技術(shù)特征：
1.一種應(yīng)用于磁約束聚變反應(yīng)堆的雙層流液態(tài)第一壁包層，包括：反應(yīng)堆中的真空室，真空室內(nèi)包括反應(yīng)堆內(nèi)包層、反應(yīng)堆外包層，其特征在于：在所述真空室頂部沿真空室環(huán)向設(shè)置內(nèi)包層液態(tài)金屬噴入管與外包層液態(tài)金屬噴入管，內(nèi)包層液態(tài)金屬噴入管?chē)娚浞较蜇Q直向下，外包層液態(tài)金屬噴入管?chē)娚浞较蜓卣婵帐噎h(huán)向，外包層背壁帶有螺旋絕緣流道結(jié)構(gòu)，內(nèi)包層背壁無(wú)流道布置，真空室底部設(shè)置液態(tài)金屬排出結(jié)構(gòu)；工作時(shí)，高溫液態(tài)金屬高速?gòu)膬?nèi)包層液態(tài)金屬噴入管?chē)娚涞絻?nèi)包層背壁上，同時(shí)從外包層液態(tài)金屬噴入管沿真空室環(huán)向噴入外包層背壁上設(shè)置的絕緣流道中，液態(tài)金屬最終通過(guò)液態(tài)金屬排出結(jié)構(gòu)排出反應(yīng)堆。2.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于磁約束聚變反應(yīng)堆的雙層流液態(tài)第一壁包層，其特征在于：所述的內(nèi)包層液態(tài)金屬噴入管的液態(tài)金屬噴射速度為5-15m/s，外包層液態(tài)金屬噴入管的液態(tài)金屬噴射速度為8-20m/s。3.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于磁約束聚變反應(yīng)堆的雙層流液態(tài)第一壁包層，其特征在于：所述螺旋絕緣流道結(jié)構(gòu)采用材料為耐高溫耐腐蝕材料，其螺旋方向與真空室內(nèi)磁場(chǎng)方向一致。4.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于磁約束聚變反應(yīng)堆的雙層流液態(tài)第一壁包層，其特征在于：所述的液態(tài)金屬有三種可以選擇分別是：Li、SnLi或PbLi。