專利名稱：等離子體消毒裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種等離子體消毒裝置，其使用氣態(tài)等離子體消滅或者殺滅在諸如醫(yī)療器械等物體表面上的微生物，尤其涉及一種等離子體滅菌裝置，其中，在等離子體的產(chǎn)生過程中，供給極少的定量的過氧化氫作為活性物種，并且在等離子體產(chǎn)生之前也用氣態(tài)地等離子體來進行預處理。
背景技術：
消毒和滅菌的各種方法已經(jīng)用于不同種類的一次性或者重復使用的醫(yī)療設備的消毒和滅菌。在這些方法中，使用蒸汽或者干燥加熱來消毒和滅菌的方法已經(jīng)廣泛使用。然而，這種消毒和滅菌的方法對通過這樣的加熱或者蒸汽相反地產(chǎn)生的物質(zhì)的消毒沒有什么用處。
也已經(jīng)使用氧化乙烯(EtO)氣體，但是卻遭受這樣的缺陷，即它在要消毒的物品上留下有毒的殘留物，對于和這些物品接觸的病人可以有副作用。結果，使用這種方法，從某些消過毒的物品上去除殘留的氧化乙烯需要的延長的通風循環(huán)也使得氧化乙烯消毒時間過分地長。
為了克服上述的缺陷，使用了作為消毒劑廣泛使用的過氧化氫。已經(jīng)知道，過氧化氫具有殺菌特性，并且已經(jīng)用在溶液中，以便殺死在各種要消毒物品的表面上的細菌。
美國專利US4437567公開了使用低濃度即0.01％到0.1％重量百分比的過氧化氫水溶液來對醫(yī)療或者外科用的包裝產(chǎn)品進行消毒。然而，使用該專利方法，在室溫下消毒需要至少15天，而在高溫下完成消毒需要大約一天。換言之，它需要將過氧化氫水溶液加熱到高溫下，以便進行更加快速的消毒。
美國專利US4169123、US4169124和US4230663公開了用于消毒和滅菌的溫度在80℃以下、相對反應腔的容積濃度為0.1-75毫克H2O2蒸汽/升的氣態(tài)過氧化氫的使用。
在美國專利US4366125和US4289728中已經(jīng)披露利用過氧化氫使用紫外線(UV)輻射來改善抗微生物活性。根據(jù)該專利方法，由于要消毒物體放進去的包裝，使得要消毒物體的表面不能直接暴露到UV放射線下，致使在包裝內(nèi)的物體不能被消毒。
用于將過氧化氫注入等離子體消毒器內(nèi)的裝置已經(jīng)使用。一種其內(nèi)容納規(guī)定量的過氧化氫(例如10盒)的膜盒式箱盒(capsule type cassettes)裝置已經(jīng)用在Johnson的ASP Model中，并且Johnson制造和出售低溫等離子體消毒器。在膜盒式箱盒裝置中，容納在薄膜內(nèi)的溶液通過注射泵被供應到溶液輸送管，并且供給的液態(tài)的氫氣在蒸發(fā)器內(nèi)蒸發(fā)，之后被送進消毒反應器。
然而，根據(jù)上述的膜盒式箱盒裝置，在完成10次消毒過程之后，用過的箱盒必須被其內(nèi)具有10盒的一個新的箱盒代替，因為在一次消毒過程中使用一個膜盒。
此外，廣泛使用帶有液體質(zhì)量流量控制器和注射泵的蒸發(fā)器來將產(chǎn)生金屬蒸汽的液體供入化學反應腔，在此，等離子體化學反應發(fā)生在金屬的有機化學汽相淀積過程中，其中金屬薄膜大多用作半導體的模型電路。
但是，上述的蒸發(fā)器具有這樣的缺點，即供應極少量液體的裝置非常復雜，并且制造成本極其高昂。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的是提供一種等離子體滅菌裝置，其使用過氧化氫作為活性物種的前體(precursor)，并且在要消毒材料的最初接觸面提供注入反應腔內(nèi)的氣態(tài)過氧化氫，作為產(chǎn)生能量水平足以能夠消毒的等離子體之前的預處理步驟，從而達到用低溫等離子體完成消毒所需的總時間和能量，以及使用過氧化氫進行的預處理，允許消毒發(fā)生在多種不同的包裝材料中，并且在等離子體處理之后沒有有毒的殘留物保留在消過毒的物品上，因為當由預處理后的施加能量產(chǎn)生的過氧化氫等離子體完成最后的消毒時，獲得的在等離子體內(nèi)的過氧化氫的分解產(chǎn)物包括水、氧氣和氫氣。
本發(fā)明的另一目的是消除在膜盒式箱盒裝置中頻繁放置箱盒帶來的不便，并且通過結構的簡化降低制造成本。
本發(fā)明的另一目的是提供一種用來供應供注射用的極少的定量液體的裝置，其可以用在醫(yī)院，以及一種用來供應極少定量液體的帶有蒸發(fā)器的裝置，其可以用于將定量的用于產(chǎn)生金屬蒸汽的液體送入化學反應腔，這些金屬蒸汽大多用在半導體加工中，所述的裝置用來供應或者蒸發(fā)極少定量的液態(tài)過氧化氫，該過氧化氫大多用來在低溫消毒裝置中產(chǎn)生用于消毒的等離子體，或者用來提供和蒸發(fā)極少定量的液態(tài)金屬有機化合物，用來在半導體加工中在穩(wěn)定條件下的化學反應腔內(nèi)產(chǎn)生金屬蒸汽等離子體，以便使用金屬有機化學汽相淀積方法來沉積金屬薄膜。
為了完成上述目的，本發(fā)明的一個方面提供了一種低溫等離子體消毒裝置，包括反應腔，用于容納要消毒的物品，所述的物品被包在包裝材料中；設置在反應腔內(nèi)要消毒物品之上的陽極；設置在反應腔內(nèi)要消毒物品之下的陰極；經(jīng)質(zhì)量流量控制器連接到所述陽極的注射加熱器；等離子體能量源，其經(jīng)過阻抗匹配電路和阻抗匹配控制器連接所述的陰極，用來產(chǎn)生高頻能量；設在所述反應腔下部的真空泵，其中，在用等離子體消毒之前，通過所述的注射加熱器，將液態(tài)的過氧化氫溶液轉化為氣態(tài)的過氧化氫，之后，通過所述的質(zhì)量流量控制器將氣態(tài)的過氧化氫調(diào)節(jié)到需要的壓力并在該壓力下進行注射，從而完成預處理。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，用于將定量的產(chǎn)生等離子體的液體經(jīng)過排放管供應到所述反應腔的裝置包括自動輸送器，用于在電機轉速的控制下，經(jīng)過所述的排放管自動地供應極少的定量的產(chǎn)生等離子體的液體；蒸發(fā)器，具有連接到所述自動輸送器的排放管上的加熱器，用來蒸發(fā)排放的液體；溫度控制器，用于控制設置在所述蒸發(fā)器內(nèi)的加熱器的溫度；整個包圍所述排放輸送管的加熱器，用來防止正在所述蒸發(fā)器的出口和所述反應腔之間的所述排放輸送管內(nèi)輸送的液體的任何冷凝，所述的加熱器連接到也控制所述加熱器溫度的所述的溫度控制器上。
根據(jù)本發(fā)明的再一方面，用于自動地輸送定量液體的自動輸送器包括帶有減速器的直流電機，其速度由比例控制電路反饋控制；進給絲杠，其經(jīng)過聯(lián)軸器連接到所述直流電機的旋轉軸；通過所述的進給絲杠和襯套機械地連接的支撐件；通過所述支撐件線性移動的注射缸；注射容器，隨著所述的注射缸線性地移動到所述注射容器內(nèi)部，該注射容器用來吸收和排出液體；設置在注射容器的液體入口的輸送閥，當所述的注射缸線性地伸出時，所述的輸送閥打開；供液容器，產(chǎn)生待供應的等離子體的液體儲存在其內(nèi)，所述的供液容器這樣設置在所述的液體入口，即液體經(jīng)所述的輸送閥被供應到所述的注射容器；設置在注射容器出口的排放閥，當所述的注射缸線性地縮回時，該排放閥打開，以便將液體送入所述的排放管；設置在固定板上的位移傳感器，用來測定所述的注射缸的位置。
附圖的簡要說明
現(xiàn)在將參考附圖通過例子來描述本發(fā)明的優(yōu)選實施形式，其中


圖1是根據(jù)本發(fā)明的低溫等離子體消毒裝置的示意圖2是用于供應液態(tài)的過氧化氫溶液的裝置的另一實施例的示意圖3是用于自動輸送圖2中示出的液體的自動輸送器的詳細視圖。
實現(xiàn)本發(fā)明的最佳方式
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一實施例的低溫等離子體消毒裝置，它是一個用來對氣態(tài)等離子體中的物品進行滅菌的裝置。該裝置使用過氧化氫溶液12作為產(chǎn)生等離子體以消滅和殺死在比如醫(yī)療器械的要消毒物品9的表面上的微生物的源頭(source)，并且也使用過氧化氫作為產(chǎn)生等離子體期間的活性物種。在產(chǎn)生等離子體(通過氣體的放電來產(chǎn)生)之前用氣態(tài)等離子體進行預處理。
諸如醫(yī)療器械或者外科器械的物品9被包在包裝材料10內(nèi)。將包在包裝材料10內(nèi)的物品9放在反應腔1內(nèi)。在該反應腔內(nèi)，一陽極2設置在要消毒的物品9之上，一陰極3設置在要消毒的物品9之下。一質(zhì)量流量控制器4通過反應腔1連接到陽極2上，而一阻抗匹配電路6通過反應腔1連接到陰極3上。一真空泵11設置在反應腔1的下部。一注射加熱器5連接到質(zhì)量流量控制器4，RF發(fā)電機的等離子體能量源8經(jīng)阻抗匹配控制器7連接到阻抗匹配電路6上。
本發(fā)明的等離子體消毒裝置和現(xiàn)有技術的氣體滅菌過程在兩個重要方面有所不同。第一是使用氣態(tài)的過氧化氫作為活性物種的前體，而不是諸如氧氣、氮氣等的惰性氣體。第二是在用等離子體消毒之前，液態(tài)的過氧化氫溶液12通過注射加熱器5轉變成氣態(tài)的過氧化氫，之后，通過質(zhì)量流量控制器4將氣態(tài)的過氧化氫調(diào)節(jié)并注射到需要的壓力，從而完成該預處理。
在諸如被包在包裝材料10內(nèi)的醫(yī)療器械和外科器械等要消毒的物品9放進反應腔1之后，反應腔1被關閉并且通過真空泵11抽成真空，從而去除腔內(nèi)的氣體。此時，液態(tài)的過氧化氫溶液12通過注射加熱器5轉變?yōu)闅鈶B(tài)的過氧化氫，然后將氣態(tài)的過氧化氫通過質(zhì)量流量控制器4調(diào)節(jié)到大約0.1到10Torr的壓力，并且射入陽極2。過氧化氫保留在腔內(nèi)一足夠持久的階段，從而允許過氧化氫和要消毒的物品9親密的接觸，通常是大約30分鐘。
然后，在反應腔1內(nèi)一直保留了50分鐘的等離子體允許徹底的消毒，盡管在從開始產(chǎn)生等離子體的短到5分鐘的時間內(nèi)消毒能夠有效地進行，這取決于施加到陰極3上的等離子體能量源8以及過氧化氫的濃度。
此時，如下面這樣產(chǎn)生等離子體使用等離子體能量源8將能量設定在需要的水平，然后使用阻抗匹配控制器7通過阻抗匹配電路6，這樣，該水平對應于在反應腔1內(nèi)的氣態(tài)過氧化氫的阻力系數(shù)(resistancevalue)，從而將最佳的能量供應給陰極3。
因此，最好施加最佳能量，以便獲得消毒的最佳效率，因為本發(fā)明的滅菌效率取決于等離子體能量源8和過氧化氫的濃度。要消毒的物品9被包在包裝材料10內(nèi)，然后放進反應腔1。優(yōu)選的包裝材料是通常根據(jù)商標“MYLAR”可以買到的纖維狀的聚對苯二甲酸乙二醇脂制成的商標為“TYVEK”可以買到的纖維狀的聚乙烯包裝材料，也可以使用紙包裝材料。然而，使用紙包裝，可以需要較長的處理時間來進行消毒，因為過氧化氫和其他反應的物種與紙可能相互作用。
低溫等離子體消毒裝置產(chǎn)生溫度低于100℃的等離子體。在作為反應氣體氣態(tài)的過氧化氫壓力小于10Torr壓力下產(chǎn)生等離子體，作為。等離子體能量源8是高頻(RF13.56MHz)電容組合型，其中以脈沖的形式間歇地施加高頻能量。
在本發(fā)明中，為了防止在反應腔1中反應氣體的過熱，也為了防止要消毒物品9的過熱，所以采用間歇地施加。按照間歇施加，施加0.5毫秒高頻能量，之后關閉，之后再施加1.0毫秒能量。
如上所述，將過氧化氫射入反應腔1的陽極2，以便進行預處理。同時，氣態(tài)過氧化氫的濃度是0.05到10毫克/升。過氧化氫的較高濃度將導致更短的消毒時間，因為滅菌的效率變高了。
射入反應腔1的過氧化氫的最小濃度是大約0.125毫克/升。當過氧化氫以合適的濃度注射時，諸如氧氣、氮氣、氬氣或者類似的輔助氣體可以和過氧化氫一齊加入反應腔。
如上述結構的本發(fā)明的低溫等離子體消毒裝置的一般操作如下面這樣
(1)反應腔1的門打開，以便反應腔處于大氣壓下。
(2)將比如醫(yī)療器械或者外科器械的要消毒物品9放進一線織容器13內(nèi)，之后包在包裝材料10內(nèi)。
(3)將包在包裝材料10內(nèi)的線織容器13放進反應腔1內(nèi)，然后關閉該腔的門。
(4)使用真空泵11將反應腔1抽空，直到到達10-3Torr的壓力。
(5)使用質(zhì)量流量控制器4將固定量的液態(tài)過氧化氫溶液從注射加熱器5射入陽極2，以便將反應腔1內(nèi)的壓力保持在0.5到10Torr之間。此時，射入反應腔1內(nèi)的過氧化氫的濃度可以是從0.05到10毫克/升，最好是0.208毫克/升。
上述的過程就是預處理，其進行5到30分鐘的時間。預處理時間的持續(xù)時間取決于使用的包裝材料的種類、要消毒的物品9的數(shù)量以及在反應腔中的物品的放置狀態(tài)。
(6)完成預處理之后，來自等離子體能量源8的高頻能量經(jīng)過阻抗匹配控制器7和阻抗匹配電路6施加到在反應腔1內(nèi)的陰極3，從而產(chǎn)生等離子體。
(7)產(chǎn)生等離子體需要的高頻能量的等離子體能量源8可以采用連續(xù)施加型。作為一替換實施形式，可以使用具有頻率為1KHz的脈沖高頻能量，從而防止反應氣體的過熱，也防止要消毒物品的過熱。物品9保留在等離子體中5到60分鐘的時間，從而完成消毒。
(8)在反應腔1內(nèi)完成消毒之后，去除等離子體能量源8，在反應腔1內(nèi)的壓力重新回到大氣壓，包在包裝材料10內(nèi)的消過毒的物品9被取出，從而完成全部的過程。
當諸如醫(yī)療器械或者外科器械的要消毒物品9按照本發(fā)明消毒時，不需要另外的步驟從消過毒的物品9或者其包裝材料10去除殘留的過氧化氫，因為在等離子體處理過程中，過氧化氫被分解為無毒的產(chǎn)品，不像氧化乙烯過程，其是預先氣體消毒過程。
圖2是另一實施例的示意圖，其用于將極小定量的液態(tài)過氧化氫溶液供應到反應腔。
用于自動地輸送極少定量的產(chǎn)生等離子體的液體的自動輸送器20在它的排出管40處設置有蒸發(fā)器24，該蒸發(fā)器帶有裝在其上的加熱器。加熱器26連接到溫度控制器25上，溫度控制器采用比例控制來控制加熱器26的溫度。
如圖3中所述，用于自動地輸送固定量液體的自動輸送器20能夠使注射缸45連接到減速電機31，其速度被控制器的比例控制電路12反饋控制，以便電機的旋轉速度線性移動到需要的速度。結果，可能控制每單位時間的供給量，其由注射缸45的截面與溶液從此排出的出口截面的比率確定。
換句話說，在相應于注射容器46容積的液體用完之后，電機31反向旋轉，允許液體從位于注射容器46之上且和注射容器46連接的供液容器48沿著輸液管38自動地射入注射容器46，該輸液管連接到注射容器46的另一側。供應的液體被引導到蒸發(fā)器24，其溫度由溫度控制器25的比例溫度控制電路42自動控制，并且在蒸發(fā)器24內(nèi)由加熱器26加熱。該加熱的液體轉化為氣體，然后供入反應腔1。在反應腔1內(nèi)，由供給的用來進行消毒和滅菌處理的氣體生成等離子體。
現(xiàn)在將詳細描述用來自動地輸送極少定量液體的自動輸送器20。
帶有減速器32的直流電機31具有連接到聯(lián)軸器33上的旋轉軸，該減速器的速度由比例控制電路42進行反饋控制。聯(lián)軸器33的另一側連接進給絲杠36。
進給絲杠36經(jīng)過襯套34機械地連接到一支撐件35。支撐件35連接到線性移動的注射缸45。如果注射缸45直線移動，容納在注射容器46內(nèi)的液體經(jīng)排放閥44被排進排放管40。同時，通過固定板37和39將注射容器46固定，其防止在線性運動期間注射容器46移動。
在注射容器46內(nèi)容納的液體用完之后，電機31反向旋轉，允許液體從位于注射容器46之上且和注射容器46連接的供液容器48經(jīng)輸液管38和輸送閥43射入注射容器46。
注射缸45每單位時間的輸送距離源于排放閥44的截面和注射容器46內(nèi)部的截面之比，并且?guī)в袦p速器32的直流電機31每單位時間的轉速來源于該輸送距離。作為一個結果，可以產(chǎn)生將全部液體輸送進入注射容器46所需的時間。結果，可能自動地供應極少定量的注射液體。
為了控制帶有減速器32的直流電機31的速度，使用比例控制電路42的反饋控制。通過設在用于固定注射容器46的固定板37上的位移傳感器49，來測量注射缸45的位置。
組裝的供應部件作為一個整體被安裝在安裝件41上。來自自動地輸送極少定量液體的自動輸送器20的液體經(jīng)過排放輸送管23供給蒸發(fā)器24。通過安裝在蒸發(fā)器24內(nèi)的加熱器26，該供給的液體汽化成為氣態(tài)，之后射入反應腔1。同時，由比例控制型的溫度控制電路25來控制蒸發(fā)器24內(nèi)的加熱器26的溫度。
當供給液體時，由于在排放輸送管23和供給的液體之間的溫差，液體可以在排放輸送管23內(nèi)被冷凝。為了防止冷凝，具有薄板形式且連接到溫度控制器25上的加熱器22環(huán)繞設置，并且其完全包圍排放輸送管23，從而防止汽化過的液體的任何冷凝。由供給的氣體產(chǎn)生的等離子體用在等離子體消毒過程中或者半導體沉積過程中。
實施例1
下面的例子說明了在等離子體消毒裝置中消毒的結果。請注意O代表消毒之前有機物的數(shù)量，T代表消毒之后有機物的數(shù)量。
表1說明在臭氧/過氧化氫等離子體消毒裝置中消毒處理的結果。在過氧化氫濃度為0.2毫克/升、壓力為1.5托(Torr)、高頻脈沖能量為150W以及整個處理時間為15分鐘的條件下進行測試。
請注意，所有測試均在表1中示出的反應氣體(1.5Torr)中進行了10分鐘的預處理。
(表1)
存臭氫/過氧化氫等離子體消毒裝置中消毒處理的結果
從表1可以看出，如果使用過氧化氫等離子體而不是使用臭氧等離子體，那么消毒處理的效率將提高。
實施例2
為了驗證在相同的過氧化氫等離子體消毒裝置中取決于過氧化氫濃度(mg H2O2/liter)的消毒處理的效率，進行該試驗。試驗的結果在表2中給出。
(表2)
取決于過氧化氫濃度的消毒處理的效率
表2的結果說明，如果過氧化氫的濃度為0.6，那么消毒處理的效率是最高的；并且如果使用過氧化氫和水蒸氣的等離子體而不是單獨使用過氧化氫等離子體，那么消毒處理的效率較高。
實施例3
為了驗證在相同的過氧化氫等離子體消毒裝置中取決于空氣的反應壓力(Torr)的消毒處理的效率，進行該試驗。試驗的結果在表3中給出。
(表3)
取決于過氧化氫的反應壓力的消毒處理的效率
表3的結果說明，如果使用過氧化氫和空氣的等離子體而不是單獨使用空氣等離子體，那么消毒處理的效率較高；并且如果反應氣體的壓力為1.5Torr，那么消毒處理的效率最高。
實施例4
為了驗證在相同的等離子體消毒裝置中取決于提供給空氣和過氧化氫混合氣的等離子體以及單獨的空氣等離子體的等離子體發(fā)生能量(Watt)的消毒處理的效率，進行該試驗。試驗的結果在表4中給出。
(表4)
取決于高頻能量的消毒處理的效率
表4的結果說明，如果使用過氧化氫和空氣的等離子體而不是單獨使用空氣等離子體，那么消毒處理的效率較高；并且如果用來產(chǎn)生等離子體所需能量的高頻能量為150Watt，那么消毒處理的效率最高。
工業(yè)上的適用性
根據(jù)上述的本發(fā)明的等離子體滅菌裝置，在能量水平足以進行消毒的等離子體產(chǎn)生之前，采用過氧化氫作為活性物種的前體(precursor)，并且在要消毒材料的最初接觸面提供射入反應腔內(nèi)的氣態(tài)過氧化氫，以作為產(chǎn)生能量水平足以能夠消毒的等離子體之前的預處理步驟，從而達到用低溫等離子體完成消毒需要的整個時間和能量，使用過氧化氫進行的預處理也允許消毒發(fā)生在多種不同的包裝材料中，并且在等離子體處理之后沒有有毒的殘留物保留在消過毒的物品上，因為當由預處理后的施加能量產(chǎn)生的過氧化氫等離子體完成最后的消毒時，獲得的在等離子體內(nèi)的過氧化氫的分解產(chǎn)物包括水、氧氣和氫氣。
另外，通過在醫(yī)院用于消毒和滅菌的在等離子體消毒裝置中具有簡單結構的自動液體輸送器，或者供應用于產(chǎn)生在半導體加工中頻繁使用的金屬蒸汽的液體的液體供應裝置，可以將極少定量的液體供給消毒腔或者反應腔，從而得到制造用于將極少量的液體供應到等離子體消毒裝置中的裝置或者用于供應產(chǎn)生金屬蒸汽的液體的液體供應裝置的成本。
權利要求
1、一種等離子體消毒裝置，包括反應腔(1)，用于容納要消毒的物品(9)，所述的物品被包在包裝材料(10)中；設置在反應腔(1)內(nèi)要消毒物品(9)之上的陽極(2)；設置在反應腔(1)內(nèi)要消毒物品(9)之下的陰極(3)；經(jīng)質(zhì)量流量控制器(4)連接到所述陽極(2)的注射加熱器(5)；等離子體能量源(8)，其經(jīng)過阻抗匹配電路(6)和阻抗匹配控制器(7)連接到所述的陰極(3)，用來產(chǎn)生高頻能量；設在所述反應腔(1)下部的真空泵(11)，其中，在用等離子體消毒之前，通過所述的注射加熱器液態(tài)的過氧化氫溶液(12)轉化為氣態(tài)的過氧化氫，之后，通過所述的質(zhì)量流量控制器(4)將氣態(tài)的過氧化氫調(diào)節(jié)到需要的壓力并在該壓力下進行注射，從而完成預處理。
2、如權利要求1所述的裝置，其特征在于，在作為反應氣體的氣態(tài)過氧化氫的壓力小于10托的壓力下產(chǎn)生所述的等離子體，并且所述的等離子體能量源(8)是高頻(RF13.56MHz)電容組合型，其中高頻能量以脈沖的形式間歇供給。
3、如權利要求1所述的裝置，其特征在于，氣態(tài)的過氧化氫的濃度范圍為0.05到10毫克/升。
4、如權利要求1所述的裝置，其特征在于，用來將產(chǎn)生等離子體的液體供給反應腔(1)的裝置包括自動輸送器(20)，用于在電機(31)轉速的控制下，經(jīng)過所述的排放管(40)自動地供應極少定量的產(chǎn)生等離子體的液體；蒸發(fā)器(24)，具有連接到所述自動輸送器(20)的排放管(40)上的加熱器(26)，用來蒸發(fā)排放的液體；溫度控制器(25)，用于控制設置在所述蒸發(fā)器(24)內(nèi)加熱器(26)的溫度；整個包圍所述排放輸送管的加熱器(26)，用來防止正在所述蒸發(fā)器(24)的出口和所述反應腔(1)之間的所述排放輸送管內(nèi)輸送的液體的任何冷凝，所述的加熱器(26)連接到也控制所述加熱器(26)溫度的所述的溫度控制器(25)上。
5、如權利要求4所述的裝置，其特征在于，用于自動地輸送固定量液體的自動輸送器(20)包括帶有減速器(32)的直流電機(31)，其速度由比例控制電路反饋控制；進給絲杠(36)，其經(jīng)過聯(lián)軸器(33)連接到所述直流電機(31)的旋轉軸；通過所述的進給絲杠(36)和襯套(34)機械地連接的支撐件(35)；通過所述支撐件(35)線性移動的注射缸(45)；注射容器(46)，隨著所述的注射缸(45)線性地移動到所述注射容器內(nèi)部，用來吸收和排出液體；設置在注射容器的液體入口的輸送閥(43)，當所述的注射缸(45)線性地伸出時，所述的輸送閥(43)打開；供液容器(48)，用于產(chǎn)生待供應的等離子體的液體儲存在其內(nèi)，所述的供液容器(48)這樣設置在所述的液體入口，即液體經(jīng)所述的輸送閥(43)被供應到所述的注射容器(46)；設置在注射容器(46)出口的排放閥(44)，當所述的注射缸(45)線性地縮回時，所述的排放閥(44)打開，以便將液體送入所述的排放管(40)；設置在固定板(37)上的位移傳感器(49)，用來測定所述的注射缸(45)的位置。
6、一種等離子體消毒系統(tǒng)，包括下面的步驟使用質(zhì)量流量控制器(4)將固定量的液態(tài)過氧化氫溶液(12)從注射加熱頭(5)注入反應腔(1)，而使反應腔(1)內(nèi)的壓力保持在0.5到10托，作為預處理；
將高頻能量從等離子體能量源(8)經(jīng)過阻抗匹配控制器(7)和阻抗匹配電路(6)施加到陰極(3)上，從而產(chǎn)生等離子體；
將在等離子體內(nèi)消過毒的物品(9)保持5到60分鐘，以進行徹底的消毒。
7、如權利要求6所述的裝置，其特征在于，產(chǎn)生等離子體所需的高頻能量的等離子體能量源(8)采用連續(xù)施加型，或者使用具有1KHz頻率的脈沖高頻能量，從而防止反應氣體的過熱，也防止要消毒物品(9)的過熱。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種低溫等離子體消毒裝置，其包括用于容納要消毒的物品(9)的反應腔(1)，所述的物品被包在包裝材料(10)中；分別設置在反應腔(1)內(nèi)要消毒物品(9)上下的陽極(2)和陰極(3)；經(jīng)質(zhì)量流量控制器(4)連接到所述陽極(2)的注射加熱器(5)；經(jīng)過阻抗匹配電路(6)和阻抗匹配控制器(7)連接所述的陰極(3)的等離子體能量源(8)，用來產(chǎn)生高頻能量；設在所述反應腔(1)下部的真空泵(11)，其中，在用等離子體消毒之前，通過所述的注射加熱器液態(tài)的過氧化氫溶液(12)轉化為氣態(tài)的過氧化氫，之后，通過所述的質(zhì)量流量控制器(4)以所需的壓力對氣態(tài)的過氧化氫進行調(diào)節(jié)和注射，從而完成預處理。
文檔編號A61L2/02GK1450917SQ0081936
公開日2003年10月22日 申請日期2000年5月26日 優(yōu)先權日2000年3月23日
發(fā)明者高重碩 申請人:株式會社和門麥迪泰克