1.一種低應力紋的復合結構，其特征在于，包含：
一復合膜層，其是包含一熱塑性材料層，其是具有一第一面及一第二面，且分別在該第一面上設有一第一壓克力硬度層及該第二面上設有一第二壓克力硬度層；以及
一壓克力射出層，其是以模內成型之方式接合于該第二壓克力硬度層，以降低應力紋的產生。
2.如權利要求1所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該復合膜層是以共擠出制程制成。
3.如權利要求1所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該復合膜層的該第一壓克力硬度層上更設有一鍍膜層，以增加該復合膜層之表面硬度。
4.如權利要求2所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該鍍膜層是為抗眩光膜、抗反射膜、防爆膜。
5.如權利要求1所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該第一壓克力硬度層及該第二壓克力硬度層是為聚酸甲酯材料。
6.如權利要求1所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該熱塑性材料層是為聚碳酸酯材料。
7.如權利要求1所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該壓克力射出層是為聚酸甲酯材料。
8.如權利要求1所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該復合膜層之厚度是大于或等于300微米。
9.如權利要求8所述之低應力紋的復合結構，其特征在于，其中該第一壓克力層及該第二壓克力層之厚度是為50微米。