它元件的搭配關(guān)系與前述實(shí)施例相似，故將不再贅述。
[0090]圖6為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第四實(shí)施例的立體示意圖。
[0091]與前述實(shí)施例不同之處在于，本實(shí)施例的參考鏡組62為多個(gè)數(shù)字調(diào)控微鏡面所組成，采用多個(gè)數(shù)字調(diào)控微鏡面的優(yōu)點(diǎn)在于，各個(gè)鏡面皆可獨(dú)立調(diào)整(水平位置、角度調(diào)整等)，故可達(dá)到更精細(xì)的調(diào)整，以符合不規(guī)則曲面的測(cè)量結(jié)果。
[0092]若搭配測(cè)量不規(guī)則曲面時(shí)，可將待測(cè)物的表面分割為數(shù)個(gè)子區(qū)域，并就各個(gè)子區(qū)域所對(duì)應(yīng)的數(shù)字調(diào)控微鏡面，亦即每個(gè)子區(qū)域都會(huì)進(jìn)行至少一次的調(diào)整、測(cè)量步驟以測(cè)量到較好的曲率。
[0093]圖7A至7C為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第五實(shí)施例的立體示意圖。
[0094]與前述實(shí)施例不同之處在于，本實(shí)施例的參考鏡組72由參考鏡組為電濕式曲率透鏡搭配一反射鏡721所組成，也可對(duì)設(shè)置電濕式曲率透鏡的電極板C進(jìn)行一鏡面處理，使其提供與反射鏡相似的效果、或者通過選用不同的液體以達(dá)到反射的目的。電濕式曲率透鏡以液體做為變焦鏡，其具有高性能、低成本、體積小以及低耗電等優(yōu)點(diǎn)。其原理為利用具有導(dǎo)電性的水溶液以及非導(dǎo)電的油，經(jīng)由電流的通過使水溶液與油的接觸面積產(chǎn)生變化。因此，接觸面積的膨脹會(huì)讓曲率變大，使得焦點(diǎn)移動(dòng)如同對(duì)焦動(dòng)作一般，并產(chǎn)生光焦度的變化。
[0095]詳細(xì)而言，電濕式曲率透鏡可包括兩個(gè)導(dǎo)電層，一絕緣層間隔開這兩個(gè)導(dǎo)電層，導(dǎo)電層是透明導(dǎo)電材料，例如銦錫氧化物(ITO)等。絕緣層與這兩個(gè)導(dǎo)電層所形成的容置空間可封入液體。本實(shí)施例的液體可為水銀，水銀可形成一金屬反射面，且選用不同的液體將會(huì)產(chǎn)生不同的效果。導(dǎo)電層施以電壓，讓流體的曲折度因?yàn)閭鲗?dǎo)性與絕緣性的不同而產(chǎn)生變化，使得透鏡的焦點(diǎn)距離改變。簡(jiǎn)而言之，調(diào)整信號(hào)可經(jīng)由電壓的施加與否來改變可調(diào)控曲率透鏡的曲率。
[0096]此外,本實(shí)施例可由多個(gè)電濕式曲率透鏡72a、72b、72c所組成,各個(gè)電濕式曲率透鏡72a、72b、72c的配置可相同或者不同，當(dāng)需調(diào)控曲率變化時(shí)，可由調(diào)整信號(hào)控制外加電壓造成特定的電濕流體表面的曲率產(chǎn)生變化。
[0097]此外，這些電濕式曲率透鏡72a、72b、72c也可依據(jù)調(diào)整信號(hào)移動(dòng)以接受光線并產(chǎn)生第二光線(圖7B中箭頭為移動(dòng)方向)。
[0098]簡(jiǎn)言之，本實(shí)施例除了可通過配置不同的電濕式曲率透鏡調(diào)控反射鏡的曲率變化，以達(dá)到可模擬待測(cè)物相同、相似的反射特性，達(dá)到更加的測(cè)量結(jié)果。另一方面，可調(diào)控曲率透鏡也可為一介電泳式曲率透鏡。介電泳是利用外加電場(chǎng)所誘發(fā)的電耦極和外加電場(chǎng)交互作用的方式來驅(qū)動(dòng)粒子，因此粒子本身不須帶電，介電泳力使用交流電壓驅(qū)動(dòng)。
[0099]圖8A至SC為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第六實(shí)施例的立體示意圖。
[0100]與前述實(shí)施例不同處在于，本實(shí)施例的參考鏡組82由一個(gè)可撓式的反射鏡821與流體腔體822所構(gòu)成，本實(shí)施例的反射鏡821的曲率將會(huì)通過流體腔室822的氣體或液體的多少而有所改變。例如，充填較多的流體時(shí)，反射鏡821將會(huì)呈現(xiàn)凸面(圖SB)。依據(jù)調(diào)整信號(hào)排出流體時(shí)，則會(huì)呈現(xiàn)凹面(圖SC)。因此，處理單元可據(jù)此調(diào)整參考鏡組82的曲率。
[0101]其余構(gòu)件、參考鏡組與其它元件的搭配關(guān)系與前述實(shí)施例相似，故將不再贅述。
[0102]圖9A至9C為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第七實(shí)施例的立體示意圖。
[0103]與第六實(shí)施例不同之處在于，本實(shí)施例的參考鏡組92為由可撓式的反射鏡921與兩個(gè)流體腔體922、923所構(gòu)成，相似地，本實(shí)施例的反射鏡921的曲率將會(huì)通過流體腔室922,923的氣體或液體的多少而有所改變。通過兩個(gè)流體腔室922、923調(diào)控反射鏡921的曲率，此種搭配相比第六實(shí)施例可達(dá)成的曲率變化范圍更廣。惟須注意的是，上方流體腔體922充填的流體的種類將會(huì)對(duì)第二光線反射的路線有所影響，因此上方流體腔體922設(shè)置氣體為好。
[0104]其余構(gòu)件、參考鏡組與其它元件的搭配關(guān)系與前述實(shí)施例相似，故將不再贅述。
[0105]綜上所述，本發(fā)明通過第一光線與第二光線的干涉結(jié)果，調(diào)整參考鏡組的光學(xué)特性，進(jìn)而提高整體測(cè)量的精度，并克服測(cè)量不同曲面、多層體曲面須預(yù)先搭配適合的曲率范圍的參考鏡組的缺點(diǎn)。
[0106]以上所述僅為舉例性，而非為限制性。任何未脫離本發(fā)明的精神與范圍，而對(duì)其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包括于權(quán)利要求中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光學(xué)測(cè)量裝置，包括: 光源模塊，提供光線； 光耦合模塊； 參考鏡組；以及 處理單元； 其中，該光源模塊的該光線經(jīng)由該光耦合模塊傳遞至該參考鏡組以及待測(cè)物，該光線被該參考鏡組、該待測(cè)物反射后分別形成第一光線以及第二光線，該第一光線、該第二光線通過該光耦合模塊傳遞至該處理單元， 其中，該處理單元依據(jù)該第一光線與該第二光線產(chǎn)生提供調(diào)整信號(hào)，該處理單元將該調(diào)整信號(hào)傳送至該參考鏡組，該參考鏡組依據(jù)該調(diào)整信號(hào)調(diào)整該參考鏡組。2.如權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其中該參考鏡組包括致動(dòng)器以及反射鏡，且該致動(dòng)器依據(jù)該調(diào)整信號(hào)調(diào)整該反射鏡的曲率。3.如權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其中該參考鏡組包括光路調(diào)整單元、多個(gè)參考鏡，該光路調(diào)整單元依據(jù)該調(diào)整信號(hào)使該第二光線與其中一個(gè)所述參考鏡匹配。4.如權(quán)利要求3所述的測(cè)量裝置，其中各個(gè)所述參考鏡的曲率不同。5.如權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其中該參考鏡組為電濕式曲率透鏡或介電泳式曲率透鏡。6.如權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置，其中該待測(cè)物為具有多個(gè)曲面的球狀體。7.如權(quán)利要求6所述的測(cè)量裝置，其中該球狀體為眼球。8.一種光學(xué)測(cè)量的方法，其步驟還包括: 提供一光線至參考鏡組，提供又一光線至待測(cè)物； 該光線被該參考鏡組反射后形成第一光線，該又一光線被該待測(cè)物反射后形成第二光線.該第一光線與該第二光線產(chǎn)生干涉； 判斷該干涉是否符合預(yù)定干涉范圍，若否，則依據(jù)該干涉產(chǎn)生調(diào)整信號(hào)，該參考鏡組依據(jù)該調(diào)整信號(hào)調(diào)整該參考鏡組。9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)測(cè)量的方法，其中該參考鏡組依據(jù)該調(diào)整信號(hào)調(diào)整該參考鏡組的曲率。10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)測(cè)量的方法，其中該參考鏡組包括致動(dòng)器以及反射鏡，其步驟還包括: 該致動(dòng)器依據(jù)該調(diào)整信號(hào)調(diào)整該反射鏡的曲率。11.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)測(cè)量的方法，其中該參考鏡組包括光路調(diào)整單元、多個(gè)參考鏡，各個(gè)所述參考鏡的曲率不同，其步驟還包括: 該光路調(diào)整單元依據(jù)該調(diào)整信號(hào)使該第二光線與其中一個(gè)所述參考鏡匹配。12.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)測(cè)量的方法，其中步驟還包括: 依據(jù)該干涉，形成該待測(cè)物的待測(cè)物表面的圖像。13.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)測(cè)量的方法，其中該待測(cè)物具有多個(gè)曲面，其步驟還包括: 重復(fù)該測(cè)量方法以測(cè)量所述曲面。14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)測(cè)量的方法，其中步驟還包括:迭加所述曲面形成立體圖像。
【專利摘要】本發(fā)明是一種光學(xué)測(cè)量裝置及方法，光學(xué)測(cè)量裝置包括光源模塊、光耦合模塊、參考鏡組以及處理單元。光源模塊可提供光線。光源模塊的光線可經(jīng)由光耦合模塊傳遞至參考鏡組以及待測(cè)物。光線會(huì)被參考鏡組、待測(cè)物反射后分別形成第一光線以及第二光線。第一光線、第二光線再通過光耦合模塊傳遞至處理單元。處理單元將會(huì)依據(jù)第一光線與第二光線提供調(diào)整信號(hào)。處理單元將調(diào)整信號(hào)傳送給參考鏡組，參考鏡組依據(jù)調(diào)整信號(hào)調(diào)整參考鏡組。本發(fā)明通過第一光線與第二光線的干涉結(jié)果，調(diào)整參考鏡組的光學(xué)特性，進(jìn)而提高整體測(cè)量的精度，并克服測(cè)量不同曲面、多層體曲面須預(yù)先搭配適合的曲率范圍的參考鏡組的缺點(diǎn)。
【IPC分類】A61B3/10
【公開號(hào)】CN104970765
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410129738
【發(fā)明人】王威, 莊仲平, 顏孟新, 周忠誠(chéng)
【申請(qǐng)人】明達(dá)醫(yī)學(xué)科技股份有限公司
【公開日】2015年10月14日
【申請(qǐng)日】2014年4月1日