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藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件及包含該器件的顯示器的制造方法_2

文檔序號:9913297閱讀:來源:國知局
優(yōu)選為IOnm~40nm,進(jìn)一步 優(yōu)選為15nm~30nm。
[0032] 發(fā)光層42可以為藍(lán)色發(fā)光材料通過蒸鍍形成,藍(lán)色發(fā)光材料可以為N-芳香基 苯并咪唑類,1,2, 4-三唑衍生物,1,3-4-噁二唑的衍生物等,優(yōu)選為DPVBi (4, V -二 (2,2-二苯乙烯基)-1,1'-聯(lián)苯):5%8〇2¥8(1,4-二[2-(34-乙基咔唑基)乙烯 基]-苯)。
[0033] 發(fā)光層42也可以為紅色發(fā)光材料通過蒸鍍形成,該紅色發(fā)光材料可以為DCJTB ( 4-(dicyanomethylene)-2-t-butyl~6 (I, I, 7, 7-tetramethyljulolidyl-9-enyl)-4H-pyr an))摻雜 Alq3 〇
[0034] 發(fā)光層42還可以為綠色發(fā)光材料通過蒸鍍形成,該綠色發(fā)光材料可以為喹丫啶 酮(Quinacridone)慘雜 Alq3。
[0035] 電子傳輸層43可通過蒸鍍形成,其材質(zhì)可包括三嗪,例如4, 4'-雙-[2- (4, 6-二 苯基-1,3, 5-三嗪基)]_1,1'-聯(lián)苯、2, 4, 6-三(4-聯(lián)苯基)-1,3, 5-三嗪。電子傳輸層 43的厚度可以為Inm~200nm,優(yōu)選為5nm~100nm,進(jìn)一步優(yōu)選為20nm~70nm〇
[0036] 第二電極層5的厚度可以為IOnm~500nm,其可以為金屬、合金或金屬氟化物與金 屬復(fù)合電極,所述金屬選自鋰、鎂、鋁、鈣、鍶和銦,所述合金是鋰、鎂、鋁、鈣、鍶、銦中的一種 與銅、金或銀中的一種的合金。第二電極層5可通過蒸鍍形成。
[0037] 光取出層6可通過蒸鍍亞芳基二胺衍生物、星暴型化合物、具有螺環(huán)基的聯(lián)苯二 胺衍生物或梯狀化合物中的任意一種形成,其厚度可以為Inm~100nm,優(yōu)選為30nm~ 80nm〇
[0038] 本發(fā)明中上述各層的材質(zhì)、厚度、形成方式不限于上述描述。下面,通過實施例對 本發(fā)明的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法做進(jìn)一步說明,其中各層均通過蒸鍍的方式 形成,所使用的 HAT_CN(Dipyrazino[2, 3_f:2,,3, _h]quinoxaline-2, 3, 6, 7, 10, 11-hexaca rbonitrile)、Alq3(三(8-羥基喹啉)錯)等原料均可通過市售獲得。
[0039] 實施例1
[0040] 在玻璃基板上形成ITO膜,例如厚度可以為150nm ;在ITO膜上依次形成Ag膜、ITO 膜,兩者的厚度分別可以為150nm(Ag)、15nm(IT0),以IT0/Ag/IT0復(fù)合膜作為陽極;
[0041] 在該陽極層上蒸鍍HAT-CN作為第一空穴注入層,第一空穴注入層的厚度可以為 IOnm ;
[0042] 在該第一空穴注入層上通過蒸鍍摻雜3% HAT-CN的NPB膜作為第二空穴注入層, 第二空穴注入層的厚度可以為85nm ;
[0043] 在第二空穴注入層上形成ΤΗ)膜作為空穴傳輸層,其厚度可以為20nm ;
[0044] 在空穴傳輸層上蒸鍍DPVBi : 5 % BCzVB的混合物形成的膜作為藍(lán)光發(fā)光材料層, 藍(lán)光發(fā)光材料層的厚度可以為25nm ;
[0045] 在藍(lán)光發(fā)光材料層上蒸鍍Alq3層作為電子傳輸層,厚度例如為35nm ;
[0046] 在電子傳輸層上形成Mg/Ag膜作為陰極層,陰極層的厚度例如可以為15nm ;
[0047] 最后,在陰極層上形成NPB膜作為光取出層,光取出層的厚度例如可以為60nm,得 到藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件Sl。
[0048] 實施例2至5
[0049] 實施例2至5的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法及使用的原料與實施例1相 同,故省略了相同技術(shù)內(nèi)容的說明,它們與實施例1的區(qū)別僅在于所形成的第二空穴注入 層的厚度,通過實施例2至5分別制得有機(jī)電致器件S2、S3、S4、S5。
[0050] 圖4為實施例1至5制得的的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件的電致發(fā)光光譜圖,其中,縱 坐標(biāo)為對比值,以各曲線最大值為1,曲線各點與最大值的比值即為圖4的縱坐標(biāo)。另外,各 實施例器件435nm以下波長藍(lán)光能量、該能量所占百分比、色坐標(biāo)以及各器件中第二空穴 注入層的厚度均列于表1中。
[0051] 表 1
[0052]
[0053] 表1中的能量所占百分比是指435nm以下藍(lán)光能量與380~780nm可見光區(qū)域器 件白光光譜能量的比值。表1的數(shù)據(jù)說明,發(fā)光器件的第二空穴注入層的厚度在85nm~ 104nm之間,尤其是90nm~95nm之間時,435nm以下波長藍(lán)光的能量較弱,所占的百分比較 小,且色坐標(biāo)也比較好,第二空穴注入層的厚度為90nm時,上述效果達(dá)到最佳。
[0054] 本發(fā)明的OLED的其它實施例的測試結(jié)果與圖4相類似,故在此省去相關(guān)測試結(jié)果 的描述。
[0055] 除非特別限定,本發(fā)明所用術(shù)語均為本領(lǐng)域技術(shù)人員通常理解的含義。
[0056] 本發(fā)明所描述的實施方式僅出于示例性目的,并非用以限制本發(fā)明的保護(hù)范圍, 本領(lǐng)域技術(shù)人員可在本發(fā)明的范圍內(nèi)作出各種其他替換、改變和改進(jìn),因而,本發(fā)明不限于 上述實施方式,而僅由權(quán)利要求限定。
【主權(quán)項】
1. 一種藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,包括, 第一電極層; 第一空穴注入層,位于所述第一電極層上; 第二空穴注入層,位于所述第一空穴注入層上; 空穴傳輸層,位于所述第二空穴注入層上; 藍(lán)光發(fā)光材料層,位于所述空穴傳輸層上; 電子傳輸層,位于所述藍(lán)光發(fā)光材料層上;以及 第二電極層,位于所述電子傳輸層上; 其中,所述第二空穴注入層的厚度為85nm~105nm。2. 根據(jù)權(quán)利要求1的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述第二空穴注入層的厚度為 90nm〇3. 根據(jù)權(quán)利要求1的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述第一空穴注入層的厚度為 5nm ~15nm〇4. 根據(jù)權(quán)利要求1的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,還包括光取出層,位于所述第二電 極層上。5. 根據(jù)權(quán)利要求1的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述第一電極層選自氧化銦錫層、 氧化銦鋅層、氧化錫層或氧化鋅層。6. 根據(jù)權(quán)利要求1的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述第一空穴注入層的材質(zhì)包括 芳胺化合物或星型胺。7. 根據(jù)權(quán)利要求6的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述第二空穴注入層的材質(zhì)包括 芳胺化合物或星型胺。8. 根據(jù)權(quán)利要求1的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述空穴傳輸層的材質(zhì)選自亞芳 基二胺衍生物、星暴型化合物、具有螺環(huán)基的聯(lián)苯二胺衍生物或梯狀化合物。9. 根據(jù)權(quán)利要求1的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述藍(lán)光發(fā)光材料層的材質(zhì)為 DPVBi 摻雜 BCzVB。10. 根據(jù)權(quán)利要求5的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述第二電極層為合金電極或 金屬氟化物與金屬的復(fù)合電極,所述金屬選自鋰、鎂、鋁、鈣、鍶或銦,所述合金是鋰、鎂、鋁、 鈣、鍶、銦中的一種與銅、金、銀中的一種形成的合金。11. 根據(jù)權(quán)利要求4的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,其中,所述光取出層的材質(zhì)選自亞芳基 二胺衍生物、星暴型化合物、具有螺環(huán)基的聯(lián)苯二胺衍生物或梯狀化合物。12. -種藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,包括第一電極層、位于所述第一電極層上的有機(jī)功能 層、位于所述有機(jī)功能層上的第二電極層,其特征在于: 所述有機(jī)功能層包括第一空穴注入層和第二空穴注入層,所述第一空穴注入層位于所 述第一電極層和所述第二空穴注入層之間;所述第二空穴注入層的厚度為85nm~105nm。13. -種顯不器,包括權(quán)利要求1至12中任一項的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件,包括,第一電極層;第一空穴注入層,位于所述第一電極層上;第二空穴注入層,位于所述第一空穴注入層上;空穴傳輸層,位于所述第二空穴注入層上;藍(lán)光發(fā)光材料層,位于所述空穴傳輸層上;電子傳輸層,位于所述藍(lán)光發(fā)光材料層上;以及第二電極層,位于所述電子傳輸層上;其中,所述第二空穴注入層的厚度為85nm~105nm。本發(fā)明還提供了一種包含該器件的顯示器。本發(fā)明的藍(lán)光有機(jī)電致發(fā)光器件應(yīng)用于3C產(chǎn)品,能夠?qū)?35nm以下波長的藍(lán)光能量成分控制在0.2%以內(nèi),很大程度上減少了該波段藍(lán)光對人眼的危害,且還可避免因使用抗藍(lán)光保護(hù)膜帶來的屏幕亮度的降低的現(xiàn)象。
【IPC分類】H01L27/32, H01L51/50, H01L51/54
【公開號】CN105679945
【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】高衍品, 鄒忠哲, 張其國, 黃初旺
【申請人】上海和輝光電有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2014年11月18日
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