電烤箱和煙熏器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于烘焙和熏制食品的直立電設(shè)備和方法。
【背景技術(shù)】
[0002]迄今為止，本領(lǐng)域已知的直立電烤箱和煙熏器通常包括:具有前進入門的直立矩形箱；在直立箱底部的電加熱元件；可定位在加熱元件之上的箱中的水盤；在水盤下方或者上方用于保持用于產(chǎn)生煙氣的木肩或者木質(zhì)顆粒的托盤或者盤子；在加熱元件和水盤上方隔開的多個食物支架；通常在箱底中居中的進氣口 ；以及在箱頂中的單個通風(fēng)口。一些單元還包括:用于感測在箱內(nèi)的空氣或者食品的溫度并且通過調(diào)節(jié)電加熱元件的能量輸出而控制溫度的烹調(diào)溫度控制器。
[0003]遺憾的是，現(xiàn)有技術(shù)的直立電烘焙和熏制箱單元具有各種嚴(yán)重缺點和不足。由于熱氣直接從箱頂排出，所以現(xiàn)有技術(shù)的電烤箱和煙熏器的熱效率較低。另外，熱氣直接從箱頂排出還造成較高程度的對流氣流流過該單元，對流氣流烘干食品并且迅速帶走烘焙/熏制腔中的水分。
[0004]為了減少現(xiàn)有技術(shù)的直立單元的熱損失量并且提高其熱效率，常常在直立矩形箱的內(nèi)壁與外壁之間設(shè)置絕緣層。然而，增加絕緣層成本高并且使制造過程明顯更加復(fù)雜。進一步地，為了防止絕緣材料損壞，將典型的現(xiàn)有技術(shù)的箱單元的最大烘焙和/或熏制溫度限制在使該單元僅能夠用于慢速烘焙和熏制的程度。由于現(xiàn)有技術(shù)的電箱單元的低效率和防止絕緣層受到熱損壞的需要，現(xiàn)有技術(shù)的單元通常僅能夠在約275° F的最大烘焙和/或熏制溫度下運行。
[0005]另外，在現(xiàn)有技術(shù)的直立電烤箱和煙熏器中使用水盤是必須的，以便抵消由對流烘干和快速排氣所造成的產(chǎn)品水分損失。裝滿并且安裝水盤然后在使用之后移除并且清空水盤這一需要產(chǎn)生了安全隱患(例如，熱水灼傷)并且使烘焙和熏制過程復(fù)雜化。而且，在現(xiàn)有技術(shù)的單元中水盤使用的必要性還有以下不利之處:(a)水盤占用了直立箱內(nèi)的寶貴空間；(b)在現(xiàn)有技術(shù)的單元中需要大量能量僅為了將水加熱到所需的操作溫度；以及(C)當(dāng)在212° F或更高溫度下操作該單元時，水盤中的水沸騰并且可產(chǎn)生如此多的水蒸氣以使得冷凝物和沉積在產(chǎn)品上的碳顆粒的量太大而使煙氣不能適當(dāng)?shù)卮┩府a(chǎn)品。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供了緩減上述問題和不足的直立電烘焙和熏制設(shè)備和方法，并且還提供了明顯優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的優(yōu)點和益處。
[0007]在一個方面中，提供了一種電烘焙和/或熏制設(shè)備，所述設(shè)備包括:
Ca)直立殼體，所述直立殼體具有:(i)形成所述殼體的至少三個直立內(nèi)側(cè)的直立殼體壁；(ii)閉合頂部；以及(iii)在所述殼體的一個直立側(cè)上用于打開和關(guān)閉所述設(shè)備的門；
(b)定位在所述殼體內(nèi)的直立內(nèi)加熱腔壁； (C)限定在所述直立內(nèi)加熱腔壁內(nèi)的直立內(nèi)加熱腔；以及 Cd)定位在所述加熱腔的所述下端部中的至少一個電加熱元件；
所述直立加熱腔壁優(yōu)選地定位為與所述直立殼體壁的所述內(nèi)表面鄰近并且與所述直立殼體壁的所述內(nèi)表面向內(nèi)隔開，從而在所述直立內(nèi)加熱腔壁與所述殼體壁的所述內(nèi)表面之間形成氣流間隙。在排氣之前，在該單元中產(chǎn)生的熱空氣向下移動通過氣流間隙，從而增加了內(nèi)加熱腔壁的溫度。氣流間隙優(yōu)選地在殼體的至少三個直立內(nèi)側(cè)上形成在內(nèi)加熱腔壁之外，但作為替代實施方式，也可以設(shè)置在殼體的僅一個或者僅兩個內(nèi)側(cè)上。
[0008]氣流間隙具有位于殼體的上部內(nèi)的上進氣口，該上進氣口用于接收向上流經(jīng)內(nèi)加熱腔的熱空氣。氣流間隙還具有下出氣口，該下出氣口設(shè)置為穿過直立殼體壁并且在高度上定位在上進氣口的下方，從而使在上進氣口中接收到的熱空氣向下流經(jīng)氣流間隙并且從下出氣口流出。進一步地，氣流間隙的上進氣口和下出氣口優(yōu)選地配置為使熱空氣在殼體的至少三個直立內(nèi)側(cè)上流到、流過以及流出氣流間隙。
[0009]本發(fā)明直立電烘焙和/或熏制設(shè)備優(yōu)選地為矩形單元，其中，直立殼體和直立內(nèi)加熱腔每一個優(yōu)選地具有大體上矩形的水平橫截面形狀。然而，作為替代實施方式，直立殼體和直立內(nèi)加熱腔也可以具有大體上圓形或者其他彎曲的或者部分彎曲的橫截面形狀。如本說明書和權(quán)利要求書中所使用的，除非另有說明，否則諸如本發(fā)明設(shè)備的“側(cè)”和“直立偵Γ (例如，本發(fā)明設(shè)備的直立左側(cè)、右側(cè)、后側(cè)和前側(cè))等術(shù)語囊括并且包括具有扁平的、大體上扁平的、彎曲的或者部分彎曲的水平橫截面形狀的側(cè)。
[0010]在另一方面，除了設(shè)置在直立加熱腔的一側(cè)、兩側(cè)或者三側(cè)上的氣流間隙之外，氣流間隙還可以設(shè)置在本發(fā)明設(shè)備的直立門中。設(shè)置在門中的氣流間隙將優(yōu)選地形成在門的第一直立內(nèi)壁與門的第二內(nèi)壁或者面板之間，該第二內(nèi)壁或者面板與門的第一內(nèi)壁向內(nèi)隔開。設(shè)置在門中的氣流間隙可以形成為:當(dāng)門關(guān)閉時，在門中的氣流間隙為(a)設(shè)置在殼體的其他內(nèi)側(cè)上的氣流間隙的延續(xù)或者(b)單獨的氣流間隙。
[0011]本發(fā)明改進型直立電烘焙和/或熏制設(shè)備提供了明顯優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的優(yōu)點和益處。本發(fā)明設(shè)備通過設(shè)置在內(nèi)加熱腔壁的至少一個直立側(cè)后面(更優(yōu)選地在至少三個直立側(cè)的后面)的氣流間隙向下運送熱空氣，而不是從該單元的頂部直接排出熱空氣。因此，在本發(fā)明設(shè)備中生成的熱空氣用于進一步加熱并且使內(nèi)加熱腔壁的溫度增加，而不是僅僅被直接拋棄到大氣。加熱腔壁的該另行加熱用于:(a)通過在排氣之前從熱空氣回收明顯的附加熱量，來增加本發(fā)明設(shè)備的熱效率；以及(b)增加從內(nèi)加熱腔壁朝食品發(fā)射的紅外輻射能量的量。
[0012]而且，通過在內(nèi)加熱腔壁之外的氣流間隙運送在本發(fā)明直立設(shè)備中產(chǎn)生的熱空氣還用于:在操作期間有益地增加在本發(fā)明設(shè)備內(nèi)的背壓。背壓的該有益增加用于減少進入設(shè)備底部的多余冷空氣，從而減少了必須通過設(shè)備不斷加熱的多余冷空氣的量。另外，通過減少流經(jīng)加熱腔的多余空氣的量，有益地減少了與產(chǎn)品接觸的對流空氣的強度和量，從而增加了在該單元中的紅外線對于對流熱傳遞的百分比，由此減少了從產(chǎn)品移除的水分的量。進一步地，通過減少流經(jīng)本發(fā)明單元的多余氣流的量，增加了在加熱腔內(nèi)的熱空氣的停留時間，從而使最初被熱空氣吸收的更大量的水分以及當(dāng)產(chǎn)生煙時添加至熱空氣的另外水分能夠在食品上再凝結(jié)。因此，雖然本發(fā)明設(shè)備可以可選地包括水盤(若需要)，但在本發(fā)明設(shè)備中使用水盤不是必要的。
[0013]由此，作為這些改進的結(jié)果以及除了這些改進之外，以在與現(xiàn)有技術(shù)單元相同的烘焙和/或熏制溫度下操作本發(fā)明直立電烘焙和/或熏制設(shè)備，但燃料消耗明顯更少并且產(chǎn)品更濕潤。作為替代實施方式，可以在明顯更高的溫度(高達350° F)下操作本發(fā)明設(shè)備，以便更快地烹調(diào)食品。而且，在本發(fā)明設(shè)備中設(shè)置在加熱腔壁后面的內(nèi)加熱腔壁和內(nèi)氣流間隙用于屏蔽并且保護殼體的內(nèi)壁，以免直接暴露于加熱腔內(nèi)的溫度條件。因此，在不損壞可設(shè)置在殼體壁內(nèi)的任何絕緣層的情況下，在本發(fā)明設(shè)備中可以采用更高的烘焙和/或熏制溫度。
[0014]在查看附圖并且閱讀下文的【具體實施方式】之后，本發(fā)明的其他方面、特征和優(yōu)點對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員將是顯而易見的。
【附圖說明】
[0015]圖1是本發(fā)明直立電烘焙和熏制設(shè)備的實施例2的剖切透視圖；
圖2是本發(fā)明直立電烘焙和熏制設(shè)備2的示意性剖切前視立面圖；
圖3是本發(fā)明直立電烘焙和熏制設(shè)備的替代實施例100的示意性剖切前視立面圖；
圖4是本發(fā)明直立電烘焙和熏制設(shè)備100的剖切透視圖；
圖5是本發(fā)明直立電烘焙和熏制設(shè)備的替代實施例200的部分剖切透視圖；
圖6是本發(fā)明直立電烘焙和熏制設(shè)備200的另一剖切透視圖；
圖7是本發(fā)明直立電烘焙和熏制設(shè)備200的示意性剖切前視立面圖；