專利名稱：微流道的清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及微流道的清洗方法。
背景技術(shù)：
微元件或裝置以微反應(yīng)器為代表，所述微反應(yīng)器的定義為“利用微細(xì)加工制造并可以在當(dāng)量直徑為500μm以下的微流道內(nèi)進(jìn)行反應(yīng)的裝置”。當(dāng)將這些微元件或裝置應(yīng)用于例如實(shí)施物質(zhì)的分析、合成、提取或分離的技術(shù)時(shí)，它們具有許多共通的優(yōu)點(diǎn)，例如多品種產(chǎn)物的少量制造、高效率和低環(huán)境負(fù)荷等。因而，近年來(lái)對(duì)它們?cè)诟鱾€(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用頗為期待。
在許多情況中，微反應(yīng)器由諸如玻璃、塑料、金屬或硅等材料形成。特別是，為了觀察微反應(yīng)器內(nèi)部的行為，通常采用玻璃或塑料。由于在制造時(shí)將所述玻璃或塑料與微反應(yīng)器接合，因此即使當(dāng)流體中的異物、顆粒等附著于微流道的壁面而導(dǎo)致堵塞時(shí)也無(wú)法對(duì)這樣的微反應(yīng)器進(jìn)行拆卸檢修和清洗。
作為現(xiàn)有技術(shù)中的微流道的清洗方法，已知有下述方法通過(guò)在壓力下供應(yīng)諸如水等溶劑將附著物沖走的方法，和將微反應(yīng)器的主體放在超聲波清洗器中然后在通過(guò)注射器等加壓的同時(shí)清洗該微反應(yīng)器的方法等。
同樣，例如在日本特開(kāi)2005-144634號(hào)公報(bào)中，記載了一種微量化學(xué)裝置清洗法，該方法的特征在于，在反應(yīng)后使氧化劑的水溶液通過(guò)微量化學(xué)裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種微流道的清洗方法，所述方法具有優(yōu)異的微流道清洗性并可以對(duì)具有微流道的裝置進(jìn)行清洗而不必對(duì)裝置進(jìn)行拆卸檢修。
(1)根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，該微流道的清洗方法包括通過(guò)對(duì)流經(jīng)微流道的流體進(jìn)行電解而產(chǎn)生氣泡；和使包含所述氣泡的所述流體通過(guò)所述微流道。
(2)如上述第1項(xiàng)中所述的微流道的清洗方法，其中，通過(guò)在與所述流體的流動(dòng)方向交叉的方向上施加電場(chǎng)進(jìn)行所述電解。
(3)如上述第1項(xiàng)中所述的微流道的清洗方法，其中，所述流體是選自下述溶液中的一種流體電解液、酸性水溶液與堿性水溶液之一以及水分散液與醇分散液之一。
(4)如上述第1項(xiàng)中所述的微流道的清洗方法，其中，所述流體的電導(dǎo)率為10μS/cm～1000μS/cm。
(5)如上述第1項(xiàng)中所述的微流道的清洗方法，其中，通過(guò)在兩個(gè)電極之間施加1.0V～30.0V的電壓進(jìn)行所述電解。
(6)如上述第1項(xiàng)中所述的微流道的清洗方法，其中，所述氣泡的平均粒徑相對(duì)于所述微流道的流道直徑為1/50～1/2。


將基于下列附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，所述附圖中圖1是在本發(fā)明的微流道清洗方法中使用的微反應(yīng)器的一個(gè)例子的示意圖；圖2是向電極施加電壓時(shí)圖1中所示的微反應(yīng)器中的電極及其周圍的局部放大圖；圖3是本發(fā)明的微流道清洗方法中所用的微反應(yīng)器的一個(gè)例子沿微流道的中心部分進(jìn)行切割時(shí)電極及其周圍的截面示意圖；圖4A和4B是顯示構(gòu)成本發(fā)明的微流道清洗方法中所用的微反應(yīng)器的另一個(gè)例子的兩片微反應(yīng)器基板的投影示意圖；和圖5是電解時(shí)電導(dǎo)率(μS/cm)與電壓(V)的關(guān)系圖。
具體實(shí)施例方式
以下將參考附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
本發(fā)明的微流道清洗方法(以下簡(jiǎn)稱為“本發(fā)明的清洗方法”)包括通過(guò)對(duì)流經(jīng)微流道的流體進(jìn)行電解而產(chǎn)生氣泡的步驟(以下也稱為“氣泡產(chǎn)生步驟”)；和使包含氣泡的流體通過(guò)微流道的步驟(以下也稱為“氣泡通過(guò)步驟”)。
本發(fā)明的微流道清洗方法是如下的清洗方法在微流道內(nèi)通過(guò)對(duì)流過(guò)微流道的流體進(jìn)行電解而產(chǎn)生氣泡，然后使其中混有氣泡的流體通過(guò)微流道以除去該微流道內(nèi)的污物、附著物等。由于通過(guò)電解在微流道內(nèi)產(chǎn)生氣泡以進(jìn)行清洗，因此微流道的清洗性優(yōu)異，可以對(duì)包含微流道的裝置進(jìn)行清洗而不必進(jìn)行拆卸檢修。而且，因?yàn)橥ㄟ^(guò)本發(fā)明的清洗方法適宜對(duì)微流道進(jìn)行反復(fù)清洗，所以微流道可以長(zhǎng)時(shí)間地多次使用。
將使用圖1中所示的微反應(yīng)器對(duì)本發(fā)明的微流道的清洗方法的一個(gè)實(shí)施方案進(jìn)行說(shuō)明。
圖1是在本發(fā)明的微流道清洗方法中使用的微反應(yīng)器的一個(gè)例子的示意圖。
而且，圖2是向電極施加電壓時(shí)圖1中所示的微反應(yīng)器中的電極及其周圍的局部放大圖。
圖1中所示的微反應(yīng)器10包括微流道12(12a、12b、12c和12d)、設(shè)置在微流道的一部分內(nèi)壁上的在與流動(dòng)方向正交的方向上彼此相對(duì)的電極14a和14b和作為微流道端部的流體導(dǎo)入(回收)部分16(16a、16b和16c)。電源單元20經(jīng)由軟電線18a和18b分別與電極14a和14b連接。
在圖1中所示的微反應(yīng)器10中，在從流體導(dǎo)入部分16a和流體導(dǎo)入部分16b供應(yīng)流體的同時(shí)，通過(guò)在電極14a與14b之間施加電壓對(duì)該流體的成分進(jìn)行電解。如圖2中所示，通過(guò)在兩個(gè)電極之間(電極14a與14b之間)施加電壓進(jìn)行電解，產(chǎn)生了氣泡22。然后，氣泡22隨流體一起流向下游的微流道12d，從而利用氣泡22以及流體沖走微流道12d中的污物、附著物等，然后將其從流體回收部分16c排出。而且，在反向供應(yīng)流體時(shí)，可以利用與上面相似的操作對(duì)微流道12a、12b和12c進(jìn)行清洗。
在清洗微流道時(shí)，優(yōu)選的是，在流經(jīng)該微流道的流體以類似層流的形式被穩(wěn)定供應(yīng)的狀態(tài)下，通過(guò)在兩個(gè)電極之間(電極14a與14b之間)施加電壓以產(chǎn)生氣泡22。而且，也優(yōu)選按時(shí)間間隔間歇地進(jìn)行清洗而不是進(jìn)行連續(xù)清洗，更優(yōu)選每隔一定的時(shí)間進(jìn)行定期清洗。
對(duì)可用于本發(fā)明的微流道清洗方法的流體，即在清洗時(shí)被送入而通過(guò)微流道的流體不作具體限定，只要該流體的構(gòu)成成分中的至少一種成分可被電解而產(chǎn)生氣體即可。優(yōu)選使用其中作為組分的水可被電解以產(chǎn)生氧氣和/或氫氣的含水溶液。更優(yōu)選使用其中作為組分的水可被電解以產(chǎn)生氧氣和氫氣的含水溶液。最優(yōu)選使用不包含鹵化物離子和諸如銅離子、銀離子等重金屬離子的含水溶液。
作為在清洗時(shí)使用的流體，如上所述，在清洗時(shí)可以直接使用用于反應(yīng)、混和等目的的流體，只要該流體可通過(guò)電解產(chǎn)生氣體即可。而且，也可以通過(guò)單獨(dú)使用清洗用流體(清洗液)對(duì)微流道進(jìn)行清洗。而且，作為清洗時(shí)使用的流體，可以根據(jù)用途使用包含固體或除了通過(guò)電解產(chǎn)生的氣體之外的氣體的流體。而且，流體的組成等可以根據(jù)需要選擇。
作為清洗時(shí)使用的流體，可以舉出電解液、酸性/堿性水溶液、水/醇分散液等。
清洗時(shí)使用的流體的電傳導(dǎo)率(以下也稱為“電導(dǎo)率”。以S(西門子)/cm作為其單位)優(yōu)選設(shè)為10μS/cm以上，以便于進(jìn)行電解。電導(dǎo)率更優(yōu)選設(shè)為100μS/cm以上。電導(dǎo)率最優(yōu)選設(shè)為500μS/cm～1,000μS/cm。
對(duì)清洗時(shí)使用的流體的溫度不作具體限定。優(yōu)選的是選擇適于除去污物的溫度。而且，毫無(wú)疑問(wèn)，應(yīng)當(dāng)選擇不會(huì)損壞微反應(yīng)器的構(gòu)成材料的溫度。
而且，除了清洗操作之外，沒(méi)有必要選擇所述可通過(guò)電解產(chǎn)生氣體的流體作為所述通過(guò)本發(fā)明的微流道裝置的流體?？梢岳玫乃枞軇├缬兴匀軇?、有機(jī)溶劑、它們的混合物等。而且，可以根據(jù)使用用途采用包含固體或氣體的流體。而且，流體的組成、濃度等可以根據(jù)需要選擇。
作為在電解時(shí)使用的電極的材料，優(yōu)選使用不會(huì)在電解時(shí)發(fā)生腐蝕或溶解的材料。更優(yōu)選使用電離傾向很弱的鉑或金。而且，作為在電解時(shí)使用的電極，可以采用鍍有諸如鉑或金等貴金屬的電極。
而且，在本發(fā)明中，盡管施加于兩電極之間以進(jìn)行電解的電壓隨所用流體的種類、溫度等而不同，但其值優(yōu)選設(shè)為1.0V～30.0V。該電壓更優(yōu)選設(shè)為1.5V～6.0V。如果將電壓設(shè)定在上述范圍內(nèi)，則可以產(chǎn)生足夠清洗微流道的氣泡并且?guī)缀醪粫?huì)發(fā)生由生成熱所導(dǎo)致的微反應(yīng)器的基材的溶解、分解等。而且，進(jìn)一步優(yōu)選將所述電壓范圍與所述電導(dǎo)率的范圍互相組合。
在本發(fā)明的微流道清洗方法中，對(duì)電解時(shí)所用的電極的構(gòu)造不作具體限定，只要該構(gòu)造可以電解通過(guò)所述微流道的流體的構(gòu)成成分中的至少一種成分即可。為防止擾亂通過(guò)該微流道的層流，優(yōu)選使用下述構(gòu)造其中所設(shè)置的所述電極不會(huì)在微流道的內(nèi)壁面上產(chǎn)生凹凸。而且，為了有效地進(jìn)行電解，優(yōu)選使用其中所設(shè)置的電極與微流道的內(nèi)壁相對(duì)的電極構(gòu)造。而且，用于施加電解所需電壓的電場(chǎng)施加裝置與這些電極電連接。作為電場(chǎng)施加裝置，可以采用公知的裝置等。具體可以舉出電源單元、電池等等。
具體地說(shuō)，圖3和圖4中所示的各結(jié)構(gòu)可作為電極構(gòu)造的實(shí)例，但本發(fā)明不限于這些構(gòu)造。
圖3是本發(fā)明的微流道清洗方法中所用的微反應(yīng)器的一個(gè)例子沿微流道的中心部分進(jìn)行切割時(shí)電極及其周圍的截面示意圖。
在圖3中所示的微反應(yīng)器中的電極構(gòu)造的周圍，微流道12在與流動(dòng)方向垂直的方向上的截面形狀是矩形。電極14c和14d設(shè)置在微流道12的相對(duì)的一對(duì)內(nèi)壁的一部分上。而且，薄膜狀的電極14c和14d分別設(shè)置在微反應(yīng)器的外部方向上，并與電源(未示出)連接。
圖4A和4B是顯示構(gòu)成本發(fā)明的微流道清洗方法中所用的微反應(yīng)器的另一個(gè)例子的兩片微反應(yīng)器基板的投影示意圖。
圖4A和4B分別顯示微反應(yīng)器基板24a和24b。可以通過(guò)將兩片基板接合來(lái)制造微反應(yīng)器。
在圖4A中所示的微反應(yīng)器基板24a中，將兩電極14e與14f設(shè)置在表面上，兩個(gè)電極之間在基板24a的中心部分相隔與微流道的直徑相對(duì)應(yīng)的間隔。而且，電極14e與14f的厚度分別與后述的電極插入部分26e和26f的深度相同。
在圖4B中所示的微反應(yīng)器基板24b中，設(shè)置Y形微流道12。而且，在基板24b的中心部分設(shè)置電極插入部分26e和26f使其深度與微流道12的深度相同。而且，電極插入部分26e和26f的形狀與電極14e與14f的形狀相同。
使兩微反應(yīng)器基板24a與24b彼此匹配，以使電極14e和14f分別對(duì)準(zhǔn)電極插入部分26e和26f，然后將兩基板24a與24b接合在一起。因而，可獲得可在本發(fā)明中使用的微反應(yīng)器。
對(duì)清洗時(shí)的流體的流量不作具體限定。該流體的流量可以根據(jù)微流道中的污物或附著物的程度、微反應(yīng)器的強(qiáng)度、電解產(chǎn)生的氣泡量等進(jìn)行適當(dāng)調(diào)節(jié)。
微流道中通過(guò)電解產(chǎn)生的氣泡的平均粒徑取決于流體的壓力、流量、產(chǎn)生的氣泡量等。然而，所述粒徑優(yōu)選設(shè)為微流道的流道直徑的1/50～1/2，更優(yōu)選設(shè)為微流道的流道直徑的1/20～1/4。當(dāng)將平均粒徑設(shè)定在上述范圍內(nèi)時(shí)，可以更容易地沖走污物、沉積物和堵塞物。
對(duì)測(cè)定氣泡平均粒徑的方法沒(méi)有具體限定，可以采用公知的方法。例如，可以舉出通過(guò)利用圖像分析系統(tǒng)分析顯微圖像來(lái)檢測(cè)平均粒徑的方法。
作為可用于本發(fā)明的微反應(yīng)器的材料，可以舉出陶瓷、玻璃、硅、樹(shù)脂等，并優(yōu)選選擇樹(shù)脂。而且，作為微反應(yīng)器的材料，諸如金屬等導(dǎo)體等可用作微反應(yīng)器的一部分。在該情況中，重要的是使該導(dǎo)體與電極適當(dāng)?shù)亟^緣，以便不影響電解。
而且，考慮透明性、加工性等，優(yōu)選將玻璃用作所述材料。而且，考慮低成本、透明性、成型性、耐沖擊性等，優(yōu)選使用樹(shù)脂。
普通玻璃，例如鈉玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃、水晶玻璃等可用作所述玻璃。而且，所述玻璃的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選設(shè)為500℃～600℃。
其耐沖擊性、耐熱性、耐化學(xué)性、透明性等適于目標(biāo)反應(yīng)或單元操作等的樹(shù)脂優(yōu)選用作所述樹(shù)脂。具體地說(shuō)，可以優(yōu)選舉出聚酯樹(shù)脂、苯乙烯樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、苯乙烯-丙烯酸樹(shù)脂、硅樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、二烯樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、萜烯樹(shù)脂、香豆酮樹(shù)脂、酰胺樹(shù)脂、酰胺-酰亞胺樹(shù)脂、丁縮醛樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、乙烯-乙酸乙烯酯樹(shù)脂、聚二甲基硅氧烷等。更優(yōu)選使用諸如甲基丙烯酸甲酯樹(shù)脂等丙烯酸樹(shù)脂、苯乙烯樹(shù)脂等。而且，優(yōu)選將具有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的樹(shù)脂用作所述樹(shù)脂。而且，所述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選設(shè)為90℃～150℃，更優(yōu)選設(shè)為100℃～140℃。
所述微流道是以微尺度形成的流道。即，流道的寬度(流道直徑)為5,000μm以下，該寬度優(yōu)選為10μm～1,000μm，該寬度更優(yōu)選為30μm～500μm。而且，流道的深度約為10μm～500μm。另外，盡管流道的長(zhǎng)度取決于所形成的流道的形狀，但優(yōu)選設(shè)為5mm～400mm，該長(zhǎng)度更優(yōu)選設(shè)為10mm～200mm。
而且，對(duì)微流道的形狀不作具體限定。例如，在與流動(dòng)方向垂直的方向上截取的截面形狀可以為諸如圓形、橢圓形、多邊形等所需形狀。
可以根據(jù)使用用途適當(dāng)設(shè)定微反應(yīng)器的尺寸。該尺寸優(yōu)選設(shè)為1cm2～100cm2，該尺寸更優(yōu)選設(shè)為10cm2～40cm2。而且，微反應(yīng)器的厚度優(yōu)選設(shè)為2mm～30mm，該厚度更優(yōu)選設(shè)為3mm～15mm。
可用于本發(fā)明的微反應(yīng)器可以根據(jù)需要具有一個(gè)以上的包含氣泡產(chǎn)生裝置的微流道，并且可以具有流道分支、合流部分、其他微流道等。而且，除了氣泡產(chǎn)生裝置之外，諸如利用注射器、泵等對(duì)流體施加壓力的裝置、超聲波照射裝置等公知的清洗裝置也可以作為所述清洗裝置組合使用。
由于通過(guò)電解產(chǎn)生氣泡時(shí)電極部分有時(shí)會(huì)發(fā)熱，因此可用于本發(fā)明的微反應(yīng)器可以具有散熱裝置或冷卻裝置。而且，本發(fā)明的微反應(yīng)器例如還可以具有例如用于電解時(shí)的溫度調(diào)節(jié)、用于反應(yīng)等除了清洗以外的目的的溫度調(diào)節(jié)的加熱裝置。
而且，可用于本發(fā)明的微反應(yīng)器除了具有包含氣泡發(fā)生裝置的微流道之外，還可以根據(jù)用途具有具備反應(yīng)、混和、分離、提純、分析、利用其他方法的清洗等功能的部分。
例如，如果需要，本發(fā)明的微反應(yīng)器可以配置用于向微反應(yīng)器輸送流體的流體輸送口、用于從微反應(yīng)器回收流體的流體回收口等。
而且，優(yōu)選將本發(fā)明的多個(gè)微反應(yīng)器根據(jù)用途組合使用。另外，優(yōu)選將本發(fā)明的微反應(yīng)器與具有反應(yīng)、混和、分離、提純、分析等功能的裝置以及諸如流體輸送裝置、流體回收裝置等其他微反應(yīng)器等組合。由此可以優(yōu)選地構(gòu)筑微量化學(xué)系統(tǒng)。
對(duì)制造可用于本發(fā)明的微反應(yīng)器的方法不作具體限定，可以采用公知方法。
對(duì)在微反應(yīng)器中形成微流道的方法不作具體限定，例如，可以采用公知方法。微流道例如可以通過(guò)微機(jī)械加工技術(shù)制造。作為微機(jī)械加工技術(shù)，可以舉出下述方法使用利用X射線的LIGA(Lithographie，Galvanoforming，and AbfovmungX射線刻蝕電鑄模法)技術(shù)的方法、通過(guò)光刻法將抗蝕劑部分加工為構(gòu)造體的方法、通過(guò)蝕刻在抗蝕劑中形成開(kāi)口部的方法、微電流放電加工法、使用YAG(釔鋁石榴石)激光、UV激光等的激光束加工法、以及使用由例如金剛石等硬材料制成的微工具的諸如立銑刀等機(jī)械微切割加工法。這些技術(shù)可以單獨(dú)使用或組合使用。
實(shí)施例以下將參考實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說(shuō)明。但這些實(shí)施例決不是對(duì)本發(fā)明的限制。
實(shí)施例1使用圖1和圖2中所示的微反應(yīng)器執(zhí)行下列操作。在該情況中，丙烯酸樹(shù)脂(Kuralex S(常規(guī)型)，由日東樹(shù)脂工業(yè)(株)制造)用作微反應(yīng)器10的基材，微流道12a和12b的流道直徑設(shè)為250μm，微流道12c和12d的流道直徑設(shè)為500μm，電極14a和14b的材料是金，電極14a和14b的寬度設(shè)為10μm。
利用注射泵以10ml/h～20ml/h的流速將清洗液(組成pH約等于6的NaNO3溶液，電導(dǎo)率為100μS/cm以上)由微流道12a和12b注入。注入溶液直至清洗液的流動(dòng)穩(wěn)定，然后在電極14a與14b之間施加4.5V的電壓。如圖2中所示，在電極14a和14b的與溶液接觸的表面上產(chǎn)生氣泡22，以清洗流道的內(nèi)部，由此除去流道內(nèi)的污物(未示出)和流道壁面上的附著物(未示出)。
而且，可以理解的是，當(dāng)清洗液的電導(dǎo)率在實(shí)施例1中的條件下改變時(shí)，在電解時(shí)的電導(dǎo)率(μS/cm)和外加電壓(V)處于圖5中曲線的上部范圍時(shí)發(fā)生電解。
實(shí)施例2使用與實(shí)施例1相似的微反應(yīng)器，通過(guò)酸糊化法(acid pastingmethod)進(jìn)行感光顏料的合成。
將25％的濃氨水溶液以10ml/h從微流道12a輸入，將98％的濃硫酸顏料溶液以2.0ml/h由微流道12b輸入。流體輸送約30分鐘后，合成時(shí)生成的硫酸銨沉積在流道的內(nèi)壁上。然后，每供應(yīng)10分鐘流體則在電極14a與電極14b之間施加3.0V的電壓約10秒鐘，并且如圖2中所示，通過(guò)電解在電極14a和14b的與溶液接觸的表面上產(chǎn)生氣泡22。由此，利用氣泡將流道內(nèi)壁上的硫酸銨除去。結(jié)果，可以進(jìn)行10小時(shí)的流體供應(yīng)和反應(yīng)。
比較例1除了不產(chǎn)生電場(chǎng)和氣泡以外，在與實(shí)施例2相似的條件下進(jìn)行清洗?？梢陨倭砍チ鞯纼?nèi)的沉積物，但幾乎沒(méi)有除去附著在流道的壁面上的附著物。
權(quán)利要求
1.一種微流道的清洗方法，所述方法包括通過(guò)對(duì)流經(jīng)所述微流道的流體進(jìn)行電解而產(chǎn)生氣泡；和使包含所述氣泡的所述流體通過(guò)所述微流道。
2.如權(quán)利要求1所述的微流道的清洗方法，其中，通過(guò)在與所述流體的流動(dòng)方向交叉的方向上施加電場(chǎng)進(jìn)行所述電解。
3.如權(quán)利要求1所述的微流道的清洗方法，其中，所述流體是選自下述溶液中的一種流體電解液、酸性水溶液與堿性水溶液之一以及水分散液與醇分散液之一。
4.如權(quán)利要求1所述的微流道的清洗方法，其中，所述流體的電導(dǎo)率為10μS/cm～1000μS/cm。
5.如權(quán)利要求1所述的微流道的清洗方法，其中，通過(guò)在兩個(gè)電極之間施加1.0V～30.0V的電壓進(jìn)行所述電解。
6.如權(quán)利要求1所述的微流道的清洗方法，其中，所述氣泡的平均粒徑相對(duì)于所述微流道的流道直徑為1/50～1/2。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種微流道的清洗方法，所述方法包括通過(guò)對(duì)流經(jīng)所述微流道的流體進(jìn)行電解而產(chǎn)生氣泡；和使包含所述氣泡的所述流體通過(guò)所述微流道。
文檔編號(hào)B08B3/10GK101085674SQ200610165670
公開(kāi)日2007年12月12日 申請(qǐng)日期2006年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月8日
發(fā)明者太田哲生, 高木誠(chéng)一 申請(qǐng)人:富士施樂(lè)株式會(huì)社