專利名稱:二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種進(jìn)行實(shí)況記錄的裝置，尤其是一種用于靶場(chǎng)導(dǎo)彈發(fā)射時(shí)外彈道參數(shù)測(cè)量和導(dǎo)彈發(fā)射初始段或再入段飛行實(shí)況記錄的二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)。
背景技術(shù)：
二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)是一種機(jī)動(dòng)靈活、使用方便、性能價(jià)格比好，用于靶場(chǎng)導(dǎo)彈發(fā)射時(shí)的外彈道參數(shù)測(cè)量和導(dǎo)彈發(fā)射初始段或再入段飛行實(shí)況記錄的儀器。傳統(tǒng)的二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)一般采用U型架結(jié)構(gòu)形式，傳感器安置在跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)水平軸中央的主載物臺(tái)上，采用積木式組合成靶場(chǎng)光測(cè)系統(tǒng)。
這種采用U型結(jié)構(gòu)布局的二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)的缺點(diǎn)是1、工作范圍小。主載物臺(tái)可承載的傳感器最多為兩個(gè)，要求傳感器的長(zhǎng)度不能太長(zhǎng)，否則儀器在水平方向不能回轉(zhuǎn)360°即使這樣，儀器在水平方向的工作范圍也將受到影響；且主機(jī)的高度相對(duì)比較大。
2、加工難度大、難以保證回轉(zhuǎn)精度。U型架的高度和寬度對(duì)水平軸的精度有影響，水平軸的回轉(zhuǎn)精度一般在4～6″，由于傳感器回轉(zhuǎn)半徑大，U型架就高，這樣在鑄造時(shí)U型架易變形，剛度和強(qiáng)度易受到影響，從而影響軸系的精度，進(jìn)一步影響儀器的測(cè)量精度。
三、
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型解決了背景技術(shù)中的二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)采用U型架結(jié)構(gòu)形式存在的工作范圍小、加工難度大且難以保證回轉(zhuǎn)精度的技術(shù)問題。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是本實(shí)用新型包括托架3、單軸系統(tǒng)15、編碼器4、力矩機(jī)7、測(cè)速機(jī)8、度盤11和限位機(jī)構(gòu)13，單軸系統(tǒng)15設(shè)置托架3上，其特殊之處在于所述單軸系統(tǒng)15包括主軸1、接軸6和接軸10，主軸1通過接軸6與接軸10相接，編碼器4設(shè)置在主軸1上，主軸1上靠近接軸6一端設(shè)置有主軸承5，背離接軸6一端設(shè)置有輔助軸承2，力矩機(jī)7設(shè)置在接軸6上，測(cè)速機(jī)8和限位機(jī)構(gòu)13設(shè)置在接軸10上，度盤11設(shè)置在接軸10外端，接軸10背離接軸6一端設(shè)置有輔助軸承12。
上述接軸10上設(shè)置有鎖緊微調(diào)機(jī)構(gòu)9。
上述主軸1和接軸6外端分別設(shè)置有外掛平臺(tái)14。
本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)1、工作范圍大。本實(shí)用新型采用T型轉(zhuǎn)臺(tái)，主機(jī)的高度相對(duì)較小。同時(shí)由于本實(shí)用新型的水平軸系統(tǒng)屬封閉式結(jié)構(gòu)，負(fù)載掛在水平軸的兩端，這樣本實(shí)用新型可承載多個(gè)傳感器，拓展了儀器的使用功能，且工作范圍也將擴(kuò)大。
2、加工難度低、可保證回轉(zhuǎn)精度。由于本實(shí)用新型采用T型轉(zhuǎn)臺(tái)，可增加回轉(zhuǎn)半徑，降低了加工難度，保證了回轉(zhuǎn)精度。
四、


附圖為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
五具體實(shí)施方式
參見附圖，本實(shí)用新型包括托架3、單軸系統(tǒng)15、編碼器4、力矩機(jī)7、測(cè)速機(jī)8、鎖緊微調(diào)機(jī)構(gòu)9、度盤11、限位機(jī)構(gòu)13和外掛平臺(tái)14，單軸系統(tǒng)15設(shè)置托架3上，單軸系統(tǒng)15包括主軸1、接軸6和接軸10，主軸1通過接軸6與接軸10相接，編碼器4設(shè)置在主軸1上，主軸1上靠近接軸6一端設(shè)置有主軸承5，背離接軸6一端設(shè)置有輔助軸承2，力矩機(jī)7設(shè)置在接軸6上，測(cè)速機(jī)8、和限位機(jī)構(gòu)13設(shè)置在接軸10上，度盤11設(shè)置在接軸10外端，接軸10背離接軸6一端設(shè)置有輔助軸承12，主軸1和接軸6外端分別設(shè)置有外掛平臺(tái)14。
本實(shí)用新型由于單軸系統(tǒng)15為水平軸，水平軸的技術(shù)難點(diǎn)是如何在這單根軸上裝配編碼器4、力矩機(jī)7、測(cè)速機(jī)8、鎖緊微調(diào)機(jī)構(gòu)9和水平軸系；并且要保證水平軸的回轉(zhuǎn)精度。由于力矩機(jī)7安裝時(shí)會(huì)產(chǎn)生巨大的磁拉力，如果水平軸沒有安裝好，只有一對(duì)軸承支撐，那將導(dǎo)致水平軸的傾斜，影響軸系精度。因此，在力矩機(jī)7安裝之前，應(yīng)先裝好一對(duì)軸承，這對(duì)軸承為主軸承5；再安裝編碼器4，再安裝另一對(duì)輔助軸承2，這對(duì)軸承為單邊浮動(dòng)；緊接著在主定軸承5的右端依次安裝力矩機(jī)7、測(cè)速機(jī)8、鎖緊微調(diào)機(jī)構(gòu)9。由于水平軸的兩端外掛有負(fù)載，為了增加軸系的剛度和強(qiáng)度，在水平軸的兩端必須安裝輔助軸承12，因此，在此軸系中共有三對(duì)精密軸承。中間一對(duì)主軸承5固定，兩端兩對(duì)輔助軸承2、12浮動(dòng)。外掛平臺(tái)14通過法蘭盤與水平軸連接在一起，并通過銷釘定位。為了保證水平軸的回轉(zhuǎn)精度，必須對(duì)外掛平臺(tái)14及其負(fù)載進(jìn)行有限元分析，使之達(dá)到合理的結(jié)構(gòu)，從而滿足儀器的跟蹤精度。
權(quán)利要求
1.一種二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)，包括托架(3)、單軸系統(tǒng)(15)、編碼器(4)、力矩機(jī)(7)、測(cè)速機(jī)(8)、度盤(11)和限位機(jī)構(gòu)(13)，所述單軸系統(tǒng)(15)設(shè)置托架(3)上，其特征在于所述單軸系統(tǒng)(15)包括主軸(1)、接軸(6)和接軸(10)，主軸(1)通過接軸(6)與接軸(10)相接，所述編碼器(4)設(shè)置在主軸(1)上，所述主軸(1)上靠近接軸(6)一端設(shè)置有主軸承(5)，背離接軸(6)一端設(shè)置有輔助軸承(2)，力矩機(jī)(7)設(shè)置在接軸(6)上，所述測(cè)速機(jī)(8)和限位機(jī)構(gòu)(13)設(shè)置在接軸(10)上，所述度盤(11)設(shè)置在接軸(10)外端，所述接軸(10)背離接軸(6)一端設(shè)置有輔助軸承(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)，其特征在于所述接軸(10)上設(shè)置有鎖緊微調(diào)機(jī)構(gòu)(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)，其特征在于所述主軸(1)和接軸(6)外端分別設(shè)置有外掛平臺(tái)(14)。
專利摘要
本實(shí)用新型涉及一種用于靶場(chǎng)導(dǎo)彈發(fā)射時(shí)外彈道參數(shù)測(cè)量和導(dǎo)彈發(fā)射初始段或再入段飛行實(shí)況記錄的二維精密跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)。其包括托架3、單軸系統(tǒng)15、編碼器4、力矩機(jī)7、測(cè)速機(jī)8、度盤11和限位機(jī)構(gòu)13，單軸系統(tǒng)15設(shè)置托架3上，單軸系統(tǒng)15包括主軸1、接軸6和接軸10，主軸1通過接軸6與接軸10相接，編碼器4設(shè)置在主軸1上，主軸1上靠近接軸6一端設(shè)置有主軸承5，背離接軸6一端設(shè)置有輔助軸承2，力矩機(jī)7設(shè)置在接軸6上，測(cè)速機(jī)8和限位機(jī)構(gòu)13設(shè)置在接軸10上，度盤11設(shè)置在接軸10外端，接軸10背離接軸6一端設(shè)置有輔助軸承12。本實(shí)用新型工作范圍大、加工難度低且可保證回轉(zhuǎn)精度。
文檔編號(hào)F41G3/00GKCN2718501SQ200320109936
公開日2005年8月17日 申請(qǐng)日期2003年12月15日
發(fā)明者郝斌, 忽燕 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan