形狀，該空心的長方體即構成空氣通道，用于將空氣輸送到設備的各個處理部。長方體的頂部或背側設有一個或多個進氣口 101，長方體內部設置有多個隔板102，長方體底部設置有多個分流孔103。
[0129]進氣口 101外接到純凈空氣產生裝置，用于輸入純凈空氣。優(yōu)選的，進氣口 101設置在硅化處理部7的上方，使得硅化處理部7上方始終具有足夠的純凈空氣，以確保硅化處理工藝始終在純凈的空氣環(huán)境中進行。
[0130]隔板102形成為中間設置有開口的擋板，隔板102的優(yōu)選的設置在前述各個處理部或處理槽的交界位置處，使得相鄰兩個隔板102之間的空間正好與某個處理部或處理槽(例如冷卻槽，預處理槽等)的位置對應，這樣，純凈空氣在相鄰兩個隔板102之間的空間形成回流緩沖，從而能夠充分的進入到下方對應的處理部或處理槽。隔板102中間的開口形成為空氣流通通道，方便空氣進入到相鄰的隔板區(qū)域。
[0131]分流孔103形成為具有多個小孔的網板，網板上的小孔直徑為1MM-3麗，小孔的中心間距為2MM-5MM，這些小孔用于空氣分流，使整個長方體的底部都有空氣流出，同時保障空氣氣流的均勻性。
[0132]參見圖10，可選的，空氣供給系統(tǒng)10還設置有空氣流出通道104，用于將設備內部的空氣排出，使得處理部上空氣始終保持足夠的純凈度?？諝饬鞒鐾ǖ?04形成為沿著各處理部排列方向延伸的空心長方體，其朝向處理部的側壁開設有多個排氣口 1041,用于處理部上方的空氣進入空氣流出通道104?？諝饬鞒鐾ǖ?04的底部開設有一個或多個出氣孔1042，用于排出空氣。
[0133]輸入到空氣通道的空氣優(yōu)選的為10-30攝氏度范圍內的恒溫空氣，空氣的濕度范圍為20%-60%，潔凈度的潔凈級別為100級，空氣的補給量為4000立方米-8000立方米每小時。
[0134]本實用新型的空氣供給系統(tǒng)10的作用是通過持續(xù)補給設備內部的潔凈空氣，使設備內部與外部空間形成一個壓力差，從而保證設備內部的氣壓大于外界氣壓，從而可以維持設備內部的潔凈度，保障工件在處理過程中始終處于溫度、濕度、潔凈度可控的純凈空氣環(huán)境中，確保工件表面處理的外觀效果。
[0135]圖11顯示了本實用新型表面處理設備的門窗系統(tǒng)結構示意圖。
[0136]本實用新型的表面處理設備設置有透明可拆卸的門窗系統(tǒng)11，用于實現設備內部與外部環(huán)境的隔離，同時方便工作人員的觀察和操作。
[0137]如圖11所示，表面處理設備的門窗系統(tǒng)11優(yōu)選的設置有多個透明門板。例如，可以設置8-20塊大小不等的透明塑膠板構成門板，每塊門板都可獨立拆卸，門板上方和下方分別設有卡槽，門板置于上下卡槽之間。
[0138]通過上述門窗系統(tǒng)，使得工作人員在生產過程中可以隨時觀察設備內部的運行情況，可以隨時打開門板，取出工件觀察工件的處理效果，便于及時調整工藝參數降低損失。
[0139]如上所述，本實用新型提供了一種表面處理設備，主要用于對塑料表面進行硅化處理，形成硅化保護層。相對于以紫外線固化為主要工藝的傳統(tǒng)噴涂處理工藝和設備，本實用新型的表面處理設備具有下述優(yōu)點:
[0140](I)硅化處理后的工件表面非常平整、光澤度高、塵點少，而噴涂工藝由于其工藝的局限性，工件表面平整度差、光澤較暗、易附著灰塵。
[0141](2)經硅化處理后的工件，耐候性好，表面不會出現龜裂，不易老化，即使90度彎折也不會出現膜層開裂；傳統(tǒng)的噴涂工藝普遍采取紫外線固化，因其材料中的成份對紫外線很敏感，陽光中含大量紫外線，使得噴漆工件的表面在日常使用中會迅速老化，表面膜層出現龜裂。
[0142](3)本實用新型的表面處理設備采用全封閉結構，設備內部可達100級無塵環(huán)境，使得處理的合格率能達到95%以上；傳統(tǒng)的噴涂工藝主要采用半封閉或開放式結構，設備內部最高只能達到10000級環(huán)境，使得處理的合格率只能達到70-80%左右。
[0143](4)本實用新型的表面處理設備采用全自動化生產，生產效率高，每條生產線每天可生產4萬片以上的工件；傳統(tǒng)的噴涂工藝主要采用人工或半自動化生產，生產效率低，產能比較低。
[0144](5)本實用新型的表面處理設備采用的硅化工藝及材料，環(huán)保、對人體無害，其中的硅化液是玻璃水解生成物，主要成份為Si02，對人體無害，硅化處理過程中，揮發(fā)性很小，對環(huán)境基本無任何影響；傳統(tǒng)的噴涂工藝設備采用油漆為主要材料，油漆的V0C(揮發(fā)性有機化合物)成份較高,對人體有害,容易污染環(huán)境,并且油漆中所含的紫外線感光成份也會對人體造成傷害。
[0145]應當理解的是，本實用新型的上述【具體實施方式】僅僅用于示例性說明或解釋本實用新型的原理，而不構成對本實用新型的限制。因此，在不偏離本實用新型的精神和范圍的情況下所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。此外，本實用新型所附權利要求旨在涵蓋落入所附權利要求范圍和邊界、或者這種范圍和邊界的等同形式內的全部變化和修改例。
【權利要求】
1.一種表面處理設備，其特征在于，包括: 清洗部(1)，用于對工件表面進行清洗，去除工件表面附著的雜質； 前段烘干部(2 )，設置在清洗部(1)之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體； 前段冷卻部(3 )，設置在前段烘干部(2 )之后，用于將工件冷卻到預定溫度； 預處理部(4)，設置在前段冷卻部(3)之后，用于對工件表面進行預處理以增加硅化保護層與工件表面的粘合力； 中段烘干部(5)，設置在預處理部(4)之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體； 中段冷卻部(6 )，設置在中段烘干部(5 )之后，用于將工件冷卻到預定溫度； 硅化處理部(7)，設置在中段冷卻部(6)之后，用于對工件表面進行硅化處理以在工件表面形成硅化保護層；和 后段烘干部(8 )，設置在硅化處理部(7 )之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體。
2.根據權利要求1所述的表面處理設備，其特征在于，所述清洗部(1)包括多個清洗槽(11-18)，依次對工件進行表面清洗操作，每個所述清洗槽在靠近工件輸入端側壁的一定距離處設置有隔板(112)，將清洗槽隔離成主槽(110)和副槽(111)，靠近工件輸入端的槽體為副槽(111)，副槽(111)右側為主槽(110)。
3.根據權利要求2所述的表面處理設備，其特征在于，每個所述清洗槽中，在所述副槽(11)后側側壁且低于主槽(110)液面的位置設有一個溢流口(113)。
4.根據權利要求2所述的表面處理設備，其特征在于，所述清洗槽的主槽(110)底部設置有超聲波發(fā)生裝置(114)，用于產生變頻超聲波以清洗掉工件表面的雜質，所述超聲波的頻率在20KHZ — 120KHZ范圍內連續(xù)變化。
5.根據權利要求2所述的表面處理設備，其特征在于，多個所述清洗槽還設置有給排水系統(tǒng)，包括: 主槽(110)底部設置的用于補給新水的進水口，副槽(111)的底部設置的用于排水的出水口，出水口連接到水泵(P)，水泵(P)的出水端連接到單向閥(V)，單向閥(V)的出水端連接到過濾器(F)，過濾器(F)的出水端連接到主槽(110)底部的進水口。
6.根據權利要求2所述的表面處理設備，其特征在于，每個所述清洗槽中，主槽(110)中設置有補水口，在副槽(111)側壁高于槽體底部的位置處設置有第一水位感應器，在第一水位感應器上方低于主槽液面的位置設置有第二水位感應器，當副槽液面低于第二水位感應器的位置時，通過所述主槽(110)的補水口向主槽補水。
7.根據權利要求1-6中任一項所述的表面處理設備，其特征在于，所述清洗部(I)包括8個清洗槽(11-18)，依次對工件進行表面清洗操作，其中， 第一清洗槽(11)中放置PH值為12-14的強堿性第一清洗藥水，用于清除附著在工件表面的油污和顆粒物； 第二清洗槽(12)中放置PH值為8-10的弱堿性第二清洗藥水，用于進一步去除附著在工件表面的油污和顆粒物； 第三清洗槽(13)中放置PH值為2-5的強酸性第三清洗藥水，用于清除附著在工件表面的堿性殘留物； 第四清洗槽(14)和第五清洗槽(15)形成為連體槽，其中放置PH值為8-8.5的弱堿性第四清洗藥水，用于去除殘留在工件表面的酸性藥水； 第六清洗槽(16)和第七清洗槽(17)形成為連體槽，其中放置常溫超純水，用于去除殘留在工件表面的弱堿性第四清洗藥水及其產生物；以及 第八清洗槽(18)中放置溫度在60— 75度之間的高溫超純水，用于進一步去除殘留在工件表面的雜質； 所述第一至第七清洗槽中的超聲波開啟時間在60秒至180秒之間。
8.根據權利要求7所述的表面處理設備，其特征在于，所述第四清洗槽(14)和第五清洗槽(15)形成的連體槽包括: 第一隔板(142)，設置在第四清洗槽(14)靠近工件輸入端側壁的一定距離處，將第四清洗槽(14)隔離成第四副槽(140)和第四主槽(141)； 第二隔板(143)，設置在第四清洗槽(14)與第五清洗槽(15)之間，固定在槽體前后側壁上，使其下邊緣與槽體底部保持一 定間隙； 第三隔板(152)，設置在第二隔板(143)右側3-5CM處，固定在槽體底面和前后側面；第二隔板(143)與第三隔板(152)之間形成為第五清洗槽(15)的第五副槽(150)，第三隔板(152)右側形成第五主槽(151); 其中，第四清洗槽(14)的第一隔板(142)高度設置為低于第五清洗槽(15)的第三隔板(152)的高度。
9.根據權利要求8所述的表面處理設備，其特征在于，所述第六清洗槽(16)和第七清洗槽(17)形成為連體槽與所述第四清洗槽(14)和第五清洗槽(15)形成的連體槽具有相同的結構。
10.根據權利要求1所述的表面處理設備，其特征在于，所述前段烘干部(2)和中段烘干部(5)具有相同的結構，均設置有多個烘干槽(21-23、51-53)，每個所述烘干槽包括: 紅外管(210，510)，設置在烘干槽的底部，用于發(fā)射紅外線烘干工件； 反射板(211，511)，設置在烘干槽的底部中間以及左右兩側的側壁上，用于反射紅外管所發(fā)出的紅外線；和 網板(212，512)設置在紅外管(210，510)上方位置，用于發(fā)散紅外線。
11.根據權利要求10所述的表面處理設備，其特征在于，形成在烘干槽底部中間處的反射板形成為凸起狀，形成在烘干槽左右兩側的側壁上的反射板形成為凹入狀。
12.根據權利要求1所述的表面處理設備，其特征在于，所述前段冷卻部(3)和中段冷卻部(6)具有相同的結構，均設置有多個冷卻槽(31-33,61-63)，每個所述冷卻槽包括: 開孔(310，610)，設置在冷卻槽側面的前后兩側的靠底部的四個角部位置處； 網板(311,611),設置在冷卻槽中間靠底板附近。
13.根據權利要求1所述的表面處理設備，其特征在于，所述預處理部(4)和硅化處理部(7)具有相同的結構，都形成為一個處理槽，其包括: 外槽(41，71 )，形成為上部開口的長方體，構成處理槽的外殼； 內槽(42，72)，形成為上部開口的長方體，設置在靠近外槽一端的短邊附近，距離外槽的該短邊及兩側長邊一定距離處，用于容納處理液以用于對工件表面進行處理；冷卻槽(44，74)，由內槽和外槽在彼此靠近的3個側面之間的間隙形成的U型密閉空間構成，用于將內槽內處理液的溫度控制在預定范圍內； 儲液槽(43，73)，形成在內槽與外槽另一端短邊之間，用于盛放處理液以補充到內槽中。
14.根據權利要求13所述的表面處理設備，其特征在于，所述冷卻槽(44，74)通過下述方式形成: 在內槽靠近外槽的3個側面之間的間隙并在低于內槽一定距離的位置處，設置隔板(45，75 )將內槽外壁和外槽內壁密封性連接起來；以及 在內槽另一短邊平齊的左右兩面，隔板將內槽的外壁、外槽的內壁以及外槽底部密封性連接起來，使得外槽和內槽在彼此靠近的三個側面附近形成U型密閉空間。
15.根據權利要求13所述的表面處理設備，其特征在于，所述預處理部(4)的內槽(42)中容納預處理液，用于對工件表面進行預處理以增加硅化保護層與工件表面的粘合力。
16.根據權利要求13所述的表面處理設備，其特征在于，所述硅化處理部(7)的內槽(72 )中容納硅化處理液，用于對工件表面進行硅化處理以在工件表面形成硅化保護層。
17.根據權利要求13所述的表面處理設備，其特征在于，所述內槽的上端設置為低于外槽的上端。
18.根據權利要求 1所述的表面處理設備，其特征在于，所述后段烘干部(8)形成為一個長方體狀的烘干槽，所述烘干槽中包括: 多個紅外管(81)，設置在烘干槽的底部，用于發(fā)射紅外線烘干工件； 多個反射板(82)，設置在紅外管底部及旁邊，形成為平板狀或凸起形狀；和 網板(83)，設置在紅外管(81)的上方位置，用于發(fā)散紅外線。
19.根據權利要求1所述的表面處理設備，其特征在于，所述后段烘干部(8)還包括多個蓋板(84)，設置在烘干槽頂部，所述蓋板內側設置有反射涂層以用于反射槽體底部發(fā)射出來的紅外線。
20.根據權利要求1所述的表面處理設備，其特征在于，所述表面處理設備的上部還設置有空氣供給系統(tǒng)(10)，其形成為空心的長方體形狀以構成空氣通道，用于將純凈空氣輸送到表面處理設備的各個處理部。
21.根據權利要求20所述的表面處理設備，其特征在于，所述空氣供給系統(tǒng)(10)包括: 一個或多個進氣口( 101 )，設置在所述空氣通道的頂部或背側，其外接到純凈空氣產生裝置以輸入純凈空氣； 多個隔板(102)，形成為中間設置有開口的擋板，設置在所述空氣通道內部各個處理部或處理槽的交界位置處，使得相鄰兩個隔板(102)之間的空間與某個處理部或處理槽的位置對應； 多個分流孔(103)，形成為具有多個小孔的網板，設置在所述空氣通道底部，用于使空氣通道內的空氣能夠從底部的分流孔流出。
22.根據權利要求21所述的表面處理設備，其特征在于，所述進氣口(101)設置在硅化處理部(7)的上方，使得硅化處理部(7)上方始終具有足夠的純凈空氣。
23.根據權利要求20所述的表面處理設備，其特征在于，所述空氣供給系統(tǒng)(10)還設置有空氣流出通道(104)，其形成為沿著各處理部排列方向延伸的空心長方體，用于將設備內部的空氣排出，所述空氣流出通道(104)還包括: 多個排氣口( 1041 )，開設在空氣流出通道(104 )朝向處理部的側壁，用于處理使得部上方的空氣進入空氣流出通道(104);和 一個或多個出氣孔(1042)，開設在空氣流出通道(104)的底部，用于排出空氣。
24.根據權利要求1所述的表面處理設備，其特征在于，所述表面處理設備還設置有透明可拆卸的門窗系 統(tǒng)(11)，用于實現設備內部與外部環(huán)境的隔離。
【文檔編號】B08B3/12GK203697492SQ201320824174
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2013年12月13日 優(yōu)先權日:2013年12月13日
【發(fā)明者】林龍 申請人:東莞市益亨表面處理科技有限公司