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磁鐵裝置及磁共振攝像裝置的制造方法

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磁鐵裝置及磁共振攝像裝置的制造方法
【專利摘要】在對(duì)磁共振攝像裝置的磁鐵裝置進(jìn)行的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)中,定量地確保勻場(chǎng)部件配置的位置精度。磁鐵裝置具備:上下相對(duì)地配置而在攝像區(qū)域生成磁場(chǎng)的一組磁場(chǎng)發(fā)生源;夾持?jǐn)z像區(qū)域上下相對(duì)地配置而對(duì)磁場(chǎng)的均勻度進(jìn)行調(diào)整的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)(11L)等。該磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)(11L)等具備:磁性體或永久磁鐵的勻場(chǎng)部件(20);具有大致呈圓形或大致呈多邊形的外周形狀,表面劃分成多個(gè)格子(14),并且固定勻場(chǎng)部件(20)的勻場(chǎng)部件固定板(19)。各格子(14)定量地示出了自身所設(shè)置的勻場(chǎng)部件(20)的每個(gè)位置的調(diào)整精度。
【專利說(shuō)明】
磁鐵裝置及磁共振攝像裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及磁鐵裝置及具備該磁鐵裝置的磁共振攝像裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 磁共振攝像裝置(以下有時(shí)記為"MRI(Magnetic Resonance Imaging:磁共振成 像)裝置")利用核磁共振現(xiàn)象來(lái)拍攝表現(xiàn)被檢體的物理性質(zhì)或化學(xué)性質(zhì)的圖像(以下有時(shí) 記為"MRI圖像")。該MRI圖像主要用于醫(yī)療診斷。該磁共振攝像裝置,利用自身具備的磁鐵 裝置在攝像區(qū)域內(nèi)形成均勻的磁場(chǎng)并配置被檢體,向該被檢體照射高頻脈沖而發(fā)生核磁共 振現(xiàn)象。
[0003] 為了提高磁共振攝像裝置的畫(huà)質(zhì),需要提高磁鐵裝置在攝像區(qū)域內(nèi)形成的靜磁場(chǎng) 的均勻度。磁鐵裝置能夠利用磁場(chǎng)發(fā)生源的配置或形狀來(lái)實(shí)現(xiàn)規(guī)定的磁場(chǎng)均勻度。磁共振 攝像裝置要求的磁場(chǎng)均勻度極為嚴(yán)格。例如會(huì)因?yàn)榇盆F裝置的零件的尺寸誤差或裝配誤 差、以及磁共振攝像裝置的容納場(chǎng)所的影響,而導(dǎo)致該磁鐵裝置在攝像區(qū)域上形成的靜磁 場(chǎng)無(wú)法滿足磁共振攝像裝置要求的均勻度。
[0004] 為了滿足磁共振攝像裝置要求的磁場(chǎng)均勻度,在磁鐵裝置中設(shè)有磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)。 作為使用該磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)的校正方法之一,已知有通過(guò)在磁鐵裝置中配置磁性體片或永久 磁鐵片(以下稱為勾場(chǎng)部件)來(lái)進(jìn)行的"被動(dòng)勾場(chǎng)(Passive shimming)"等方法。
[0005] 磁共振攝像裝置從大類上分為:形成水平方向的磁場(chǎng)的水平型MRI裝置、和形成垂 直方向的磁場(chǎng)的垂直型MRI裝置。后者的垂直型MRI裝置的磁場(chǎng)是由在上下相對(duì)地配置的超 導(dǎo)線圈(磁場(chǎng)發(fā)生部)中流過(guò)的電流產(chǎn)生的。后者的垂直型MRI裝置的采用被動(dòng)勻場(chǎng)的磁場(chǎng) 校正方法,是通過(guò)將勻場(chǎng)部件在上下的超導(dǎo)線圈所夾持的空間內(nèi)適當(dāng)配置來(lái)進(jìn)行的。
[0006] 在被動(dòng)勻場(chǎng)的磁場(chǎng)校正中,首先測(cè)定攝像區(qū)域的磁場(chǎng)并計(jì)算出與目標(biāo)磁場(chǎng)的差 值。接下來(lái),為了對(duì)測(cè)定磁場(chǎng)與目標(biāo)磁場(chǎng)的差值進(jìn)行校正,在計(jì)算機(jī)中對(duì)勻場(chǎng)部件的理想的 配置進(jìn)行數(shù)值模擬。按照由數(shù)值模擬得到的勻場(chǎng)部件理想配置,在磁鐵裝置中適當(dāng)配置勻 場(chǎng)部件。然后,再次測(cè)定攝像區(qū)域的磁場(chǎng)并計(jì)算出與目標(biāo)磁場(chǎng)的差值。作業(yè)者在測(cè)定磁場(chǎng)與 目標(biāo)磁場(chǎng)的差值收斂到攝像區(qū)域的磁場(chǎng)均勻度達(dá)到目標(biāo)值之前重復(fù)進(jìn)行這一系列的被動(dòng) 勻場(chǎng)作業(yè)。
[0007] 為了以較少的重復(fù)次數(shù)高效地完成一系列的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)而使磁場(chǎng)均勻度達(dá)到 目標(biāo)值,與所配置的各勻場(chǎng)部件的物量和配置有關(guān)的自由度很重要。當(dāng)與所配置的勻場(chǎng)部 件的物量和配置有關(guān)的自由度較小時(shí),則磁場(chǎng)的調(diào)整精度會(huì)降低而存在無(wú)法校正磁場(chǎng)即無(wú) 法達(dá)到目標(biāo)均勻度的可能性。另一方面,當(dāng)與所配置的勻場(chǎng)部件的物量和配置有關(guān)的自由 度過(guò)高時(shí),則分辨率對(duì)理想配置而言過(guò)高,被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)的效率會(huì)降低,存在完成被動(dòng)勻場(chǎng) 所需的時(shí)間增加的可能性。
[0008] 專利文獻(xiàn)1公開(kāi)了提高被動(dòng)勻場(chǎng)效率的發(fā)明。在專利文獻(xiàn)1的摘要的課題中記載 了 : "提供一種比較能夠抑制用于磁場(chǎng)均勻度調(diào)整的勻場(chǎng)所需的時(shí)間且能夠達(dá)到較高的磁 場(chǎng)均勻度的MRI裝置。",并在其解決方案中記載了 : "磁鐵裝置10的磁性體勻場(chǎng)片配置區(qū)域 32配置的多個(gè)單位磁性體勻場(chǎng)片34的可設(shè)置位置36的間隔,比該單位磁性體勻場(chǎng)片34的尺 寸小。由此,在磁場(chǎng)均勻度的調(diào)整作業(yè)中,能夠高效地達(dá)成較高的磁場(chǎng)均勻度。"。另外,在說(shuō) 明書(shū)的段落0020中記載了 : "是使從單位磁性體勻場(chǎng)片34的一次配置位置到允許移動(dòng)的第 二圖案(pattern)的鄰接的可進(jìn)行二次配置的位置的距離更加精細(xì)的例子。"。即,專利文獻(xiàn) 1公開(kāi)了適當(dāng)確保勻場(chǎng)部件的配置自由度數(shù)而使磁場(chǎng)調(diào)整的效率提高的發(fā)明。
[0009] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0010] 專利文獻(xiàn)
[0011] 專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2001 -078984號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 發(fā)明所要解決的課題
[0013] 在被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)中,有時(shí)會(huì)出現(xiàn)在作業(yè)者向理想的配置位置固定勻場(chǎng)部件時(shí)已有 勻場(chǎng)部件固定于該位置的情況。該情況下,向既存的勻場(chǎng)部件的物量添加新配置的勻場(chǎng)部 件的物量,更換為與該物量相應(yīng)的勻場(chǎng)部件。
[0014] 但是,在沒(méi)有準(zhǔn)備這種物量的勻場(chǎng)部件時(shí),則必須將該物量分配到多個(gè)勻場(chǎng)部件, 并將它們配置于在空間上盡量集中的多個(gè)部位。這是因?yàn)椋河捎趧驁?chǎng)部件的分割配置,會(huì)產(chǎn) 生與使用計(jì)算機(jī)獲取的數(shù)值模擬的差異,并產(chǎn)生磁場(chǎng)校正的誤差。
[0015] 以往,在該分割配置中所容許的范圍,是由作業(yè)者以自身經(jīng)驗(yàn)來(lái)判斷。因此,新手 與熟練者在每一次的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)中對(duì)磁場(chǎng)均勻度的改善度可能會(huì)存在較大的差異。該磁 場(chǎng)均勻度的改善度的差異,會(huì)導(dǎo)致被動(dòng)勻場(chǎng)的重復(fù)次數(shù)的差異。就達(dá)到目標(biāo)磁場(chǎng)均勻度所 需的全部磁場(chǎng)調(diào)整作業(yè)所用的時(shí)間而言,有時(shí)新手所用時(shí)間為熟練者的3倍以上。
[0016] 為此,本發(fā)明的課題是提供一種磁鐵裝置及搭載了該磁鐵裝置的磁共振攝像裝 置,該磁鐵裝置具備磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu),作業(yè)者在被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)中能夠利用該磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)對(duì) 勻場(chǎng)部件的每個(gè)配置位置定量地目視確認(rèn)在分割配置勻場(chǎng)部件時(shí)容許的范圍。
[0017] 解決課題的方案
[0018] 為了解決上述課題,本發(fā)明的磁鐵裝置,具備:上下相對(duì)地配置而在攝像區(qū)域生成 磁場(chǎng)的一組磁場(chǎng)發(fā)生部;夾持上述攝像區(qū)域上下相對(duì)地配置而對(duì)上述磁場(chǎng)的均勻度進(jìn)行調(diào) 整的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu),上述磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)具備:磁性體或永久磁鐵的勻場(chǎng)部件;具有大致呈圓 形或大致呈多邊形的外周形狀,表面劃分成多個(gè)格子,并且固定上述勻場(chǎng)部件的勻場(chǎng)部件 固定板,各上述格子具有與自身所設(shè)置的上述勻場(chǎng)部件的取決于相對(duì)的位置的上述磁場(chǎng)的 調(diào)整靈敏度相應(yīng)的面積。
[0019] 本發(fā)明的磁共振攝像裝置具有上述磁鐵裝置。
[0020] 由此,作業(yè)者在被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)中能夠一邊以視覺(jué)確認(rèn)格子一邊進(jìn)行作業(yè),該格子 定量地表示所配置的勻場(chǎng)部件的每個(gè)位置的調(diào)整精度。因此,作業(yè)者能夠準(zhǔn)確適當(dāng)?shù)嘏渲?勻場(chǎng)部件,降低校正磁場(chǎng)的誤差,并降低被動(dòng)勻場(chǎng)的重復(fù)次數(shù)。
[0021] 對(duì)于其它方案,將在本發(fā)明的實(shí)施方式中進(jìn)行說(shuō)明。
[0022]發(fā)明效果
[0023]根據(jù)本發(fā)明,能夠提供一種磁鐵裝置及搭載該磁鐵裝置的磁共振攝像裝置,該磁 鐵裝置具備磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu),作業(yè)者在被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)中能夠利用該磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)對(duì)勻場(chǎng)部件 的每個(gè)配置位置定量地目視確認(rèn)在分割配置勻場(chǎng)部件時(shí)容許的范圍。
【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是第一實(shí)施方式的磁共振攝像裝置的立體圖。
[0025]圖2是第一實(shí)施方式的磁鐵裝置的縱剖視圖。
[0026]圖3是表示第一實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定板和勻場(chǎng)部件的立體圖。
[0027] 圖4是表不第一實(shí)施方式的勾場(chǎng)部件固定板的俯視圖。
[0028] 圖5是表示勻場(chǎng)部件在攝像區(qū)域上生成的磁場(chǎng)的圖。
[0029] 圖6是按照從中心起的距離表示各位置的勻場(chǎng)部件生成的磁場(chǎng)的角度的等高線的 曲線圖。
[0030] 圖7是按照從中心起的距離表示各位置的勻場(chǎng)部件生成的磁場(chǎng)的角度的等高線的 徑向?qū)挾群椭芟驅(qū)挾鹊那€圖。
[0031] 圖8是按照從中心起的距離的絕對(duì)值表示各位置的勻場(chǎng)部件生成的磁場(chǎng)所成角度 的等高線的角度的曲線圖。
[0032] 圖9是表示第二實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定板的俯視圖。
[0033] 圖10是表示第三實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定板和勻場(chǎng)部件固定板罩的立體圖。
[0034] 圖11是表示第四實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定板罩和勻場(chǎng)部件固定板的立體圖。
【具體實(shí)施方式】
[0035] 以下參照各圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
[0036] (第一實(shí)施方式)
[0037]圖1是第一實(shí)施方式的磁共振攝像裝置1的立體圖。
[0038] 如圖1所示,磁共振攝像裝置1具有:在攝像區(qū)域9生成均勻磁場(chǎng)的磁鐵裝置2;在使 被檢體即被檢者橫臥的狀態(tài)下將其向攝像區(qū)域9搬送的躺床8;對(duì)包含磁鐵裝置2、躺床8等 的磁共振攝像裝置1的整體進(jìn)行控制的控制部7。磁共振攝像裝置1,利用在向形成有均勻磁 場(chǎng)的攝像區(qū)域9的被檢體照射高頻脈沖時(shí)發(fā)生的核磁共振現(xiàn)象,來(lái)拍攝表現(xiàn)被檢體的物理 性質(zhì)或化學(xué)性質(zhì)的MRI圖像。
[0039] 控制部7與磁鐵裝置2和躺床8連接??刂撇?具有:能夠按照操作者的操作來(lái)調(diào)整 控制內(nèi)容的操作部72、顯示攝像所得MRI圖像的顯示部71。操作部72通過(guò)按鍵或旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)等 來(lái)接受操作者的操作。顯示部71顯示操作部72的操作信息,并且顯示攝像所得MRI圖像???制部7通過(guò)操作部72來(lái)接受操作者的各種操作,并按照該操作來(lái)控制磁鐵裝置2而生成磁 場(chǎng),控制躺床8將被檢者沿水平方向朝攝像區(qū)域9搬送。
[0040] 躺床8具備:設(shè)于下部的驅(qū)動(dòng)部81、利用該驅(qū)動(dòng)部81朝攝像區(qū)域9的方向水平移動(dòng) 的上板82。被檢者能夠在上板82上橫臥。驅(qū)動(dòng)部81使被檢者隨上板82移動(dòng)并對(duì)其位置進(jìn)行 調(diào)整來(lái)拍攝被檢者的所需部位的MRI圖像。
[0041] 磁鐵裝置2在攝像區(qū)域9內(nèi)生成均勻磁場(chǎng)。磁鐵裝置2上下相對(duì)地配置有一組圓盤(pán) 狀的磁極4U和磁極4L(磁場(chǎng)發(fā)生部的一個(gè)例子)。在上側(cè)的磁極4U下方接近地配置有圓環(huán)狀 的線圈容納容器5U。在下側(cè)的磁極4L上方接近地配置有圓環(huán)狀的線圈容納容器5L。磁極4U 和磁極4L被連結(jié)柱3的上下的突出部分支撐。鉛垂對(duì)稱面α是磁鐵裝置2的對(duì)稱面。對(duì)于該磁 鐵裝置2的詳情,將利用后述的圖2進(jìn)行說(shuō)明。
[0042]圖2是第一實(shí)施方式的磁鐵裝置2的縱剖視圖。圖2是將圖1所示的磁鐵裝置2沿鉛 垂對(duì)稱面α切斷的圖。
[0043]磁鐵裝置2夾持?jǐn)z像區(qū)域9上下相對(duì)地配置有一組磁極4U和磁極4L(磁場(chǎng)發(fā)生部的 一個(gè)例子)。該磁極4U和磁極4L被連結(jié)柱3支撐。
[0044]在上側(cè)的磁極4U下方配置有圓環(huán)狀的線圈容納容器5U。在線圈容納容器5U內(nèi)容納 有圓環(huán)狀的超導(dǎo)線圈6U。該超導(dǎo)線圈6U利用制冷劑進(jìn)行冷卻。
[0045] 在下側(cè)的磁極4L上方配置有圓環(huán)狀的線圈容納容器5L。在線圈容納容器5L內(nèi)容納 有圓環(huán)狀的超導(dǎo)線圈6L。該超導(dǎo)線圈6L利用制冷劑進(jìn)行冷卻。
[0046]在線圈容納容器5L的內(nèi)周面?zhèn)龋渲糜袌A盤(pán)狀的傾斜磁場(chǎng)線圈10L。同樣地,在線 圈容納容器5U的內(nèi)周面?zhèn)?,配置有圓盤(pán)狀的傾斜磁場(chǎng)線圈10U。磁鐵裝置2可通過(guò)在傾斜磁 場(chǎng)線圈10U,10L中流過(guò)電流而在攝像區(qū)域9生成磁場(chǎng)強(qiáng)度傾斜的傾斜磁場(chǎng)。通過(guò)在形成了均 勻磁場(chǎng)的攝像區(qū)域9疊加傾斜磁場(chǎng),能夠取得核磁共振現(xiàn)象的位置信息,從而能夠拍攝MRI 圖像。
[0047]在磁極4U與傾斜磁場(chǎng)線圈10U之間設(shè)置有磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11U。在磁極4L與傾斜磁場(chǎng) 線圈10L之間設(shè)置有磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L。磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11U,11L夾持?jǐn)z像區(qū)域9上下相對(duì)地配 置,對(duì)磁場(chǎng)的均勻度進(jìn)行調(diào)整。平面β是通過(guò)攝像區(qū)域9的中心的水平面,磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11U, 11L相對(duì)于平面β面對(duì)稱地配置。
[0048] 以下對(duì)磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明而省略與其面對(duì)稱地配置的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī) 構(gòu)11U的結(jié)構(gòu)說(shuō)明。
[0049] 圖3是表示構(gòu)成磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L的勻場(chǎng)部件固定板19和勻場(chǎng)部件20的立體圖。
[0050] 磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L構(gòu)成為包含勻場(chǎng)部件固定板19和勻場(chǎng)部件20。
[0051] 勻場(chǎng)部件固定板19是具有大致呈圓形的外周形狀的大致圓盤(pán)形狀,在其表面上密 集地形成有多個(gè)勻場(chǎng)部件固定孔12。勻場(chǎng)部件20是陽(yáng)螺紋狀,由磁性體或永久磁鐵構(gòu)成。陽(yáng) 螺紋狀的勻場(chǎng)部件20通過(guò)螺紋緊固在該勻場(chǎng)部件固定孔12中固定。
[0052]在勻場(chǎng)部件固定板19的表面上,在其表面的中心描畫(huà)有圓形的中心格子13,在中 心格子13的外側(cè),利用環(huán)狀的周向框線17和放射狀的徑向框線18劃分成部分環(huán)狀的多個(gè)格 子14。各格子14具有與自身設(shè)置的勻場(chǎng)部件20的、取決于相對(duì)的位置的磁場(chǎng)的調(diào)整靈敏度 相應(yīng)的面積,對(duì)該格子14將利用后述的圖4進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0053]圖4是磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L即勻場(chǎng)部件固定板19的俯視圖。在圖4中為了說(shuō)明而在勻 場(chǎng)部件固定板19的右側(cè)部分省略了勻場(chǎng)部件固定孔12進(jìn)行表示。
[0054]位于周向的8個(gè)格子14 一 1與中心格子13鄰接,是同一形狀并且是部分環(huán)狀。各格 子14 一 1從中心C觀察時(shí)角度是φ?,在徑向上寬度是WR1。
[0055] 位于周向的12個(gè)格子14 一 2分別與8個(gè)格子14 一 1的外周鄰接,是同一形狀并且是 部分環(huán)。各格子14 一 2從中心C觀察時(shí)角度是?β2,在徑向上寬度是WR2。
[0056] 位于周向的16個(gè)格子14 一 3分別與12個(gè)格子14 一 2的外周鄰接,是同一形狀并且是 部分環(huán)狀。各格子14 一 3從中心C觀察時(shí)角度是φ3,在徑向上寬度是WR3。
[0057]位于周向的16個(gè)格子14 一 4分別與12個(gè)格子14 一 3的外周鄰接,是同一形狀并且是 部分環(huán)狀。各格子14-4從中心C觀察時(shí)角度是φ4,在徑向上寬度是WR4。
[0058]位于周向的12個(gè)格子14 一 5分別與16個(gè)格子14 一 4的外周鄰接,是同一形狀并且是 部分環(huán)狀。各格子14 一 5從中心C觀察時(shí)角度是φ5,在徑向上寬度是WR5,在周向上長(zhǎng)度是 WA5。這些格子14一 1~14一 5都存在于勻場(chǎng)部件固定板19的表面。
[0059] 各格子14一 1~14一 5的寬度WR1~WR5隨著從中心格子13向外側(cè)遠(yuǎn)離而擴(kuò)展。即, 從中心格子13遠(yuǎn)離的最外側(cè)的格子14 一 5的寬度WR5,比與中心格子13鄰接的格子14 一 1的 寬度WR1更寬。
[0060] 各格子14-1~14 -5的角度φ? ~φ5隨著從中心格子13向外側(cè)遠(yuǎn)離而變化。對(duì)于 該角度φ1.~φ5與從中心C起的距離的關(guān)系,利用圖6至圖8進(jìn)行說(shuō)明。雖然在本實(shí)施方式中 作為一個(gè)例子示出了以下的角度與距離的關(guān)系,但是不限于此。
[0061 ]格子14-1的角度φ?是45度。格子14-2的角度φ2是30度。格子14-3的角度φ3是 22.5度。格子14 -4的角度φ4是22.5度。格子14 -5的角度φ5是30度。
[0062] 各格子14一 1~14一 5的面積隨著從中心格子13遠(yuǎn)尚而增大,從中心格子13觀察的 各格子14一 1~14一5的角度φ? ~ φ5,在一度隨著從中心格子13遠(yuǎn)離而減小后又轉(zhuǎn)而增大, 在格子14一3,14一4上是極小值即角度φ3:,φ4β
[0063]使用該勻場(chǎng)部件固定板19的被動(dòng)勻場(chǎng)方法采用以下示出的順序。
[0064]作業(yè)者按照一般的順序?qū)驁?chǎng)部件20配置于勻場(chǎng)部件固定板19的表面。雖然沒(méi)有 圖示,但是作為勻場(chǎng)部件20預(yù)先準(zhǔn)備尺寸和材質(zhì)不同的多種類型。原因是有時(shí)將勻場(chǎng)部件 20分割配置于多個(gè)部位。作業(yè)者在將多個(gè)勻場(chǎng)部件20分割配置的情況下在同一格子14內(nèi)進(jìn) 行配置。
[0065]無(wú)論是哪個(gè)格子14,都是以位于格子14的中心的勻場(chǎng)部件20在攝像區(qū)域9生成的 磁場(chǎng)、與配置在該格子14的框上的勻場(chǎng)部件20在攝像區(qū)域9生成的磁場(chǎng)的誤差大致相同的 方式,來(lái)構(gòu)成該格子14的形狀(寬度和角度)。該格子14是被勻場(chǎng)部件固定板19上的周向框 線17劃分為環(huán)形狀且該環(huán)形狀被徑向框線18劃分為部分環(huán)狀而形成的。該徑向框線18以90 度除以整數(shù)所得角度進(jìn)行配置。由此,作業(yè)者能夠容易地目視確認(rèn)勻場(chǎng)部件20的橫向的配 置均衡和縱向的配置均衡。
[0066]該格子14在每個(gè)配置位置上向被動(dòng)勻場(chǎng)方法的作業(yè)者視覺(jué)地示出勻場(chǎng)部件20的 配置誤差的容許范圍。因此,被動(dòng)勻場(chǎng)方法的作業(yè)者,能夠確保使用勻場(chǎng)部件20的磁場(chǎng)所需 的調(diào)整精度地配置勻場(chǎng)部件20。由此,能夠提高每1次的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)對(duì)磁場(chǎng)均勻度的改善 度,并降低達(dá)到目標(biāo)磁場(chǎng)均勻度所需的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)的重復(fù)次數(shù),縮短全部磁場(chǎng)調(diào)整作業(yè) 的時(shí)間。
[0067]接下來(lái),利用圖5~圖8對(duì)勻場(chǎng)部件固定板19的格子14的設(shè)計(jì)順序進(jìn)行說(shuō)明。
[0068]圖5是表示勻場(chǎng)部件20在攝像區(qū)域9上生成的磁場(chǎng)的圖。
[0069] 攝像區(qū)域9在其上側(cè)配置有勻場(chǎng)部件固定板19U并在其下側(cè)配置有勻場(chǎng)部件固定 板19L。在勻場(chǎng)部件固定板19L上,在相對(duì)于中心C的位置矢量rl上配置有勻場(chǎng)部件20 - 1,在 相對(duì)于中心C的位置矢量r2上配置有勻場(chǎng)部件20 - 2。
[0070] 在位置矢量rl上配置的勻場(chǎng)部件20 - 1具有磁矩ml。由此,在攝像區(qū)域9的各磁場(chǎng) 評(píng)價(jià)點(diǎn)上,如式⑴所示,生成磁場(chǎng)bh~bln。這里,攝像區(qū)域9上的磁場(chǎng)評(píng)價(jià)點(diǎn)是η個(gè)。
[0071] [式1]
[0072]
[0073] 在位置矢量r2上配置的勻場(chǎng)部件20 - 2具有磁矩m2。由此,在攝像區(qū)域9的各磁場(chǎng) 評(píng)價(jià)點(diǎn)上,如式(2 )所示,生成磁場(chǎng)bSi-bSn。
[0074] [式2]
[0075]
[0076] 磁場(chǎng)bh~bln依存于磁矩ml的大小和位置矢量rl,特別是與磁矩ml成比例。磁場(chǎng) b2i~b2n也同樣地依存于磁矩m2的大小和位置矢量r2,與磁矩m2成比例。
[0077]磁場(chǎng)bl,b2之間的η維的角度Θ具有以下式(3)的關(guān)系。
[0078] [式3]
[0079]
[0080] 這里,由于磁場(chǎng)bl,b2和磁矩m2具有比例關(guān)系,因此角度Θ不依存于磁矩ml,m2而是 依存于位置矢量rl,r2。因此,c〇S0可以用作勻場(chǎng)部件20的相對(duì)設(shè)置位置的精度尺度。
[0081] 即,c〇S0的值越接近1則位置矢量rl與位置矢量r2越接近??梢钥紤]固定位置矢量 rl并移動(dòng)位置矢量r2而使cos0成為規(guī)定值γ的等高線。該等高線的內(nèi)部區(qū)域全部是cos0為 規(guī)定值γ以上。在對(duì)勻場(chǎng)部件20進(jìn)行分割配置時(shí),如果假定c〇S0為規(guī)定值γ以上的各位置 可視為同一位置,則在同一等高線內(nèi)進(jìn)行分割配置即可。
[0082]圖6是按照從中心C起的距離表示各位置的勻場(chǎng)部件20生成的磁場(chǎng)的角度的等高 線的曲線圖。圖6的橫軸示出了從中心C起的距離。
[0083]圖6的曲線圖示出了將圖5的勻場(chǎng)部件20 - 1固定而改變勻場(chǎng)部件20 - 2的位置矢 量r2時(shí)的式(3)的c〇S0的等高線。
[0084]等高線R01是從中心C起的距離是0并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 1以上時(shí)的等高 線。等尚線R00是從中心C起的距尚是0并且式(3)的cos9是規(guī)定值γ〇以上時(shí)的等尚線。另 外,規(guī)定值γ 〇比規(guī)定值γ 1大。
[0085]等高線R11是從中心C起的距離是d[m]并且式(3)的C〇S0是規(guī)定值γ 1以上時(shí)的等 高線。等高線R10是從中心C起的距離是d[m]并且式(3)的cos0是規(guī)定值γ 〇以上時(shí)的等高 線。
[0086]等高線R21是從中心C起的距離是2d[m]并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 1以上時(shí)的等 高線。等高線R20是從中心C起的距離是3d[m]并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 〇以上時(shí)的等高 線。
[0087]等高線R31是從中心C起的距離是3d[m]并且式(3)的cos9是規(guī)定值γ 1以上時(shí)的等 高線。等高線R30是從中心C起的距離是3d[m]并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 〇以上時(shí)的等高 線。
[0088]等高線R41是從中心C起的距離是4d[m]并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 1以上時(shí)的等 高線。等高線R40是從中心C起的距離是4d[m]并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 〇以上時(shí)的等高 線。
[0089]等高線R51是從中心C起的距離是5d[m]并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 1以上時(shí)的等 高線。等高線R50是從中心C起的距離是5d[m]并且式(3)的c〇S0是規(guī)定值γ 〇以上時(shí)的等高 線。等高線R50的長(zhǎng)度Wa/2示出了在半徑是5d[m]的圓周R100上用等高線R50切取的弧長(zhǎng)的 長(zhǎng)度的一半。將其稱為等高線R50的周向的長(zhǎng)度。寬度Wr示出了在連結(jié)中心C與距離5d[m]的 位置的直線上,等高線R50切取的長(zhǎng)度。將其稱為等高線R50的徑向的寬度。對(duì)于等高線R00, RIO,R20,R30,R40也用與等高線R50同樣的方法來(lái)定義周向的長(zhǎng)度和徑向的長(zhǎng)度。
[0090] 如圖6所示,式(3)的c〇S0的等高線,隨著從勻場(chǎng)部件固定板19的中心C遠(yuǎn)離而逐漸 擴(kuò)展。
[0091] 方位角φ是從中心C觀察等高線R50的角度,可以利用以下的式(4)求出。對(duì)于其它 的等高線R00~R40,也可以同樣地求出方位角Φ。.
[0092] [式 4]
[0093]
[0094]圖7是按照從中心C起的距離表示式(3)的cos0的等高線的周向的長(zhǎng)度Wa與徑向的 寬度Wr的曲線圖。圖7的橫軸示出了從中心C起的距離。
[0095]如圖7所示,周向的長(zhǎng)度Wa在接近中心C時(shí)是W0,并隨著遠(yuǎn)離中心C而增大。徑向的 寬度Wr在接近中心C時(shí)是W0,且增減比長(zhǎng)度Wa平緩。
[0096] 該曲線圖按照從中心C起的距離分別在寬度WR0/2,WR1,WR2,WR3,WR4,WR5的區(qū)間 上進(jìn)行分割。其寬度與圖4所示的中心部的圓直徑WR0、各自的徑向的寬度WR1~WR5對(duì)應(yīng)。 [0097] A0~A5是用于決定這些寬度WR0/2,WR1~WR5的值。
[0098]圖8是按照從中心C起的距離的絕對(duì)值表示對(duì)各位置的勻場(chǎng)部件20生成的磁場(chǎng)所 成角度的等高線從該勻場(chǎng)部件固定板19的中心c觀察的角度即方位角φ的曲線圖。等高線 R50的角度φ是周向的長(zhǎng)度Wa乘以180/ (31 X 5d)并變換為角度的值。換言之,在對(duì)從中心C起 的距離是5d的位置求取c〇S0是一定值以上的區(qū)域的情況下,該區(qū)域是以中心C為原點(diǎn)而大 致收斂于方位角Φ內(nèi)的程度的大小。對(duì)于其它的等高線R00~R40,也同樣地定義方位角Φ。 因此,圖8的曲線圖也可以認(rèn)為是在考慮多個(gè)從中心C起的距離時(shí)按照各個(gè)距離并由c 〇S0確 定的區(qū)域相對(duì)于通過(guò)中心C的直線收斂于何種方位角Φ內(nèi)的曲線圖。
[0099]以下利用圖7、圖8和圖4對(duì)決定勻場(chǎng)部件固定板19的格子14的順序進(jìn)行說(shuō)明。
[0100] 首先,對(duì)于COS0的等高線的值即勻場(chǎng)部件的配置決定一個(gè)能夠容許的誤差范圍, 求出圖7的函數(shù)Wa和函數(shù)Wr。
[0101] 接下來(lái),將勻場(chǎng)部件固定板19上的區(qū)域利用中心與該勻場(chǎng)部件固定板19的中心C 一致的周向框線17分為圓區(qū)域和圓環(huán)區(qū)域。在圖4中,按照直徑是WR0的圓區(qū)域和寬度是WR1 ~WR5的圓環(huán)區(qū)域?qū)驁?chǎng)部件固定板19上的區(qū)域進(jìn)行分割。
[0102]這里,如圖7所示,將從中心C起的距離分成寬度是WR0/2、WR1到WR5的區(qū)間,使各個(gè) 區(qū)間上的函數(shù)Wr的最小值為A0到A5。此時(shí),WR0彡A0,WR1彡A1,WR2彡A2,WR3彡A3,WR4彡A4, WR5彡A5必須成立。并且,WR0/2與WR1到WR5的和,必須等于勻場(chǎng)部件固定板19的半徑。
[0103] 接下來(lái),如圖8所示,從中心C起將距離分成寬度是WR0/2、WR1到WR5的區(qū)間時(shí),例如 在寬度WR1到寬度WR5的區(qū)間內(nèi),選擇滿足比角度Φ小并且作為90度除以整數(shù)所得值最大的 條件的角度。在圖8的寬度WR1的區(qū)間,滿足比角度φ小并且作為90度除以整數(shù)所得值最大 的條件的角度是45度。在寬度是WR2的區(qū)間,存在角度45度比角度Φ大的情況,因此滿足該條 件的角度是30度。以下同樣地,在寬度是WR3的區(qū)間,滿足該條件的角度是22.5度。在寬度是 WR4的區(qū)間,滿足該條件的角度是22.5度。在寬度是WR5的區(qū)間,滿足該條件的角度是30度。 [0104]進(jìn)而,使用這些角度來(lái)描繪勻場(chǎng)部件固定板19上的徑向框線18。即,寬度WR1的圓 環(huán)區(qū)域被間隔45度的徑向框線18分割。寬度WR2的圓環(huán)區(qū)域被間隔30度的徑向框線18分割。 寬度WR3和寬度WR4的圓環(huán)區(qū)域被間隔22.5度的徑向框線18分割。寬度WR5的圓環(huán)區(qū)域被間 隔30度的徑向框線18分割。
[0105]按照以上的順序?qū)Ω褡?4進(jìn)行劃分,從而在勻場(chǎng)部件固定板19上無(wú)間隙地分割成 格子14。并且,在各個(gè)格子14的內(nèi)部保證所設(shè)定的c〇S0的等高線的值以上的位置精度。
[0106] 在第一實(shí)施方式中,該周向框線17和徑向框線18,以避開(kāi)勻場(chǎng)部件固定孔12的方 式描繪成波線狀。由此,作業(yè)者能夠明確識(shí)別勻場(chǎng)部件固定孔12屬于某個(gè)格子14,因此能夠 提高作業(yè)效率。
[0107] (第二實(shí)施方式)
[0108] 圖9是表示在第二實(shí)施方式中構(gòu)成磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L的勻場(chǎng)部件固定板19Α和勻場(chǎng) 部件20Α的立體圖。對(duì)于和圖3所示的第一實(shí)施方式的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L相同的要素賦予相 同的符號(hào)。
[0109] 如圖9所不,第二實(shí)施方式的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L構(gòu)成為包含:異于第一實(shí)施方式的 勻場(chǎng)部件固定板19Α、勻場(chǎng)部件20Α。
[0110] 第二實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定板19Α,不形成第一實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定孔12, 而在其表面上描繪周向框線17及徑向框線18來(lái)形成各格子14。第二實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件 20Α是圓盤(pán)狀,與第一實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件20不同,不具備螺紋部。
[0111] 在第二實(shí)施方式中,作業(yè)者在進(jìn)行被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)時(shí),在勻場(chǎng)部件固定板19Α上利用 粘接劑等粘接固定圓盤(pán)狀的勻場(chǎng)部件20Α。勻場(chǎng)部件固定板19Α不必形成勻場(chǎng)部件固定孔 12,因此能夠容易且明了地在其表面上描繪周向框線17和徑向框線18以形成格子14。
[0112] (第三實(shí)施方式)
[0113] 圖10是表示在第三實(shí)施方式中構(gòu)成磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L的勻場(chǎng)部件固定板19Β和勻 場(chǎng)部件固定板罩191的立體圖。對(duì)于和圖3所示第一實(shí)施方式的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L相同的要 素賦予相同的符號(hào)。
[0114] 如圖10所示,第三實(shí)施方式的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L構(gòu)成為包含:勻場(chǎng)部件固定板19B、 勻場(chǎng)部件固定板罩191和勻場(chǎng)部件20。
[0115] 在第三實(shí)施方式中,在例如由纖維強(qiáng)化塑料等非磁性體構(gòu)成的勻場(chǎng)部件固定板罩 191上,描繪周向框線17B和徑向框線18B而構(gòu)成格子14B,進(jìn)而穿設(shè)能夠供勻場(chǎng)部件20貫通 的多個(gè)孔12B。在勻場(chǎng)部件固定板19B上,形成有勻場(chǎng)部件固定孔12,但是與第一實(shí)施方式不 同,沒(méi)有描繪用于形成格子14B的框線。勻場(chǎng)部件固定板19B被劃分成多個(gè)格子14B的勻場(chǎng)部 件固定板罩191覆蓋,從而自身的表面被劃分成多個(gè)格子14B。
[0116] 在勻場(chǎng)部件固定板罩191上穿設(shè)的多個(gè)孔12B用于使勻場(chǎng)部件20通過(guò),與勻場(chǎng)部件 固定板19B的勻場(chǎng)部件固定孔12的位置一致。但是,孔12B的個(gè)數(shù)與勻場(chǎng)部件固定孔12的個(gè) 數(shù)也不是必須一致。
[0117] 勾場(chǎng)部件固定板罩191的周向框線17B和徑向框線18B,以避開(kāi)用于使勾場(chǎng)部件20 通過(guò)的孔12B的方式描繪成例如波線狀。由此,作業(yè)者能夠明確識(shí)別孔12B屬于某個(gè)格子14, 因此能夠提高作業(yè)效率。
[0118] 在第三實(shí)施方式中,作業(yè)者在進(jìn)行被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)時(shí),以覆蓋勻場(chǎng)部件固定板19B的 表面的方式裝設(shè)勻場(chǎng)部件固定板罩191。由此,例如預(yù)先準(zhǔn)備格子14B的尺寸各不相同的多 個(gè)勻場(chǎng)部件固定板罩191,能夠選擇最適合磁鐵裝置2的精度的勻場(chǎng)部件固定板罩191。其它 的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)方法與第一實(shí)施方式是同樣的。
[0119] -般地,勻場(chǎng)部件固定孔12形成為對(duì)被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)而言具有充分的余裕。因此,即 使僅在勻場(chǎng)部件固定板罩191的格子14B的各中央部分上穿設(shè)孔12B,也能夠調(diào)整磁場(chǎng)。通過(guò) 采用這種方式,能夠提高作業(yè)效率而減少磁場(chǎng)調(diào)整次數(shù)。
[0120] 但是,如果孔12B的個(gè)數(shù)減少,則能夠配置的勻場(chǎng)部件20的數(shù)量會(huì)減少,因此在需 要配置大量勻場(chǎng)部件20的環(huán)境下,使用孔12B的個(gè)數(shù)較多或孔12B的面積較大的勻場(chǎng)部件固 定板罩191。在攝像區(qū)域9內(nèi)的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)之前,只要基于測(cè)定磁場(chǎng)的結(jié)果來(lái)判斷需要何 種程度的孔12B的個(gè)數(shù)即可。
[0121](第四實(shí)施方式)
[0122] 圖11是表示在第四實(shí)施方式中構(gòu)成磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L的勻場(chǎng)部件固定板罩191C和 勻場(chǎng)部件固定板19B的立體圖。對(duì)與圖10所示第三實(shí)施方式的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L相同的要素 賦予相同符號(hào)。
[0123] 如圖11所示,第四實(shí)施方式的磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)11L構(gòu)成為包含:勻場(chǎng)部件固定板19B、 勻場(chǎng)部件固定板罩191C和勻場(chǎng)部件20。
[0124] 第四實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定板19B,與第三實(shí)施方式同樣地,在其表面上僅形成 了勻場(chǎng)部件固定孔12,未描繪框線等。
[0125] 第四實(shí)施方式的勻場(chǎng)部件固定板罩191C,與第三實(shí)施方式不同,由周向框線17C和 徑向框線18C構(gòu)成,這些周向框線17C與徑向框線18C之間是中空的。由該中空部分形成格子 14C。勻場(chǎng)部件固定板19B被劃分成格子14C的勻場(chǎng)部件固定板罩191C覆蓋,從而自身的表面 被劃分成各格子14C。
[0126] 在第四實(shí)施方式中,作業(yè)者在進(jìn)行被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)時(shí),將勻場(chǎng)部件固定板罩191C裝 設(shè)到勻場(chǎng)部件固定板19B上。其它被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)方法與第一實(shí)施方式或第三實(shí)施方式是同 樣的。由此,預(yù)先準(zhǔn)備多個(gè)勻場(chǎng)部件固定板罩191,能夠選擇其中最適合磁鐵裝置2的。作業(yè) 者進(jìn)而結(jié)束被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè),并且從勻場(chǎng)部件固定板19B取下勻場(chǎng)部件固定板罩191C,能夠在 其它的磁鐵裝置2的被動(dòng)勻場(chǎng)作業(yè)中再利用。
[0127] (變形例)
[0128] 本發(fā)明不限于上述實(shí)施方式而包含各種變形例。例如上述的實(shí)施方式是為了理解 本發(fā)明而進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明的,并不是必須具備所述的全部結(jié)構(gòu)??梢詫⒛硞€(gè)實(shí)施方式的一部 分結(jié)構(gòu)置換為其它實(shí)施方式的結(jié)構(gòu),也能夠向某個(gè)實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)添加其它實(shí)施方式的結(jié) 構(gòu)。并且,也可以對(duì)各實(shí)施方式的一部分結(jié)構(gòu)進(jìn)行其它結(jié)構(gòu)的追加/刪除/置換。
[0129] 例如可以利用集成電路等硬件實(shí)現(xiàn)上述的各結(jié)構(gòu)、功能、處理部、處理手段等的一 部分或全部。上述的各結(jié)構(gòu)、功能等也可以通過(guò)處理器解釋并執(zhí)行實(shí)現(xiàn)各功能的程序而利 用軟件實(shí)現(xiàn)。實(shí)現(xiàn)各功能的程序、表格、文件等信息能夠預(yù)先在存儲(chǔ)器、硬盤(pán)、SSD(Solid State Drive:固態(tài)硬盤(pán))等記錄裝置或閃存卡、DVD(Digital Versatile Disk:數(shù)字多用途 光盤(pán))等記錄介質(zhì)中存儲(chǔ)。
[0130] 在各實(shí)施方式中,示出了說(shuō)明上所需的控制線或信息線,但是在產(chǎn)品上未必會(huì)示 出全部的控制線或信息線。實(shí)際上可以認(rèn)為幾乎全部的結(jié)構(gòu)相互連接。
[0131] 作為本發(fā)明的變形例有例如以下的(a),(b)等。
[0132] (a)在第一實(shí)施方式中,格子14的形狀是部分圓環(huán)狀。但是不限于此,周向框線17 的弧的部分可以分別描繪成直線,各格子14也可以形成梯形狀。
[0133] (b)在第一至第四實(shí)施方式中,勻場(chǎng)部件固定板19,19B的外周形狀是圓形。但是不 限于此,勻場(chǎng)部件固定板19,19B也可以具有例如8邊形、12邊形、16邊形等大致多邊形的外 周形狀。
[0134] 符號(hào)說(shuō)明
[0135] 1 一磁共振攝像裝置;2-磁鐵裝置;3-連結(jié)柱;4U、4L 一磁極;5U、5L-線圈容納容 器;6U、6L-超導(dǎo)線圈;7-控制部;8-躺床;9 一攝像區(qū)域;10U、10L-傾斜磁場(chǎng)線圈;11U、 11L一磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu);12-勻場(chǎng)部件固定孔;13-中心格子;14、14B、14C一格子;WR1~WR5- 寬度;φ、φ?-角度;17、17B、17C-周向框線;18、18B、18C-徑向框線;19、19B-勻場(chǎng) 部件固定板;191、191C 一勻場(chǎng)部件固定板罩;20、20A-勻場(chǎng)部件;71-顯示部;72-操作部; 81一驅(qū)動(dòng)郃;82-上板;β-平面;α-鉛垂對(duì)稱面;rl、r2-位置矢量;ml、m2-磁矩;bl、b2- 磁場(chǎng)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種磁鐵裝置,其特征在于,具備: 一組磁場(chǎng)發(fā)生部,其上下相對(duì)地配置而在攝像區(qū)域生成磁場(chǎng);以及 磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu),其夾持上述攝像區(qū)域上下相對(duì)地配置而對(duì)上述磁場(chǎng)的均勻度進(jìn)行調(diào) 整, 上述磁場(chǎng)調(diào)整機(jī)構(gòu)具備: 磁性體或永久磁鐵的勻場(chǎng)部件;以及 勻場(chǎng)部件固定板,其具有大致呈圓形或大致呈多邊形的外周形狀,表面被劃分成多個(gè) 格子,并且固定上述勻場(chǎng)部件, 各上述格子具有與自身所設(shè)置的上述勻場(chǎng)部件的基于相對(duì)的位置的上述磁場(chǎng)的調(diào)整 靈敏度相應(yīng)的面積。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述格子由環(huán)狀的周向框線及放射狀的徑向框線劃分而形成, 各上述格子的面積隨著從上述勻場(chǎng)部件固定板的中心遠(yuǎn)離而增大, 從上述中心觀察的上述格子的角寬度,在一度隨著從上述中心遠(yuǎn)離而減小后又轉(zhuǎn)而增 大,即具有極小值。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述勻場(chǎng)部件固定板具有用于固定上述勻場(chǎng)部件的勻場(chǎng)部件固定孔。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述格子的框線以避開(kāi)上述勻場(chǎng)部件固定孔的方式進(jìn)行繪制。5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述勻場(chǎng)部件固定板粘接固定上述勻場(chǎng)部件。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述勻場(chǎng)部件固定板由被劃分成多個(gè)上述格子的勻場(chǎng)部件固定板罩覆蓋,從而自身的 表面被劃分成多個(gè)上述格子。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述勻場(chǎng)部件固定板具有用于固定上述勻場(chǎng)部件的勻場(chǎng)部件固定孔, 上述勻場(chǎng)部件固定板罩具有用于使上述勻場(chǎng)部件通過(guò)的孔。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述勻場(chǎng)部件固定板罩的上述格子的框線以避開(kāi)用于使上述勻場(chǎng)部件通過(guò)的孔的方 式進(jìn)行繪制。9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁鐵裝置,其特征在于, 上述勻場(chǎng)部件固定板罩由劃分上述格子的框構(gòu)成。10. -種磁共振攝像裝置,其特征在于,具有權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的磁鐵裝置。
【文檔編號(hào)】G01R33/3873GK106061380SQ201580006814
【公開(kāi)日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2015年1月22日
【發(fā)明人】堀知新
【申請(qǐng)人】株式會(huì)社日立制作所
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