清潔光掩模板的裝置和方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及半導體制造裝備【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是一種清潔光掩模板的裝置以及清潔方法。該裝置包括具有排氣口的腔體；位于所述腔體內(nèi)的用于固定待清潔光掩模板的平臺；能夠平行于光掩模板表面移動的噴管，所述噴管具有沿著其長度延伸方向布置的一組噴嘴，所述噴管與含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置連接；所述平臺連接靜電導出通道實現(xiàn)電位接地。本發(fā)明在有效去除光掩模板表面的微塵和沾污的同時，高效地去除了光掩模板表面的靜電，避免了靜電釋放對光掩模板的損傷，提高了去除光掩模板表面微塵和沾污的效率，可以有效地延長光掩模在生產(chǎn)中的使用壽命。
【專利說明】清潔光掩模板的裝置和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導體制造裝備【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是一種清潔光掩模板的裝置以及清潔方法。
【背景技術(shù)】
[0002]光掩模板是制作光刻圖形的主要工具。光刻工藝將光掩模板上的復雜圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠中。在過去的幾十年里集成電路的集成規(guī)模沿著摩爾定律的速度快速擴大，芯片變得越來越復雜，對光掩模板的要求也越來越高。特征尺寸的不斷縮小，使得微塵和沾污對光掩模板的影響越來越大。尤其是ArF光掩模板對微塵和沾污更加敏感。環(huán)境引入的微塵和沾污容易導致霧狀缺陷在ArF光掩模板上生長。
[0003]為了保持光掩模板的清潔，通常要對光掩模板定期做缺陷檢查，并及時清除表面吸附的微塵和沾污。目前去除微塵的方法是采用吹氣式空氣/氮氣槍或氣簾將微塵吹離光掩模板表面。這種方法不能有效去除吸附比較牢固的微塵和沾污。去除沾污需要將光掩模板送返到光掩模板工廠進行清洗處理，對生產(chǎn)影響很大。
[0004]氣溶劑(Aerosol)是很好的清洗劑。已經(jīng)被用于物體表面清洗中。中國專利CN1213847A報道了氣溶劑清洗方法。與液體清洗不同，氣溶劑不但能夠更有效地去除物體表面微塵和沾污，而且氣溶劑氣化后不會在物體表面留下痕跡。
[0005]在光掩模板的清潔過程中不可避免地會在光掩模板上產(chǎn)生靜電。光掩模板上的靜電會吸引帶電荷的微塵，導致再沾污。并且，當靜電荷積累到一定的程度時，會在光掩模板上發(fā)生靜電釋放(ESD)，導致器件版圖圖形損傷，造成光掩模板報廢。為了防止靜電損傷，通常在工廠潔凈室的天花板上安裝去離子棒。去離子棒產(chǎn)生帶正負電荷的氣流，對一個圓錐區(qū)域內(nèi)的物體所帶靜電荷進行中和，達到去除靜電的效果。這種通常采用的去靜電方法對于集中產(chǎn)生的靜電的去除效果不強。氣溶劑清洗噴射的氣溶劑氣流與清洗物表面的摩擦，很容易在清洗物表面集中產(chǎn)生靜電。需要有高效的去靜電方法來保證氣溶劑清洗的優(yōu)異清洗效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題為一方面更有效地去除光掩模板表面的微塵和沾污，另一方面去除光掩模板表面的靜電。
[0007]本發(fā)明所采用的技術(shù)手段為:一種清潔光掩模板的裝置，包括具有排氣口的腔體；位于所述腔體內(nèi)的用于固定待清潔光掩模板的平臺；能夠平行于光掩模板表面移動的噴管，所述噴管具有沿著其長度延伸方向布置的一組噴嘴，所述噴管與含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置連接；所述平臺連接靜電導出通道實現(xiàn)電位接地。
[0008]優(yōu)選的，所述腔體形成一個相對隔絕的空間。
[0009]優(yōu)選的，所述噴管平行于光掩模板表面移動的行程大于待清潔光掩模板的邊長。
[0010]優(yōu)選的，所述噴嘴的位置位于噴管底部，且靠近噴管噴射時移動方向的前方。[0011]優(yōu)選的，所述噴嘴能夠以噴管的延伸方向為軸心線轉(zhuǎn)動，實現(xiàn)方式為:所述噴管能夠以其延伸方向為軸心線轉(zhuǎn)動，或者噴嘴位于噴管上的角度能夠調(diào)整。
[0012]優(yōu)選的，所述排氣口的排氣量大于噴管的噴氣量。
[0013]優(yōu)選的，所述含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置包括氣源、冷卻器、真空腔以及離子發(fā)生器，所述氣源一方面通過冷卻器連接至真空腔，另一方面通過離子發(fā)生器連接至真空腔。
[0014]優(yōu)選的，所述含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置還包括用于控制流量和噴速的調(diào)節(jié)閥。
[0015]本發(fā)明還提出一種清潔光掩模板的方法，包括如下步驟:
[0016]a)將待清潔光掩模板放入腔體中的平臺上；
[0017]b)開啟含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置；
[0018]c)平行移動噴管將含離子氣溶劑均勻地噴射在光掩模板表面；
[0019]d)將光掩模板從腔體中取出，并對光掩模板的清潔度進行檢查。
[0020]通過采用以上技術(shù)，本發(fā)明在有效去除光掩模板表面的微塵和沾污的同時，高效地去除了光掩模板表面的靜電，避免了靜電釋放對光掩模板的損傷，提高了去除光掩模板表面微塵和沾污的效率，可以有效地延長光掩模在生產(chǎn)中的使用壽命。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]通過附圖中所示的本發(fā)明的優(yōu)選實施例的更具體說明，本發(fā)明的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標記指示相同的部分。并未刻意按實際尺寸等比例縮放繪制附圖，重點在于示出本發(fā)明的主旨。
[0022]圖1是本發(fā)明提出的一種清潔光掩模板的裝置；
[0023]圖2是噴管相對光掩模板運動的俯視圖；
[0024]圖3是噴管相對光掩模板運動的側(cè)視圖；
[0025]圖4是含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置示意圖。
【具體實施方式】
[0026]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施例作詳細說明:本實施例在以本發(fā)明技術(shù)方案為前提下進行實施，給出了詳細的實施方式，但本發(fā)明的保護范圍不限于下述的實施例。
[0027]參見圖1所示的一種清潔光掩模板的裝置，包括具有排氣口 5的腔體1，位于所述腔體I內(nèi)的用于固定待清潔光掩模板2的平臺3,能夠平行于光掩模板2表面移動的噴管4，所述噴管4具有沿著其長度延伸方向布置的一組噴嘴41，所述噴管4與含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置連接；所述平臺3連接靜電導出通道30實現(xiàn)電位接地。
[0028]從整體結(jié)構(gòu)而言，所述腔體I形成一個相對隔絕的空間，避免環(huán)境中的微塵落在待清潔光掩模板2的表面。
[0029]參見圖2及圖3所示，圖中實線箭頭表示噴管4的移動行程，可見所述噴管4平行于光掩模板2表面移動，其行程大于待清潔光掩模板2的邊長。
[0030]參見圖3所不，所述噴嘴41的位置位于噴管4底部，且靠近噴管4噴射時移動方向的前方。
[0031]參見圖1至3中的虛線箭頭，所述噴嘴41均勻地將含離子氣溶劑61噴射在待清潔光掩模板2表面。進一步的，通過調(diào)節(jié)噴嘴41以噴管4的延伸方向為軸心線轉(zhuǎn)動，能夠?qū)崿F(xiàn)含離子氣溶劑61相對于光掩模板2表面的噴射角度。其實現(xiàn)方式可以為直接以其延伸方向為軸心線轉(zhuǎn)動噴管4，或者調(diào)整噴嘴41位于噴管4上的角度。
[0032]參見圖1所示的排氣口 5，連接排氣裝置。其排氣量大于噴管4的噴氣量，避免噴氣反濺回到待清潔光掩模板2表面。
[0033]所述含離子氣溶劑61，所用氣體包括氮氣、二氧化碳和氬氣。該含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置如圖4所示，氣源70 —方面通過冷卻器71連接至真空腔72，另一方面通過離子發(fā)生器8連接至真空腔72 ;兩部分氣體在真空腔72中匯合，即被冷卻器71部分液化的氣體與受離子發(fā)生器8作用的氣體在真空腔72混合。由于腔體I內(nèi)的氣體由排氣口 5排出，以使腔體I內(nèi)部形成真空度高于真空腔72的真空，真空腔72內(nèi)的部分液化的氣體從噴嘴41噴出時，氣體壓力急劇降低，導致絕熱膨脹，從而快速地降低氣體的溫度，以便形成含有細微固體顆粒的含離子氣溶劑61。該裝置的流量和噴速可由調(diào)節(jié)閥91、92、93、94、95來控制。
[0034]由于采用了上述結(jié)構(gòu)，本裝置的光掩模板的清潔方法如下:
[0035]a)參見圖1，將待清潔光掩模2放入腔體I中的平臺3上。
[0036]b)參見圖4，開啟含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置。調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)閥91、92、93、94、95，從而調(diào)整含離子氣溶劑的噴量和噴速。必要時調(diào)整噴嘴41相對于光掩模板2表面的噴射角度。
[0037]c)參見圖3，平行移動噴管4將含離子氣溶劑61均勻地噴射在光掩模2表面。
[0038]d)將光掩模板2從腔體I中取出，并對光掩模板2的清潔度進行檢查。
[0039]本發(fā)明雖然以較佳實施例公開如上，但其并不是用來限定權(quán)利要求，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，都可以做出可能的變動和修改，因此本發(fā)明的保護范圍應(yīng)當以本發(fā)明權(quán)利要求所界定的范圍為準。
【權(quán)利要求】
1.一種清潔光掩模板的裝置，其特征在于包括:具有排氣口的腔體；位于所述腔體內(nèi)的用于固定待清潔光掩模板的平臺；能夠平行于光掩模板表面移動的噴管，所述噴管具有沿著其長度延伸方向布置的一組噴嘴，所述噴管與含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置連接；所述平臺連接靜電導出通道實現(xiàn)電位接地。
2.如權(quán)利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述腔體形成一個相對隔絕的空間。
3.如權(quán)利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述噴管平行于光掩模板表面移動的行程大于待清潔光掩模板的邊長。
4.如權(quán)利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述噴嘴的位置位于噴管底部，且靠近噴管噴射時移動方向的前方。
5.如權(quán)利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述噴嘴能夠以噴管的延伸方向為軸心線轉(zhuǎn)動。
6.如權(quán)利要求5所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述噴管能夠以其延伸方向為軸心線轉(zhuǎn)動和/或噴嘴位于噴管上的角度能夠調(diào)整。
7.如權(quán)利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述排氣口的排氣量大于噴管的噴氣量。
8.如權(quán)利要求1所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置包括氣源、冷卻器、真空腔以及離子發(fā)生器，所述氣源一方面通過冷卻器連接至真空腔，另一方面通過離子發(fā)生器連接至真空腔。
9.如權(quán)利要求8所述的清潔光掩模板的裝置，其特征在于:所述含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置還包括用于控制流量和噴速的調(diào)節(jié)閥。
10.一種如權(quán)利要求1所述的裝置的清潔光掩模板的方法，其特征在于包括如下步驟: a)將待清潔光掩模板放入腔體中的平臺上； b)開啟含離子氣溶劑的產(chǎn)生裝置； c)平行移動噴管將含離子氣溶劑均勻地噴射在光掩模板表面； d)將光掩模板從腔體中取出，并對光掩模板的清潔度進行檢查。
【文檔編號】B08B5/00GK103639151SQ201310625604
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年11月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月28日
【發(fā)明者】毛智彪 申請人:上海華力微電子有限公司