專利名稱：提高礦石、礦物和精礦的研磨效率的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及顆粒狀原料或顆粒狀原料流的破碎的改進研磨方法。本發(fā)明 特別可用于在采礦工業(yè)或采掘工業(yè)中顆粒狀材料的4分碎和尤其用于礦石、精 礦或含碳材料如煤炭的粉碎。
背景技術：
在采礦工業(yè)和采掘工業(yè)中常常實施顆粒狀材料的粉i卒或破碎。例如，從 礦山得到的礦石的選礦常常需要將礦石進行破碎以便減小礦石的粒度和為 選礦過程暴露所需礦物表面。這特別與從礦石生產(chǎn)精礦，從礦石或精礦浸析 礦物的浮選法，以及物理分離方法如重力分離、靜電分離和磁力分離法相關。 類似地，許多其它礦物處理方法需要礦石或精礦的尺寸減縮以便提高礦物處 理過程的動力學到經(jīng)濟比值。
研磨是顆粒狀材料的粉碎或破碎的一種常用方法。研磨機典型地包括添 加顆粒狀材料的研磨室。研磨室的外殼可以旋轉(zhuǎn)，或在研磨室中的內(nèi)部機構 可以旋轉(zhuǎn)(或兩者)。這引起在研磨室中顆粒狀材料的攪拌或攪動。研磨介質(zhì) 也可添加到研磨室中。如果研磨介質(zhì)不同于被破碎的顆粒狀材料，則該研磨
方法稱作外體研磨(exogenous grinding)。如果在顆粒狀材料本身之間的沖撞 引起研磨作用和沒有添加其它研磨介質(zhì)，則稱作自體研磨。各種各樣的研磨 機是已知的，其中包括珠粒研磨機，栓釘研磨機，^求研磨機，棒研磨機，膠 體磨，氣流粉碎機，級聯(lián)式研磨機，攪拌式研磨機，攪動式研磨機，SAG研 磨機，AG研磨機，塔式粉碎機和振動研磨機。
美國專利5,797,550和5，984,213號(它們的全部內(nèi)容被引入這里供參考) 描述了研磨機或磨碎機，其包括在研磨室中的內(nèi)部分級區(qū)域。在這些美國專 利中描述的研磨機可以是立軸研磨機或水平軸研磨機。在這些美國專利中描 述的研磨機的商品實例是由Xstrata Technology公司以商品名稱"IsaMill"銷 售的，本申請的申請人的商業(yè)分公司。被加入到研磨機中的原料和從研磨機中排出的產(chǎn)物都具有粒度分布。有 許多表征顆粒狀材料的粒度分布的方法。例如，可以使用關于通過標稱尺寸 的累積質(zhì)量百分數(shù)與粒度關系曲線的圖解表示法。術語DX則用于表示(按累
計基礎)所通過該尺寸的wt%。例如，Dso指有80%(按累計基礎)通過該指定 尺寸的粒度分布。因此，等于75微米的D8o是指一種粒度分布，其中80% 的質(zhì)量小于75微米。
已經(jīng)采用IsaMill技術來實現(xiàn)較細原料顆粒狀材料的超細研磨。Isamill 采用圓形研磨盤，它在漿狀物中攪拌介質(zhì)和/或顆粒狀物。分級和產(chǎn)品分離器 保持研磨介質(zhì)在研磨機內(nèi)，僅僅讓產(chǎn)物排出。迄今IsaMill的裝置已使用天 然研磨介質(zhì)并且旨在獲得具有低于19微米的D抑值和最常常低于12微米的 Dso值的超細產(chǎn)物。
在研磨應用中，顆粒狀原料典型地-故稱為F和顆粒狀產(chǎn)物被稱為P。因 此，F(xiàn)so指有50%通過該指定尺寸的原料樣品。同樣，等于100微米的P98 指有98%的質(zhì)量小于IOO微米的產(chǎn)物粒度分布。
在研磨應用中的粒度分布曲線，描述為粒度與在log對垂直軸(log versus normal axis)上通過的累計百分數(shù)的關系曲線，典型地通過在曲線上的單個點 來表征，即Dso(或通過粒度的80%累積質(zhì)量)。Pso是傳統(tǒng)的研磨和分級粒度 分布曲線的合理表述，因為隨著顆粒用傳統(tǒng)的技術被研磨到更細小的粒度， 原料粒度分布逐漸地移到在log-線性標度上的左側(cè)。
發(fā)明簡述
在第一方面，本發(fā)明提供減小含有顆粒狀物的原料的粒度的方法，包括
a) 提供含有顆粒狀物的原料；
b) 將原料加入到具有至少500kW功率的研磨才幾中，該研磨機具有至少 50kW/立方米的研磨機研磨容積(是扣除軸和攪拌器的體積之后研磨機的內(nèi) 容積)的比耗用功率(specific power draw)，該研磨機包括研磨介質(zhì)，該研磨介 質(zhì)包含具有不少于2.4噸/1113的比重和粒度在約0.8到8mm范圍內(nèi)的顆粒狀
材料；
c) 在研磨機中研磨原料；和
d) 從研磨機中排出產(chǎn)物，該產(chǎn)物所具有的粒度范圍使得產(chǎn)物的Dso是至 少約20孩i米。優(yōu)選，從研磨機中排出的產(chǎn)物所具有的粒度使得產(chǎn)物的D抑是約20-1000微米。
優(yōu)選，研磨介質(zhì)是人造研磨介質(zhì)?？梢杂糜诒景l(fā)明中的人造研磨介質(zhì)的 例子包括陶瓷研磨介質(zhì)，鋼或鐵研磨介質(zhì)或以冶金爐渣為基礎的研磨介質(zhì)。 "人造研磨介質(zhì)"指通過將一種或多種材料化學轉(zhuǎn)變成另一種材料的方法制 造的研磨介質(zhì)。術語"人造研磨介質(zhì)"不包括僅僅通過物理方法如天然砂、石的 滾磨或篩選進行處理的材料。
研磨介質(zhì)具有在2.2到8.5噸/立方米范圍內(nèi)的比重。
在一些實施方案中，本發(fā)明的方法采用陶瓷研磨介質(zhì)。陶瓷研磨介質(zhì)的 比重優(yōu)選是在2.4到6.0噸/立方米范圍內(nèi)。更優(yōu)選，該研磨介質(zhì)的比重是大 于3.0噸/立方米，甚至更優(yōu)選約3.2到4.0噸/立方米，再更優(yōu)選約3.5到3.7 p屯/立方米。
陶瓷研磨介質(zhì)可以包括氧化物材料。該氧化物材料可以包括下列的一種 或多種氧化鋁、二氧化硅、氧化鐵、二氧化鋯、氧化鎂、氧化鈣、氧化鎂 穩(wěn)定的二氧化鋯、氧化釔、氮化硅、鋯石、氧化釔穩(wěn)定的二氧化鋯、鈰穩(wěn)定 的二氧化鋯或其它相似的耐磨材料。
陶瓷研磨介質(zhì)優(yōu)選是一般球形的，但其它形狀也可使用。甚至不規(guī)則的 形狀都可以使用。
在其它實施方案中，本發(fā)明采用鐵或鋼研磨介質(zhì)。在這些實施方案中， 研磨介質(zhì)適宜是球形，雖然其它形狀也可以使用。鋼或鐵研磨介質(zhì)的比重常 常是大于6.0噸/m3,更優(yōu)選約6.5-8.5噸/m3。
本發(fā)明的其它實施方案使用冶金爐渣作為研磨介質(zhì)。冶金爐渣能夠以爐 渣的不規(guī)則形狀的顆粒形式使用，或更優(yōu)選，以爐渣的規(guī)則形狀顆粒使用。 如果使用爐渣的規(guī)則形狀顆粒，則爐渣的這些顆粒適宜具有一般球形。然而， 可以理解，本發(fā)明也延伸到使用其它形狀。
研磨介質(zhì)可以被加到研磨室中，其占據(jù)在研磨室內(nèi)的空間的60%到 90%(按體積)，或甚至占據(jù)在研磨室內(nèi)的空間的70%到80%(按體積)。然而 可以認識到，本發(fā)明還包括研磨方法，其中研磨機具有低于60%的容積填充 量的研磨介質(zhì)。
在一個實施方案中，本發(fā)明的方法采用水平軸研磨機。合適的水平軸研 磨機的例子是描述在美國專利5，797，550的一些實施方案中的水平軸研磨機，或例如由Xstrata Technology公司以商品名稱IsaMill制造和銷售的水平軸研 磨機。其它水平軸研磨機或改進的IsaMills也可以使用。
被添加到研磨機中的原料可具有粒度范圍，使得原料的Ds。值是30到 3000微米，更適宜地從40到900微米。
從本發(fā)明的方法獲得的產(chǎn)物具有20到700微米的D8。值。更優(yōu)選，該產(chǎn)物 具有從20到500微米的Dso值。
本發(fā)明的研磨方法典型地采用高功率強度和因此該方法可以表征為高 強度的研磨法。例如，相對于研磨機的容積(是扣除軸和攪拌器的體積之后 研磨機的內(nèi)容積)的耗用功率(power draw)是在50-600 kW/立方米，更優(yōu)選 80-500 kW/立方米，甚至更優(yōu)選100-500kW/立方米范圍內(nèi)。
該研磨機具有至少500kW的功率。更適宜地，該研磨機具有至少750kW 的功率。甚至更適宜地，該研磨機具有1MW或更大的功率。優(yōu)選，該研磨 機具有1 MW到20 MW的功率。在這方面，研磨才幾的功率是由為研磨初4是 供動力的馬達的耗用功率(power draw)所決定的。
在本發(fā)明的優(yōu)選實施方案中，研磨機包括IsaMill(如上所述)。在IsaMill 中，許多攪拌器安裝在研磨室內(nèi)并且這些攪拌器由適當?shù)尿?qū)動軸來旋轉(zhuǎn)。高 功率強度是通過高的攪拌器速度和從研磨機中施加的回壓產(chǎn)生的介質(zhì)的壓 縮力的結(jié)合來實現(xiàn)的。適宜地，旋轉(zhuǎn)攪拌器的梢速度是5-35米/秒，更優(yōu)選 10-30米/秒，甚至更優(yōu)選15-25米/秒。
用于IsaMill中的攪拌器典型地是圓盤。然而，可以認識到，IsaMill可 以加以改進來使用不同的攪拌器并且本發(fā)明包括此類改進研磨機的使用。還 會認識到，本發(fā)明還可以使用其它攪拌式研磨機，其中這些其它攪拌式研磨 機包括合適的旋轉(zhuǎn)結(jié)構，例如，栓釘研磨機，由旋轉(zhuǎn)的螺旋葉片攪拌的研磨 機，等等。這些旋轉(zhuǎn)裝置的梢速度是在以上給出的范圍內(nèi)。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的至少優(yōu)選的實施方案的研磨方法與通常在采礦和采 掘工業(yè)中為這一負荷所使用的旋轉(zhuǎn)或攪拌式研磨機相比提高了研磨至非超 細的粒度的能量效率。
原料適宜以漿狀物形式添加到研磨機中。因此，在優(yōu)選的實施方案中， 本發(fā)明的研磨方法是濕式研磨方法。
本發(fā)明的實施方案提供用于采礦或采掘工業(yè)中的高強度的研磨方法。該 方法使用具有高的耗用功率、高的比輸入功率的大型研磨機，并使用人造的研磨介質(zhì)。該方法實現(xiàn)比超細研磨多少更粗糙一些的研磨，因此使得該方法 適用于大量的礦石、精礦或其它材料。先前，高強度的研磨沒有獲得在由本 發(fā)明所獲得的粒度范圍內(nèi)的產(chǎn)物，特別當使用大型的研磨機時。
附圖筒述


圖1表示適合用于本發(fā)明的方法中的研磨機的示意橫截面視圖2表示用于本發(fā)明的優(yōu)選實施方案中的開路式磨礦回路的流程圖3表示采用原料的密實化的磨礦回路的流程圖4表示使用產(chǎn)物的外部分級的磨礦回路的流程圖5表示根據(jù)本發(fā)明的實施方案的研磨法的例子的通過粒度的累計百分 數(shù)和粒度的關系曲線圖6表示根據(jù)本發(fā)明的實施方案的研磨法的例子的通過粒度的累計百分 數(shù)和粒度的關系曲線圖7表示本發(fā)明的一個實例的流程圖；和
圖8表示根據(jù)本發(fā)明的實施方案的研磨法的例子的通過粒度的累計百分 數(shù)和粒度的關系曲線圖。
附圖的詳細說明
將會認識到，下面的說明涉及到本發(fā)明的優(yōu)選實施方案。因此可以理解， 本發(fā)明不應該被認為限于在下面描述的優(yōu)選實施方案。
本發(fā)明的方法適宜在水平研磨機，如水平軸攪拌式研磨機中進行。在這 方面水平軸IsaMill特別地合適，但是可以理解本發(fā)明的其它優(yōu)選實施方案 可以在其它水平或立軸式研磨機中進行。使用具有水平結(jié)構的研磨機提供下 面的優(yōu)點
-它避免原料固體的短回路流動，有助于得到窄粒度分布；
-它使得該方法強烈克服在原料漿狀物密度中的變化；和
-它降低設備安裝的高度和便于維修，主要因為在不去掉齒輪箱和/或軸
的情況下能夠維修攪拌器。
美國專利5,797,550號，特別是圖6, 20， 21和22,描述適合在本發(fā)明
中使用的合適的水平軸研磨機的實例。
本申請的
圖1顯示適合用于本發(fā)明中的研磨機的示意圖。圖l的研磨機10包括外殼12。驅(qū)動軸14延伸穿過密封機構16進入研磨室18中。驅(qū)動軸 14攜帶多個的間隔的研磨盤20。研磨盤20的排列，要使它們隨著驅(qū)動軸14 旋轉(zhuǎn)。驅(qū)動軸14是由馬達和齒輪箱設備(未顯示)驅(qū)動的，這可以由所屬技術 領域的專業(yè)人員很好理解。
原料漿狀物和補充的介質(zhì)經(jīng)由入口 22被加入到研磨機10中。原料顆粒 狀材料和研磨介質(zhì)與轉(zhuǎn)盤20相互作用。圓盤被隔開以便按照高剪切模式攪 拌該介質(zhì)，從而引起顆粒狀材料的研磨。每一研磨盤20有多個開口，當顆 粒狀材料沿著研磨機10的軸向方向運行時顆粒狀材料通過這些開口 。
該研磨機還裝備有分級圓盤24和分離轉(zhuǎn)子26。這些被設計成能根據(jù)在 US專利5,797,550中的分級圓盤和分離轉(zhuǎn)子來操作。尤其，分級圓盤24設 置在分離轉(zhuǎn)子26的附近，以使得在攪動過程中介質(zhì)不再循環(huán)而是離心走向 研磨室殼12。分離轉(zhuǎn)子26在研磨機中將大的再循環(huán)流沿漿狀物流的反方向 泵送。這一作用保持離心的介質(zhì)遠離研磨機的排出區(qū)。大的顆粒(研磨介質(zhì) 和粗原料)受到這些力的作用并且保持在研磨機內(nèi)。微細顆粒(是產(chǎn)品大小的 顆粒和經(jīng)歷其有效研磨介質(zhì)使用年限的腐蝕或磨耗介質(zhì))沒有受到在分級圓 盤24和分離轉(zhuǎn)子26之間的向心力作用的影響并且經(jīng)由圓柱形分配器排出研 磨機。
由分離轉(zhuǎn)子26泵送或再循環(huán)的漿狀物的量會影響研磨機給料泵壓力和 研磨介質(zhì)上的壓縮力，提高轉(zhuǎn)子的容積流率是通過改變研磨機轉(zhuǎn)速和/或轉(zhuǎn)子 設計來實現(xiàn)的。分離轉(zhuǎn)子的泵送速度的增加將提高研磨機的耗用功率(power draw),全部其它因素相同。在本發(fā)明的方法中需要高的分離轉(zhuǎn)子泵送速率 以抑制新鮮原料漿狀物的高容積通量。
圖2顯示本發(fā)明使用的優(yōu)選的研磨(grinding)流程圖。尤其是，圖2顯示 了開路式磨礦回路，其中原料1被送到研磨機10和產(chǎn)品2從研磨機10中排 出。沒有產(chǎn)品的再循環(huán)。當研磨機是IsaMill時這一流程圖是優(yōu)選的，因為 IsaMill便于產(chǎn)品的內(nèi)部分級。
圖3顯示另一個磨礦回路結(jié)構，其中原料1在旋風分離器3中進行密實 化和/或顆粒分級，然而其它技術能夠使用，包括但不限于，增稠劑或澄清劑。 粗的材料4被送到研磨機10，與此同時微細顆粒5穿過(pass)研磨機10并與 來自研磨機10的產(chǎn)品2混合。
圖4顯示本發(fā)明的再一個實施方案的另一個磨礦流程圖。圖4中所示的流程圖具有被送到研磨機31的原料30。研磨機31可不需要內(nèi)部分級，以使
得離開研磨機31的顆粒狀材料32沒有分級。顆粒狀材料32被通入到分級 器33,其中它被分級成產(chǎn)品物流34和再循環(huán)物流35,后者返回到研磨機31 中進一步研磨。分級器33可以包括旋風分離器，旋液分離器， 一個或多個 篩或本領域中技術人員已知的任何其它合適分級設備。
當使用在US專利5,797,550和5,984,213號中所述的IsaMill時，如圖2 中所示的開路操作是優(yōu)選的，因為該研磨機包括內(nèi)部分級機構，該機構能夠 得到非常窄并且對于進一步加工而言有理想的研磨產(chǎn)品粒度分布。用分選器 (即旋風分離器或旋液分離器)閉合該開路會得到更寬的產(chǎn)品粒度分布。當希 望使通過研磨機的材料量減小至最小時圖3的流程圖是合適的。當研磨機沒 有內(nèi)部分級或有不產(chǎn)生窄產(chǎn)品粒度分布的內(nèi)部分級時，圖4的流程圖是更合 適的。
為了說明本發(fā)明的方法，原料粒度分布進行本發(fā)明的研磨。實驗是在下 面條件下進行的 開路結(jié)構；
水平軸研磨機(IsaMill);
,研磨介質(zhì)是比重=3.6 t/m3的3.5mm陶瓷；和 500 kW/m3功率強度。
圖5顯示了用于這一 實施例中的原料和從該實施例獲得的產(chǎn)品的粒度分 布曲線。
觀察圖5可以看出，研磨能量優(yōu)先集中于粗的顆粒(它需要研磨)和避免 了過量超細顆粒的產(chǎn)生。此外，隨著研磨繼續(xù)進行，發(fā)生了產(chǎn)品粒度分布的 變窄或銳化(sharpening)，通過的累積百分數(shù)與粒度的關系曲線變得"更陡"。
在圖6中能夠看到工業(yè)裝置處理粗粒產(chǎn)物的例子。在這種情況下馬達的 耗用功率是1.8MW，而研磨室是10m3，其中摻混了 33%的2.5mm陶瓷介質(zhì)， 剩余部分是3mm到3.5mm陶瓷介質(zhì)的混合物。盡管在沒有采用2.6MW的 最大耗用功率的情況下該研磨機以未優(yōu)化的方式和以開路模式操作，但仍然 表明該研磨機能夠處理粗的原料。被加入到研磨機中的原料具有135fim的 F8o和60iim的F50,以及所產(chǎn)生的出料P8o是60iam，和P5o是17iim。從圖6 中看出，對于微細粒度的分布比原料更陡，而粗的粒度范圍具有比原料分布 更小的梯度。在本發(fā)明的一些實施方案中，所述方法可以提供對于相同的能量消耗有 增加的生產(chǎn)量。另外，對于新的研磨設備，能夠?qū)е陆档偷耐顿Y費用，因為 生產(chǎn)量的要求可用比其它情況所需要的較小的研磨機達到。當與其它研磨方 法相比時，本發(fā)明的方法還提供提高的研磨效率，因此提供降低的操作費用。 本發(fā)明的方法采用大型研磨機以獲得增強的研磨效率，其可以對于給定的研 磨裝置提供更大的生產(chǎn)量或?qū)τ谛碌难心ピO備有減小的投資費用。該方法用 于在采礦或采掘工業(yè)領域中的研磨。該方法可用于制備用于浸析、浮選、重 力分離、磁力分離、靜電分選的原料流，適合于煤-水燃料漿的洗滌、生產(chǎn) 或煤炭氣化的煤炭流，用于燒結(jié)或熔煉、礬土及鋁土礦加工、鐵礦石加工(包 括磁鐵礦，鐵璲巖和赤鐵礦)、粒料生產(chǎn)等的原料流，以及與高壓磨輥回路 相結(jié)合使用。該方法還提供具有一種粒度分布(該粒度分布以前認為不適合 于由大規(guī)模的、高強度的研磨機進行研磨)的原料的處理并獲得非超細的產(chǎn) 品粒度分布。
圖7顯示了流程圖，它包括以開路模式操作的IsaMill來研磨SAG研磨 機旋風分離器底流，以產(chǎn)生適合于浮選的產(chǎn)品。在圖7的流程圖中，來自儲 礦堆100的礦石被輸送到SAG研磨機102。來自SAG研磨機102的產(chǎn)品在 篩104上過篩。由篩104截獲的篩上物返回到SAG研磨機102中。
通過篩104的顆粒狀物被送至一級旋風分離器106。旋風分離器底流被 送至IsaMill 108。來自IsaMill 108的產(chǎn)品被送至浮選裝置。在常用的裝置中， 旋風分離器底流被送到塔式粉碎機110和其后返回到一級旋風分離器進料。
為了實驗工作的目的，IsaMill 108是M20 IsaMill。 M20 IsaMill是用于 實驗目的的小規(guī)模研磨機，從該研磨機得到的結(jié)果能夠用于大規(guī)模的 IsaMills如Ml0000的實際尺寸i殳計。
來自旋風分離器底流的放出流109通過^f茲力分離器和然后在進入到M20 IsaMill中之前在1.04 mm篩上過篩，以確保SAG研磨機介質(zhì)的殘余物(steel scats)不堵塞研磨機。M20 IsaMill具有20 L研磨室且大約15 L的介質(zhì)被添加 到研磨室中。介質(zhì)是Magotteaux MTl(Keramax),并且由50% 2.5mm和50% 3.5mm介質(zhì)組成。漿狀物的SG是在1.23到1.39之間。加入研磨機中的原 料是0.9 m3/hr。
平均起來，來自過篩后的旋風分離器底流的粗原料具有在250到300nm 之間的F8。，而來自IsaMill的產(chǎn)品具有在20到30jim之間的P8。。 一天的產(chǎn)品的結(jié)果示于圖8中。
本領域中的那些技術人員將會認識到，本發(fā)明除了具體描述的那些之外 可進行各種變化和改進。當然，本發(fā)明包括在本發(fā)明的精神和范圍之內(nèi)的所 有此類變化和改進。
權利要求
1. 減小含有顆粒狀物的原料粒度的方法，該方法包括a)提供含有顆粒狀物的原料；b)將原料加入到具有至少500kW功率的研磨機中，該研磨機具有至少50kW/立方米研磨機的研磨容積(是扣除軸和攪拌器的體積之后研磨機的內(nèi)容積)的比耗用功率，該研磨機包括研磨介質(zhì)，該研磨介質(zhì)包含具有不小于2.4噸/m3的比重和粒度在約0.8到8mm范圍內(nèi)的顆粒狀材料；c)在研磨機中研磨原料；和d)從研磨機中排出產(chǎn)物，該產(chǎn)物所具有的粒度范圍使得產(chǎn)物的D80是至少約20微米。
2. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中從研磨機中排出的產(chǎn)物所具 有的粒度使得產(chǎn)物的Dso是約20-1000微米。
3. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)是通過一種方法制 造的人造研磨介質(zhì)，該方法包括一種或多種材料至另一種材料的化學轉(zhuǎn)變。
4. 根據(jù)權利要求3所要求保護的方法，其中人造研磨介質(zhì)包括陶瓷研磨 介質(zhì)、鋼或鐵研磨介質(zhì)或以冶金爐渣為基礎的研磨介質(zhì)。
5. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)具有在2.2到8.5 p屯/立方米范圍內(nèi)的比重。
6. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)包括陶瓷研磨介質(zhì)。
7. 根據(jù)權利要求6所要求保護的方法，其中陶瓷研磨介質(zhì)的比重是在 2.4到6.0 p屯/立方米范圍內(nèi)。
8. 根據(jù)權利要求7所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)的比重是大于3.0 p屯/立方米。
9. 根據(jù)權利要求8所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)的比重是約3.2到 4.0 p屯/立方米。
10. 根據(jù)權利要求9所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)的比重是約3.5 到3.7噸/立方米。
11. 根據(jù)權利要求6所要求保護的方法，其中陶瓷研磨介質(zhì)包括氧化物材
12. 根據(jù)權利要求11所要求保護的方法，其中氧化物材料選自氧化鋁、二氧化硅、氧化鐵、二氧化鋯、氧化鎂、氧化鈣、氧化鎂穩(wěn)定的二氧化^^告、 氧化釔、氮化硅、鋯石、氧化釔穩(wěn)定的二氧化鋯、鈰穩(wěn)定的二氧化鋯或它們 的混合物。
13. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)是鐵或鋼研磨介質(zhì)。
14. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)是冶金爐渣研磨 介質(zhì)。
15. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)被添加到研磨室 中，使所述研磨介質(zhì)占據(jù)研磨室內(nèi)空間的60%-90%體積。
16. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中研磨機包括水平軸研磨機。
17. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中被加入到研磨機中的原料 所具有的粒度范圍使得原料的D抑是30到3000微米。
18. 根據(jù)權利要求17所要求保護的方法，其中原料的D8。是40到900 微米。
19. 根據(jù)權利要求1所要求保護的方法，其中從該方法回收的產(chǎn)品具有 20-700微米的Dgo值。
20. 根據(jù)權利要求19所要求保護的方法，其中所述產(chǎn)品具有從20-500 微米的Dso值。
21. 根據(jù)權利要求l所要求保護的方法，其中相對于研磨機的容積，所述 耗用功率是在50-600 kW/m3W范圍內(nèi)。
22. 根據(jù)權利要求21所要求保護的方法，其中耗用功率是在80-500 kW/r^的范圍內(nèi)。
23. 根據(jù)權利要求21所要求保護的方法，其中耗用功率是在100-500 kW/n^的范圍內(nèi)。
24. 根據(jù)權利要求l所要求保護的方法，其中研磨機具有至少750 kW的 功率。
25. 根據(jù)權利要求24所要求保護的方法，其中研磨機具有l(wèi) MW或更大 的功率。
26. 根據(jù)權利要求24所要求保護的方法，其中研磨機具有從l MW到20 MW的功率。
27. 根據(jù)權利要求l所要求保護的方法，其中研磨機包括水平軸研磨機， 該水平軸研磨機具有許多位于研磨室內(nèi)的攪拌器，該攪拌器通過驅(qū)動軸來旋轉(zhuǎn)，該攪拌器在旋轉(zhuǎn)時攪拌器的梢速度是在5-35米/秒范圍內(nèi)。
28. 根據(jù)權利要求l所要求保護的方法，其中原料適宜以漿狀物的形式被 添加到研磨機中。
全文摘要
減小顆粒狀物的粒度的方法，該方法包括將原料加入到具有至少500kW功率的研磨機中，該研磨機具有至少50kW/每立方米的研磨機研磨容積的比耗用功率，和研磨機包括研磨介質(zhì)，該研磨介質(zhì)包含具有不少于2.4噸/m³的比重和在約0.8到8mm范圍內(nèi)的粒度的顆粒狀原料，在研磨機中研磨原料并從研磨機中排出產(chǎn)品，該產(chǎn)品所具有的粒度范圍使得產(chǎn)品的D₈₀是至少約20微米。
文檔編號B02C15/00GK101282790SQ200680037674
公開日2008年10月8日 申請日期2006年8月8日 優(yōu)先權日2005年8月15日
發(fā)明者丹尼爾·C·阿里, 格雷戈里·S·安德森, 約瑟夫·D·皮斯 申請人:斯特拉塔技術有限公司