例來說，如亞麻制品、窗簾等。另外， 表面可W是組織或者皮膚。在流體W濃霧、薄霧、噴霧或蒸汽的形式施加于表面之后，在框 496用直接等離子體處理表面。如上所述，直接等離子體可W由空氣、氮氣、惰性氣體、稀有 氣體或它們的任意組合生成。
[0049] 處理時間可W根據(jù)表面的不同而變化。在一些實施方案中，對表面處理約5分鐘。 在一些實施方案中，對表面處理少于約5分鐘。在一些實施方案中，對表面處理少于約3分 鐘。在一些實施方案中，對表面處理少于約1分鐘。在一些實施方案中，對表面處理約30 秒或者更少的時間。在一些實施方案中，對表面處理多于約5分鐘。在對表面處理之后，在 框498方法結(jié)束。
[0050] 處理表面活化流體（例如，水）和元素，如空氣中的氮和氧，生成高反應(yīng)性自由基 和非自由基、帶電荷的和中性物質(zhì)（例如，活性氮和活性氧），其穿過芽抱的外殼并且殺滅 或滅活芽抱。在一些實施方案中，等離子體直接接觸微滴或蒸汽之間的芽抱并且產(chǎn)生開口 使活化的流體穿過芽抱的外殼W殺滅或滅活芽抱。
[0051] 在一些實施方案中，方法490生成過氧亞硝酸根，其具有大約1秒的半衰期。流體 表面覆蓋度取決于所施加的液體的表面張力和暴露于流體的材料的表面能。其范圍可W從 由于形成彼此間隔開的球形滴引起的部分表面潤濕到通過可W由于微滴聚結(jié)形成水薄膜 引起的完全潤濕。與容器中的大量流體相比，液體微滴具有相對大的表面積，并且大的表面 與體積之比允許等離子體快速地且更高效地活化流體微滴，因為生成了較高濃度的活性氧 和活性氮如臭氧、過氧化氨、亞硝酸根和硝酸根。其還允許生成過氧亞硝酸根，所述過氧亞 硝酸根幾乎立即接觸芽抱表面，與必須遷移穿過較大體積的水W與芽抱接觸不同。因此，過 氧亞硝酸根可W在其退化之前接觸芽抱。
[0052] 圖5示出殺滅或滅活表面562上的芽抱568的系統(tǒng)500的示例性實施方案。芽抱 是干芽抱，并且在一些情況中是干芽抱層。芽抱可W是例如艱難梭狀芽抱桿菌、炭痘或其他 芽抱。系統(tǒng)500包括通過電纜504與電極506連接的高壓電源502、電介質(zhì)阻擋件510、外 殼508和過濾器550。系統(tǒng)500用于殺滅或滅活已被微滴或蒸汽566潤濕的芽抱568。參 照下面的圖5A描述操作方法。
[0053] 圖5A示出使用間接等離子體殺滅芽抱的示例性方法590。在框592,方法開始。在 框594將流體置于含有待處理的芽抱的干表面上。在一些實施方案中，流體為濃霧、薄霧或 噴霧形式。微滴尺寸可W變化并且在一些實施方案中直徑介于約1納米和1微米之間（濃 霧）。在一些實施方案中，直徑尺寸在約1微米和100微米之間（薄霧），W及在一些實施 方案中，在約100微米和1毫米之間（噴霧）。在一些實施方案中，流體是蒸汽。盡管對于 示例性實施方案描述了濃霧、薄霧和噴霧的微滴尺寸，但是該術(shù)語不應(yīng)該解釋為限于所述 的微滴尺寸。另外，如本文中所用，濃霧、薄霧或噴霧可W為氣溶膠的形式。在一些實施方 案中，流體是水。在一些實施方案中，流體的濃霧、薄霧或噴霧覆蓋頂層的芽抱并且在芽抱 上方形成液體薄膜。在一些實施方案中，流體的濃霧、薄霧或噴霧在芽抱上方形成個體小微 滴。在一些實施方案中，流體的濃霧、薄霧或噴霧只覆蓋一部分芽抱。在一些實施方案中， 流體是含有上述一種或多種添加物的水。在一些實施方案中，在芽抱上施加流體之前調(diào)整 流體的pH。在一些實施方案中，流體中的微滴是帶靜電電荷的。向流體施加靜電電荷引起 微滴互相排斥。結(jié)果是流體均勻地分布在表面上。
[0054] 表面可W是如上文關(guān)于圖4和圖4A描述的任何表面。在表面已被流體潤濕之后， 在框596用間接等離子體處理表面。如上所述間接等離子體可W由空氣、氮氣、反應(yīng)性氣 體、稀有氣體或他們的任何組合生成。
[00巧]處理時間可W根據(jù)表面的不同而變化。在一些實施方案中，對表面處理約5分鐘。 在一些實施方案中，對表面處理少于約5分鐘。在一些實施方案中，對表面處理少于約3分 鐘。在一些實施方案中，對表面處理少于約1分鐘，W及在一些實施方案中，對表面處理少 于約30秒。在一些實施方案中，對表面處理多于約5分鐘。在已對表面進(jìn)行處理之后，在 框598方法結(jié)束。
[0056]處理表面使流體活化，所述流體穿過芽抱的外殼并且殺滅或滅活芽抱。在一些實 施方案中，間接等離子體或余輝直接接觸流體微滴或流體蒸汽之間的芽抱并且產(chǎn)生開口使 活化的流體穿過芽抱外殼W殺滅或滅活芽抱。
[0057] 在一些實施方案中，方法590生成過氧亞硝酸根，其具有大約1秒的半衰期。與容 器中大量流體相比，流體微滴具有相對大的表面積，并且大的表面積允許間接等離子體或 余輝快速地且更高效地活化流體微滴，因為生成了較高濃度的活性氧和活性氮如臭氧、過 氧化氨、亞硝酸根和硝酸根。其還允許過氧亞硝酸根幾乎立即接觸芽抱表面，與必須遷移穿 過較大體積的水W接觸芽抱不同。因此，過氧亞硝酸根可W在其退化之前接觸芽抱。
[0058] 圖6示出殺滅或滅活芽抱的另一示例性方法。該方法開始于框602。在框604使 表面暴露于等離子體。表面可W用間接等離子體或直接等離子體處理。處理時間可W為約 1分鐘。在一些實施方案中，處理時間可W是少于約1分鐘，而在一些實施方案中為少于約 30秒。處理時間可W為在約1分鐘到3分鐘之間。在一些實施方案中，處理時間為約5分 鐘。在另一些實施方案中，處理時間為在約3到5分鐘之間，并且在一些實施方案中，處理 時間為多于約5分鐘。
[0059] 處理結(jié)束后，向表面施加抗微生物劑。抗微生物劑可W是，例如，基于醇的消毒劑； 醇；漂白劑；銀鹽，例如硝酸銀或氯化銀，或膠體銀；鋒鹽，例如氯化鋒、乳酸鋒或氧化鋒；含 有金屬納米粒子的懸浮液；雙氯苯雙脈己燒；陰離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、非離 子表面活性劑和/或兩性表面活性劑；乳化劑；助水溶物；甘油；馨合劑；季錠化合物，酸 (有機(jī)的或無機(jī)的）；堿；或表面張力降低劑等。在一些實施方案中，可W在用直接或間接等 離子體處理表面之前，向表面施加抗微生物劑。在框608方法結(jié)束。
[0060] 在一些實施方案中，具有carulite催化劑W濾除臭氧的過濾器可W替代現(xiàn)有技 術(shù)過濾器250。可W使用其他材料和/或涂層W阻擋等離子體中的某些物質(zhì)通過到達(dá)流 體。在一些實施方案中，使用多個過濾器，因此銅過濾器可W用于濾除帶電粒子W及第二 carulite涂布的網(wǎng)格可W用于濾除臭氧。另外，絲網(wǎng)格可W用于電磁屏蔽。在一些實施方 案中，過濾器是導(dǎo)電的，并且用于調(diào)諧等離子體發(fā)生器和導(dǎo)電過濾器之間的電場W控制通 過過濾器的反應(yīng)性物質(zhì)的密度和/或濃度。
[0061] 圖7示出用于生成快速殺滅或滅活芽抱的活化的氣體/微滴混合物的裝置700的 示例性實施方案。微滴可W是薄霧、噴霧、濃霧、氣溶膠等。裝置700包括外殼702。位于 外殼702內(nèi)的是高壓電極704。高壓電極704與電源供應(yīng)器（未顯示）相連接。示例性電 源供應(yīng)器是高壓AC正弦電源供應(yīng)器。在一些實施方案中，電源可W是高頻AC電源、RF電 源、脈沖DC電源、脈沖AC電源等。電介質(zhì)阻擋件705圍繞高壓電極704。裝置700包括接 地電極708、允許氣體和液體微滴的混合物流入的流體進(jìn)口 710、從流體進(jìn)口 710延伸經(jīng)過 電極704并到達(dá)出口 703的通路706。當(dāng)使高壓電極704通電時，在通路706中生成等離子 體712。通過等離子體712的氣體和液體微滴的混合物被活化并且活化的氣體/微滴混合 物714從出口 703流出到表面716上。
[0062] 表面716可W是含有細(xì)菌芽抱的任何表面，包括，例如，醫(yī)院或療養(yǎng)院里的表面， 像不誘鋼、玻璃、陶瓷、亞麻制品、窗簾、橡膠、織物、塑料等。在一些實施方案中，表面可W是 皮膚或組織。芽抱可W是例如艱難梭狀芽抱桿菌"C.diff"、炭痘桿菌"Ant虹ax"或其他芽 抱。芽抱是干芽抱，并且在一些情況中，是干燥芽抱層。
[0063] 表面716暴露于活化的氣體/微滴混合物714。暴露時間可W為約1分鐘。在一 些實施方案中，暴露時間可W為少于約I分鐘，并且在一些實施方案中為少于約30秒。暴 露時間可W為在約5秒到30秒之間。在一些實施方案中，暴露時間是5秒。在又一些實施 方案中，暴露時間為少于約2秒，并且在一些實施方案中，暴露時間為在約1到2秒之間。
[0064] 在一些實施方案中，流入到進(jìn)口 710的氣體/微滴混合物是水滴和含有氮氣和氧 氣的空氣。在一些實施方案中，流入到進(jìn)口 710的氣體/微滴是水和添加物（舉例來說，如 乙醇）和含有氮氣和氧氣的空氣。
[0065] 認(rèn)為活化的氣體/微滴混合物7