專利名稱：一種用于清洗刻蝕盤的清洗裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本實用新型涉及半導體技術(shù)領域，特別是涉及一種用于清洗干法刻蝕工藝中刻蝕盤的清洗裝置。
背景技術(shù)：
發(fā)光二極管具有體積小、效率高和壽命長等優(yōu)點，在交通指示、戶外全色顯示等領域有著廣泛的應用。尤其是利用大功率發(fā)光二極管可能實現(xiàn)半導體固態(tài)照明，引起人類照明史的革命，從而逐漸成為目前電子學領域的研究熱點。為了獲得高亮度的LED，關(guān)鍵要提高器件的內(nèi)量子效率和外量子效率。目前，芯片光提取效率是限制器件外量子效率的主要因素，其主要原因是外延材料、襯底材料以及空氣之間的折射率差別較大，導致有源區(qū)產(chǎn)生的光在不同折射率材料界面發(fā)生全反射而不能導出芯片。目前主流的技術(shù)路線是用圖形化襯底來生長外延，此種技術(shù)可以緩解襯底和氮化物外延層異質(zhì)外延生長中由于晶格失配引起的應力，減小GaN基外延層穿透位錯的密度，提高外延晶體質(zhì)量，降低半導體發(fā)光材料的非輻射復合中心，增強輻射復合，以提高芯片亮度。目前這種圖形襯底的制作方法是先用光刻膠在藍寶石襯底上做周期性排列的小圖形，再利用ICP (增強耦合等離子體)干法刻蝕技術(shù)將此光刻膠圖形轉(zhuǎn)移到藍寶石襯底上，而這種干法刻蝕技術(shù)在刻蝕的過程中對襯底的冷卻至關(guān)重要，否則光刻膠圖形會因刻蝕的過程中產(chǎn)生的高溫而變形，進而無法保證圖形的有效轉(zhuǎn)移。如圖1，目前ICP刻蝕對襯底的冷卻方法是采用鋁盤5加石英盤4，通過He冷通道6直接將He冷通入到藍寶石襯底底部對藍寶石進行冷卻，這種方法能有效地冷卻襯底，能保證圖形的有效轉(zhuǎn)移，但是利用這種方法在刻蝕工藝完成后，石英盤4會有很多殘留物，為了保證工藝的穩(wěn)定性，需要將石英盤4清洗干凈，而石英盤4很脆，價格又高，在用刷子刷洗的時候很容易將其碰碎、壓碎，所以清洗時需要格外小心。因此，制作一種用于清洗干法刻蝕工藝中刻蝕盤的清洗裝置實屬必要。

實用新型內(nèi)容鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型的目的在于提供一種用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中清洗刻蝕盤時容易把刻蝕盤碰碎、壓碎的問題。為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實用新型提供一種用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，所述用于清洗刻蝕盤的清洗裝置至少包括:用于放置刻蝕盤的盤體，其具有光滑盤面且邊緣具有第一缺口 ；設置在所述光滑盤體邊緣的阻擋件；以及支撐所述盤體的支撐件。優(yōu)選地，所述第一缺口包括處在所述光滑盤面同一直徑上的兩個方形缺口。優(yōu)選地，所述阻擋件包括凸起環(huán)，該凸起環(huán)具有排水口和與所述缺口貫通的第二缺口。進一步地,所述阻擋件的高度比所述刻蝕盤的高度低0.3mm。優(yōu)選地,所述盤體的內(nèi)徑比所述刻蝕盤的直徑大5mm。[0011 ] 優(yōu)選地，所述盤體的材料為PVC。優(yōu)選地，所述支撐件包括底座及連接底座及盤體的支撐梁。較佳的，所述底座呈方形。進一步地，所述支撐梁的形狀為圓柱形。如上所述，本實用新型的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，具有以下有益效果:可以保證刻蝕盤在清洗的過程中不被碰碎、壓碎，從而大大提高作業(yè)效率，有效降低制造成本。且本實用新型的清洗裝置結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，適用于工業(yè)生產(chǎn)過程。

圖1顯示為現(xiàn)有干法刻蝕工藝中的冷卻裝置示意圖。圖2顯示為本實用新型的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置的側(cè)視圖。圖3顯示為本實用新型的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置的俯視圖。圖4顯示為本實用新型的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置的整體外觀圖。元件標號說明
1盤體
11盤面
12第一缺口
2阻擋件
21排水口
22第二缺口
3支撐件
31底座
32支撐梁
4石英盤
5鋁盤
6He冷通道
具體實施方式
以下通過特定的具體實例說明本實用新型的實施方式，本領域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點與功效。本實用新型還可以通過另外不同的具體實施方式
加以實施或應用，本說明書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點與應用，在沒有背離本實用新型的精神下進行各種修飾或改變。請參閱圖2至圖4。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本實用新型的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本實用新型中有關(guān)的組件而非按照實際實施時的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復雜。如圖所示，本實用新型提供一種用于清洗刻蝕盤的清洗裝置。所述用于清洗刻蝕盤的清洗裝置至少包括:盤體1、阻擋件2、及支撐件3。所述盤體I用于放置需要清洗的刻蝕盤，該盤體I具有光滑盤面11并且邊緣具有第一缺口 12。優(yōu)選地，所述第一缺口 12作為刻蝕盤取放缺口，便于刻蝕盤的放置和清洗后取出。更為優(yōu)選地，所述第一缺口 12包括處在所述光滑盤面11同一直徑上的兩個缺口，其形狀不限，優(yōu)選地，包括但不限于方形、弧形等等。例如，如圖3所示，所述光滑盤面11左右兩個缺口即為刻蝕盤取放缺口，其呈方形，寬度為20mm作為一種優(yōu)選的實施方式，所述盤體I的內(nèi)徑比所述刻蝕盤的直徑大，如圖2所示，所述盤體I的內(nèi)徑比所述刻蝕盤的直徑大5mm。所述盤體I的材料包括但不限于PVC、有機玻璃及特氟龍等等，優(yōu)選地，本實施例盤體I的材料為PVC，且要求盤面11光滑平整、無毛刺，以免刮傷、劃傷刻蝕盤。此外，所述刻蝕盤的材料不限，包括石英盤、鋁盤、鋁鈦合金盤及錫鈦合金盤等等。在本實施例中，刻蝕盤優(yōu)選為石英盤。所述阻擋件2設置在所述盤體I的邊緣，用于阻擋刻蝕盤由盤面11滑出。作為一種優(yōu)選的結(jié)構(gòu)，所述阻擋件2包括凸起環(huán)，該凸起環(huán)具有排水口 21和與所述刻蝕盤取放缺口貫通的第二缺口 22。本實施例中，排水口 21包括位于凸起環(huán)同一直徑上的兩個開口，該開口的形狀包括但不限于方形、弧形等等。需要說明的是，本實用新型提供的清洗裝置的排水方式不僅僅限于凸起環(huán)上的排水口 21，例如，還可以包括設置在光滑盤面上的網(wǎng)眼狀孔體等。優(yōu)選地，所述阻擋件2的高度比所述刻蝕盤的高度低，以方便刻蝕盤的刷洗。本實施例中，所述阻擋件2的高度比所述刻蝕盤的高度低0.3_。所述支撐件3用于支撐所述的盤體I。支撐件3包括底座31和支撐梁32。其中，所述支撐梁32用于連接底座31及盤體1，支撐梁32的形狀不限，優(yōu)選地，包括圓柱形、長方體等等。所述底座31的形狀不限于方形，還包括圓形、三角形等等。例如，如圖所示，支撐梁呈圓柱形，其直徑為20mm ;底座呈方形，邊長尺寸為290mmo本實用新型提供的清洗裝置在實際工藝中的實施步驟至少包括以下:首先，用PVC材料按照所述的結(jié)構(gòu)及尺寸制作成如圖2和3所示的清洗裝置。然后，用刻蝕盤夾持器夾持住刻蝕盤的兩端，再通過盤體I同一直徑上的兩個方形缺口將刻蝕盤輕輕地放置在清洗裝置的光滑盤面11上，盤面11邊緣的凸起環(huán)將刻蝕盤阻擋住，使刻蝕盤在清洗的過程中不會從光滑盤面11上掉落摔碎。最后，用專用刷子將刻蝕盤刷洗，直至達到工藝潔凈要求。綜上所述，本實用新型提供一種用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，該裝置通過光滑盤體上設置的阻擋件，可以保證刻蝕盤在清洗的過程中不被碰碎、壓碎，也不會從盤體上摔落，從而大大提高作業(yè)效率，有效降低制造成本。且本實用新型的清洗裝置結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，適用于工業(yè)生產(chǎn)過程。所以，本實用新型有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領域中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本實用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
權(quán)利要求1.一種用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置至少包括: 用于放置刻蝕盤的盤體，其具有光滑盤面且邊緣具有第一缺口 ； 設置在所述盤體邊緣的阻擋件以及支撐所述盤體的支撐件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述阻擋件包括凸起環(huán)，其具有排水口和與所述缺口貫通的第二缺口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述支撐件包括底座及連接底座及盤體的支撐梁。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述盤體的內(nèi)徑比所述刻蝕盤直徑大5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述阻擋件的高度比所述刻蝕盤的高度低0.3mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述盤體的材料為 PVC。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述底座呈方形。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述支撐梁的形狀為圓柱形。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，其特征在于:所述第一缺口包括處在所述光滑盤面同一直徑上的兩個方形缺口。
專利摘要本實用新型提供一種用于清洗刻蝕盤的清洗裝置，所述清洗裝置至少包括用于放置刻蝕盤的盤體，其具有光滑盤面且邊緣具有缺口；設置在所述光滑盤面邊緣的阻擋件以及支撐所述盤體的支撐件。采用本實用新型提供的清洗裝置來清洗刻蝕盤，可以保證刻蝕盤在清洗的過程中不被碰碎、壓碎，從而大大提高作業(yè)效率，有效降低制造成本。且本實用新型的清洗裝置結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，適用于工業(yè)生產(chǎn)過程。
文檔編號B08B1/00GK202951645SQ20122059187
公開日2013年5月29日 申請日期2012年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月9日
發(fā)明者袁根如, 常建軍, 陶淳, 郝茂盛, 張楠 申請人:上海藍光科技有限公司