本實(shí)用新型涉及一種具有保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
低輻射鍍膜玻璃中空生產(chǎn)工藝流程主要有兩種，一種是先制作大片鍍膜玻璃，按要求規(guī)格切割后進(jìn)行鋼化處理，再做成中空產(chǎn)品；另一種是先對(duì)玻璃進(jìn)行鋼化處理，后對(duì)鋼化玻璃進(jìn)行鍍膜，再將其合成中空。前者稱之為可鋼化低輻射 (Low-E ) 鍍膜中空玻璃，也可稱之異地加工的低輻射 (Low-E )鍍膜中空玻璃。異地加工和不可異地加工產(chǎn)品最主要的區(qū)別在于，可異地加工產(chǎn)品是由鍍膜生產(chǎn)廠家進(jìn)行大規(guī)格尺寸的玻璃鍍膜，這樣可由下游的中型深加工企業(yè)進(jìn)行后繼中空加工，可節(jié)約運(yùn)輸成本，專業(yè)化強(qiáng)，分工合作，有效提高鍍膜生產(chǎn)廠家的效率和效益，是今后中國(guó)發(fā)展建筑節(jié)能產(chǎn)品的一種有效途徑。
然而，可鋼化低輻射玻璃在長(zhǎng)期存放和運(yùn)輸過程中，經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)氧化/劃傷等問題；目前采用的預(yù)防方法是在Low-E膜最外層采用磁控濺射法鍍一層碳膜。鍍碳膜的目的是防止劃傷，但由于碳膜吸水，可鋼化Low-E產(chǎn)品更不能做到長(zhǎng)期存放；且在后期加工過程中，由于碳膜吸水，磨邊過程很難將玻璃表面清洗干凈，容易造成污跡等缺陷，嚴(yán)重影響玻璃產(chǎn)品的整體質(zhì)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種具有保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，以對(duì)玻璃產(chǎn)品運(yùn)輸及長(zhǎng)期存放過程中進(jìn)行保護(hù)。
為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：一種具有保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，所述玻璃包括玻璃基體、鍍?cè)O(shè)在所述玻璃基體表面上的復(fù)合膜層、磁控濺射在所述復(fù)合膜層上的碳膜，所述玻璃還包括貼覆在所述碳膜表面的聚乙烯醇薄膜，所述聚乙烯醇薄膜的厚度為0.04mm～0.06mm。
優(yōu)選地，所述聚乙烯醇薄膜采用溶液流延涂布法制備獲得。
優(yōu)選地，所述玻璃基體的一側(cè)表面上鍍?cè)O(shè)有所述的復(fù)合膜層，所述玻璃基體的另一側(cè)表面也貼覆有所述的聚乙烯醇薄膜。
優(yōu)選地，所述聚乙烯醇薄膜的厚度為0.05mm。
優(yōu)選地，所述碳膜的厚度為1nm～10nm。
進(jìn)一步地，所述復(fù)合膜層由底層氮化硅層/陶瓷材料層/第一鎳鉻層/第一銀層/第二鎳鉻層/陶瓷材料層/中間氮化硅層/陶瓷材料層/第三鎳鉻層/第二銀層/第四鎳鉻層/陶瓷材料層/頂層氮化硅層自所述玻璃基體的表面向外依次層疊而成，其中，所述的陶瓷材料層均為AZO層。
更進(jìn)一步地，所述的陶瓷材料層的厚度為1nm～10nm。
更進(jìn)一步地，所述底層氮化硅層的厚度為0nm～30nm；所述中間氮化硅層的厚度為20nm～80nm；所述頂層氮化硅層的厚度為10nm～50nm。
更進(jìn)一步地，所述第一銀層、第二銀層的厚度均為0.1nm～10nm；所述第一鎳鉻層、第二鎳鉻層、第三鎳鉻層及第四鎳鉻層的厚度均為0.1nm～10nm。
由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)：本實(shí)用新型的具有保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中通過在玻璃的復(fù)合膜層上線磁控鍍?cè)O(shè)一層碳膜，然后再貼上一層聚乙烯醇薄膜，由碳膜與聚乙烯醇薄膜共同形成對(duì)復(fù)合膜層的保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)，使得該玻璃在經(jīng)過長(zhǎng)期存放與運(yùn)輸后，復(fù)合膜層不會(huì)劃傷或氧化或污染。而該玻璃在經(jīng)后續(xù)工序加工時(shí)，碳膜可在玻璃鋼化工藝中受熱分解，而聚乙烯醇薄膜則可在磨邊過程中遇水融化，在復(fù)合膜層上無殘留，這樣對(duì)后續(xù)制成的中空玻璃成品的性能及顏色完全沒有影響，非常適用于玻璃產(chǎn)品的異地加工。
附圖說明
附圖1為本實(shí)用新型的可鋼化低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中：1、玻璃基體；2、復(fù)合膜層；21、底層氮化硅層；22、陶瓷材料層；23、第一鎳鉻層；24、第一銀層；25、第二鎳鉻層；26、陶瓷材料層；27、中間氮化硅層；28、陶瓷材料層；29、第三鎳鉻層；210、第二銀層；211、第四鎳鉻層；212、陶瓷材料層；214、頂層氮化硅層；3、碳膜；4、聚乙烯醇薄膜。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例來對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的闡述。
參見圖1所示的具有保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，該玻璃包括玻璃基體1、鍍?cè)O(shè)在玻璃基體1表面上的復(fù)合膜層2、磁控濺射在該復(fù)合膜層2上的碳膜3，該玻璃還包括貼覆在碳膜3表面上的聚乙烯醇薄膜4（PVA薄膜），該聚乙烯醇薄膜4的厚度為0.04mm～0.06mm，碳膜3的厚度為1nm～10nm，該碳膜3與聚乙烯醇薄膜4共同形成鍍膜玻璃的保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)，從而使得玻璃在長(zhǎng)期存放與運(yùn)輸中對(duì)玻璃基體1上的復(fù)合膜層2進(jìn)行防護(hù)，以避免其出現(xiàn)劃傷或氧化等現(xiàn)象而影響玻璃成品的性能。
其中，該聚乙烯醇薄膜4屬于一種水溶性薄膜，其是一種能夠在水中迅速溶解的水溶性高分子材料。PVA 是聚乙酸乙烯酯經(jīng)不同程度醇解后的產(chǎn)物，分子中有大量羥基（－OH）和?；ǎ璒CCH3），聚乙烯醇在吸收大量的水分后其分子膨脹分裂，使由眾多碳原子和氫原子組成的分子分解成CO2和H2O。目前，如聚乙烯醇薄膜的水溶性薄膜在化學(xué)品包裝、洗滌包裝、紡織品包裝、食品包裝、電子電器產(chǎn)品包裝以及水轉(zhuǎn)移印刷和農(nóng)業(yè)方面都有著廣泛的應(yīng)用，屬于一種綠色包裝材料。國(guó)內(nèi)外聚乙烯醇（PVA）薄膜的成型方法主要有：溶液流延涂布法、濕法擠出吹塑法和干法擠出吹塑法等。
該玻璃上，聚乙烯醇薄膜4采用溶液流延涂布法制備獲得，這相比其他成型方法，所獲得的聚乙烯醇薄膜4的產(chǎn)品厚度精密度高，透明性和光澤性好的特點(diǎn)。玻璃基體1在磁控濺射鍍上復(fù)合膜層2的各膜層后，再磁控濺射上一層碳膜3。待磁控濺射結(jié)束出腔室后，在碳膜3的表面上再貼上預(yù)先準(zhǔn)備好的聚乙烯醇薄膜4。當(dāng)然，也可以在玻璃基體1未鍍膜的另一側(cè)也貼上一層聚乙烯醇薄膜4，以形成對(duì)玻璃基體1的保護(hù)。
這樣，鍍完膜的玻璃可以經(jīng)過長(zhǎng)期存放與運(yùn)輸，然后被按要求切割后進(jìn)行后續(xù)加工處理，在該過程中，碳膜3能夠有效地保護(hù)復(fù)合膜層2不受劃傷，而聚乙烯醇薄膜4能夠有效地阻擋碳膜3吸水，使得玻璃在長(zhǎng)期存放與運(yùn)輸時(shí)復(fù)合膜層2的表面不受外部環(huán)境影響，能夠更好地保護(hù)復(fù)合膜層2不被劃傷、氧化或污染等能夠做到長(zhǎng)期存放的效果。在后期加工過程中，由于玻璃的表面貼有聚乙烯醇薄膜4，在磨邊過程中，聚乙烯醇薄膜4遇水后融化，而碳膜3則在鋼化工藝中受熱分解，玻璃成品的顏色與性能均不受碳膜3與聚乙烯醇薄膜4的影響。
上述采用碳膜3與聚乙烯醇薄膜4組成的保護(hù)膜層結(jié)構(gòu)，在如下的雙銀低輻射鍍膜玻璃上使用效果更佳。參見圖1所示，該雙銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)為玻璃基體1/復(fù)合膜層2/碳膜3/聚乙烯醇薄膜4，其中，復(fù)合膜層2由底層氮化硅層21/陶瓷材料層22/第一鎳鉻層23/第一銀層24/第二鎳鉻層25/陶瓷材料層26/中間氮化硅層27/陶瓷材料層28/第三鎳鉻層29/第二銀層210/第四鎳鉻層211/陶瓷材料層212/頂層氮化硅層213自玻璃基體1的表面向外依次層疊而成。
該復(fù)合膜層2中，所有的陶瓷材料層22、26、28、212均為AZO層，且厚度為1nm～10nm；底層氮化硅層21的厚度為0nm～30nm；中間氮化硅層27的厚度為20nm～80nm；頂層氮化硅層213的厚度為10nm～50nm；第一銀層24、第二銀層210的厚度均為0.1nm～10nm；第一鎳鉻層23、第二鎳鉻層25、第三鎳鉻層29及第四鎳鉻層211的厚度均為0.1nm～10nm。
本實(shí)施例中，采用的復(fù)合膜層2的具體結(jié)構(gòu)為Si3N4（15nm）/AZO（5nm）/NiCr（1.5nm）/Ag（6nm）/NiCr（1.5nm）/AZO（5nm）/Si3N4（63nm）/AZO（5nm）/NiCr（1.5nm）/Ag（9.7nm）/NiCr（1.5nm）/AZO（5nm）/Si3N4（29nm）。玻璃基體1的厚度為6mm，碳膜3的厚度為6nm，聚乙烯醇薄膜4的厚度為0.05mm。玻璃基體1在磁控濺射設(shè)備中依次鍍上復(fù)合膜層2的各膜層，然后再鍍上碳膜3，出磁控濺射設(shè)備的真空鍍?cè)O(shè)腔室后，再貼上聚乙烯醇薄膜4。
該玻璃產(chǎn)品在經(jīng)長(zhǎng)期存放與運(yùn)輸后，復(fù)合膜層2的表面完好無損，在經(jīng)鋼化及磨邊后，碳膜3和聚乙烯醇薄膜4分別分解，在復(fù)合膜層2上無殘留，這樣對(duì)后續(xù)制成的中空玻璃成品的性能及顏色完全沒有影響，非常適用于玻璃產(chǎn)品的異地加工。
上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。