1.一種用于可控制地調(diào)整醫(yī)療裝置的處理元件的溫度的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：
流體遞送管道，所述流體遞送管道包括上游部分和下游部分；
過(guò)冷卻器，所述過(guò)冷卻器位于所述上游流體流動(dòng)路徑和所述下游流體流動(dòng)路徑之間；
旁路流體流動(dòng)路徑，所述旁路流體流動(dòng)路徑具有與所述上游流體流動(dòng)路徑直接連通的第一端部和與所述下游流體流動(dòng)路徑直接連通的第二端部；
第一閥門(mén)，所述第一閥門(mén)在所述過(guò)冷卻器和所述旁路流體流動(dòng)路徑的所述第一端部之間位于所述上游流體流動(dòng)路徑中；以及
第二閥門(mén)，所述第二閥門(mén)位于所述旁路流體流動(dòng)路徑中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，還包括與所述流體遞送管道流體連通的制冷劑源。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述第一閥門(mén)完全打開(kāi)并且所述第二閥門(mén)完全關(guān)閉時(shí)，所述處理元件達(dá)到最低處理溫度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述第一閥門(mén)完全關(guān)閉并且所述第二閥門(mén)完全打開(kāi)時(shí)，所述處理元件達(dá)到最高處理溫度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述制冷劑源為液體制冷劑源，所述系統(tǒng)還包括與所述流體遞送管道流體連通的氣體制冷劑源。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，對(duì)氣體制冷劑與液體制冷劑的比率的調(diào)整選擇性地控制所述處理元件的溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述液體制冷劑源為第一儲(chǔ)箱，并且所述氣體制冷劑源為第二儲(chǔ)箱。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述液體制冷劑源和所述氣體制冷劑源為公共儲(chǔ)箱。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述公共儲(chǔ)箱限定流體貯存器，所述液體制冷劑源在所述流體貯存器的底部處，并且所述氣體制冷劑源在所述流體貯存器的頂部處。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述公共儲(chǔ)箱包括與所述液體制冷劑源流體連通的第一閥門(mén)和與所述氣體制冷劑源流體連通的第二閥門(mén)，對(duì)所述第一和第二閥門(mén)中的至少一個(gè)的操縱調(diào)整氣體制冷劑與液體制冷劑的比率。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述公共儲(chǔ)箱包括第一端部和與所述第一端部相對(duì)的第二端部，其中，所述第一和第二閥門(mén)均在所述公共儲(chǔ)箱的所述第一端部和所述第二端部中的至少一個(gè)上。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述公共儲(chǔ)箱包括第一端部和與所述第一端部相對(duì)的第二端部，其中，所述第一和第二閥門(mén)在所述公共儲(chǔ)箱的相對(duì)兩端上。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述流體遞送管道與所述處理元件流體連通，所述系統(tǒng)還包括：
流體回收管道，所述流體回收管道與所述處理元件流體連通；
第一閥門(mén)，所述第一閥門(mén)在所述流體回收管道中；以及
第二閥門(mén)，所述第二閥門(mén)在所述流體遞送管道中，
對(duì)所述第一和第二閥門(mén)中的至少一個(gè)的獨(dú)立操縱選擇性地控制所述處理元件的溫度。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述流體遞送管道與所述處理元件流體連通，所述系統(tǒng)還包括：
流體回收管道，所述流體回收管道與所述處理元件流體連通；以及
閥門(mén)，所述閥門(mén)在所述流體回收管道中，
對(duì)所述閥門(mén)的操縱選擇性地控制所述處理元件的溫度。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一和第二閥門(mén)中的至少一個(gè)被操縱，直到所述處理元件達(dá)到在大約-20℃和大約-25℃之間的溫度。