專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種一邊傳送平板顯示器(FPD)用玻璃基板、半導(dǎo)體晶片、印刷電路板等的基板一邊對基板進(jìn)行清洗、顯影、蝕刻，剝離等處理的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
在FPD、半導(dǎo)體晶片、印刷電路板等的制造工藝中，例如，在采用藥液對基板進(jìn)行了處理之后，用純水對基板進(jìn)行清洗，將附著在基板上的藥液置換成純水的情況下，是使用通過傳送輥將基片一片一片地向水平方向傳送，并向基板上噴出純水進(jìn)行水洗的水平傳送式處理裝置。這種處理裝置的大致結(jié)構(gòu)的一例示于圖19中。
圖19中所示的處理裝置具備具有搬入口12和搬出口(圖中未示出)的水洗處理槽10，在水洗處理槽10的內(nèi)部，雖然圖中未示出，但并列地配設(shè)有多個傳送輥。而且，在水洗處理槽10的內(nèi)部，在隔著雙點化線所示的基板1的傳送路徑L的上下兩側(cè)上，分別配設(shè)了多個向基板1的上下兩面噴射純水的純水噴射噴嘴14。在水洗處理槽10的搬入口12一側(cè)上，與水洗處理槽10鄰接地設(shè)置有藥液處理槽16，在藥液處理槽16的內(nèi)部，在隔著基板1的傳送路徑L的上下兩側(cè)上，分別配設(shè)了多個向基板1的上下兩面噴射藥液的藥液噴射噴嘴18。而且，基板1從藥液處理槽16通過搬入口12被搬入水洗處理槽10內(nèi)，在傳送輥的支承下沿水平方向傳送，通過搬出口從水洗處理槽10內(nèi)搬出，向以下的干燥處理部(圖中未示出)傳送。
而且，在水洗處理槽10的底部上形成有使從基板1上流到水洗處理槽10的內(nèi)底部上的液體流出的液體回收口52，在該液體回收口52上連通連接有液體回收配管54。液體回收配管54連接在儲存回收液56的回收罐58上。而且，回收罐58上連通連接有送液配管60的一端，雖然圖中未示出，但送液配管60的前端連通連接在純水噴射噴嘴14上。在該送液配管60上分別加裝有過濾器62和泵64。雖然圖中未示出，但在回收罐58上連接有用于補充純水的純水供給配管。
在上述結(jié)構(gòu)的處理裝置中，當(dāng)將上表面上附著有藥液2的基板1從藥液處理槽16內(nèi)向水洗處理槽16內(nèi)搬入時，在水洗處理槽10內(nèi)，一邊通過傳送輥傳送基板1一邊從純水噴射噴嘴14向基板1的上下兩面上噴射純水，將附著在基板1上的藥液2置換成純水。此時，向基板1的表面上噴射的純水與附著在基板1的上表面上的藥液2一起流到水洗處理槽10的內(nèi)底部上。流到水洗處理槽10的內(nèi)底部上的純水和藥液的混合液在水洗處理槽10的內(nèi)底部上向液體回收口52流動，通過液體回收配管54從液體回收口52流入回收罐58內(nèi)。然后，儲存在回收罐58內(nèi)的回收液56通過送液配管60返回純水噴射噴嘴14而加以再利用。從而使純水循環(huán)使用。
如上所述，在一邊使純水和藥液的混合液循環(huán)一邊對基板進(jìn)行處理的裝置中，由于純水和藥液的混合液被再次利用，與附著在基板1上的藥液進(jìn)行置換，所以藥液的濃度逐漸增加，置換效率逐漸降低。而且，由于使含有藥液的液體通過液體回收配管54、回收罐58以及送液配管60循環(huán)，所以存在回收罐58的內(nèi)表面、液體回收配管54和送液配管60的內(nèi)表面、泵64的內(nèi)部等被污染的問題。
另一方面，當(dāng)將從基板1上流到水洗處理槽10的內(nèi)底部上的純水和藥液的混合液作為廢液從水洗處理槽10內(nèi)排出時，存在廢液量增加、廢液處理費用上升、而且純水的使用量也增加而運行費用增加的問題。
而且，例如在基板上形成配線圖形的工藝中，在對基板的表面上形成的光致抗蝕劑膜進(jìn)行顯影的情況下，是采用通過傳送輥一片一片橫置地傳送基板1，并在基板上灑上顯影液，從灑上顯影液開始到經(jīng)過規(guī)定時間后使顯影反應(yīng)停止的傳送輥式顯影處理裝置。這種顯影處理裝置的大致結(jié)構(gòu)的一例示于圖20中。
圖20中所示的顯影處理裝置具備具有入口側(cè)開112a和出口側(cè)開口112b的顯影處理槽110，雖然圖中未示出，但在顯影處理槽110的內(nèi)部并列地配設(shè)有多個傳送輥?；?通過入口側(cè)開口112a被搬入顯影處理槽110內(nèi)，由傳送輥支承而向水平方向傳送，通過出口側(cè)開口112b從顯影處理槽110內(nèi)搬出，送往以下的水洗處理槽114。在顯影處理槽110內(nèi)部的入口側(cè)開112a的附近配設(shè)有顯影液噴射噴嘴116。而且，在顯影液處理槽110內(nèi)部的出口側(cè)開口112b的附近，在一個傳送輥的正上方與傳送輥相對向地配設(shè)有與由傳送輥支承并傳送的基板1的上表面一側(cè)相接觸的軋液輥118。另外，也可以取代設(shè)置軋液輥118，而使配設(shè)在顯影處理槽110的出口側(cè)開口112b附近的傳送輥在與基板1的傳送方向垂直的方向上傾斜，或者設(shè)置氣刀。在與顯影處理槽110鄰接配設(shè)置的水洗處理槽114上，隔著雙點化線所示的基板1的傳送路徑L，在其上下兩側(cè)上分別配設(shè)有多個向基板1的上下兩面上噴射純水的噴水噴嘴120。
而且，在顯影處理槽110的底部上設(shè)置有使從基板1上流到顯影處理槽110內(nèi)底部上的顯影液流出的液體回收口906，在該液體回收口906上連通連接有液體回收配管908。液體回收配管908連通連接在儲存回收的顯影液910的回收罐912上。而且，送液配管914的一端連通連接在回收罐912上，送液配管914的前端連通連接在顯影液噴射噴嘴116上。在該送液配管914上分別加裝有過濾器916和泵918。通過液體回收配管908、回收罐912，送液配管914、過濾器916、以及泵918構(gòu)成液體循環(huán)系統(tǒng)。
在這種結(jié)構(gòu)的顯影處理裝置中，當(dāng)在表面上形成已曝光的光致抗蝕劑膜的基板1通過配設(shè)在顯影處理槽110的入口側(cè)開口112a附近的顯影液噴射噴嘴116的正下方位置時，從顯影液噴射噴嘴116成簾狀噴射到基板1的整個寬度上的顯影液3積存在表面上。積存了液體的基板1在由傳送輥傳送的期間進(jìn)行光致抗蝕劑膜的顯影反應(yīng)。當(dāng)基板1被傳送到顯影處理槽110的出口側(cè)開口112b附近時，通過軋液輥118將顯影液3從基板1上除去，之后，從顯影處理槽110內(nèi)搬出。然后，被送往以下的水洗處理槽114，通過用純水進(jìn)行水洗使光致抗蝕劑膜的顯影反應(yīng)完全停止。
在顯影處理之際，從基板1上流到顯影處理槽110的內(nèi)底部上的使用后的顯影液、以及在基板1未通過顯影液噴射噴嘴116的正下方時從顯影液噴射噴嘴116噴出、不經(jīng)由基板1的面而直接流到顯影處理槽110的內(nèi)底部上的顯影液在顯影處理槽110的內(nèi)底部上向液體回收口906流動，從液體回收口906通過液體回收配管908內(nèi)流入回收罐912內(nèi)。然后，流入回收罐912內(nèi)并儲存在其中的顯影液910通過送液配管914被送往顯影液噴射噴嘴116加以再利用。這樣，顯影液被循環(huán)使用。
在上述這種一邊使處理液(在上述的例子中為顯影液)循環(huán)一邊對基板進(jìn)行處理的裝置中，在基板或基板附著物與顯影液的反應(yīng)生成物溶解在顯影液中的情況下，即使再利用使用后的顯影液也沒有問題。但是，在生成了與顯影液反應(yīng)而不溶解在顯影液中的物質(zhì)的情況下，當(dāng)使顯影液循環(huán)加以使用時，將產(chǎn)生回收罐912的內(nèi)表面、液體回收配管908或送液配管914的內(nèi)表面、泵918的內(nèi)部等被非溶解物污染的問題。而且，還存在加裝在送液配管914上的過濾器916很快被堵塞，在最嚴(yán)重的情況下，將不能一邊使顯影液循環(huán)一邊進(jìn)行基板處理的問題。
另一方面，當(dāng)不使顯影液循環(huán)而從顯影處理槽110的內(nèi)底部排出廢棄時，雖然不會產(chǎn)生上述問題，但由于在基板1不通過顯影液噴射噴嘴116的正下方時從顯影液噴射噴嘴116噴出并原封不動地流到顯影處理槽110的內(nèi)底部上的顯影液也一起被廢棄，所以存在顯影液的利用率降低的問題。上述的問題不僅存在于顯影處理裝置中，在清洗、蝕刻、剝離處理等處理裝置中也有可能發(fā)生。
本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其第1目的在于提供一種基板處理裝置，能夠維持純水等處理液的高利用率，降低處理液的使用量，減少廢液量，同時維持高的處理效率，將液體的循環(huán)路徑中各部件的污染降低到最小限度。
本發(fā)明的第2目的在于提供一種基板處理裝置，能夠一邊使處理液循環(huán)一邊進(jìn)行基板的處理，維持處理液的高利用率，也不會在循環(huán)系統(tǒng)中產(chǎn)生問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明技術(shù)方案1為一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，具備區(qū)分成回收路徑和排液路徑地進(jìn)行設(shè)置，將回收到上述回收路徑中的處理液返回到上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，其中，所述回收路徑回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液，所述排液路徑收集從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向與基板的傳送方向垂直的方向的端部流動、從邊緣處流下的使用后的處理液。
本發(fā)明技術(shù)方案2為一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，通過上述傳送機構(gòu)，以在與基板的傳送方向垂直的方向上相對于水平面傾斜的姿勢傳送基板，同時，在上述處理槽的內(nèi)底面上的、傾斜傳送的基板的較低一側(cè)邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向立設(shè)分隔板；由該分隔板分隔處理槽的內(nèi)底部，將其區(qū)分成回收槽部和排液槽部，其中，所述回收槽部回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液，所述排液槽部接收從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向較低一側(cè)流動、從邊緣處流下的使用后的處理液；具備將回收到上述回收槽部內(nèi)的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出流到上述排液槽部內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
本發(fā)明技術(shù)方案3的特征為在技術(shù)方案2所記載的基板處理裝置中，上述分隔板的上端配置成接近傾斜傳送的基板的較低一側(cè)的邊緣處。
本發(fā)明技術(shù)方案4為一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)以水平姿勢將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，在上述處理槽的內(nèi)底面上的、被傳送的基板兩側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向分別設(shè)置分隔板，由各分隔板分別分隔處理槽的內(nèi)底部，將其區(qū)分成回收槽部和排液槽部，其中，所述回收槽部回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液，所述排液槽部接收從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向兩側(cè)流動、從兩邊緣處分別流下的使用后的處理液；具備將回收到上述回收槽部內(nèi)的處理液返回到上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出分別流到上述各排液槽部內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
本發(fā)明技術(shù)方案5的特征為在技術(shù)方案4所記載的基板處理裝置中，上述各分隔板的上端配置成分別接近傳送的基板兩側(cè)的邊緣處。
本發(fā)明技術(shù)方案6的特征為在技術(shù)方案2至5中任一項所記載的基板處理裝置中，在上述處理槽的內(nèi)底面上的、基板的搬入口一側(cè)上，沿著與基板的傳送方向相交叉的方向立設(shè)寬度方向的分隔板，由該寬度方向的分隔板分隔處理槽的內(nèi)底部，形成接收從搬入處理槽內(nèi)的基板的前端邊緣處流下的液體的搬入口側(cè)排液槽部，并將流到該搬入口側(cè)排液槽部內(nèi)的處理液排出。
本發(fā)明技術(shù)方案7的特征為在技術(shù)方案6所記載的基板處理裝置中，上述搬入口側(cè)排液槽部與上述排液槽部相連通。
本發(fā)明技術(shù)方案8為一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，通過上述傳送機構(gòu)，以在與基板的傳送方向垂直的方向相對于水平面傾斜的姿勢傳送基板，同時在上述處理槽的內(nèi)部的、傾斜傳送的基板較低一側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向橫向設(shè)置排液流槽，所述排液流槽接收從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向較低一側(cè)流動、從邊緣處流下的使用后的處理液；具備將從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下被回收到上述處理槽內(nèi)底部上的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出流到上述排液流槽內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
本發(fā)明技術(shù)方案9為一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)以水平姿勢將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，在上述處理槽的內(nèi)部的、傳送的基板兩側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向橫向設(shè)置一對排液流槽，所述排液流槽接收從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向兩側(cè)流動、從兩邊緣處分別流下的使用后的處理液；具備將從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下被回收到上述處理槽內(nèi)底部上的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出分別流到上述各排液流槽內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
本發(fā)明技術(shù)方案10的特征為在技術(shù)方案4、5或9所記載的基板處理裝置中，由上述傳送機構(gòu)將基板支承成在與基板的傳送方向垂直的方向上，基板的中央部高于基板的兩端部。
本發(fā)明技術(shù)方案11的特征為在技術(shù)方案4、5或9所記載的基板處理裝置中，以相對于基板表面分別向與基板的傳送方向垂直的方向上的基板兩端部傾斜的方式從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液。
本發(fā)明技術(shù)方案12的特征為在技術(shù)方案4、5或9所記載的基板處理裝置中，在由上述傳送機構(gòu)傳送的基板的前后兩端側(cè)邊緣處的正下方位置附近，沿著與基板的傳送方向垂直的方向，配設(shè)一對接收從基板的前后兩端側(cè)邊緣處分別流下的使用后的處理液的輔助排液流槽，將該一對輔助排液流槽支承成與基板的移動同步地向水平方向移動，具備排出分別流到上述各輔助排液流槽內(nèi)的使用后的處理液的輔助排液流路。
本發(fā)明技術(shù)方案13的特征為在技術(shù)方案1所記載的基板處理裝置中，上述處理槽為用純水清洗基板的水洗處理槽，與該水洗處理槽的基板搬入口一側(cè)相鄰接地設(shè)置用藥液對基板進(jìn)行處理的藥液處理槽。
本發(fā)明技術(shù)方案14為一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，一邊傳送基板一邊從處理液噴出機構(gòu)向基板上排出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，分隔上述處理槽的內(nèi)底部，形成回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液的回收槽部，而且，在上述處理液噴出機構(gòu)的下方配設(shè)回收從處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液的回收容器，設(shè)置將回收到上述回收槽部或者回收容器中的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)、使處理液循環(huán)的處理液循環(huán)機構(gòu)，并設(shè)置排出從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、從基板上流到上述處理槽內(nèi)底部上的使用后的處理液的排液流路。
本發(fā)明技術(shù)方案15的特征為在技術(shù)方案14所記載的基板處理裝置中，具備清洗機構(gòu)，該清洗機構(gòu)用清洗液清洗與從基板上流下的使用后的處理液相接觸的上述處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件。
本發(fā)明技術(shù)方案16的特征為在技術(shù)方案15所記載的基板處理裝置中，與上述處理槽相鄰接地設(shè)置用純水清洗基板的水洗處理槽，該水洗處理槽使用后的純水在上述清洗機構(gòu)中作為清洗液使用。
本發(fā)明技術(shù)方案17的特征為在技術(shù)方案14至16中任一項所記載的基板處理裝置中，使上述排液流路分支，將分支路連通連接在上述處理液循環(huán)機構(gòu)上，在分支位置上加裝流路切換機構(gòu)。
本發(fā)明技術(shù)方案18的特征為在技術(shù)方案15所記載的基板處理裝置中，使上述排液流路分支，將分支路連通連接在上述處理液循環(huán)機構(gòu)上，在分支位置上加裝流路切換機構(gòu)，在通過將從基板上流下的使用后的處理液通過上述排液流路、經(jīng)由上述分支路送往上述處理液循環(huán)機構(gòu)而讓使用后的處理液循環(huán)時，處理液在上述清洗機構(gòu)中作為清洗液使用。
本發(fā)明技術(shù)方案19的特征為在技術(shù)方案14所記載基板處理裝置中，設(shè)置儲存回收到上述回收槽部或者回收容器中的處理液的罐，在該罐上附設(shè)對該罐內(nèi)的處理液成分進(jìn)行管理的管理裝置。
在本發(fā)明技術(shù)方案1的基板處理裝置中，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理。而且，基板處理中使用的處理液向與基板的傳送方向垂直的方向的端部流動，從基板的邊緣處流下。從基板的邊緣處流下的使用后的處理液被收集在排液路徑中，通過排液路徑排出。另一方面，從處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液被回收到回收路徑中，通過液體循環(huán)系統(tǒng)返回到處理液噴出機構(gòu)中加以再利用。因此，由于使用后的處理液不會被再利用而被廢棄，所以基板的處理效率不會較低，而且，由于使用后的處理液不會通過液體循環(huán)系統(tǒng)而流動，所以液體循環(huán)系統(tǒng)中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到回收路徑中的處理液被再利用，所以維持了高的處理液利用效率，降低了處理液的使用量，廢液量也減少。
在本發(fā)明技術(shù)方案2的基板處理裝置中，由于以在與傳送方向垂直的方向上相對于水平面傾斜的姿勢傳送基板，所以從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、用于基板處理的處理液在基板上向較低的一側(cè)流動，從基板的邊緣處流下。此時，由于在基板的較低一側(cè)的邊緣處正下方位置附近立設(shè)分隔板，由該分隔板將處理槽的內(nèi)底部區(qū)分成回收槽部和排液槽部，所以從基板的邊緣處流下的使用后的處理液流到排液槽部內(nèi)，通過排液流路排出。另一方面，從處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液被回收到回收槽部內(nèi)，通過液體循環(huán)系統(tǒng)返回到處理液噴出機構(gòu)中加以再利用。因此，由于使用后的處理液不會被再利用而廢棄，所以基板的處理效率不會降低，而且，由于使用后的處理液不會通過液體循環(huán)系統(tǒng)而流動，所以液體循環(huán)系統(tǒng)中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到回收槽部內(nèi)的處理液被再利用，所以維持了高的處理液利用效率，降低了處理液的使用量，廢液量也減少。
在本發(fā)明技術(shù)方案3的基板處理裝置中，在基板上向較低一側(cè)流動、從基板的邊緣處流下的使用后的處理液可靠地流到排液槽部內(nèi)，不會越過分隔板的上端而流到回收槽部內(nèi)。
在本發(fā)明技術(shù)方案4的基板處理裝置中，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)以水平姿勢將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理。而且，用于基板處理后的處理液在基板上向兩側(cè)流動，從基板的兩邊緣處分別流下。此時，在基板兩側(cè)邊緣處的正下方位置附近分別立設(shè)分隔板，由各分隔板分隔處理槽的內(nèi)底部，將其區(qū)分成回收槽部和一對排液槽部，所以從基板的兩邊緣處分別流下的使用后的處理液流到各排液槽部內(nèi)，通過排液流路排出。另一方面，從處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液被回收到回收槽部內(nèi)，通過液體循環(huán)系統(tǒng)返回到處理液噴出機構(gòu)中加以再利用。因此，由于使用后的處理液不會被再利用而廢棄，所以基板的處理效率不會降低，而且，由于使用后的處理液不會通過液體循環(huán)系統(tǒng)而流動，所以液體循環(huán)系統(tǒng)中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到回收槽部內(nèi)的處理液被再利用，所以維持了高的處理液利用效率，降低了處理液的使用量，廢液量也減少。
在本發(fā)明技術(shù)方案5的基板處理裝置中，在基板上向兩側(cè)流動、從基板的兩邊緣處分別流下的使用后的處理液可靠地流到各排液槽部內(nèi)，不會越過分隔板的上端流到回收槽部內(nèi)。
在本發(fā)明技術(shù)方案6的基板處理裝置中，在基板的搬入口附近，當(dāng)前級的處理中使用過的、附著在基板上的處理液從基板的前端側(cè)邊緣處流下時，或者從處理液噴出機構(gòu)朝向基板傳送方向的前方向基板上噴出的處理液從基板的前端側(cè)邊緣處流下時，由于在基板的搬入口一側(cè)立設(shè)有寬度方向的分隔板，由該寬度方向的分隔板將處理槽的內(nèi)底部分隔，形成搬入口側(cè)排液槽部，所以從基板的前端側(cè)邊緣處流下的液體流到搬入口側(cè)排液槽部內(nèi)并被排出。
在本發(fā)明技術(shù)方案7的基板處理裝置中，流到搬入口側(cè)排液槽部內(nèi)的液體與流到排液槽部內(nèi)的使用后的處理液一起通過排液流路排出。
在本發(fā)明技術(shù)方案8的基板處理裝置中，由于基板是以在水平方向上相對于水平面傾斜的姿勢傳送的，所以從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的用于基板處理后的處理液在基板上向較低一側(cè)流動、從基板的邊緣處流下。此時，由于在基板較低一側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向橫向設(shè)置有排液流槽，所以從基板的邊緣處流下的使用后的處理液流到排液流槽內(nèi)，通過排液流路排出。另一方面，從處理液噴出機構(gòu)排出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液被回收到處理槽的內(nèi)底部，通過液體循環(huán)系統(tǒng)返回到處理液噴出機構(gòu)中加以再利用。因此，由于使用后的處理液不會被再利用而廢棄，所以基板的處理效率不會降低，而且，由于使用后的處理液不會通過液體循環(huán)系統(tǒng)而流動，所以液體循環(huán)系統(tǒng)中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到處理槽內(nèi)底部的處理液被再利用，所以維持了高的處理液利用效率，降低了處理液的使用量，廢液量也減少。
在本發(fā)明技術(shù)方案9的基板處理裝置中，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)以水平姿勢將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理。并且，用于基板處理后的處理液在基板上向兩側(cè)流動，從基板的兩邊緣處分別流下。此時，由于在基板兩側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，分別沿著基板的傳送方向橫向設(shè)置有排液流槽，所以從基板的兩邊緣處分別流下的使用后的處理液流到各排液流槽內(nèi)，通過排液流路排出。另一方面，從處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液被回收到處理槽的內(nèi)底部，通過液體循環(huán)系統(tǒng)返回到處理液噴出機構(gòu)中加以再利用。因此，由于使用后的處理液不會被再利用而廢棄，所以基板的處理效率不會降低，而且，由于使用后的處理液不會通過液體循環(huán)系統(tǒng)而流動，所以液體循環(huán)系統(tǒng)中各部件的污染也降低到最小限度。另一方面，由于回收到理槽內(nèi)底部的處理液被再利用，所以維持了高的處理液利用效率，降低了處理液的使用量，廢液量也減少。
在本發(fā)明技術(shù)方案10的基板處理裝置中，由于基板是被支承成在與傳送方向垂直的方向上、中央部高于兩端部地傳送的，所以從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、用于基板處理后的處理液在基板的中央部上向左右分開，不會滯留在基板上，在基板上從中央部分別向兩端部流動，從基板的邊緣處流下。
在本發(fā)明技術(shù)方案11的基板處理裝置中，由于是相對于基板表面以分別向與基板的傳送方向垂直的方向上的基板兩端部一側(cè)傾斜的方式噴出處理液，所以從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的處理液形成分別朝向兩端部的流股，處理液在基板上分別向兩端部流動，從基板的邊緣處流下。
在本發(fā)明技術(shù)方案12的基板處理裝置中，在通過傳送機構(gòu)傳送基板時，即使從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、用于基板處理后的處理液從基板的前后兩端側(cè)邊緣處分別流下，由于在基板的前后兩端側(cè)邊緣處的正下方位置附近，沿著與基板的傳送方向垂直的方向配設(shè)一對輔助排液流槽，該一對輔助排液流槽被支承成與基板的移動同步地向水平方向移動，所以從基板的前后兩端側(cè)邊緣處分別流下的使用后的處理液流到各輔助排液流槽內(nèi)，通過輔助排液流路排出。
在本發(fā)明技術(shù)方案13的基板處理裝置中，在藥液處理槽中用于基板處理、附著在基板上的藥液通過在水洗處理槽中用純水清洗基板而被除去，被純水置換。
在本發(fā)明技術(shù)方案14的基板處理裝置中，從處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液被回收到處理槽的回收槽部或者回收容器中，通過處理液循環(huán)機構(gòu)從回收槽部或者回收容器返回到處理液噴出機構(gòu)中，使其循環(huán)使用。并且，該處理液由于未經(jīng)由基板面，所以不會含有非溶解物。因此，并不擔(dān)心發(fā)生液體循環(huán)系統(tǒng)中，罐的內(nèi)表面、配管的內(nèi)表面、泵的內(nèi)部等被非溶解物污染這樣的問題，另一方面，從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、從基板上流到處理槽的內(nèi)底部上的使用后的處理液通過排液流路被排出。因此，即使在該處理液中含有非溶解物也沒有問題。
在本發(fā)明技術(shù)方案15的基板處理裝置中，由于通過清洗機構(gòu)，用清洗液清洗與從基板上流下的使用后的處理液相接觸的處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件，所以即使在使用后的處理液中含有非溶解物，該非溶解物附著在處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件上，該非溶解物也被洗掉。因此，防止了處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件的污染。
在本發(fā)明技術(shù)方案16的基板處理裝置中，由于與處理槽相鄰接的水洗處理槽中使用后的純水在沖洗機構(gòu)中作為清洗液使用，所以節(jié)約了清洗液。
在本發(fā)明技術(shù)方案17的基板處理裝置中，當(dāng)從基板上流到處理槽內(nèi)底部上的使用后的處理液中含有非溶解物時，通過排液流路將使用后的處理液原封不動地排出。另一方面，在從基板上流到處理槽內(nèi)底部上的處理液中未含有非溶解物時，通過流路切換機構(gòu)將使用后的處理液從排液流路內(nèi)向分支路內(nèi)流入地切換流路，使用后的處理液通過分支路流向處理液循環(huán)機構(gòu)。這樣，在因基板的種類不同而使用后的處理液中未含有非溶解物時，通過將使用后的處理液循環(huán)使用，減少了處理液的使用量。
在本發(fā)明技術(shù)方案18的基板處理裝置中，當(dāng)從基板上流到處理槽內(nèi)底部上的使用后的處理液中含有非溶解物時，通過排液流路將使用后的處理液原封不動地排出。另一方面，當(dāng)從基板上流到處理槽內(nèi)底部上的處理液中未含有非溶解物時，通過流路切換機構(gòu)將使用后的處理液從排液流路內(nèi)流入分支路內(nèi)地切換流路，使用后的處理液通過分支路流向處理液循環(huán)機構(gòu)，這樣，在因基板的種類不同而使用后的處理液中未含有非溶解物時，通過將使用后的處理液循環(huán)使用，降低了處理液的使用量。而且，當(dāng)使從基板上流下的使用后的處理液循環(huán)使用時，由于處理液在清洗機構(gòu)中作為清洗液使用，所以使用于處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件清洗后的處理液(清洗液)也循環(huán)，可在基板的處理以及處理槽內(nèi)壁面等的清洗中使用。
在本發(fā)明技術(shù)方案19的基板處理裝置中，用于通過管理裝置對罐內(nèi)的處理液的成分進(jìn)行管理，所以可消除被污染或劣化的處理液循環(huán)地用于基板的處理中的問題。
當(dāng)使用本發(fā)明技術(shù)方案1、技術(shù)方案2、技術(shù)方案4、技術(shù)方案8、以及技術(shù)方案9的基板處理裝置時，可維持高的純水等處理液的利用效率，減少處理液的使用量，同時廢液量可也減少。而且，在維持高的基板處理效率的同時，還可以將液體的循環(huán)路徑中各部件的污染抑制在最小限度。
在本發(fā)明技術(shù)方案3的基板處理裝置中，能夠可靠地將在基板上向較低一側(cè)流動、從基板的邊緣處流下的使用后的處理液作為廢液排出。
在技術(shù)方案5的基板處理裝置中，能夠可靠地將在基板上向兩側(cè)流動、從基板的兩邊緣處分別流下的使用后的處理液作為廢液排出。
在本發(fā)明技術(shù)方案6的基板處理裝置中，能夠在基板的搬入口附近將從基板的前端側(cè)邊緣處流下的液體作為廢液排出。
在本發(fā)明技術(shù)方案7的基板處理裝置中，能夠在基板的搬入口附近將從基板的前端側(cè)邊緣處流下的液體與流到排液槽部內(nèi)的使用后的處理液一起作為廢液排出。
在本發(fā)明技術(shù)方案10和技術(shù)方案11的基板處理裝置中，能夠使從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、用于基板處理后的處理液不會在基板上滯留地向基板的兩端部分別流動，從基板的邊緣處流下。
在本發(fā)明技術(shù)方案12的基板處理裝置中，能夠?qū)⒃诨鍌魉蜁r從基板的前后兩端側(cè)邊緣處分別流下的使用后的處理液作為廢液排出。
在本發(fā)明技術(shù)方案13的基板處理裝置中，在將藥液處理槽中使用的、附著在基板上的藥液在水洗處理槽中從基板上除去、由純水置換的處理中，能夠減少純水的使用量。
當(dāng)使用本發(fā)明技術(shù)方案14的基板處理裝置時，能夠一邊使處理液循環(huán)一邊進(jìn)行基板的處理，并且，由于能夠僅將處理中使用的液體分離、排出，所以能夠維持高的處理液利用效率，同時不會在液體循環(huán)系統(tǒng)中產(chǎn)生問題。而且，在處理時也無需進(jìn)行復(fù)雜的控制。
在本發(fā)明技術(shù)方案15的基板處理裝置中，能夠防止內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件的污染。
在本發(fā)明技術(shù)方案16的基板處理裝置中，能夠節(jié)約為了防止處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件的污染而使用的清洗液。
在本發(fā)明技術(shù)方案17的基板處理裝置中，由于當(dāng)因基板的種類不同而使用后的處理液中未含有非溶解物時，能夠?qū)⑹褂煤蟮奶幚硪貉h(huán)使用，所以可減少處理液的使用量。
在本發(fā)明技術(shù)方案18的基板處理裝置中，由于當(dāng)因基板的種類不同而使用后的處理液中未含有非溶解物時，能夠?qū)⑹褂煤蟮奶幚硪貉h(huán)使用，所以可減少處理液的使用量。而且，當(dāng)將從基板上流下的使用后的處理液循環(huán)使用時，使用于處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件的清洗的處理液也循環(huán)，用于基板的處理以及處理槽內(nèi)壁面等的清洗中，所以也能夠節(jié)約處理液(清洗液)。
在本發(fā)明技術(shù)方案19的基板處理裝置中，由于不必?fù)?dān)心被污染或劣化的處理液循環(huán)用于基板的處理中，所以能夠維持基板的處理品質(zhì)。


圖1示出本發(fā)明第1實施方式的一例，是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖2是圖1中的II-II向剖視圖。
圖3是圖1中的III-III向剖視圖。
圖4示出本發(fā)明第1實施方式的另一例，是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖5示出本發(fā)明第1實施方式的另一例，是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖6是圖5中的VI-VI向剖視圖。
圖7示出本發(fā)明第1實施方式的另一例，是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖8是圖7中的VIII-VIII向剖視圖。
圖9示出本發(fā)明第1實施方式的另一例，是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖10是圖9中的X-X向剖視圖。
圖11示出以水平姿式將基板向水平方向傳送時，用于使噴出到基板上的純水容易在基板上流動的構(gòu)成例，是示意表示基板處理裝置一部分的側(cè)視圖。
圖12示出用于使噴出到基板上的純水容易在基板上流動的其他構(gòu)成例，是示意表示基板處理裝置一部分的側(cè)視圖。
圖13是示意表示圖9中所示的基板處理裝置的變型例的俯視圖。
圖14示出本發(fā)明第2實施方式的一例，是示意表示作為基板處理裝置之一的顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖15示出顯影處理槽的清洗機構(gòu)與圖14所示不同的例子，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖16示出本發(fā)明第2實施方式的另一例，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖17示出按照第2實施方式中使用的顯影液的種類設(shè)置顯影液噴射噴嘴的例子，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖18示出按照第2實施方式中使用的顯影液的種類可進(jìn)行處理操作的其他例子，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖19是示意表示現(xiàn)有的基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的一例的側(cè)視圖。
圖20是示意表示現(xiàn)有的基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的一例的側(cè)視圖。
具體實施例方式
1.第1實施方式以下，參照圖1至圖13對本發(fā)明第1實施方式加以說明。
圖1至圖13示出本發(fā)明第1實施方式的一例，圖1是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖2和圖3是圖1中的II-II向剖視圖和III-III向剖視圖。在該基板處理裝置中，由于進(jìn)行基板處理的主要部分的結(jié)構(gòu)和動作和對圖19進(jìn)行說明的現(xiàn)有的裝置相同，所以在圖1至圖3中將相同的部件也標(biāo)上圖19中采用的符號，省略其重復(fù)的說明。
在這種基板處理裝置中，雖然圖中未示出，但并列配設(shè)在水洗處理槽10內(nèi)部的多個傳送輥均被支承為在與基板1的傳送方向垂直的方向上傾斜。而且，如圖3所示，基板1是以在與其傳送方向垂直的方向上傾斜的姿式向水平方向傳送。另外，圖2中，為了便于表示，未將基板1描繪成傾斜姿式。而且，為了不使從純水噴射噴嘴14噴出的純水經(jīng)由從藥液處理槽16內(nèi)搬入水洗處理槽10內(nèi)的基板1的上表面而流向上游側(cè)的藥液處理槽16內(nèi)，如圖2所示，設(shè)置在純水噴射噴嘴14中距水洗處理槽10的搬入口12最近的位置上的純水噴射噴嘴14a是以朝向基板1的傳送方向的前方噴出純水的方式配置噴出口。另外，在這種基板處理裝置中，水洗處理槽10的內(nèi)底部被分隔板20和寬度方向的分隔板22分隔，將水洗處理槽10的內(nèi)底部區(qū)分為回收槽部24和L字形的排液槽部26。
分隔板20沿著基板1的傳送方向立設(shè)在水洗處理槽10的內(nèi)底面上的、被傾斜傳送的基板1較低一側(cè)的邊緣處的正下方位置上。分隔板20的上端如圖3(a)所示，優(yōu)選地配置成接近基板1的較低一側(cè)的邊緣。而且，寬度方向的分隔板22沿著與基板1的傳送方向垂直的方向立設(shè)在基板1的搬入口12一側(cè)。而且，寬度方向的分隔板22的一端部呈鉤形地連接在分隔板20的一端部上。
而且，在水洗處理槽10的回收槽部24的底部上設(shè)置有液體回收口28，在該液體回收口28上連通連接有液體回收配管30。液體回收配管30連通連接在儲存回收液32的回收罐34上。而且，在回收罐34上連通連接有分別加裝了過濾器38和泵40的送液配管36的一端，雖然圖中未示出，但送液配管36的前端連通連接在純水噴射噴嘴14、14a上。另一方面，在水洗處理槽10的排液槽部26的底部上設(shè)置有液體排出口42，在該液體排出口42上連通連接有排液管44。
在具備上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置中，如圖3(a)所示，當(dāng)基板1通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14向基板1上噴出的純水與附著在基板1的上表面上的藥液2一起在基板1上向較低的一側(cè)流動，從基板1的邊緣處流下。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面上噴出的純水的一部分沿著基板1的下表面向基板1的較低一側(cè)流動，從基板1的邊緣處流下。從基板1的邊緣處流下的純水和藥液的混合液流到排液槽部26內(nèi)，從排液槽部26內(nèi)通過液體排出口42向排液管44內(nèi)流出，通過排液管44，作為廢液被排出。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面一側(cè)噴出的純水的一部分從基板1的下表面滴落，流到回收槽部24內(nèi)。然后，回收到回收槽部24內(nèi)的少量的純水從回收槽部24內(nèi)通過液體回收口28向液體回收配管30內(nèi)流出，通過液體回收配管30流入回收罐34內(nèi)。這樣，儲存在回收罐34內(nèi)的回收液32通過送液配管36返回到純水噴射噴嘴14、14a而被再利用。另外，此時從下側(cè)的純水噴射噴嘴14噴出的純水雖然在碰到基板1后其一部分返回到回收罐34，但實際上不會產(chǎn)生不良情況。即，在附著在基板1的下表面上的藥液中，由于重力的作用，與上表面相比，下表面上只附著了少量的藥液。因此，碰到基板1的下表面上的純水只含有非常少的藥液，所以即使返回到回收罐34再利用，實際上也不會產(chǎn)生不良情況。而且，由于在藥液處理槽16中，有時也采用除去附著在基板1的下表面上的藥液的軋液輥，在這種情況下進(jìn)入水洗處理槽10中的、基板1的下表面上附著的藥液更少，所以實際上不會產(chǎn)生不良情況。
另一方面，如圖3(b)所示，當(dāng)基板1未通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14噴出的純水不經(jīng)由基板1的表面而原封不動地流到回收槽部24內(nèi)。流到回收槽部24內(nèi)被回收的大量的純水從回收槽部24內(nèi)通過液體回收口28向液體回收配管30內(nèi)流出，通過液體回收配管30流到回收罐34內(nèi)。然后，儲存在回收罐34內(nèi)的回收液(純水)32通過送液配管36返回到純水噴射噴嘴14、14a被再利用。在這種情況下，純水幾乎不會流到排液槽部26內(nèi)，從排液槽部26內(nèi)通過排液管44排出的廢液量也非常少。
而且，在水洗處理槽10的搬入口12附近，由于從純水噴射噴嘴14a，朝向基板1的傳送方向的前方相對從藥液處理槽16內(nèi)搬入到水洗處理槽10內(nèi)、附著有藥液的基板1噴出純水，所以噴出到基板1上的純水與附著在基板1的上表面上的藥液2一起在基板1上向前方一側(cè)流到，從基板1的前端側(cè)邊緣處流下。從基板1的前端側(cè)邊緣處流下的純水和藥液的混合液流到由寬度方向的分隔板22從回收槽部24分隔出來的排液槽部26內(nèi)，在排液槽部26的內(nèi)底面上向液體排出口42流動。然后，從排液槽部26內(nèi)通過液體排出口42向排液管44內(nèi)流出，通過排液管44，作為廢液排出。
如上所述，在這種基板處理裝置中，由于使用后的純水幾乎不再利用而與藥液一起作為廢液排出，在基板1的清洗處理中使用純水，所以基板1的處理效率不會降低。而且，由于純水和藥液的混合液不會在液體回收配管30內(nèi)、回收罐34內(nèi)、送液配管36內(nèi)、以及泵40的內(nèi)部流動，所以可最小限度地抑制這些部件被藥液污染。另一方面，由于回收到回收槽部24內(nèi)的純水被再次利用，所以能夠使純水的使用量減少，而且也減少了廢液量。
在上述的基板處理裝置中，純水噴射噴嘴14中設(shè)置在最靠近水洗處理槽10的搬入口12的位置上的純水噴射噴嘴14a以朝向基板1的傳送方向前方噴出純水的方式配置噴出口。而且，為了不使純水經(jīng)由從水洗處理槽10內(nèi)搬入的基板1的上表面流入上游側(cè)的藥液處理槽16內(nèi)，也可以在水洗處理槽10的搬入口12附近設(shè)置氣刀，但在具備這種結(jié)構(gòu)的裝置中，要如上述實施方式所述，將排液槽部26制成L字形，使從向水洗處理槽10內(nèi)搬入的基板1的前端側(cè)邊緣處流下的純水和藥液流到排液槽部26內(nèi)。而在從搬入到水洗處理槽10內(nèi)的基板1的前端側(cè)邊緣處流下的純水和藥液的量并不太多的情況下，如圖4的俯視圖所示，也可以不設(shè)置寬度方向的分隔板22，在水洗處理槽10的全長上沿著基板1的傳送方向立設(shè)分隔板46，通過該分隔板46將水洗處理槽10的內(nèi)底部區(qū)分為回收槽部48和排液槽部50。
在第1實施方式中，通過排液管44排出的液體作為廢液廢棄了，但在本發(fā)明中，并不意味著排出的液體就一定是廢液。例如，在藥液處理槽的下游連續(xù)地設(shè)置兩個水洗處理槽的情況下，可考慮將本發(fā)明用于兩個水洗處理槽中，成為以下的結(jié)構(gòu)。即，在下游側(cè)的水洗處理槽中，為了進(jìn)行水洗而使用新的未經(jīng)使用的純水。這樣，在下游側(cè)的水洗處理槽中從排液管44排出的液體并不是廢液，而是送往上游側(cè)的水洗處理槽，在上游側(cè)的水洗處理槽中，能夠作為新液用于水洗。這是由于在搬入上游側(cè)的水洗處理槽中的基板上附著了大量的藥液，而搬入下游側(cè)的水洗處理槽中的基板已在上游側(cè)的水洗處理槽中進(jìn)行了清洗，附著的藥液非常少的緣故。也可以說是，在下游側(cè)的水洗處理槽中，從排液管44排出的液體只含有非常少量的藥液，為可在上游側(cè)的水洗處理槽中作為新液使用的程度。這樣，通過將在下游側(cè)的水洗處理槽中從排液管44排出的液體送往上游側(cè)的水洗處理槽中加以再利用，能夠進(jìn)一步降低純水的使用量。
而且，在上述的例子中，是將排液槽部26制成使由分隔板20形成的部分和由寬度方向的分隔板22形成的部分連通的整體為L字形，但也可以從這兩部分上分別設(shè)置排液管，將雙方的排液管連接在回收罐34上。
圖5和圖6示出本發(fā)明第1實施方式的另一例，圖5是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖6是圖5中的VI-VI向剖視圖。在這種基板處理裝置中，由于進(jìn)行基板處理的主要部分的結(jié)構(gòu)和動作也和對圖19進(jìn)行說明的現(xiàn)有的裝置相同，所以省略重復(fù)的說明。而且，在圖5和圖6中標(biāo)有與圖1至圖3中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記的部件表示具有和對圖1至圖3進(jìn)行說明的上述部件相同功能的部件，省略對其重復(fù)的說明。
在這種基板處理裝置中，雖然圖中未示出，但并列配設(shè)在水洗處理槽10內(nèi)部的多個傳送輥也均被支承為在與基板1的傳送方向垂直的方向上傾斜。如圖6所示，基板1是以在與其傳送方向垂直的方向上傾斜的姿式向水平方向傳送。這樣，在這種基板處理裝置中，在水洗處理槽10的內(nèi)部，沿著基板1的傳送方向橫向設(shè)置排液流槽66。該排液流槽66配置在傾斜地傳送的基板1的較低一側(cè)的邊緣處的正下方位置附近。而且，在排液流槽66的底部上設(shè)置有液體排出口68，在該液體排出口68上連通連接有排液管70。
另一方面，在水洗處理槽10的內(nèi)底部上設(shè)置有液體回收口72，在該液體回收口72上連通連接有液體回收配管74。雖然圖中未示出，但與圖1至圖3中所示的裝置一樣，液體回收配管74連通連接在儲存回收液的回收罐上，在回收罐上連通連接有分別加裝了過濾器和泵的送液配管的一端，送液配管的前端連通連接在純水噴射噴嘴14、14a上。
在具備上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置中，如圖6所示，當(dāng)基板1通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14向基板1上噴出的純水與附著在基板1的上表面上的藥液2一起在基板1上向較低的一側(cè)流動，從基板1的邊緣處流下。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面上噴出的純水的一部分沿著基板1的下表面向基板1的較低一側(cè)流動，從基板1的邊緣處流下。從基板1的邊緣處流下的純水和藥液的混合液流到排液流槽66內(nèi)，從排液流槽66內(nèi)通過液體排出口68向排液管70內(nèi)流出，通過排液管70，作為廢液被排出。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面一側(cè)噴出的純水的一部分從基板1的下表面滴落，流到水洗處理槽10的內(nèi)底部。然后，回收到水洗處理槽10的內(nèi)底部的少量的純水從水洗處理槽10的內(nèi)底部通過液體回收口72向液體回收配管74內(nèi)流出，通過液體回收配管74流入回收罐內(nèi)。這樣，儲存在回收罐內(nèi)的回收液通過送液配管返回到純水噴射噴嘴14、14a而被再利用。
另一方面，當(dāng)基板1未通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14噴出的純水不經(jīng)由基板1的表面而原封不動地流到水洗處理槽10的內(nèi)底部。流到水洗處理槽10的內(nèi)底部被回收的大量的純水從水洗處理槽10的內(nèi)底部通過液體回收口72向液體回收配管74內(nèi)流出，通過液體回收配管74流到回收罐內(nèi)。然后，儲存在回收罐內(nèi)的回收液(純水)通過送液配管返回到純水噴射噴嘴14、14a被再利用。在這種情況下，純水幾乎不會流到排液流槽66內(nèi)，從排液流槽66內(nèi)通過排液管70排出的廢液量也非常少。
如上所述，在這種基板處理裝置中，由于使用后的純水幾乎不再利用而與藥液一起作為廢液排出，在基板1的清洗處理中使用純水，所以基板1的處理效率不會降低。而且，由于純水和藥液的混合液不會在液體回收配管74內(nèi)、回收罐內(nèi)、送液配管內(nèi)、以及泵的內(nèi)部等流動，所以可最小限度地抑制這些部件被藥液污染。另一方面，由于回收到水洗處理槽10的內(nèi)底部的純水被再次利用，所以能夠使純水的使用量減少，而且也減少了廢液量。
圖7和圖8示出本發(fā)明第1實施方式的另一例，圖7是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖8是圖7中的VIII-VIII向剖視圖。在這種基板處理裝置中，由于進(jìn)行基板處理的主要部分的結(jié)構(gòu)和動作也和對圖19進(jìn)行說明的現(xiàn)有的裝置相同，所以省略重復(fù)的說明。而且，在圖7和圖8中標(biāo)有與圖1至圖3中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記的部件表示具有和對圖1至圖3進(jìn)行說明的上述部件相同功能的部件，省略對其重復(fù)的說明。
在這種基板處理裝置中，雖然圖中未示出，但并列配設(shè)在水洗處理槽10內(nèi)部的多個傳送輥也均是沿著水平方向被支承，如圖8所示，基板1是以水平姿式向水平方向傳送。這樣，在這種基板處理裝置中，水洗處理槽10的內(nèi)底部由一對分隔板76a、76b以及寬度方向的分隔板78分隔，將水洗處理槽10的內(nèi)底部區(qū)分成回收槽部80和一對排液槽部82a、82b以及搬入口側(cè)排液槽部84。
一對隔板76a、76b分別沿著基板1的傳送方向立設(shè)在水洗處理槽10的內(nèi)底部上、以水平姿式傳送的基板1兩側(cè)的邊緣處的正下方位置附近。分隔板76a、76b的上端如圖8所示，最好分別靠近基板1兩側(cè)的邊緣處地配置。而且，寬度方向的分隔板78沿著與基板1的傳送方向垂直的方向立設(shè)在水洗處理槽10的內(nèi)底面上的基板1的搬入口一側(cè)。這樣，寬度方向的分隔板78的兩端部分別呈鉤形地連接在各分隔板76a、76b的一端部上，一對排液槽部82a、82b以及搬入口側(cè)的排液槽部84相互連通連接在流路上。
而且，在水洗處理槽10的回收槽部80的底部上設(shè)置有液體回收口86，在該液體回收86上連通連接有液體回收配管88。雖然圖中未示出，但液體回收配管88與圖1至圖3中所示的裝置一樣，連通連接在儲存回收液的回收罐上，回收罐上流通連接有分別加裝了過濾器和泵的送液配管的一端，送液配管的前端連通連接在純水噴射噴嘴14、14a上。另一方面，在水洗處理槽10的排液槽部82a的底部上設(shè)置有液體排出口90，在該液體排出口90上連通連接有排液管92。
在具有上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置中，如圖8所示，當(dāng)基板1通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14向基板1上噴出的純水與附著在基板1的上表面上的藥液2一起在基板1上向兩側(cè)流動，分別從基板1的兩邊緣處流下。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面一側(cè)噴出的純水的一部分沿著基板1的下表面向基板1兩側(cè)流動，從基板1的兩邊緣處流下。分別從基板1的兩邊緣處流下的純水和藥液的混合液分別流到各排液槽部82a、82b內(nèi)，從排液槽部82a、82b內(nèi)通過液體排出口90向排液管92內(nèi)流出，通過排液管92，作為廢液被排出。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面一側(cè)噴出的純水的一部分從基板1的下表面滴落，流到回收槽部80內(nèi)。然后，回收到回收槽部80內(nèi)的少量的純水從回收槽部80通過液體回收口86向液體回收配管88內(nèi)流出，通過液體回收配管88流入回收罐內(nèi)。這樣，儲存在回收罐內(nèi)的回收液通過送液配管返回到純水噴射噴嘴14、14a而被再利用。
另一方面，當(dāng)基板1未通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14噴出的純水不經(jīng)由基板1的表面而原封不動地流到回收槽部80內(nèi)。流到回收槽部80內(nèi)被回收的大量的純水從回收槽部80內(nèi)通過液體回收口86向液體回收配管88內(nèi)流出，通過液體回收配管88流入回收罐內(nèi)。然后，儲存在回收罐內(nèi)的回收液(純水)通過送液配管返回到純水噴射噴嘴14、14a被再利用。在這種情況下，純水幾乎不會流到排液槽部82a、82b內(nèi)，從排液槽部82a、82b內(nèi)通過排液管92排出的廢液量也非常少。
而且，在水洗處理槽10的搬入口附近，朝向基板1的傳送方向的前方相對從藥液處理槽16內(nèi)搬入到水洗處理槽10內(nèi)、附著有藥液的基板1噴出純水，所以噴出到基板1上的純水與附著在基板1的上表面上的藥液2一起在基板1上向前方一側(cè)流動，從基板1的前端側(cè)邊緣處流下。從基板1的前端側(cè)邊緣處流下的純水和藥液的混合液流到由寬度方向的分隔板78從回收槽部80分隔出來的搬入口側(cè)排槽液部84內(nèi)，在搬入口側(cè)排液槽部84的內(nèi)底面上向液體排出口90流動。然后，從排液槽部82a內(nèi)通過液體排出口90向排液管92內(nèi)流出，通過排液管92，作為廢液排出。
在這種基板處理裝置中，也與圖1至圖3中所示的裝置相同，基板1的處理效率不會降低，而且，可最小限度地抑制液體回收配管88內(nèi)、回收罐內(nèi)、送液配管內(nèi)、以及泵的內(nèi)部等部件被藥液污染。另一方面，能夠獲得減少純水的使用量，而且也減少了廢液量的作用和效果。
圖9和圖10示出本發(fā)明第1實施方式的另一例，圖9是示意表示基板處理裝置大致結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖10是圖9中的X-X向剖視圖。在這種基板處理裝置中，由于進(jìn)行基板處理的主要部分的結(jié)構(gòu)和動作也和對圖19進(jìn)行說明的現(xiàn)有的裝置相同，所以省略重復(fù)的說明。而且，在圖9和圖10中標(biāo)有與圖1至圖3中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記的部件表示具有和對圖1至圖3進(jìn)行說明的上述部件相同功能的部件，省略對其重復(fù)的說明。
在這種基板處理裝置中，雖然圖中未示出，但并列配設(shè)在水洗處理槽10內(nèi)部的多個傳送輥也均被支承為水平，如圖10所示，基板1是以水平姿式向水平方向傳送。這樣，在這種基板處理裝置中，在水洗處理槽10的內(nèi)部，沿著基板1的傳送方向橫向設(shè)置一對排液流槽49a、49b。該一對排液流槽49a、49b分別配置在以水平姿式傳送的基板1兩側(cè)的邊緣處的正下方位置附近。而且，在各排液流槽94a、94b的底部上分別設(shè)置有液體排出口96a、96b，在各液體排出口96a、96b上分別連通連接有排液管98a、98b。
另一方面，在水洗處理槽10的內(nèi)底部上設(shè)置有液體回收口100，在該液體回收口100上連通連接有液體回收配管102。雖然圖中未示出，但與圖1至圖3中所示的裝置一樣，液體回收配管102連通連接在儲存回收液的回收罐上，在回收罐上連通連接有分別加裝了過濾器和泵的送液配管的一端，送液配管的前端連通連接在純水噴射噴嘴14、14a上。
在具備上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置中，如圖10所示，當(dāng)基板1通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14向基板1上噴出的純水與附著在基板1的上表面上的藥液2一起在基板1上向兩側(cè)流動，分別從基板1的兩邊緣處流下。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面上噴出的純水的一部分沿著基板1的下表面向基板1的兩側(cè)流動，分別從基板1的兩邊緣處流下。分別從基板1的兩邊緣處流下的純水和藥液的混合液流到各排液流槽94a、94b內(nèi)，從各排液流槽94a、94b內(nèi)通過液體排出口96a、96b向排液管98a、98b內(nèi)流出，通過排液管98a、98b，作為廢液被排出。而且，從純水噴射噴嘴14向基板1的下表面一側(cè)噴出的純水的一部分從基板1的下表面滴落，流到水洗處理槽10的內(nèi)底部。然后，回收到水洗處理槽10的內(nèi)底部的少量的純水從水洗處理槽10的內(nèi)底部通過液體回收口100向液體回收配管102內(nèi)流出，通過液體回收配管102流入回收罐內(nèi)。然后，儲存在回收罐內(nèi)的回收液通過送液配管返回到純水噴射噴嘴14、14a而被再利用。
另一方面，當(dāng)基板1未通過純水噴射噴嘴14的設(shè)置位置時，從純水噴射噴嘴14噴出的純水不經(jīng)由基板1的表面而原封不動地流到水洗處理槽10的內(nèi)底部。流到水洗處理槽10的內(nèi)底部被回收的大量的純水從水洗處理槽10的內(nèi)底部通過液體回收口100向液體回收配管102內(nèi)流出，通過液體回收配管102流入回收罐內(nèi)。然后，儲存在回收罐內(nèi)的回收液(純水)通過送液配管返回到純水噴射噴嘴14、14a被再利用。在這種情況下，純水幾乎不會流到排液流槽94a、94b內(nèi)，從排液流槽94a、94b內(nèi)通過排液管98a、98b排出的廢液量也非常少。
在這種基板處理裝置中，也與圖5和圖6中所示的裝置一樣，基板1的處理效率不會降低，而且，可最小限度地抑制液體回收配管102內(nèi)、回收罐內(nèi)、送液配管內(nèi)、以及泵的內(nèi)部等部件被藥液污染。另一方面，能夠獲得減少純水的使用量，而且也減少了廢液量的作用和效果。
如圖7和圖8中所示的實施方式或圖9和圖10中所示的實施方式那樣，在以水平姿式向水平方向傳送基板1時，存在著從純水噴射噴嘴14向基板1上噴出的純水和藥液的混合液難以在基板1上流動的可能性。在這種情況下，如圖11的側(cè)視圖所示，可采用將與基板1的下表面的中央部相抵接、支承基板1的傳送輥104的直徑制成大于分別與基板1的下表面兩端部抵接、支承基板1的傳送輥106、106的直徑，將基板1支承成在與其傳送方向上中央部高于兩端部地進(jìn)行傳送的結(jié)構(gòu)。由于采用這種結(jié)構(gòu)，從純水噴射噴嘴14向基板1上噴出的純水和藥液的混合液在基板1的中央部分成左右，不會在基板1上滯留，而在基板1上從中央部分別向兩端部流動，從基板1的兩邊緣處流下。
而且，也可以如圖12的側(cè)視圖所示，采用將各純水噴射噴嘴14分別配置成其噴出口朝向基板1的兩端部的結(jié)構(gòu)，通過采用這種結(jié)構(gòu)，由于純水是從各噴射噴嘴14相對于基板1的表面在與傳送方向垂直的方向分別朝兩端部傾斜地向基板1上噴出，所以從各噴射噴嘴14噴出到基板1上的純水中形成分別朝向兩端部的流股，純水和藥液混合而在基板1上向兩端部流動，從基板1的邊緣處流下。
而且，也可以如圖13中表示基板處理裝置的俯視圖所示，采用在以水平姿式向水平方向傳送的基板1的前后兩端側(cè)邊緣處的正下方位置附近，分別沿著與傳送方向垂直的方向配設(shè)有一對輔助排液流槽108a、108b，并支承成該一對輔助排液流槽108a、108b和基板1的移動同步地向水平方向移動的結(jié)構(gòu)。在具備這種結(jié)構(gòu)的基板處理裝置中，當(dāng)基板1被傳送時，即使從純水噴射噴嘴14向基板1上噴出的、用于基板1的清洗并與藥液混合了的純水分別從基板1的前后兩端側(cè)邊緣處流下，分別從基板1的兩端側(cè)邊緣處流下的純水和藥液的混合液分別流到各輔助排液流槽108a、108b內(nèi)，通過連接在各輔助排液流槽108a、108b上的輔助排液通路(圖中未示出)被排出。
另外，在第1實施方式中，是對與藥液處理槽16鄰接地具備水洗處理槽10的基板處理裝置進(jìn)行了說明，但本發(fā)明也可以適用于除此之外的進(jìn)行清洗、顯影、蝕刻、和剝離等處理的基板處理裝置。
2.第2實施方式以下，參照附圖14至18對本發(fā)明的第2實施方式加以說明。
圖14示出本發(fā)明第2實施方式的一例，是示意表示作為基板處理裝置之一的顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。在這種顯影處理裝置中，由于進(jìn)行顯影處理的主要部分的結(jié)構(gòu)和動作與對圖20進(jìn)行說明的現(xiàn)有的裝置相同，所以在圖14中對同一部件標(biāo)以和圖20中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記，省略其重復(fù)說明。
在這種顯影處理裝置中，在顯影液噴射噴嘴116的下方，將顯影處理槽110的內(nèi)部分隔開，設(shè)置有回收槽部122。另外，也可以在顯影液噴射噴嘴116的下方設(shè)置回收盤(回收容器)以取代設(shè)置回收槽部122。在該回收槽部122內(nèi)回收有當(dāng)基板1未通過顯影液噴射噴嘴116的正下方位置時從顯影液噴射噴嘴116噴出、不經(jīng)由基板1的表面而原封不動地流下的顯影液(參照圖15)。在回收槽部112的底部上設(shè)置有從基板1上流到回收槽部122的內(nèi)底部上的顯影液流出的液體回收口124，在該液體回收口124上連通連接有液體回收配管126。液體回收配管126連通連接在儲存被回收的顯影液128的回收罐130上。而且，在回收罐130上連通連接有送液配管132的一端，送液配管132的前端連通連接在顯影液噴射噴嘴116上。在該送液配管132上加裝有泵134，雖然圖中未示出，但根據(jù)需要也加裝有過濾器。由液體回收配管126、回收罐130、送液配管132、以及泵134構(gòu)成液體循環(huán)系統(tǒng)。
而且，如圖14所示，在顯影處理槽110上與回收槽部122區(qū)分出來的底部上設(shè)置有液體排出口136，用于通過軋液輥118從基板1上除去的、從基板1上流到顯影處理槽110的內(nèi)底部上的顯影液流出，在該液體排出口136上連通連接有排液配管138。
另外，在顯影處理槽110的內(nèi)部配設(shè)有朝向顯影處理槽110的內(nèi)底面噴出清洗液、對顯影處理槽110的內(nèi)底面進(jìn)行清洗的清洗噴嘴140。而且，雖然圖中未示出，但也可以在顯影處理槽110的內(nèi)部設(shè)置用于對配設(shè)的傳送輥等部件進(jìn)行清洗的清洗噴嘴。從清洗液供應(yīng)源向清洗噴嘴140供應(yīng)清洗液。在圖14中所示的例子中，在與顯影處理槽110鄰接設(shè)置的水洗處理槽114的底部上設(shè)置有用于基板1的清洗、流到水洗處理槽114的內(nèi)底部上的純水流出的排水口142，在該排水口142上連通連接有水回收配管144，將水回收配管144連通連接在水回收罐146上，將在水洗處理槽144中使用的純水148回收到水回收罐146內(nèi)進(jìn)行儲存。然后，將送水配管150的一端連接在水回收罐146上，將送水配管150的前端連通連接在清洗噴嘴140上，通過加裝在送水配管150上的泵152將水回收罐146內(nèi)的純水148向清洗噴嘴140供應(yīng)。
在具有上述結(jié)構(gòu)的顯影處理裝置中，從顯影液噴射噴嘴116噴出的、不經(jīng)由基板1的表面而原封不動地流下的顯影液3被回收到顯影處理槽110的回收槽部122中，被回收到回收槽部122中的顯影液通過液體回收配管126流入回收罐130內(nèi)儲存。然后，回收罐130內(nèi)的顯影液128通過送液配管132被送往顯影液噴射噴嘴116。由于這樣循環(huán)使用的顯影液未經(jīng)由基板1的表面，所以在顯影液中不會含有非溶解物，因而回收罐130的內(nèi)表面、液體回收配管126或送液配管132的內(nèi)表面、以及泵134的內(nèi)部等不會被非溶解物污染。
另一方面，從顯影液噴射噴嘴116向基板1上噴出、從基板1上流到顯影處理槽110的內(nèi)底部上的使用后的顯影液從液體排出口136通過排液配管138被排出。因此，即使其顯影液中含有非溶解物也不會產(chǎn)生問題。而且，與使用后的顯影液接觸的顯影處理槽110的內(nèi)底面或排液配管138等被從水回收罐146通過送水配管150送往清洗噴嘴140、并從清洗噴嘴140噴出的純水148清洗，防止了污染。另外，在不想使與基板1接觸的部件、例如軋液輥118被純水附著的情況下，可使用處理液對這種部件進(jìn)行清洗。
圖15示出顯影處理槽的清洗機構(gòu)與圖14所示不同的例子，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。在圖15中，標(biāo)有與圖14中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記的部件是具有與對圖14說明的部件相同功能的同一部件，省略重復(fù)的說明。另外，圖15表示基板1未通過顯影液噴射噴嘴116的正下方位置時從顯影液噴射噴嘴116噴出的顯影液3原封不動地被回收到回收罐130內(nèi)的狀態(tài)。
在圖15所示的裝置中，使顯影處理槽154的內(nèi)底面156傾斜成與顯影處理槽154鄰接的水洗處理槽158一側(cè)高、回收槽部122一側(cè)低。然后，在水洗處理槽158一側(cè)高的位置上設(shè)置清洗噴嘴160，在回收槽部122一側(cè)低的位置上設(shè)置液體排出口162，在該液體排出口162上連通連接有排液配管164。而且，在水洗處理槽158的內(nèi)部，配設(shè)有回收從隔著基板1的傳送路徑L配設(shè)在其上下兩側(cè)上的多個噴水噴嘴120向基板1的上下兩面上噴出的純水的水回收盤166，該水回收盤166配置在高于清洗噴嘴160的位置上，通過送水配管168將水回收盤166的底部和清洗噴嘴160連通連接。送水配管168在中途分支成排泄管170，在該排泄管170上加裝有開閉閥172。而且，在水洗處理槽158的底部上設(shè)置有排水口174，在該排水口174上連通連接有排水配管176。
在圖15所示結(jié)構(gòu)的裝置中，回收到水回收盤166內(nèi)的純水通過送水配管168送往清洗噴嘴160，從清洗噴嘴160向顯影處理槽154的內(nèi)底面156上噴出純水。向顯影處理槽154的內(nèi)底面156上噴出的純水沿著內(nèi)底面156的傾斜在內(nèi)底面156上流動。因此，顯影處理槽154的內(nèi)底面156上的整體被純水清洗。然后，流到回收槽部122附近的純水從顯影處理槽154底部的液體排出口162通過排液配管164排出。
圖16示出本發(fā)明第2實施方式的另一例，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。在圖16中，標(biāo)有與圖14中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記的部件是具有與對圖14說明的部件相同功能的同一部件，省略重復(fù)的說明。
在圖16所示的裝置中，使連通連接在顯影處理槽110底部的液體排出口136上的排液配管178在中途分支，將分支的回液配管180的前端連通連接在回收罐130上，將流路切換閥182加裝在排液配管178的分支位置上。而且，使連通連接回收罐130和顯影液噴射噴嘴116的送液配管132在中途分支，將分支的清洗送液配管184的前端連通連接在清洗噴嘴140上。然后，將開閉控制閥186加裝在清洗送液配管184上，而且，將開閉控制閥188加裝在連通連接水回收罐146和清洗噴嘴140的送水配管150上。
在具備圖16所示結(jié)構(gòu)的裝置中，當(dāng)從基板1上流到顯影處理槽110的內(nèi)底部的使用后的顯影液中不含有非溶解物時，例如對包覆形成了溶解型的抗蝕劑涂敷膜的基板進(jìn)行顯影處理時等，對流路切換閥182進(jìn)行切換操作，使排液配管178和回液配管180為連通狀態(tài)，使用后的顯影液從排液配管178內(nèi)流入回液配管180內(nèi)。在這種情況下，通過關(guān)閉加裝在送水配管150上的開閉控制閥188，使用后的顯影液與純水不混合。這樣一來，使用后的顯影液通過排液配管178和回液配管180被回收到回收罐130內(nèi)。然后，將使用后的顯影液和基板1未通過顯影液噴射噴嘴116的正下方位置時從顯影液噴射噴嘴116噴出、并原封不動地流下而被回收到回收罐130內(nèi)的顯影液一起循環(huán)使用。此時，在需要清洗顯影處理槽110的內(nèi)底面等時，打開加裝在送液配管184上的開閉控制閥186，將回收罐130內(nèi)的顯影液128的一部分通過清洗送液配管184送往清洗噴嘴140，從清洗噴嘴140噴出顯影液，對顯影處理槽110的內(nèi)底面等進(jìn)行清洗。
另一方面，當(dāng)進(jìn)行顯影處理的基板的種類改變，從基板1上流到顯影處理槽10的內(nèi)底部的使用后的顯影液中含有非溶解物時，例如對包覆形成有非溶解型抗蝕劑涂敷膜的基板進(jìn)行顯影處理等時，對流路切換閥182進(jìn)行切換操作，使排液配管178和回液配管180為不連通狀態(tài)，使用后的顯影液通過排液配管178被排出。在這種情況下，在使加裝在清洗送液配管184上的開閉控制閥186為關(guān)閉狀態(tài)的同時打開加裝在送水配管150上的開閉控制閥188，與圖14中所示的裝置相同，將在水洗處理槽114中用于基板1的水洗后的純水送往清洗噴嘴140，以該純水進(jìn)行顯影處理槽110的內(nèi)底面等的清洗。而且，在排出使用后的顯影液的情況下，可同時使用純水和處理液，進(jìn)行顯影處理槽110的內(nèi)底面等的清洗。
圖17示出按照使用的顯影液的種類設(shè)置了顯影液排出噴嘴的例子，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。在圖17中，標(biāo)有與圖14和圖16中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記的部件是具有與對圖14和圖16說明的部件相同功能的同一部件，省略重復(fù)的說明。
在圖17所示的裝置中，根據(jù)所使用的顯影液的種類設(shè)置有兩個顯影液噴射噴嘴116a、116b，并根據(jù)顯影液的種類在顯影處理槽110上設(shè)置有兩個回收槽部122a、122b。而且，根據(jù)顯影液的種類分別設(shè)置有液體循環(huán)系統(tǒng)和顯影液清洗系統(tǒng)。若以圖17中使用的附圖標(biāo)記進(jìn)行說明，則124a、124b為液體回收口，126a、126b為液體回收配管，130a、130b為分別回收儲存種類不同的顯影液128a、128b的回收罐，132a、132b為分別加裝了泵134a、134b的送液配管，136a、136b為液體排出口。而且，178a、178b為排液配管，180a、180b為回液配管，182a、182b為流路切換閥，184a、184b為分別加裝了開閉控制閥186a、186b的清洗送液配管。而且，在液體回收配管126a、126b和排液配管178a、178b上分別加裝有各自的開閉控制閥190a、190b、192a、192b。
在圖17所示的裝置中，通過打開分別加裝在各液體回收配管126a、126b上的開閉控制閥190a、190b中的一個并關(guān)閉另一個，同時打開分別加裝在各排液配管178a、178b上的開閉控制閥192a、192b中的一個并關(guān)閉另一個，可按照所使用的顯影液的種類在圖16所示的裝置中進(jìn)行上述的處理操作。
圖18示出可按照所使用的顯影液的種類進(jìn)行處理操作的其他實施方式，是示意表示顯影處理裝置大致結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。在圖18中，標(biāo)有與圖14、圖16和圖17中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記的部件是具有與對圖14、圖16和圖17說明的部件相同功能的同一部件，省略重復(fù)的說明。
在圖18所示的裝置中，僅設(shè)置一個顯影液噴射噴嘴116，對于種類不同的顯影液共用顯影液噴射噴嘴116，而且，在顯影處理槽110中也僅設(shè)置一個回收槽部122，通過相同的回收槽部122回收種類不同的顯影液。然后，在連通連接在顯影液噴射噴嘴116上的送液配管132上連通連接各送液配管132a、132b并使其合流，所述送液配管132a、132b分別連通連接在分別回收儲存種類不同的顯影液128a、128b的回收罐130a、130b上。而且，使送液配管132在靠近前端處分支，設(shè)置連通連接在顯影液排出噴嘴116上的旁通管194，在送液配管132的分支位置下游側(cè)和旁通管194上分別加裝有開閉控制閥196a、196b。而且，在回收槽部122的底部上設(shè)置有液體排出口198，在該液體排出口198上連通連接排液配管900，在該排液配管900上加裝有開閉閥902。
在圖18所示的裝置中，也和圖17中所示的裝置一樣，通過打開分別加裝在各液體回收配管126a、126b上的開閉控制閥190a、190b中的一個并關(guān)閉另一個，同時打開分別加裝在各排液配管178a、178b上的開閉控制閥192a、192b中的一個并關(guān)閉另一個，可按照所使用的顯影液的種類在圖16所示的裝置中進(jìn)行上述處理操作。然后，在該裝置中，當(dāng)改變顯影液的種類時，打開加裝在排液配管900上的開閉閥902，使殘留在回收槽部122中的顯影液排出。而且，通過打開加裝在旁通管194上的開閉控制閥196b，使送往顯影液噴射噴嘴116的顯影液的流量增大，可縮短液體置換的時間，提高處理效率。當(dāng)液體置換結(jié)束時，分別預(yù)先關(guān)閉加裝在排液配管900上的開閉閥902和加裝在旁通管194上的開閉控制閥196b。
另外，在上述的第2實施方式中，最好附設(shè)對儲存回收的處理液的回收罐130、130a、130b進(jìn)行回收罐130、130a、130b內(nèi)的處理液的成分管理的管理裝置。這種管理裝置在例如是顯影處理裝置的情況下，分析回收罐130、130a、130b內(nèi)的處理液，分別測定其中與顯影液(例如TMAH)成分溶存的抗蝕劑(樹脂)成分和各濃度，當(dāng)這些值偏離了所希望的值時，向回收罐130、130a、130b內(nèi)的處理液中添加顯影液的新液或者高濃度液體，而且，根據(jù)需要，還可以考慮廢棄回收罐130、130a、130b內(nèi)的處理液，或者進(jìn)行將這些值保持在希望值的動作。而且，也可以在一定的時刻向回收罐130、130a、130b內(nèi)的處理液中補充一定量的新液，或者，將回收罐130、130a、130b內(nèi)的處理液廢棄一定量，并補充一定量的新液等。
在顯影處理的情況下，當(dāng)在持續(xù)處理的同時使相同的處理液(顯影液)循環(huán)使用時，由于隨著顯影液的循環(huán)動作，顯影液與空氣接觸而劣化，或者因抗蝕劑溶入顯影液中等顯影液逐漸劣化，所以最好附設(shè)上述的管理裝置，但在以回收的顯影液清洗顯影槽內(nèi)部等的用途中也采用顯影液的情況下，顯影液特別容易劣化。因此，最好設(shè)置上述的管理裝置，防止處理液污染或劣化。
而且，在第2實施方式中，在生成非溶解物的情況下，即使是生成使處理液循環(huán)使用時成為故障的非溶解物的情況下，具體地說，相當(dāng)于對例如涂敷了用于形成有機平坦化膜的涂敷液或顏色濾光片制造用的著色防染等的基板進(jìn)行顯影處理的情況。有機平坦化膜形成用的涂敷液或著色防染通常所形成的覆膜在以后的工藝中也不會被剝離。相反，在不生成非溶解物的情況下，即使是在不生成使處理液循環(huán)使用時成為故障的非溶解物的情況下，具體地說，相對于對涂敷了充分溶解在顯影液中的涂敷液的基板進(jìn)行顯影處理的情況。通常的正抗蝕劑或負(fù)抗蝕劑是在以后的工藝中對形成的覆膜圖形進(jìn)行剝離處理。
另外，在第2實施方式中，對顯影處理裝置進(jìn)行了說明，但本發(fā)明也可以適用于進(jìn)行清洗、蝕刻、剝離等處理的基板處理裝置中。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，具備區(qū)分成回收路徑和排液路徑地進(jìn)行設(shè)置，將回收到上述回收路徑中的處理液返回到上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，其中，所述回收路徑回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液，所述排液路徑收集從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向與基板的傳送方向垂直的方向的端部流動、從邊緣處流下的使用后的處理液。
2.一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，通過上述傳送機構(gòu)，以在與基板傳送方向垂直的方向上相對于水平面傾斜的姿勢傳送基板，同時，在上述處理槽的內(nèi)底面上的、傾斜傳送的基板的較低一側(cè)邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向立設(shè)分隔板；由該分隔板分隔處理槽的內(nèi)底部，將其區(qū)分成回收槽部和排液槽部，其中，所述回收槽部回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液，所述排液槽部接收從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向較低一側(cè)流動、從邊緣處流下的使用后的處理液；具備將回收到上述回收槽部內(nèi)的處理液返回到上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出流到上述排液槽部內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征是，上述分隔板的上端配置成接近傾斜傳送的基板的較低一側(cè)的邊緣處。
4.一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)以水平姿勢將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，在上述處理槽的內(nèi)底面上的、被傳送的基板兩側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向分別設(shè)置分隔板，由各分隔板分別分隔處理槽的內(nèi)底部，將其區(qū)分成回收槽部和排液槽部，其中，所述回收槽部回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液，所述排液槽部接收從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向兩側(cè)流動、從兩邊緣處分別流下的使用后的處理液；具備將回收到上述回收槽部內(nèi)的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出分別流到上述各排液槽部內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征是，上述各分隔板的上端配置成分別接近傳送的基板兩側(cè)的邊緣處。
6.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的基板處理裝置，其特征是，在上述處理槽的內(nèi)底面上的、基板的搬入口一側(cè)上，沿著與基板的傳送方向相交叉的方向立設(shè)寬度方向的分隔板，由該寬度方向的分隔板分隔處理槽的內(nèi)底部，形成接收從搬入處理槽內(nèi)的基板的前端邊緣處流下的液體的搬入口側(cè)排液槽部，并將流到該搬入口側(cè)排液槽部內(nèi)的處理液排出。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征是，上述搬入口側(cè)排液槽部與上述排液槽部相連通。
8.一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，通過上述傳送機構(gòu)，以在與基板的傳送方向垂直的方向上相對于水平面傾斜的姿勢傳送基板，同時在上述處理槽的內(nèi)部的、傾斜傳送的基板較低一側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向橫向設(shè)置排液流槽，所述排液流槽接收從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向較低一側(cè)流動、從邊緣處流下的使用后的處理液；具備將從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下被回收到上述處理槽內(nèi)底部上的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出流到上述排液流槽內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
9.一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，通過傳送機構(gòu)以水平姿勢將基板向水平方向傳送，并從處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，在上述處理槽的內(nèi)部的、傳送的基板兩側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板的傳送方向橫向設(shè)置一對排液流槽，所述排液流槽接收從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、在基板上向兩側(cè)流動、從兩邊緣處分別流下的使用后的處理液；具備將從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下被回收到上述處理槽內(nèi)底部上的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)中的液體循環(huán)系統(tǒng)，并具備排出分別流到上述各排液流槽內(nèi)的使用后的處理液的排液流路。
10.根據(jù)權(quán)利要求4、5或9所述的基板處理裝置，其特征是，由上述傳送機構(gòu)將基板支承成在與基板的傳送方向垂直的方向上，基板的中央部高于基板的兩端部。
11.根據(jù)權(quán)利要求4、5或9所述的基板處理裝置，其特征是，以相對于基板表面分別向與基板的傳送方向垂直的方向上的基板兩端部傾斜的方式從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出處理液。
12.根據(jù)權(quán)利要求4、5或9所述的基板處理裝置，其特征是，在由上述傳送機構(gòu)傳送的基板的前后兩端側(cè)邊緣處的正下方位置附近，沿著與基板的傳送方向垂直的方向，配設(shè)一對接收從基板的前后兩端側(cè)邊緣處分別流下的使用后的處理液的輔助排液流槽，將該一對輔助排液流槽支承成與基板的移動同步地向水平方向移動，具備排出分別流到上述各輔助排液流槽內(nèi)的使用后的處理液的輔助排液流路。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征是，上述處理槽為用純水清洗基板的水洗處理槽，與該水洗處理槽的基板搬入口一側(cè)相鄰接地設(shè)置用藥液對基板進(jìn)行處理的藥液處理槽。
14.一種基板處理裝置，在處理槽內(nèi)，一邊傳送基板一邊從處理液噴出機構(gòu)向基板上排出處理液，對基板進(jìn)行處理，其特征是，分隔上述處理槽的內(nèi)底部，形成回收從上述處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液的回收槽部，而且，在上述處理液噴出機構(gòu)的下方配設(shè)回收從處理液噴出機構(gòu)噴出的、未經(jīng)由基板面而原封不動地流下的處理液的回收容器，設(shè)置將回收到上述回收槽部或者回收容器中的處理液返回上述處理液噴出機構(gòu)、使處理液循環(huán)的處理液循環(huán)機構(gòu)，并設(shè)置排出從上述處理液噴出機構(gòu)向基板上噴出的、從基板上流到上述處理槽內(nèi)底部上的使用后的處理液的排液流路。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征是，具備清洗機構(gòu)，該清洗機構(gòu)用清洗液清洗與從基板上流下的使用后的處理液相接觸的上述處理槽的內(nèi)壁面或者處理槽內(nèi)部的部件。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板處理裝置，其特征是，與上述處理槽相鄰接地設(shè)置用純水清洗基板的水洗處理槽，該水洗處理槽使用后的純水在上述清洗機構(gòu)中作為清洗液使用。
17.根據(jù)權(quán)利要求14至16中任一項所述的基板處理裝置，其特征是，使上述排液流路分支，將分支路連通連接在上述處理液循環(huán)機構(gòu)上，在分支位置上加裝流路切換機構(gòu)。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板處理裝置，其特征是，使上述排液流路分支，將分支路連通連接在上述處理液循環(huán)機構(gòu)上，在分支位置上加裝流路切換機構(gòu)，在通過將從基板上流下的使用后的處理液通過上述排液流路、經(jīng)由上述分支路送往上述處理液循環(huán)機構(gòu)而讓使用后的處理液循環(huán)時，處理液在上述清洗機構(gòu)中作為清洗液使用。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征是，設(shè)置儲存回收到上述回收槽部或者回收容器中的處理液的罐，在該罐上附設(shè)對該罐內(nèi)的處理液成分進(jìn)行管理的管理裝置。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種基板處理裝置，能夠降低處理液的使用量，減少廢液量，維持高的處理效率，將液體循環(huán)路徑中部件的污染抑制在最小限度。將基板(1)以在與傳送方向垂直的方向上相對于水平面傾斜的姿勢傳送，在水洗處理槽(10)的內(nèi)底面上的、基板的較低一側(cè)的邊緣處的正下方位置附近，沿著基板傳送方向立設(shè)分隔板(20)，由分隔板分隔水洗處理槽的內(nèi)底部，將其區(qū)分成回收從純水排出噴嘴(14)噴出的、未經(jīng)由基板面而流下的純水的回收槽部(24)，和接收從純水排出噴嘴噴出的、在基板上向較低一側(cè)流動、從邊緣處流下的使用后的純水的排液槽部(26)，將回收到回收槽部內(nèi)的純水循環(huán)使用，排出流到排液槽部內(nèi)的使用后的純水。
文檔編號B08B3/02GK1447395SQ0310754
公開日2003年10月8日 申請日期2003年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月27日
發(fā)明者芳谷光明, 柳澤暢生, 豐田浩司, 山下永二, 鈴木聰 申請人:大日本屏影象制造株式會社