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轉(zhuǎn)印膜、轉(zhuǎn)印膜的制造方法、層疊體、層疊體的制造方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置與流程

文檔序號:11159859閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種轉(zhuǎn)印膜,其特征在于:具有

臨時支撐體、以及

包含金屬氧化抑制劑的第一透明樹脂層,且

所述第一透明樹脂層的折射率為1.60以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述第一透明樹脂層含有金屬氧化物粒子。

3.一種轉(zhuǎn)印膜,其特征在于:具有

臨時支撐體、以及

第一透明樹脂層,且

所述第一透明樹脂層含有金屬氧化抑制劑、及金屬氧化物粒子。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述金屬氧化物粒子為氧化鈦粒子、鈦復合氧化物粒子、或氧化鋯粒子。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜,其在所述臨時支撐體與所述第一透明樹脂層之間還具有第二透明樹脂層,且所述第二透明樹脂層具有感光性。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述第二透明樹脂層包含聚合性化合物及光聚合引發(fā)劑。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述第二透明樹脂層為能夠進行堿顯影的層。

8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述第二透明樹脂層的折射率小于所述第一透明樹脂層的折射率。

9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述第二透明樹脂層的折射率未滿1.60。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述金屬氧化抑制劑為具有包含氮原子作為環(huán)員的芳香環(huán)的化合物。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述包含氮原子作為環(huán)員的芳香環(huán)為選自由咪唑環(huán)、三唑環(huán)、四唑環(huán)、噻二唑環(huán)、及這些環(huán)與其他芳香環(huán)的縮合環(huán)所組成的群組中的至少一種環(huán)。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述包含氮原子作為環(huán)員的芳香環(huán)為咪唑環(huán)、三唑環(huán)、咪唑環(huán)與其他芳香環(huán)的縮合環(huán)、或三唑環(huán)與其他芳香環(huán)的縮合環(huán)。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述金屬氧化抑制劑為苯并咪唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并三唑、1-[N,N-雙(2-乙基己基)氨基甲基]苯并三唑、1-[N,N-雙(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、或羧基苯并三唑。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜,其中相對于所述第一透明樹脂層的總質(zhì)量的所述金屬氧化抑制劑的含量為0.1質(zhì)量%以上。

15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜,其中所述第一透明樹脂層具有光硬化性和/或熱硬化性。

16.一種轉(zhuǎn)印膜的制造方法,其特征在于:具有

在臨時支撐體上形成第二透明樹脂層的步驟、以及

在所述第二透明樹脂層上形成第一透明樹脂層的步驟,且

所述第一透明樹脂層含有金屬氧化抑制劑,

所述第一透明樹脂層的折射率為1.60以上。

17.一種轉(zhuǎn)印膜的制造方法,其特征在于:具有

在臨時支撐體上形成第二透明樹脂層的步驟、以及

在所述第二透明樹脂層上形成第一透明樹脂層的步驟,且

所述第一透明樹脂層含有金屬氧化抑制劑、及金屬氧化物粒子。

18.一種轉(zhuǎn)印膜的制造方法,其特征在于:具有

在臨時支撐體上形成包含聚合性化合物及光聚合引發(fā)劑的第二透明樹脂層的步驟、以及

在所述第二透明樹脂層上形成第一透明樹脂層的步驟,且

所述第一透明樹脂層含有金屬氧化抑制劑,

所述第一透明樹脂層的折射率為1.60以上。

19.一種層疊體,其特征在于:具有

基材;

透明電極圖案,位于所述基材上;

第一透明樹脂層,鄰接并位于所述透明電極圖案上;

第二透明樹脂層,位于所述第一透明樹脂層上;且

所述第一透明樹脂層含有金屬氧化抑制劑,

所述第一透明樹脂層的折射率為1.60以上。

20.一種層疊體,其特征在于:具有

基材;

透明電極圖案,位于所述基材上;

第一透明樹脂層,鄰接并位于所述透明電極圖案上;

第二透明樹脂層,位于所述第一透明樹脂層上;且

所述第一透明樹脂層含有金屬氧化抑制劑、及金屬氧化物粒子。

21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的層疊體,其中所述基材為透明膜基板。

22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的層疊體,其中在所述透明膜基板的兩面分別具有所述透明電極圖案、所述第一透明樹脂層、及所述第二透明樹脂層。

23.根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的層疊體,其中在所述透明電極圖案與所述透明膜基板之間還具有折射率為1.60~1.78且膜厚為55nm~110nm的透明膜。

24.根據(jù)權(quán)利要求19至23中任一項所述的層疊體,其還具有與所述透明電極圖案導通的金屬配線部。

25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的層疊體,其中在所述第一透明樹脂層、及所述第二透明樹脂層經(jīng)去除的區(qū)域中的金屬配線部上具有金屬氧化抑制劑。

26.根據(jù)權(quán)利要求19至25中任一項所述的層疊體,其中所述第一透明樹脂層和/或所述第二透明樹脂層經(jīng)圖案化。

27.一種層疊體的制造方法,其特征在于:依次包括

準備根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜的步驟;

在位于基材上的透明電極圖案上,以與所述透明電極圖案接觸的方式層疊所述轉(zhuǎn)印膜的所述第一透明樹脂層的步驟;以及

將所述臨時支撐體剝離的步驟。

28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的層疊體的制造方法,其中所述基材為透明膜基板。

29.根據(jù)權(quán)利要求27或28所述的層疊體的制造方法,其還包含對層疊于所述透明電極圖案上的所述第一透明樹脂層進行圖案化的步驟。

30.一種靜電電容型輸入裝置,其使用根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項所述的轉(zhuǎn)印膜制作而成。

31.一種靜電電容型輸入裝置,其包含根據(jù)權(quán)利要求19至26中任一項所述的層疊體。

32.一種圖像顯示裝置,其具備根據(jù)權(quán)利要求30或31所述的靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要素。

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