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釹鐵硼磁體的制作方法

文檔序號:9647487閱讀:760來源:國知局
釹鐵硼磁體的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種磁性材料,特別涉及一種釹鐵硼磁體。
【背景技術(shù)】
[0002]釹鐵硼磁性材料作為一種超高能密度的永磁材料,廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域,如電動(dòng)車、風(fēng)力發(fā)電、核磁共振、工業(yè)永磁電機(jī)、電子設(shè)備、磁力機(jī)械等,近些年釹鐵硼磁性材料的應(yīng)用取得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。
[0003]然而,現(xiàn)有的釹鐵硼磁性材料很容易被空氣中氧氣和酸性溶液腐蝕,為了使其經(jīng)久耐用,必須通過調(diào)整其化學(xué)成分或采取表面處理方法使之得以改進(jìn),才能達(dá)到實(shí)際應(yīng)用的要求。目前,釹鐵硼磁性材料制造業(yè)普遍采用電鍍金屬、電鍍加化學(xué)鍍金屬、電泳涂層和磷化處理等方法對其進(jìn)行表面處理,但是即使經(jīng)過這些處理后,釹鐵硼磁性材料的抗鹽霧性能都不是很強(qiáng),使其無法應(yīng)用于極端的腐蝕工作環(huán)境,例如海上風(fēng)電、深水潛水栗領(lǐng)域等。
[0004]公開于該【背景技術(shù)】部分的信息僅僅旨在增加對本發(fā)明的總體背景的理解,而不應(yīng)當(dāng)被視為承認(rèn)或以任何形式暗示該信息構(gòu)成已為本領(lǐng)域一般技術(shù)人員所公知的現(xiàn)有技術(shù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的之一在于提供一種釹鐵硼磁體,從而克服現(xiàn)有技術(shù)中的釹鐵硼磁體抗鹽霧性能差的缺點(diǎn)。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種釹鐵硼磁體,其包括:釹鐵硼基體,以及合金鍍層,其電鍍在釹鐵硼基體的表面,合金鍍層從內(nèi)至外包括:第一鍍層,其為N1-Cu-Ni層;以及第二鍍層,其為Sn層。
[0007]優(yōu)選地,上述技術(shù)方案中,第一鍍層的厚度為8?15 μ m,第二鍍層的厚度為2?5 μ m0
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有如下有益效果:
[0009]1.本發(fā)明的釹鐵硼磁體的合金鍍層孔隙率小,抗鹽霧性、耐氧化性、耐腐蝕性以及耐磨性均有所提高。
[0010]2.本發(fā)明的釹鐵硼磁體還具有優(yōu)良的焊接功能。
[0011]3.本發(fā)明的釹鐵硼磁體的表面具有平滑、不易沾染灰塵和不反光的特點(diǎn),因此其整體質(zhì)感增強(qiáng)。
【附圖說明】
[0012]圖1是根據(jù)本發(fā)明的釹鐵硼磁體的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]主要附圖標(biāo)記說明:
[0014]1-釹鐵硼磁體,11-釹鐵硼基體,12-合金鍍層,121-第一鍍層,122-第二鍍層。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖,對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)描述,但應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明的保護(hù)范圍并不受【具體實(shí)施方式】的限制。
[0016]除非另有其他明確表示,否則在整個(gè)說明書和權(quán)利要求書中,術(shù)語“包括”或其變換如“包含”或“包括有”等等將被理解為包括所陳述的元件或組成部分,而并未排除其他元件或其他組成部分。
[0017]如圖1所示,根據(jù)本發(fā)明【具體實(shí)施方式】的一種釹鐵硼磁體1,其包括:釹鐵硼基體11以及合金鍍層12。合金鍍層12電鍍在釹鐵硼基體11的表面。合金鍍層從內(nèi)至外包括:第一鍍層121和第二鍍層122。其中第一鍍層121為N1-Cu-Ni層,第二鍍層122為Sn層。
[0018]優(yōu)選地,上述實(shí)施方式中,第一鍍層的厚度為8?15 μ m,第二鍍層的厚度為2?5 μ m。應(yīng)了解的是,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際需要選擇第一鍍層和第二鍍層的厚度,本發(fā)明并不以此為限。
[0019]本發(fā)明通過在釹鐵硼基體的表面鍍上合金層,使得釹鐵硼磁體的孔隙率小,抗鹽霧性、耐氧化性、耐腐蝕性以及耐磨性均有所提高。本發(fā)明的釹鐵硼磁體外表面的鹽霧試驗(yàn)可達(dá)到2000小時(shí)以上,并且還具有優(yōu)良的焊接功能。此外,本發(fā)明的合金鍍層內(nèi)應(yīng)力小,鍍液分散能力和覆蓋能力好,電流效率高,使得本發(fā)明的釹鐵硼磁體具有平滑、不易沾染灰塵和不反光的特點(diǎn),因此在產(chǎn)品耐腐蝕性能得到大幅提高的同時(shí),還增進(jìn)了其質(zhì)感。
[0020]前述對本發(fā)明的具體示例性實(shí)施方案的描述是為了說明和例證的目的。這些描述并非想將本發(fā)明限定為所公開的精確形式,并且很顯然,根據(jù)上述教導(dǎo),可以進(jìn)行很多改變和變化。對示例性實(shí)施例進(jìn)行選擇和描述的目的在于解釋本發(fā)明的特定原理及其實(shí)際應(yīng)用,從而使得本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)并利用本發(fā)明的各種不同的示例性實(shí)施方案以及各種不同的選擇和改變。本發(fā)明的范圍意在由權(quán)利要求書及其等同形式所限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種釹鐵硼磁體,其特征在于,所述釹鐵硼磁體包括: 釹鐵硼基體,以及 合金鍍層,其電鍍在所述釹鐵硼基體的表面,所述合金鍍層從內(nèi)至外包括: 第一鍍層,其為N1-Cu-Ni層;以及 第二鍍層,其為Sn層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的釹鐵硼磁體,其特征在于,所述第一鍍層的厚度為8?15 μ mD3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的釹鐵硼磁體,其特征在于,所述第二鍍層的厚度為2?5μ m。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種釹鐵硼磁體,其包括:釹鐵硼基體以及合金鍍層,其中合金鍍層電鍍在釹鐵硼基體的表面,合金鍍層從內(nèi)至外包括:第一鍍層,其為Ni-Cu-Ni層;以及第二鍍層,其為Sn層。本發(fā)明的釹鐵硼磁體的合金鍍層孔隙率小,抗鹽霧性、耐氧化性、耐腐蝕性以及耐磨性均有所提高。本發(fā)明的釹鐵硼磁體還具有優(yōu)良的焊接功能。本發(fā)明的釹鐵硼磁體的表面具有平滑、不易沾染灰塵和不反光的特點(diǎn),因此其整體質(zhì)感增強(qiáng)。
【IPC分類】H01F1/057
【公開號】CN105405562
【申請?zhí)枴緾N201510870246
【發(fā)明人】史磊, 孫斌
【申請人】中磁科技股份有限公司
【公開日】2016年3月16日
【申請日】2015年12月1日
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