專利名稱:腦部電極導線固定裝置的制作方法
技術領域:
本發(fā)明涉及植入式醫(yī)療系統(tǒng)領域,尤其是植入式醫(yī)療系統(tǒng)的用于將腦部電極導線或其他導管等固定在顱骨上的固定裝置。
背景技術:
植入式醫(yī)療系統(tǒng)通常包括植入式神經電刺激系統(tǒng)、植入式心臟電刺激系統(tǒng)(俗稱心臟起搏器)、植入式藥物輸注系統(tǒng)。其中,植入式神經電刺激系統(tǒng)包括腦深部電刺激DBS, 植入式腦皮層刺激CNS,植入式脊髓電刺激SCS,植入式骶神經電刺激SNS,植入式迷走神經電刺激VNS等。以植入式神經電刺激系統(tǒng)為例,主要包括植入體內的脈沖發(fā)生器、電極以及體外的控制裝置。其中,脈沖發(fā)生器與電極相連接,從而將脈沖發(fā)生器所產生的脈沖傳輸?shù)诫姌O,脈沖發(fā)生器產生的脈沖信號由電極傳輸至心臟或特定神經部位進行電刺激,從而使人體機能恢復到正常運作的狀態(tài)。病人在植入手術過程中,醫(yī)生首先要通過三維立體定位裝置確定病人腦部的靶點位置,醫(yī)生根據(jù)靶點位置在病人的顱骨上開出小孔,將腦部電極導線經顱骨孔插入腦部靶點,醫(yī)生使用測試刺激器對植入靶點進行測試,如刺激治療效果理想則將腦部電極導線使用固定裝置可靠地固定在顱骨上?,F(xiàn)有技術中,如美國專利US43^813中的腦部電極導線固定裝置通常包括顱骨環(huán)和顱骨蓋,腦部電極導線插入顱骨環(huán)后顱骨蓋蓋在顱骨環(huán)上關閉顱骨環(huán),腦部電極導線被夾緊在顱骨蓋與顱骨環(huán)之間,通過腦部電極導線與顱骨環(huán)和顱骨蓋之間的摩擦力從而將腦部電極導線固定在顱骨上。然而,醫(yī)生在手術過程中在插入引線針時以及在引線針取走后,由于腦部電極導線是懸空的沒有被固定住,在取出導線內的導絲后直接用顱骨蓋把導線壓在顱骨環(huán)上,此時易導致導線產生水平方向及豎直方向偏移,使電極插入的位置偏離靶點將手術變得復雜致使治療效果不理想。并且,由于在病人的頭皮部又增加了一層顱骨蓋,使得整個固定裝置的高度過高,易導致病人不適且不美觀。
發(fā)明內容
針對現(xiàn)有技術中存在的不足,本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種能夠可靠地將腦部電極固定在預設靶點的腦部電極導線固定裝置,在手術過程中不會發(fā)生腦部電極導線的竄動且操作方便、整體厚度適中。根據(jù)本發(fā)明所提供的技術方案,一種腦部電極導線固定裝置,包括顱孔環(huán),所述顱孔環(huán)包括用于將顱孔環(huán)固定在顱孔上的顱孔結合部,所述顱孔結合部的內壁形成用于穿過腦部電極導線的電極孔;顱孔塞,所述顱孔塞上具有用于穿過及固定腦部電極導線的至少一個槽,所述顱孔塞設置在所述電極孔內用于關閉所述電極孔。優(yōu)選地,所述槽為通槽或淺/深槽。
優(yōu)選地,所述通槽及深/淺槽為直線槽、曲線槽或交叉線槽。優(yōu)選地,所述通槽的一端或兩端延伸至顱孔塞的外側壁。優(yōu)選地,所述顱孔塞的外壁具有與所述電極孔內壁相配合的槽、凸臺或螺紋。優(yōu)選地,所述顱孔塞的下底面為向內凹陷的弧面。優(yōu)選地,所述顱孔塞的制作材料為有彈性的材料。優(yōu)選地,所述顱骨環(huán)的電極孔內壁底部具有用于防止顱骨塞滑出電極孔的凸臺或凹槽。優(yōu)選地,所述顱骨環(huán)的顱孔結合部向外延伸形成延伸部,所述顱骨環(huán)的顱孔結合部具有缺口,所述延伸部上開設有至少一個電極固定槽。優(yōu)選地,所述顱骨塞的上表面上設置有一個或多個便于取放的取放部。與現(xiàn)有技術相比本發(fā)明的優(yōu)點是由于本發(fā)明顱孔塞是設置在電極孔內部的,且顱孔塞上開設有具有用于穿過及固定腦部電極導線的至少一個槽,引線針穿過該槽由顱孔塞關閉電極孔。當電極導線通過引線針到達指定靶點后,醫(yī)生將引線針拔出,此時顱孔塞立即抱緊夾住電極導線使電極導線在水平方向及豎直方向上無位移,將電極導線牢固且準確地定位在指定的靶點位置,避免了醫(yī)生在封閉顱骨環(huán)操作過程中產生靶點偏移的現(xiàn)象。并且,由于顱孔塞設置在電極孔的內部且顱孔塞的高度不超出顱骨環(huán)的高度,使得整體固定裝置的高度較低,避免病人感覺不適且不影響美觀。
附圖1為本發(fā)明的結構示意圖(實施方式一);附圖2為本發(fā)明的顱骨環(huán)的立體結構示意圖(實施方式一);附圖3為本發(fā)明的顱骨塞的結構示意圖(實施方式一);附圖4為本發(fā)明的顱骨環(huán)的俯視結構示意圖(實施方式一);附圖5為附圖4中A-A方向剖視示意圖(實施方式一);附圖6為本發(fā)明的顱骨塞中開淺槽的結構示意圖;附圖7為本發(fā)明的顱骨塞中開深槽的結構示意圖;附圖8為本發(fā)明的結構示意圖(實施方式二);附圖9為本發(fā)明的顱骨塞的結構示意圖(實施方式二);附圖10為本發(fā)明的顱骨環(huán)的俯視結構示意圖(實施方式二);附圖11為附圖4中B-B方向剖視示意圖(實施方式二);附圖12為本發(fā)明的顱骨塞的結構示意圖(實施方式三);附圖13為本發(fā)明的顱骨塞的結構示意圖(實施方式四);附圖14為本發(fā)明的顱骨塞的結構示意圖一(實施方式五);附圖15為本發(fā)明的顱骨塞的結構示意圖二(實施方式五);其中10、腦部電極導線固定裝置;20、顱孔環(huán);201、顱孔結合部;202電極孔;203、延伸部;204、缺口 ;205、電極固定槽;206、凸臺;30、顱孔塞;301、槽;302、取放部;303、凹槽。
具體實施方式
下面結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細的說明實施方式一如附圖1至5所示,一種腦部電極導線固定裝置10,包括顱孔環(huán)20,所述顱孔環(huán) 20包括用于將顱孔環(huán)固定在顱孔上的顱孔結合部201,所述顱孔結合部201的內壁形成用于穿過腦部電極導線的電極孔202 ;顱孔塞30,所述顱孔塞30上具有用于穿過及夾緊固定腦部電極導線的至少一個槽301,所述顱孔塞301設置在所述電極孔202內用于關閉所述電極孔202。本實施方式中,所述槽301為通槽,醫(yī)生將引線針穿過通槽插入病人腦部,便于使用。當然在其他實施方式中所述的槽也可以為不同的淺槽或深槽。如附圖6及圖7中所示,在使用時,醫(yī)生只需用引線針刺穿不同的淺槽或深槽,將腦部電極導線從引線針的內孔中插入到預先計算好的深度。所述的通槽及深/淺槽可為直線槽、曲線槽或交叉線槽。本實施例中為一字型直線槽。所述顱孔塞30的外壁具有與所述電極孔內壁相配合的凹槽303,使顱孔塞30和電極孔202緊密牢固配合,醫(yī)生向下壓顱孔塞30到達指定位置后不會繼續(xù)向下以防止顱孔塞滑出電極孔。在其他實施方式中顱孔塞30的外壁也可為與電極孔內壁相配合的凸臺或螺紋。所述顱骨環(huán)20的顱孔結合部201向外延伸形成延伸部203,所述顱骨環(huán)20的顱孔結合部201具有缺口 204,缺口 204使得延伸部203具有一定的伸縮性能夠匹配醫(yī)生鉆出的多種尺寸的顱孔。所述延伸部203上開設有至少一個電極固定槽205。本實施方式中延伸部203上開有3個電極固定槽205,醫(yī)生將電極插入到預設靶點后將電極導線夾緊固定在顱骨塞30上,然后將露出體外的電極導線彎折壓緊在離其最近的一個電極固定槽內,操作使用方便。使用時,醫(yī)生將顱骨塞30塞入顱骨環(huán)20內,直接將配合好的顱骨環(huán)20與顱骨塞 30插入病人顱骨開口處,配合牢固后醫(yī)生將引線針從顱骨塞30中間的一字型直線槽301處插入到位后,再把腦部電極導線從引線針的內孔中插入到預先計算好的深度。若發(fā)現(xiàn)預先計算的刺激位置不在顱骨塞的中心及開槽線上時,便要通過調整顱骨塞30與顱骨環(huán)20在同一水平面上的相對位置,用專用固定輔助工具使得顱骨塞30沿著凹槽或凸臺206軌道在平面上旋轉,以便顱骨塞30上的電極固定槽205能正對著引線針。醫(yī)生調整測試完成后沿著引線針的軸向方向取出引線針,而腦部電極導線由于被具有彈性的顱骨塞30緊緊固定住,且能有效的保持住這個狀態(tài),而不會產出平面或軸向的偏移。最終在電極導線內的導絲取出后,把導線固定在最接近的顱骨環(huán)20的端面的電極固定槽205上。與之前的產品相比,在插入引線針時顱骨塞30能夠抱緊槽內的引線針,并且在引線針取走及取出導線內導絲后,顱骨塞30能夠抱緊刺激導線以防止導線產生偏移,不會發(fā)生導線在水平方向及豎直方向位置的變化,并且使醫(yī)生手術操作較為簡單。所述顱孔塞30的下底面為向內凹陷的弧面,使顱孔塞30整體較柔軟具有伸縮性, 使得能夠較容易插入引線針且引線針拔出后能夠緊密夾緊導線且不會將電極導線夾壞。所述顱孔塞30的制作材料為有彈性的材料,例如硅膠。同樣使得能夠較容易插入引線針且引線針拔出后能夠緊密夾緊導線且不會將電極導線夾壞。所述顱骨環(huán)20的電極孔202內壁底部具有用于防止顱骨塞30滑出電極孔202的凸臺206。該顱骨環(huán)20上的凸臺206與顱骨塞30的凹槽303相配合。在其他實施方式中,顱骨環(huán)20的電極孔202內壁底部可設置有與顱骨塞30上的凸臺相配合的凹槽。所述顱骨塞30的上表面上設置有一個或多個便于取放的取放部302,使醫(yī)生在安裝顱骨塞時易于取放。本實施方式中取放部302 為4個凹槽,可使用專用固定輔助工具或醫(yī)用鑷子拿取顱骨塞。實施方式二 如附圖8至圖11中所示,與實施方式一不同的是,顱骨塞30上的通槽301的一端延伸至顱孔塞30的外側壁的邊緣即形成通邊槽,因此使用方法也與上述實施方式一中的使用方法不同。使用時,醫(yī)生先把顱骨塞30插入病人顱骨開口處,配合牢固后醫(yī)生將引線針插入到位,此時將引線針用專有夾具固定住,再把神經刺激電極導線從引線針的內孔中插入到預先計算好的深度。醫(yī)生調整測試完成后,如圖7所示,用手向兩邊分開顱骨塞30的槽301 使之開出一缺口,醫(yī)生把對好位置的包含有電極導線的引線針夾在顱骨塞30內部,再對準顱骨環(huán)20的內部凸臺206,用手或專有工具向下壓,使得顱骨塞30與顱骨環(huán)20完全配合到位以固定腦部電極導線,此后的操作步驟及方式同上。實施方式三如附圖12所示,本實施方式中的顱骨塞30的槽301不是一字型直線通邊槽而是曲線通邊槽,醫(yī)生的操作步驟與實施方式二基本相同。當顱骨塞30塞入顱骨環(huán)20的電極孔202內時,通過顱骨塞30上的凹槽303及電極孔20上的凸臺206之間的配合使二者牢固地匹配固定,同時曲線通邊槽使得醫(yī)生更易判斷是否塞入固定到位。實施方式四如附圖13所示,本實施方式中的顱骨塞30的槽301是由多個沿直徑排列的圓槽組成,該圓槽可以是通孔也可以為深槽或者淺槽。醫(yī)生的操作步驟與實施方式一基本相同, 當圓槽是深槽或者淺槽時醫(yī)生在插入引線針時需要先刺穿該圓槽,當圓槽是通孔時醫(yī)生在插入引線針時較為省力方便。實施方式五如附圖14和圖15中所示,與實施方式二不同的是,顱骨塞30上的通槽301的兩端均延伸至顱孔塞30的外側壁的邊緣,即顱骨塞30形成兩個相互分離的半圓,該兩半圓之間形成的通槽用于穿過和夾緊固定腦部電極導線。醫(yī)生手術操作時,先將顱骨塞30插入病人顱骨開口處,配合牢固后醫(yī)生使用一個引線針插入到預設位置,此時用專用夾具將引線針固定住,再把神經刺激電極導線從引線針的內孔中插入到預先計算好的深度。醫(yī)生調整測試完成后,將顱骨塞30的兩個半圓塞入顱骨環(huán)20的電極孔202內將引線針夾在兩半圓中間,再對準顱骨環(huán)20的內部凸臺206或卡槽,用手或專有工具向下壓該兩個半圓,使得顱骨塞30與顱骨環(huán)20完全配合到位,此后的操作步驟及方式同上。本發(fā)明還可有其他多種實施例,在不背離本發(fā)明精神及實質的情況下,本領域的技術人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應的改變和變形,但這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明的權利要求保護的范圍。
權利要求
1.一種腦部電極導線固定裝置,其特征在于包括顱孔環(huán),所述顱孔環(huán)包括用于將顱孔環(huán)固定在顱孔上的顱孔結合部,所述顱孔結合部的內壁形成用于穿過腦部電極導線的電極孔;顱孔塞,所述顱孔塞上具有用于穿過及固定腦部電極導線的至少一個槽,所述顱孔塞設置在所述電極孔內。
2.根據(jù)權利要求1所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述槽為通槽或淺/ 深槽。
3.根據(jù)權利要求2所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述通槽及深/淺槽為直線槽、曲線槽或交叉線槽。
4.根據(jù)權利要求3所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述通槽的一端或兩端延伸至顱孔塞的外側壁。
5.根據(jù)權利要求1所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述顱孔塞的外壁具有與所述電極孔內壁相配合的凹槽、凸臺或螺紋。
6.根據(jù)權利要求1所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述顱孔塞的下底面為向內凹陷的弧面。
7.根據(jù)權利要求1所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述顱孔塞的制作材料為有彈性的材料。
8.根據(jù)權利要求5所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述顱骨環(huán)的電極孔內壁底部具有用于防止顱骨塞滑出電極孔的凸臺或凹槽。
9.根據(jù)權利要求1所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述顱骨環(huán)的顱孔結合部向外延伸形成延伸部,所述顱骨環(huán)的顱孔結合部具有缺口,所述延伸部上開設有至少一個電極固定槽。
10.根據(jù)權利要求1所述的腦部電極導線固定裝置,其特征在于所述顱骨塞的上表面上設置有一個或多個便于取放的取放部。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種腦部電極導線固定裝置,包括顱孔環(huán),所述顱孔環(huán)包括用于將顱孔環(huán)固定在顱孔上的顱孔結合部,所述顱孔結合部的內壁形成用于穿過腦部電極導線的電極孔;顱孔塞,所述顱孔塞上具有用于穿過及固定腦部電極導線的至少一個槽,所述顱孔塞設置在所述電極孔內用于關閉所述電極孔。與現(xiàn)有技術相比,當電極導線通過引線針到達指定靶點后,醫(yī)生將引線針拔出,此時顱孔塞立即抱緊夾住電極導線使電極導線在水平方向及豎直方向上無位移,將電極導線牢固且準確地定位在指定的靶點位置,避免了醫(yī)生在封閉顱骨環(huán)操作過程中產生靶點偏移的現(xiàn)象。并且顱孔塞的高度不超出顱骨環(huán)的高度,避免病人感覺不適且不影響美觀。
文檔編號A61N1/375GK102526880SQ20101058833
公開日2012年7月4日 申請日期2010年12月15日 優(yōu)先權日2010年12月15日
發(fā)明者不公告發(fā)明人 申請人:蘇州景昱醫(yī)療器械有限公司