專利名稱：繪圖裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明有關于一種在電路基板、液晶組件用玻璃基板、PDP用玻璃 組件基板等、平面基材的表面形成電路圖案的繪圖裝置。
背景技術：
形成電路圖案在平面基板的繪圖裝置，習知以將轉印光罩和作為被 曝光體的基板接觸的接觸方式或不接觸的非接觸方式的曝光裝置作為主 流。最近在光罩的管理和維持方面，如專利文獻1或專利文獻2所示般， 對于不使用轉印光罩而直接將曝光光線照射至基板、將電路圖案繪圖的 繪圖裝置的要求提高。此繪圖裝置將應轉印的圖案作為繪圖數(shù)據(jù)而傳送至繪圖裝置；在繪 圖裝置，藉由此數(shù)據(jù)，將曝光光線進行根據(jù)作為空間光調(diào)變組件的 DMD(Digital Micro-mirror Device,數(shù)字微型反射鏡組件)組件的曝光光線 的控制，在平面基板將電路圖案繪圖的裝置。繪圖裝置可享受不使用光 罩的最大優(yōu)點。在專利文獻1或專利文獻2中，組合遮片裝置和DMD組件，兩者 一邊同步，而控制繪圖必要的照射光。因為切換DMD組件的各微型反射 鏡的畫面的時間為一定，在繪圖的被曝光體移動之后，到微型反射鏡的 方向變換為止，必須等待照射光來。因此，在增加繪圖速度而提高生產(chǎn) 性的情形，微型反射鏡的切換時間成為限制，有生產(chǎn)性無法提高的問題。[專利文獻l]日本特開2006-113413[專利文獻2]日本特開2006-343684發(fā)明內(nèi)容[發(fā)明所欲解決之問題]作為提高繪.圖速度而提高生產(chǎn)性的對策，可進行將照射光在短時間、效率佳地控制的技術的革新。以對g線、h線、及i線等的波長反應的方 式，改良被曝光體的感光材的特性，藉由在光源搭載射出各種波長的紫 外線燈，感光材的反應可變快。然而，根據(jù)DMD組件的光束的調(diào)變時間 成為限制，有效率地空間光調(diào)變般、問題解決是急迫的。[解決問題之技術手段〗繪圖裝置將電路圖案繪圖于被曝光面上。又，第一觀點的繪圖裝置包括空間光調(diào)變裝置，具有數(shù)組狀配置 的復數(shù)個反射組件；光源，對于反射組件供給曝光光線；偏壓電壓控制 部，施加使反射組件設定于第一狀態(tài)的第一電壓，使曝光光線朝被曝光 面導引，且施加使反射組件設定于第二狀態(tài)的零電壓，使曝光光線不到 達被曝光面。藉由此構成，偏壓電壓控制部施加第一電壓的話，反射組件成為第 一狀態(tài)。成為第一狀態(tài)的話，在被曝光體被繪圖。偏壓電壓控制部施加 零電壓，亦即，中斷偏壓電壓的話，反射組件成為第二狀態(tài)，朝被曝光 體的繪圖不進行。由于將空間光調(diào)變裝置的反射組件藉由第一電壓和零 電壓在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)切換，與習知相比，從第一狀態(tài)朝第二狀態(tài) 的遷移時間或從第二狀態(tài)朝第一狀態(tài)的遷移時間可縮短約1/2。第二觀點的繪圖裝置在第一狀態(tài)的反射組件的傾斜角和第二狀態(tài)的 反射組件的傾斜角成為a角度的情形，對于反射組件的曝光光線的光束 角度在2a角度以下。曝光光線入射于反射組件之際，曝光光線的光束角度變廣的話，反 射組件即使從第一狀態(tài)成為第二狀態(tài)，部分的曝光光線可到達被曝光面。 因此，藉由在第一狀態(tài)的反射組件的傾斜角和第二狀態(tài)的反射組件的傾 斜角成為a角度的情形、對手曝光光線的光束角度在2a角度以下，全部 的曝光光線不到達被曝光面。第三觀點的繪圖裝置的偏壓電壓控制部施加使反射組件設定在曝光 光線不到達被曝光面且和第二狀態(tài)不同的第三狀態(tài)的第三電壓。藉由此構成， 一邊在曝光光線不到達被曝光面的狀態(tài)下，使藉由反射組件反射的曝光光線可在與第二狀態(tài)不同的第三狀態(tài)。第四觀點的繪圖裝置還包括在第二狀態(tài)或第三狀態(tài)中，進行曝光 光線的光量的監(jiān)視的控制部。由于曝光光線在不到達被曝光面的狀態(tài)下有兩種狀態(tài)，使用第二狀 態(tài)或第三狀態(tài)的一方，控制部可進行曝光光線的光量的監(jiān)視。第五觀點的繪圖裝置還包括在第二狀態(tài)或第三狀態(tài)中，進行空間 光調(diào)變裝置的運轉的監(jiān)視的控制部。由于曝光光線在不到達被曝光面的狀態(tài)下有兩種狀態(tài)，控制部可進 行空間光調(diào)變裝置的作動的監(jiān)視。第六觀點的繪圖裝置的光源為超高壓水銀燈、氙氣燈、閃光燈、或 LED。特別是因為這些超高壓水銀燈、氙氣燈、閃光燈、或LED為光量大 的光源，在將從第一狀態(tài)朝第二狀態(tài)的反射組件的遷移時間或從第二狀 態(tài)朝第一狀態(tài)的遷移時間縮短約1/2的情形，可發(fā)揮繪圖時間的縮短效 果。[發(fā)明的效果]可將根據(jù)空間光調(diào)變裝置的光束的調(diào)變時間縮短約1/2，可達到藉由 感光材的反應及光源的光量的增大被要求的調(diào)變時間的縮短化的期望。 因此，可大幅縮短繪圖的作業(yè)時間。


圖1表示繪圖裝置100的概略立體圖；圖2表示第一照明光學系統(tǒng)30-1及第一照明光學系統(tǒng)30-2的概念圖；圖3表示第二照明光學系統(tǒng)37的一系統(tǒng)的Y-Z剖面的圖標；圖4表示DMD組件41的立體圖，其中圖4(a)表示DMD組件41的一部分的立體圖，圖4(b-l)至(b-3)表示配置于DMD組件41的光反射面的微型反射鏡M的圖示；圖5(a)至圖5(c)表示微型反射鏡M的旋轉角和光束角度的關系的6為繪圖的時序圖，其中在圖5所示的a度以12度說明，圖6(a) 表示施加于DMD組件41的偏壓電壓的時序圖，圖6(b)表示微型反射鏡 M的旋轉角度的圖，圖6(c)表示繪圖DR的時序的圖，圖6(d)表示光量傳 感器SS1的照射的圖；以及圖7為表示繪圖裝置100的照明光學系統(tǒng)以及DMD組件41的方塊圖。37、 37-2、 37-8 第二照明光學系統(tǒng)；SS 光量傳感器(SS1 第一光量傳感器，SS2 第二光量傳感器)。
具體實施方式
<繪圖裝置的全體構成>圖1表示繪圖裝置100的概略立體圖。繪圖裝置100大概包括第一 照明光學系統(tǒng)30、第二照明光學系統(tǒng)37、 DMD組件41、投影光學系統(tǒng)符號說明11-1 橢圓鏡；13-1 遮片；19 電源控制部；23、 23-1 全反射鏡31-l 準直透鏡；35 調(diào)整部；41 空間光調(diào)變部；42 晶圓；65 光吸收板；80 控制部；卯 被曝光體臺； 95 框體； CB 被曝光體； M 微型反射鏡；10、 10-l 超高壓水銀燈； 15-1 波長選擇濾光器； 20、 20-1 有孔構件； 22、 22-1 反射光學組件； 32-1 復眼透鏡； 39 鏡子；41、 41-1、 41-2 DMD組件；43 反射棱鏡；60、 60-1 投影光學系統(tǒng)；83 偏壓電壓控制部； 84 被曝光體臺驅動電路； 100 繪圖裝置； IL 曝光光線；30、 30-2 第一照明光學系統(tǒng);60以及被曝光體臺90。在本實施例中，為了對大面積的被曝光體CB做 繪圖而具備兩系統(tǒng)的第一照明光學系統(tǒng)30-1及第一照明光學系統(tǒng)30-2。 對于小面積的被曝光體CB，僅有一系統(tǒng)的第一照明光學系統(tǒng)30-l也可。圖2表示第一照明光學系統(tǒng)30-1及第一照明光學系統(tǒng)30-2的概念 圖。由于第一照明光學系統(tǒng)30-l及第一照明光學系統(tǒng)30-2是相同的構造， 因此僅說明第一照明光學系統(tǒng)30-l。繪圖裝置100的第一照明光學系統(tǒng)30-l具有超高壓水銀燈10-1。超 高壓水銀燈10-1配置于橢圓鏡11-1的第一焦點位置上。橢圓鏡11-1將 從超高壓水銀燈10-1照射的UV光有效地反射至第二焦點位置的方向。 光源的燈除了超高壓水銀燈之外，也可以使用氙氣燈、閃光燈或LED。 繪圖裝置100為了高速繪圖，光量大是所希望的。配置于第一照明光學系統(tǒng)30-l的超高壓水銀燈10-1由于使其光輸出 穩(wěn)定地至所定的位準，藉由繪圖裝置100的電源控制部(未圖示)，電源從 切入到切斷隨時射出所定位準的曝光光線。因此，被曝光體CB未曝光期 間，為了遮蔽曝光光線IL，在橢圓鏡11-1的第二焦點位置配置遮片13-1。第一照明光學系統(tǒng)30-1包含準直透鏡31-1及復眼透鏡32-1等，使 曝光光線IL以平均的光強度的光束成形。來自形成于橢圓鏡11-1的第二 焦點位置的光源像的發(fā)散光首先由準直透鏡31-1成為大略平行的光束， 而入射至波長選擇濾光器15-1。波長被選擇的曝光光線IL入射于復眼透鏡32-1，在光束范圍內(nèi)，照 射強度被平均化。平均化的曝光光線IL朝向有孔構件20-1。曝光光線IL 相對于有孔構件20-l正交而從Z方向入射，分割成復數(shù)道光束，又，由 全反射鏡或全反射棱鏡等的反射光學組件22-1被反射至水平方向。回到圖l，由有孔構件20-l、反射光學組件22-1被分離的曝光光線 IL由全反射鏡23-1被反射至Y方向。由全反射鏡23-1所反射的曝光光 線IL入射于第二照明光學系統(tǒng)37-1。入射于第二照明光學系統(tǒng)37-1的曝光光線IL以適當?shù)墓饬考肮馐?形狀被成形，而被照射至作為空間光調(diào)變組件的DMD組件41-1。 DMD 組件41-1由被供給的圖像數(shù)據(jù)將曝光光線IL做空間調(diào)變。由DMD組件41-1所調(diào)變的光束經(jīng)由投影光學系統(tǒng)60-1，作為所定的倍率之后，被照 射至被曝光體CB。繪圖裝置100在投影光學系統(tǒng)60的Z方向下側，具備支持第一照明 光學系統(tǒng)30、第二照明光學系統(tǒng)37以及投影光學系統(tǒng)60等的框體95。 在框體95上配置著一對導軌，在這些導軌上搭載著被曝光體臺90。此被 曝光體臺90藉由未圖標的驅動機構被驅動，例如，將球螺桿等藉由步進 馬達等的馬達驅動。藉此，被曝光體臺90沿著一對導軌，在作為這些的 長度方向的Y方向，對于投影光學系統(tǒng)60相對移動。在被曝光體臺90 上設置著作為被曝光體CB的涂布有光阻的基板，此被曝光體CB在被曝 光體臺90上由真空吸附而被固定。被曝光體臺90也可于X方向移動， 又，在投影光學系統(tǒng)60的焦點位置也可移動般，也可在Z方向移動般被構成。<DMD組件的配置>圖3表示第二照明光學系統(tǒng)37的一系統(tǒng)的Y-Z剖面的圖標。由有孔構件20、反射光學組件22及全反射面鏡23反射的曝光光線 IL經(jīng)由透鏡等的光學組件及光圈調(diào)整部35所構成的第二照明光學系統(tǒng) 37而導入DMD組件41。通過第二照明光學系統(tǒng)37的曝光光線IL以鏡子39被反射至Z方向， 而導入反射棱鏡43。在反射棱鏡43藉由改變反射角，將入射的曝光光線 IL導入DMD組件41 ，同時將藉由DMD組件41的微型反射鏡M被反 射的曝光光線IL反射至投影光學系統(tǒng)60的方向。<DMD組件〉圖4表示DMD組件41的圖標，其中圖4(a)表示DMD組件41的一 部分的立體圖，圖4(b-l)至4(b-3)表示配置于DMD組件41的光反射面的 微型反射鏡M的圖示。本實施例的繪圖裝置100具有復數(shù)個DMD組件41，其一個DMD 組件41的光反射面由例如配置成768x1280的數(shù)組狀的983040個的微型 反射鏡M所構成。DMD組件41沿X方向配置768個微型反射鏡M、沿 Y方向配置1280個微型反射鏡M，例如，在X方向具有約12mm的光反射面，在Y方向具有約14mm的光反射面。每個微型反射鏡M的尺寸 例如為13.68)im角。如圖4(a)所示般，此DMD組件4i例如為在晶圓42上以鋁濺鍍制作、 將反射率高的矩形微型反射鏡M藉由靜電作用而被動作的裝置(device)。 個別的微型反射鏡M藉由來自偏壓電壓控制部83的偏壓電壓，以對角 線為中心而可旋轉傾斜。當任意的微型反射鏡M(m， n)(l^m^768， 1 ^n蕓1280)被定位于被曝光體CB方向時，在此入射的曝光光線IL被反 射而朝向投影光學系統(tǒng)60。當微型反射鏡M(m， n)定位于投影光學系統(tǒng) 60的范圍外的方向時，光束向光吸收板(未圖示)被反射而從投影光學系 統(tǒng)60離開。圖4(b-l)表示施加偏壓電壓+24V于DMD組件41的微型反射鏡M 的狀態(tài)。此狀態(tài)的微型反射鏡M例如從水平面傾斜+12度。又，圖4(b-2) 表示不施加偏壓電壓于DMD組件41的微型反射鏡M的狀態(tài)。此狀態(tài)韻 微型反射鏡M例如和水平面平行，亦即，成為O度。圖4(b-3)表示施加 偏壓電壓-24V于DMD組件41的微型反射鏡M的狀態(tài)。此狀態(tài)的微型 反射鏡M例如從水平面傾斜-12度。根據(jù)DMD組件41的樣式，12度以 外，具有10度等的傾斜角的組件也可。此DMD組件41在日本特開2006-113413或日本特開2006-343684， 使微型反射鏡M對于水平面在+12度和-12度傾斜，而在兩個角度使用為 一般。亦即，由于DMD組件41的微型反射鏡M藉由數(shù)字控制而動作， 沒有所謂0度的概念。本實施例的偏壓電壓控制部83作出將微型反射鏡 M對于水平面以+12度、0度及-12度三個角度傾斜而使用的情形，以及 以+12度或-12度和0度的兩個角度使用的情形。如圖4(b-2)所示般，不施加偏壓電壓的狀態(tài)的微型反射鏡M與施加 偏壓電壓的狀態(tài)相比，微型反射鏡M的角度成為不安定。亦即，微型反 射鏡M例如有從與水平面傾斜-1度至+1度左右的情形。因此，在此狀態(tài) 下，入射至微型反射鏡M的曝光光線IL反射，ltl:反射的曝光光線IL在 投影光學系統(tǒng)60的范圍，不進入接收角般。又，在將微型反射鏡M從 水平面傾斜至+12度或-12度的狀態(tài)下，入射至微型反射鏡M的曝光光線IL反射，設定此反射的曝光光線EL進入投影光學系統(tǒng)60的范圍般。<微型反射鏡M的旋轉角和光束角度>圖5表示微型反射鏡M的旋轉角和光束角度的關系的圖示。入射至DMD組件41的曝光光線IL如圖5所示般，曝光光線IL的 主光線對于DMD組件41的法線方向(垂直方向)傾斜+2a角度般，DMD 組件41和曝光光線IL被調(diào)整。又，在圖5(a)中，微型反射鏡M的旋轉角度成為對于水平面傾斜+a 度的狀態(tài)。因此，入射的曝光光線IL在DMD組件41的法線方向，作為 具有主光線的曝光光線IL射出。此曝光光線IL被導引至投影光學系統(tǒng) 60，將被曝光體CB繪圖。此狀態(tài)，偏壓電壓控制部83(參考圖7)可藉由 施加+24V電壓于DMD組件41的微型反射鏡M而作出。在圖5(b)中，微型反射鏡M的旋轉角度對于水平面成為0度的狀態(tài)。 因此，入射的曝光光線IL從DMD組件41的法線方向-2a度，作為具有 主光線的曝光光線IL射出。此曝光光線IL被導引至投影光學系統(tǒng)60的 外側，例如，朝向光吸收板65(參考圖7)。光吸收板65具有以曝光光線 IL不擴散反射的方式吸收曝光光線IL的作用。此狀態(tài)，偏壓電壓控制部 83可藉由將DMD組件41的微型反射鏡M作為零電壓而作出。在圖5(c)中，微型反射鏡M的旋轉角度對于水平面傾斜-ct度的狀態(tài)。 因此，入射的曝光光線IL從DMD組件41的法線方向-4a度，作為具有 主光線的曝光光線IL射出。此曝光光線IL被導引至投影光學系統(tǒng)60的 外側，例如，朝向光量傳感器SS(參考圖7)。此狀態(tài)，偏壓電壓控制部 83可藉由施加-24V電壓于DMD組件41的微型反射鏡M而作出。如上述般，將對于DMD組件41的曝光光線IL的入射角作為從水 平面+2a度以上或-2a度以下的話，藉由曝光光線IL的光束角度在2a度 以下，圖5(a)、 (b)、或(c)的曝光光線IL的光束可分離。例如，a度=12 度的話，曝光光線IL的光束角度成為24度。又，作為空間光調(diào)變組件，不限定在DMD組件41，可利用反射-繞射型組件GLV(GratingLightValve，光柵閥)等。反射-繞射型組件是， 反射面以復數(shù)的微細的帶(ribbon)狀組件被形成，各組件藉由在反射面垂直方向變位，藉由從復數(shù)的帶狀組件反射的反射光引起繞射，形成特定 方向的射出光的裝置。 <繪圖的時序>圖6為繪圖的時序圖，其中在圖5所示的a度以12度說明。又，圖 6(a)表示施加于DMD組件41的偏壓電壓的時序圖，圖6(b)表示微型反射 鏡M的旋轉角度的圖，圖6(c)表示繪圖DR的時序的圖，圖6(d)表示光 量傳感器SS1的照射的圖。在時刻tl中，偏壓電壓從0V成為+24V的話，微型反射鏡M從在 圖5(b)所示的第二狀態(tài)的水平狀態(tài)(0度)幵始傾斜至圖5(a)般，在時刻t2 中，微型反射鏡M傾斜+12度。微型反射鏡M完全地傾斜第一狀態(tài)的+12 度之后，繪圖DR開始。在時刻t3中，偏壓電壓從+24V成為OV的話，微型反射鏡M從在 圖5(a)所示的狀態(tài)，開始回到如圖5(b)所示般的水平，在時刻t4中，微 型反射鏡M成為0度。因為曝光光線IL反射至不到達投影光學系統(tǒng)60 的方向，成為不被繪圖的狀態(tài)。微型反射鏡M在O度的狀態(tài)下，曝光光 線IL朝向光吸收板65般也可。到微型反射鏡M傾斜+12度的時刻t3為 止，成為繪圖DR被進行的期間。對于偏壓電壓控制部83，偏壓電壓從OV至+24V、且從+24V控制 0V。因此，在從時刻t5至時刻t8中，對于微型反射鏡M，繪圖DR的長 度不同，但成為和從時刻tl到時刻t4的微型反射鏡M的動作相同的動 作。微型反射鏡M將從水平狀態(tài)(0度)傾斜至+12度為止的遷移時間作為 EC的話，微型反射鏡M從-12度傾斜至+12度為止的遷移時間成為大約 2倍(2*￡<:)。習知，將微型反射鏡M從-12度傾斜至+12度般，進行空間 光調(diào)變，但在本實施例中，將微型反射鏡M從0度傾斜至+12度(或-12 度)般，進行空間光調(diào)變。因此，可縮短微型反射鏡M的遷移時間。又， 在習知技術中，將畫面關閉(OFF),為了將圖案不曝光般控制，必須將全 畫面OFF的數(shù)據(jù)被寫入DMD。又，為了寫入此全畫面OFF的數(shù)據(jù)，在 t5的時間，必須等待寫入。在時刻t9中，偏壓電壓從OV成為-24V的話，微型反射鏡M從在圖 5(b)表示的水平狀態(tài)(0度)，幵始如圖5(c)所示般的傾斜，在時刻tlO中， 微型反射鏡M傾斜-12度。微型反射鏡M完全地傾斜至作為第三狀態(tài)的 -12度。微型反射鏡M傾斜至-12度的話，因為曝光光線IL反射至不到 達投影光學系統(tǒng)60的方向，所以成為不被繪圖的狀態(tài)。又，微型反射鏡 M在-12度傾斜的狀態(tài)下，曝光光線IL朝向光量傳感器SS般。在時刻tll中，偏壓電壓從-24V成為0V的話，微型反射鏡M從在 圖5(c)的狀態(tài)，開始回到如圖5(b)所示般的水平，在時刻tl2中，微型反 射鏡M成為O度。微型反射鏡M從-12度傾斜的時刻tlO到時刻t11，成 為光量傳感器SS的光量蓄積期間。微型反射鏡M從水平狀態(tài)(O度)傾斜 至-12度為止的遷移時間也成為和從水平狀態(tài)(O度)傾斜至+12度為止的 遷移時間相同的時間。<繪圖裝置的控制>圖7表示繪圖裝置100及DMD組件41的方塊圖。為了說明的簡略 化，從八個系統(tǒng)的第二照明光學系統(tǒng)37至投影光學系統(tǒng)60的構成中， 畫出從第二照明光學系統(tǒng)37-l到投影光學系統(tǒng)60-l、從第二照明光學系 統(tǒng)37-2到投影光學系統(tǒng)60-2的方塊(block)?？刂撇?0連接電源控制部19，連接偏壓電壓控制部83和被曝光體 臺驅動電路84。又，控制部80被連接至光量傳感器SS，可量測曝光光 線IL的光量。光量傳感器SS具有量測來自DMD組件41-1的反射光的 第一光量傳感器SS1以及量測來自DMD組件41-2的反射光的第二光量 傳感器SS2。電源控制部19進行朝超高壓水銀燈IO供給的電力調(diào)整。偏壓電壓 控制部83基于來自控制部80被供給的電路圖案的情報，驅動DMD組件 41中配置成768x1280的數(shù)組狀的微型反射鏡M。被曝光體臺驅動電路 84以所定的移動速度驅動被曝光體臺90。偏壓電壓控制部83施加+24V的偏壓電壓至DMD組件41，將在電 路圖案必要的微型反射鏡M傾斜+12度的話，入射至DMD組件41的曝 光光線IL透過投影光學系統(tǒng)60。不施加偏壓電壓至微型反射鏡M的話，入射的曝光光線IL不朝向投影光學系統(tǒng)60而朝向光吸收板65。因為光 吸收板65吸收曝光光線IL，所以不會使曝光光線IL擴散反射、而進入 投影光學系統(tǒng)60。偏壓電壓控制部83施加-24V的偏壓電壓的話，將DMD組件41-1 及DMD組件41-2的配置成數(shù)組狀的983040個微型反射鏡M全部設定 在-12度，曝光光線IL的光束全部朝向第一光量傳感器SS1及第二光量 傳感器SS2般。記憶983040個微型反射鏡M全部傾斜在-12度方向時的 基準光量。例如，在DMD組件41的微型反射鏡M的復數(shù)個故障的情形 中，為了量測和基準光量不同的光量，可監(jiān)視DMD組件41的動作狀況。 又，在繪圖中的被曝光體CB的每數(shù)批(lot)， 983040個微型反射鏡M全 部傾斜在-12度方向，也可監(jiān)視超高壓水銀燈10的光量變動。又，DMD組件41有定期交換的必要。在判斷來自有孔構件20投影 光學系統(tǒng)的某一處有異常的情形，且在光量變動比所定值大時，也可警 告DMD組件41異?；蛴袎勖膯栴}。作為空間光調(diào)變組件，雖然利用微型反射鏡的旋轉角度在+12度及 -12度的DMD，但微型反射鏡的旋轉角度不限定在+12度、-12度，對應 于相對于微型反射鏡的旋轉角度而設定的射出光的偏向方向，設定入射 光的入射方向及光束角度也可。雖然參考詳細或特定的實施態(tài)樣說明本發(fā)明，但在不脫離本發(fā)明的 精神和范圍可加入各種的變更和修正為熟習此技藝者所明了的。
權利要求
1.一種繪圖裝置，將電路圖案繪圖于被曝光面上，包括空間光調(diào)變裝置，具有數(shù)組狀配置的復數(shù)個反射組件；光源，對于上述反射組件供給曝光光線；偏壓電壓控制部，施加使上述反射組件設定于第一狀態(tài)的第一電壓，使上述曝光光線朝上述被曝光面導引，且施加使上述反射組件設定于第二狀態(tài)的零電壓，使上述曝光光線不到達上述被曝光面。
2. 如權利要求1所述的繪圖裝置，其中在上述第一狀態(tài)的反射組件 的傾斜角和上述第二狀態(tài)的反射組件的傾斜角成為a角度的情形，對于 上述反射組件的上述曝光光線的光束角度在2a角度以下。
3. 如權利要求1或2所述的繪圖裝置，其中上述偏壓電壓控制部施 加使上述反射組件設定在上述曝光光線不到達上述被曝光面且和上述第 二狀態(tài)不同的第三狀態(tài)的第三電壓。
4. 如權利要求3所述的繪圖裝置，還包括在上述第二狀態(tài)或第三 狀態(tài)中，進行上述曝光光線的光量的監(jiān)視的控制部。
5. 如權利要求3所述的繪圖裝置，還包括在上述第二狀態(tài)或第三 狀態(tài)中，進行上述空間光調(diào)變裝置的運轉的監(jiān)視的控制部。
6. 如權利要求1或2所述的繪圖裝置，其中上述光源為超高壓水銀 燈、氙氣燈、閃光燈、或LED。
全文摘要
在增加使用DMD組件的繪圖速度而提高生產(chǎn)性的情形中，縮短DMD組件的微型反射鏡的切換時間而提高生產(chǎn)性。繪圖裝置(100)包括DMD組件(41)，具有數(shù)組狀配置的復數(shù)個微型反射鏡M；光源(10)，對于微型反射鏡M供給曝光光線；偏壓電壓控制部(83)，施加使微型反射鏡M設定于第一狀態(tài)的第一電壓，使曝光光線朝被曝光面(CB)導引，且施加使反射組件設定于第二狀態(tài)的零電壓，曝光光線不到達被曝光面。
文檔編號G03F7/20GK101334590SQ20081010903
公開日2008年12月31日 申請日期2008年5月23日 優(yōu)先權日2007年6月29日
發(fā)明者奧山隆志 申請人:株式會社Orc制作所